JP4807630B2 - 表面活性が向上したポリイミドフィルム - Google Patents
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Description
本発明はまた、上記の本発明のポリイミドフィルムの被覆粒子層の上に、金属層が積層されてなる金属膜付きポリイミドフィルムにもある。
なお、本発明のポリイミドフィルムの表面に形成されている金属酸化物とポリイミドとが混在する層(金属酸化物・ポリイミド混在層)は、連続層であってもよいが、部分的に不連続な領域を持つ不連続層であってもよい。なお、この金属酸化物ポリイミド混在層では、金属酸化物は通常、微粒子あるいはポリイミドとの複合物(アダクト)などの状態で存在する。
(1)無機物粒子の平均粒子径が500nm以下である。
(2)無機物粒子の平均粒子径が3〜500nmの範囲にある。
(3)無機物粒子の平均粒子径が3〜200nmの範囲にある。
(4)無機物粒子の平均粒子径が3〜100nmの範囲にある。
(5)無機物粒子がコロイダルシリカである。
(6)コロイダルシリカが球状のコロイダルシリカである。
(7)コロイダルシリカが、シリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカである。
(8)コロイダルシリカが、球状のコロイダルシリカとシリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカとの混合物である。
(9)金属酸化物が酸化ケイ素である。
(10)金属酸化物が金属アルコキシド化合物を原料とし、ゾルゲル法により形成された金属酸化物である。
(11)金属酸化物粒子ポリイミド混在層が、有機溶媒を含むポリアミック酸フィルムの上に塗布した金属アルコキシド化合物を原料とし、ゾルゲル法により形成された層の加熱により生成した層である。
(12)フィルム中に平均粒子径が1000nm以下(好ましくは、3〜500nm)の無機物粒子が分散されている。
(13)ポリイミドフィルムが、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位あるいは3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位とピロメリット酸単位との組合わせをテトラカルボン酸単位とし、そして1,4−ジアミノベンゼンあるいは1,4−ジアミノベンゼンと4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとの組合わせをジアミン単位として含むポリイミドフィルムである。
(14)ポリイミドフィルムの厚みが5〜150μmの範囲にある。
(15)被覆層がポリイミドフィルムに0.5N/mm以上の90゜ピール強度にて結合している。
(16)金属膜が、被覆層の表面に順に形成された気相堆積金属膜とメッキ金属膜とからなる。
(17)金属膜が金属銅膜である。
(18)金属膜がポリイミドフィルムの被覆層に0.5N/mm以上の90゜ピール強度にて結合している。
自己支持性フィルムは、そのイミド化率が8〜40%の範囲にあることが好ましく、特に8〜28質量%の範囲にあることが好ましい。
R1 nM(OR2)m-n
(1)平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が金属酸化物の被覆層で被覆されてなる被覆粒子から構成されている被覆粒子層の厚み:約1000nm以下、好適には500nm以下、さらに好適には3〜100nm
(2)該金属酸化物と同一の金属酸化物とポリイミドとが混在する層の厚み:約10〜1000nm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
撹拌機、窒素導入管および還流管を備えた容量300mLのガラス反応容器に、N,N−ジメチルアセトアミド183gおよび0.1gのリン酸化合物(セパール365−100:中京油脂(株)製)を加え、窒素流通下にて撹拌しながら、p−フェニレンジアミン10.81g(0.1000モル)を添加し、50℃に保温して完全に溶解させた。この溶液に、3,3’,4,4’−ビフェニルカルボン酸二無水物29.229g(0.09935モル)を発熱に注意しながらゆっくりと添加した。添加終了後、溶液を50℃に維持したまま、6時間反応を続けて、ポリアミック酸溶液を得た。次に、このポリアミック酸溶液にコロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST−YL:平均粒子径60〜70nm:日産化学工業(株)製)を固形分量として0.1質量%加えた。その後、3,3’,4,4’−ビフェニルカルボン酸二無水物0.2381g(0.00065モル)を添加して、溶解させた。生成したコロイダルシリカ含有ポリアミック酸溶液は、褐色の粘稠液体(25℃での溶液粘度:約1500ポイズ)であった。
上記のコロイダルシリカ含有ポリアミック酸溶液をガラス板の上に流延塗布し、120℃で60分間乾燥して、溶媒含有率29.7質量%、イミド化率27.5%の自己支持性ポリアミック酸フィルムを製造した。
50mL容量のガラス製容器に3−アミノプロピルトリエトキシシラン12.40g(0.056モル)、水3.03g(0.168モル)、N,N−ジメチルアセトアミド48.79g(0.56モル)、そしてアセチルアセトン11.21g(0.112モル)を加え、室温で2時間攪拌してゾル溶液を調製した。このゾル溶液をN,N−ジメチルアセトアミドで希釈して、ゾルゲル反応により生成する酸化ケイ素(SiO1.5)で換算した固形分が1質量%となるようなゾル溶液を調製した。次いで、このゾル溶液に、コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST:平均粒子径10〜15nm:日産化学工業(株)製)を固形分量として1質量%加えて、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
上記(1)で作成した自己支持性ポリアミック酸フィルムの片面に、上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を塗布量7g/m2にて塗布した後、室温で15分間風乾し、ガラス基板から剥がしてフレ−ム上に拘束して、10℃/分で250℃まで昇温、250℃で15分間、10℃/分で350℃まで昇温、350℃で30分間、10℃/分で400℃まで昇温、400℃で15分間加熱して熱処理して本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
フィルム表面の炭素、窒素、酸素およびケイ素の原子濃度をESCA(走査型X線光電子分光分析)により調べたところ、炭素:40.8%、窒素:3.86%、酸素:40.0%、ケイ素:15.6%であることが判明した。
また、上記のポリイミドフィルムの表面のSEM写真と断面のTEM写真とを撮影し、観察した。上記のポリイミドフィルムは、表面にコロイダルシリカ粒子が酸化ケイ素の被覆層で被覆された被覆粒子から構成されている被覆粒子層が、酸化ケイ素とポリイミドとが混在する層を介して積層されているポリイミドフィルムであった。
上記(3)で得られたポリイミドフィルム に、スパッタリング法により銅薄膜を形成した。スパッタリングは、トッキ(株)製のスパッタリング装置SPK−503を用いて次のようにして行なった。ホルダーサイズに切り出したポリイミドフィルムを装置内に設置して、基板温度27〜31℃、圧力2×10-4Pa以下で、高周波スパッタで表面クリーニングを行った後、基板温度27〜31℃、圧力2×10-4Pa以下、スパッタ速度約15Å/秒の条件で厚みが4000Åの銅膜を形成した。
