JPH02262537A - 3,5,6―トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

3,5,6―トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法

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JPH02262537A
JPH02262537A JP1331777A JP33177789A JPH02262537A JP H02262537 A JPH02262537 A JP H02262537A JP 1331777 A JP1331777 A JP 1331777A JP 33177789 A JP33177789 A JP 33177789A JP H02262537 A JPH02262537 A JP H02262537A
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chemical formulas
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Kenji Inoue
健二 井上
Keiichi Yonezu
米津 敬一
Noboru Kamiyama
昇 上山
Satomi Takahashi
高橋 里美
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Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は3,5.6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導体
の製造方法に関するものである。3,5.6−トリヒド
ロキシヘキサン酸誘導体は、抗高脂血症剤としての作用
が注目されている一連のT(MGCoA(Hydrox
y methyl glutaryl −CoA)還元
酵素阻害剤の共通な合成中間体として有用な化合物であ
る。
[従来の技術] 3.5.6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方
法としては、 (イ)L−リンゴ酸から出発する方法(特開昭6(ロ)
1.3.5−トリヒドロキンベンゼン(フロログルシノ
ール)から出発する方法[テトラヘドロン・レターズ(
T eLrahedron  L etters)、2
3.2435(1984)、USP−4571428コ
(ハ)アリルアルコール誘導体から出発する方法[テト
ラヘドロン・レターズ、25.3391(1984)コ (SR:SS=〜l:1) 等が知られている。
[発明が解決しようとする問題点] 上記方法のうち、(イ)のL−リンゴ酸から出発する方
法は、光学活性が得られるメリットはあるが、多段の反
応工程を必要とし、またカルボニルジイミダゾールの様
な比較的高価な試薬を使わねばならない。また(口)の
1.3.5−)リヒドロキシベンゼンから出発する方法
は、反応工程は短いが生成物がラセミ体であり、HMG
−CoARI中間体として有用な(3R,5S)の立体
配置を有する光学活性体を製造する方法としては問題を
有している。更に、(ハ)のアリルアルコール誘導体か
ら出発する方法は、光学活性体を得てはいるものの、ア
ルデヒドとブロモ酢酸エチルの反応の段階で立体選択性
が殆どないという問題点を有しており、3,5.6−ト
リヒドロキシヘキサン酸誘導体もしくはその誘導体の工
業的な製造法としては、必ずしも実用的であるとは言い
難い。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らはかかる実情に鑑み、効果的で経済性に優れ
た3、5.6−1−リヒドロキシヘキサン酸誘導体の工
業的に有利な製法を確立すべく鋭意検討した結果、ニト
リルとα−ハロ酢酸エステルの、亜鉛および/または亜
鉛−銅存在下に於ける反応(リフすマドスキー)を鍵反
応として用いることにより、上記誘導体が効率的に製造
できることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、式(I): [式中、Plお上びP2は水素または水酸基の保護基を
表し、共同で環を形成していることもあり、Rはアルキ
ル基を表す。] で示される3、5.6−ドリヒドロキシヘキサン酸誘導
体の製造方法であって、式(■):[式中、Plおよび
P2は前記と同意義である。]で示されるブチロニトリ
ル誘導体と、式(■):X””COOR(II[) E式中、Xはハロゲンを表し、Rは前記と同意義である
。] で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および/また
は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式(■):[式中、P
l、2重およびRは前記と同意義である。コで示される
ケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸誘導体を還元す
ることを含んで成る方法に関する。
本発明の製造方法において、ブチロニトリル誘導体(n
)としては、3.4−ジヒドロキシブチロニトリルを使
用し得る。3.4−ジヒドロキシブチロニトリルは、3
−クロル−1,2−プロパンジオールのシアノ化によっ
て容易に調製可能である。
ブチロニトリル誘導体(n)として、ヒドロキシ保護し
た3、4−ジヒドロキシブチロニトリルを用いることも