次に、上記の銅薄膜の上に電解メッキ法により厚みが約20μmの銅層を形成して、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の剥離強度(JIS−C−6471に従う、90゜ピール強度)を示した。
1)初期ピール強度:0.82N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.81N/mm
3)121℃、相対湿度100%、水蒸気圧2気圧、24時間の耐湿熱試験後のピール強度(PCT):0.34N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)の添加量を固形分量として1.5質量%に変えた以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
フィルム表面の炭素、窒素、酸素およびケイ素の原子濃度をESCAにより調べたところ、炭素:31.2%、窒素:2.67%、酸素:47.0%、ケイ素:15.1%であることが判明した。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.78N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.64N/mm
3)ピール強度(PCT):0.30N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
調製したゾル溶液に、コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)を添加する前に、実施例1の(1)で得たポリアミック酸溶液を固形分で1質量%添加した以外は、実施例1の(2)と同じ方法によりコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
フィルム表面の炭素、窒素、酸素およびケイ素の原子濃度をESCAにより調べたところ、炭素:32.1%、窒素:2.94%、酸素:46.1%、ケイ素:18.9%であることが判明した。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.75N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.66N/mm
3)ピール強度(PCT):0.38N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液
実施例1の(2)で得られたコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いた。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムの片面(A面とする)に、上記(2)のコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を塗布した後、室温で15分間風乾し、ガラス基板から剥がしてフレ−ム上に拘束し、今度は別の片面(B面とする)に同じコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を塗布した。その後、室温で15分間風乾したのち、10℃/分で250℃まで昇温、250℃で15分間、10℃/分で350℃まで昇温、350℃で30分間、10℃/分で400℃まで昇温、400℃で15分間加熱して熱処理して両面を活性化した本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理をA面とB面の両方の表面に行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムのB面は、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.75N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.63N/mm
3)ピール強度(PCT):0.15N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有塗布液
N,N−ジメチルアセトアミドにコロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)を固形分量として1質量%加えて、コロイダルシリカ含有塗布液(即ちゾル塗布液ではない)を調製した。
(3)比較用のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、比較用のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
フィルム表面の炭素、窒素、酸素およびケイ素の原子濃度をESCAにより調べたところ、炭素:23.6%、窒素:1.62%、酸素:54.2%、ケイ素:20.5%であることが判明した。
(4)比較用の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、比較用の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.22N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.13N/mm
3)ピール強度(PCT):0.18N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)ゾル塗布液
コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)を加えなかった以外は、実施例1の(2)の方法を用いてゾル塗布液(コロイダルシリカを含有しない塗布液)を調製した。
(3)比較用のポリイミドフィルムの製造
上記(1)のポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、比較用のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)比較用の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、比較用の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.61N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.28N/mm
3)ピール強度(PCT):0.25N/mm
(1)ポリイミドフィルム
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムをフレ−ム上に拘束して、10℃/分で250℃まで昇温、250℃で15分間、10℃/分で350℃まで昇温、350℃で30分間、10℃/分で400℃まで昇温、400℃で15分間加熱して熱処理してポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液
実施例1の(2)で得られたコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いた。
(3)比較用のポリイミドフィルムの製造
上記(1)のポリイミドフィルムの表面に上記(2)のゾル塗布液を塗布乾燥して、比較用のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)比較用の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、比較用の金属膜付きポリイミドフィルムを得たが、金属膜はポリイミドフィルムから容易に剥離し、ピール強度を測定することができなかった。