できる。この場合、ヒドロキシ保護基としては、トリフ
ェニルメチル基、アセトニド基、ベンゾイル基、置換ベ
ンゾイル基、p−トルエンスルホニル基、メタンスルホ
ニル基、アセチル基、置換シリル基等種々のものを用い
ることができる。
例えばplとしてトリフェニルメチル基を用いることに
より、ブチロニトリル誘導体(II)の結晶性が高まり
、単離が容易になる。
Pt<トリフェニルメチル基、Ptが水素である化合物
(II)は、例えば塩化メチレン−ピリジンの混合溶媒
中で、3.4−ジヒドロキシブチロニトリルをトリフェ
ニルメチルクロリドで処理することにより容易に合成で
きる。この粗生成物の単離、精製は、常法により、ヘキ
サン−酢酸エチル等の溶媒から再結晶することにより容
易に行うことができる。
また、plおよびPtがアセトニド基である化合物(I
[)は、例えば3,4−ジヒドロキシブチロニトリルと
2.2−ジメトキシプロパンおよび/またはアセトンと
の反応により容易に合成できる。
plがベンゾイル基、ptが水素である化合物(■)の
合成は、3,4−ジヒドロキシブチロニトリルを例えば
ピリジン中でベンゾイルクロライドと反応させることに
より達成し得る。
α−ハロ酢酸エステル(III)としては、α−ブロモ
酢酸エチル、α−ブロモ酢酸メチル、α−ブロモ酢酸t
−ブチル等が好適に使用できる。
ブチロニトリル誘導体(Il)とα−ハロ酢酸エステル
(DI)との反応(リフォマトスキー反応)は、金属触
媒の存在下に、適当な反応溶媒中で行う。金属としては
亜鉛を塩酸等で活性化したものや、亜鉛−銅を用いるこ
とが収率良く反応を進行させる上で好ましい。溶媒とし
ては、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、
シクロヘキサン等を単独らしくは混合溶媒として用いる
ことができる。
この反応は、例えばα−ブロモ酢酸エチルをブチロニト
リル誘導体(II)および活性亜鉛のテトラヒドロフラ
ン溶液に室温ないし80℃、好ましくは50〜70℃の
温度で加えることによって行うことができ、この際α−
ブロモ酢酸エチルの自己縮合を最少限に抑えるため、ゆ
っくり滴下することが好ましい。しかし乍ら、必ずしも
このような方法に限る必要はなく、種々の方法を用いて
行うことができる。
この反応の一次生成物は、構造式(■)[式中、p I
 、 p !およびRは前記と同意義である。]で示さ
れるエナミンもしくはシッフ塩基であり、ケト酸誘導体
(IV)はこのエナミンもしくはシッフ塩基を加水分解
することにより容易に得られる。
ケト酸誘導体(IV)は、一般にケトンをアルコールま
で還元する水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素亜鉛
、水素化ホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニ
ウムハイドライド、水素化ビス(2−メトキシエトキシ
)アルミニウムナトリウム等の還元剤を用いるか、接触
水素添加することにより容易に還元することができ、ト
リヒドロキシヘキサン酸誘導体(I)に変換し得る。化
合物(IV)の還元において、シン型とアンチ型の2種
の立体配置を有する化合物(I)が生成し得るが、ヒド
リド型還元剤を用いた場合、HMG−CoA還元酵素阻
害剤中間体として有用なシン型の立体配置を有する異性
体が一般に優先的に生成してくる傾向がある。反応の立
体特異性は、基質であるケト酸誘導体(IV)と還元方
法との組み合せにより変化するが、水素化ホウ素ナトリ
ウムとトリアルキルボランの組み合せや、水素化ジイソ
ブチルアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素亜鉛、
水素化ホウ素リチウム等を用いた場合に高い特異性を示
す傾向にある。また、接触還元を行う場合、Pd(C)
、Pt(C)、PtO*、ラネーNi等、通常ケトンか
らアルコールへの還元に用いられる触媒を用いることが
できる。
本発明によると、3,5.6−トリヒドロキシヘキサン
酸誘導体(I)を更に処理して、3および5位の2つの
2級ヒドロキシル基だけを保護した、式(V): [式中、QlおよびQ2は水酸基の保護基を表し、共同
で環を形成していることもあり、Rはアルキル基を表す
。] で示される3、5.6− トリヒドロキシヘキサン酸誘
導体(V)を得ることもできる。
そのためには、まず化合物(I)の3.5および6位の
3つの水酸基全部を保護して、式(■):[式中、Q3
は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を表し、Q’SQ
”およびRは前記と同意義である。]で示される3、5
.6−ドリヒドロキシヘキサン酸誘導体(VT)を得る
。この場合、3および5位のヒドロキシ保護基とエステ
ル基を残して、6位のヒドロキシ保護基のみを後で脱保
護できるように保護基を選択する。例えばQ3がベンゾ
イル基、置換ベンゾイル基、t−ブチルジメチルシリル
基の場合、QlおよびQlとして°アセトニド、シクロ
へキシリデンケタール等のケータル型保護基を好都合に
用いることができる。アセトニド化は、ジメトキシプロ
パンおよび/またはアセトンを用いて常法に従って酸性
条件下で行うことができる。
すべてのヒドロキシル基を保護した3、5.6−ドリヒ
ドロキシヘキサン酸誘導体(V[)は、実施例に示す様
に、6位ヒドロキシ保護基と3.5位ヒドロキシ保護基
およびエステル基の組み合せに応じた方法で処理して、
6位の1級ヒドロキシル基のみを選択的に脱保護して化
合物(V)を得る。例えば、Q3がベンゾイル基、Ql