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例1の(1)において、コロイダルシリカ含有ポリアミック酸溶液をガラス板の上に流延塗布した後の乾燥条件を、120℃で30分間の乾燥と変更して、溶媒含有率36.5質量%、イミド化率15.0%の自己支持性ポリアミック酸フィルムを製造した。
実施例1の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)を鎖状のコロイダルシリカ(コロイダルシリカ:DMAC−ST−UP:平均粒子径5〜20nm、鎖の長さ40〜300nm:日産化学工業(株)製)に変えた以外(添加量は変更なし)は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.78N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度(PCT):0.72N/mm
3)ピール強度(PCT):0.58N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルム
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)の半分の量(0.5質量%)を鎖状のコロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST−UP:平均粒子径5〜20nm、鎖の長さは40〜300nm:日産化学工業(株)製)に変えた以外(添加量は変更なし)は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.72N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.61N/mm
3)ピール強度(PCT):0.48N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
ゾルゲル反応により生成する酸化ケイ素(SiO1.5)で換算した固形分が2質量%となるようなゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)の方法により調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.88N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.75N/mm
3)ピール強度(PCT):0.20N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)の添加量を固形分量として2質量%に変えた以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.65N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.59N/mm
3)ピール強度(PCT):0.38N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
N,N−ジメチルアセトアミドの使用量を半量の24.4g(0.28モル)とし、コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカ:DMAC−ST)の添加量を固形分量として1.5質量%に変え、ゾルゲル反応により生成する酸化ケイ素(SiO1.5)で換算した固形分が4質量%となるようなゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.80N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.66N/mm
3)ピール強度(PCT):0.19N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
N,N−ジメチルアセトアミドの使用量を半量の24.4g(0.28モル)とし、コロイダルシリカを別の球状コロイダルシリカ(DMAC−ST−YL:平均粒子径60〜70nm:日産化学工業(株)製)に変え、添加量を固形分量として4質量%に変えてゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.93N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.77N/mm
3)ピール強度(PCT):0.25N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
N,N−ジメチルアセトアミドの使用量を半量の24.4g(0.28モル)とし、コロイダルシリカを別の球状コロイダルシリカ(DMAC−ST−ZL:平均粒子径70〜100nm:日産化学工業(株)製)に変え、添加量を固形分量として5質量%加えてゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.73N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.51N/mm
3)ピール強度(PCT):0.17N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
実施例5の(1)で得られた自己支持性ポリアミック酸フィルムを用いた。
(2)コロイダルシリカ含有ゾル塗布液の調製
N,N−ジメチルアセトアミドの使用量を半量の24.4g(0.28モル)とし、コロイダルシリカを別の球状コロイダルシリカ(DMAC−ST−YL:平均粒子径60〜70nm:日産化学工業(株)製)に変え、添加量を固形分量として4質量%に変え、さらにゾルゲル反応により生成する酸化ケイ素(SiO1.5)で換算した固形分が4質量%となるようなゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.8N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.67N/mm
3)ピール強度(PCT):0.22N/mm
(1)自己支持性ポリアミック酸フィルムの製造
撹拌機、窒素導入管および還流管を備えた容量500mLのガラス反応容器に、N,N−ジメチルアセトアミド357.1gおよび0.16gのリン酸化合物(セパール365−100)を加え、窒素流通下にて撹拌しながら、p−フェニレンジアミン15.14g(0.14モル)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル12.01g(0.06モル)とを添加し、50℃に保温して完全に溶解させた。この溶液に、3,3’,4,4’−ビフェニルカルボン酸二無水物29.40g(0.10モル)とピロメリット酸二無水物21.81g(0.10モル)を発熱に注意しながらゆっくりと添加した。添加終了後、溶液を50℃に維持したまま、6時間反応を続けて、ポリアミック酸溶液を得た。生成したポリアミック酸溶液は、褐色の粘稠液体(25℃での溶液粘度:約1600ポイズ)であった。
上記のポリアミック酸溶液をガラス板の上に流延塗布し、120℃で30分間乾燥して、溶媒含有率40.0質量%、イミド化率15.9%の自己支持性ポリアミック酸フィルムを製造した。
N,N−ジメチルアセトアミドの使用量を半量の24.4g(0.28モル)とし、コロイダルシリカ(球状コロイダルシリカDMAC−ST)の添加量を固形分量として1.5質量%に変え、さらにゾルゲル反応により生成する酸化ケイ素(SiO1.5)で換算した固形分が1.5質量%となるようなゾル溶液を調製した以外は、実施例1の(2)と同じ方法により、コロイダルシリカ含有ゾル塗布液を調製した。
(3)本発明のポリイミドフィルムの製造
上記(1)の自己支持性ポリアミック酸フィルムと上記(2)で調製したコロイダルシリカ含有ゾル塗布液を用いて、実施例1の(3)に記載の方法に従って処理し、本発明のポリイミドフィルム(厚み:約50μm)を得た。
(4)本発明の金属膜付きポリイミドフィルムの製造
上記(3)で製造したポリイミドフィルムを用いて、実施例1の(4)の処理を行なうことにより、本発明の金属膜付きポリイミドフィルムを得た。
この金属膜付きポリイミドフィルムは、下記の90゜ピール強度を示した。
1)初期ピール強度:0.66N/mm
2)150℃、168時間加熱後のピール強度:0.55N/mm
3)ピール強度(PCT):0.26N/mm
11 ポリイミドフィルム基体層
12 無機物粒子が金属酸化物の被覆層で被覆されてなる被覆粒子
13 被覆粒子層
14 金属酸化物とポリイミドとの混在層
2 本発明の金属膜付きポリイミドフィルム
15 気相堆積金属層
16 メッキにより形成した金属層
Claims (25)
- 少なくとも一方の表面に平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が金属酸化物の被覆層で被覆されてなる被覆粒子から構成されている被覆粒子層が、該金属酸化物と同一の金属酸化物とポリイミドとが混在する層を介して積層されてなるポリイミドフィルム。
- 無機物粒子の平均粒子径が500nm以下である請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 無機物粒子の平均粒子径が3〜100nmの範囲にある請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 無機物粒子がコロイダルシリカである請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが球状のコロイダルシリカである請求項4に記載のポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが、シリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカである請求項4に記載のポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが、球状のコロイダルシリカとシリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカとの混合物である請求項4に記載のポリイミドフィルム。
- 金属酸化物が酸化ケイ素である請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 金属酸化物が金属アルコキシド化合物を原料とし、ゾルゲル法により生成した金属酸化物である請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- ポリイミドフィルムが、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位あるいは3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位とピロメリット酸単位との組合わせをテトラカルボン酸単位とし、そして1,4−ジアミノベンゼンあるいは1,4−ジアミノベンゼンと4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとの組合わせをジアミン単位として含むポリイミドフィルムである請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- フィルム中に平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が分散されている請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 被覆層がポリイミドフィルムに0.5N/mm以上の90゜ピール強度にて結合してなる請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 少なくとも一方の表面に平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が金属酸化物の被覆層で被覆されてなる被覆粒子から構成されている被覆粒子層が、該金属酸化物と同一の金属酸化物とポリイミドとが混在する層を介して積層されてなるポリイミドフィルムの被覆粒子層の上に、金属層が積層されてなる金属膜付きポリイミドフィルム。
- 無機物粒子がコロイダルシリカである請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが球状のコロイダルシリカである請求項14に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが、シリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカである請求項14に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- コロイダルシリカが、球状のコロイダルシリカとシリカ微粒子が鎖状に結合した鎖状コロイダルシリカとの混合物である請求項14に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 金属酸化物が酸化ケイ素である請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 金属酸化物が金属アルコキシド化合物を原料とし、ゾルゲル法により生成した金属酸化物である請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 金属膜が、被覆粒子層の表面に順に形成された気相堆積金属膜とメッキ金属膜とからなる請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 金属膜が金属銅膜を含む請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- ポリイミドフィルムが、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位あるいは3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸単位とピロメリット酸単位との組合わせをテトラカルボン酸単位とし、そして1,4−ジアミノベンゼンあるいは1,4−ジアミノベンゼンと4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとの組合わせをジアミン単位として含むポリイミドフィルムである請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- フィルム中に平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が分散されている請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 金属膜がポリイミドフィルムの被覆層に0.5N/mm以上の90゜ピール強度にて結合してなる請求項13に記載の金属膜付きポリイミドフィルム。
- 有機極性溶媒を含有するポリアミック酸からなるフィルムの少なくとも一方の表面に、平均粒子径が1000nm以下の無機物粒子が分散されてなる金属アルコキシドの含水有機溶媒溶液を塗布し、乾燥して塗布層を形成する工程、そして該塗布層を有するポリアミック酸フィルムを300℃以上の温度にて加熱する工程を含む請求項1に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
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