およびQ2がアセトニド基、Rh(t−ブチル基の場合
、化合物(VI)を水−メタノール中、NaOHで処理
することにより、容易に6位の脱保護が達成できる。ま
た、Q3がt−ブチルジメチルシリル基またはt−ブチ
ルジフェニルシリル基、QlおよびQlがアセトニド基
、Rがt−ブチル基の場合、化合物(VI)をテトラヒ
ドロフラン中テトラブチルアンモニウムフルオライドで
処理することにより容易に脱保護できる。しかしながら
必ずしもこれらの方法に限られることなく、種々の方法
を用いることができる。
[発明の効果] 本発明によれば、経済的かつ効率的にHMG−CoA還
元酵素阻害剤中間体として有用な3.56−ドリヒドロ
キシヘキサン酸誘導体を製造することができる。
[実施例] 以下、実施例及び参考例をあげて本発明を更に説明する
が、もとより本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1 :S −3−ヒドロキシ−4−トリフェニル
メトキシブチロニトリルの製造 S−3,4−ジヒドロキシブチロニトリル8019をピ
リジン1qに溶解した溶液に、0℃でトリチルクロライ
ド296.49を塩化メチレン800m(lに溶解した
溶液を加え、室温で15時間撹拌1゜た。反応液から揮
発物を減圧溜去した後、塩化メチレンlaと水5001
Qを加え、6N塩酸で溶液のPHを7とした。塩化メチ
レンで抽出しくICX2)、硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を減圧溜去し、得られた油状物に酢酸エチル−ヘキ
サン(l:5)の混合溶媒を加えて晶析させることによ
り、2059の粗5−3−ヒドロキシー4−トリフェニ
ルメトキシブチロニトリルを得た。これを酢酸56.4
9の5−3−ヒドロキシ−4−トリフェニルメトキシブ
チロニトリルを結晶として得た。
mp:I 47.5〜14 B、0°C’HNMR(C
D C123):δ2.57−2.67(m。
1H)、2.53(d、2H,J=4Hz)、3.25
(d。
2H,J−4Hz)、3.80−4.13(m、IH)
、7.22−7.62(m、15H) I R(neat):3400.2280.1500.
1460.1°230.1120.720cx−’[α
]”=−24,3(c=l、MeOH)実施例2:S−
3,4−0−イソプロピリデン−34−ジヒドロキシブ
チロニトリルの製 造 S−3,4−ジヒドロキシブチロニトリル3.749C
37maaoQ)と2.2−ジメトキシプロパン16゜
4txQを塩化メチレン5011Q、と混合した溶液に
p−トルエンスルホン酸0.12gを加え、室温で15
時間撹拌した後、飽和N aHCOs水溶液50好を加
えて10分間撹拌した。得られた溶液を塩化メチレンで
抽出(100!i2x 3)L、飽和食塩水で洗浄(1
00屑(7x2)した。
有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥し、溶媒を溜去す
る事によって4.39のS−3,4−ジヒドロキシブチ
ロニトリルアセトニドを油状物として得た。
’H−NMR(CDCQs):δ1.37および1.4
7(2s、6H)、2.63(d、2H,J=4Hz)
、3.66−4.50(m、3H) I R(neat):3000.2250.1390.
1380.1160.1080.840.520G屑 実施例3:38−ヒドロキシ−4−ベンゾイロキシ−3
,4−ジヒドロキシブチロニトリルの製造 S−3,4−ジヒドロキシブチロニトリル20gとピリ
ジン100zRからなる溶液に0℃でベンゾイルクロラ
イド23.1iffを加え、室温で4時間撹拌した後、
水300*Qを加え、6N−HCl2でpH2とした後
CHt CQ xで抽出(500xQx 2)L、硫酸
ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得られ
た油状物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセトン−
2:I)によって精製し、279の5−3−ヒドロキシ
−4−ベンゾイロキシ−3,4−ジヒドロキシブチロニ
トリルを得た。
’H−NMR(CDCρ3):62.70(d、2H,
J=6H2)、3.58−4.0(m、IH)、4.2
0−4゜62(m、3H)、7.23−7.82(m、
3H)、7゜9−8.24(m、2H) I R(neat):3475.2260.1730.
1615.1460.1280.1130.720ci
t”−’ 実施例4:5S−ヒドロキシ−6−ドリフエニルメトキ
シー3−オキソヘキサン酸エチ ルの製造 活性亜鉛65.49と乾燥テトラヒドロフラン(THF
)600Qを混合した溶液に、70℃でブロモ酢酸エチ
ル1.9txσを滴下し、20分間同じ温度で撹拌した
後、5−3−ヒドロキシ−4−トリフェニルメトキシブ
チロニトリル68.69を加え、更にブロモ酢酸エチル
88.9m9を2時間かけてゆっくりと滴下した。反応
液を70℃で1時間撹拌した後、0℃1こ冷却し6N塩
酸を加えてpHを2とし、室温で30分間撹拌した。N
 a HCOsを加えてpl(を7とした後、固体を濾
過によって除き、酢酸エチルで抽出した(500if2
X4)。有機層を硫酸ナトリウムによって乾燥し、溶媒
を溜去することによって得られた油状物をシリカゲルの
カラム(ヘキサン]アセトン=6:t)で精製し、60
゜6gの58−ヒドロキシ−6−ドリフエニルメトキシ
ー3−オキソヘキサン酸エチルを得た。
H−NMR(CDCQs):δ1.23(t、3H,J
=7Hz)、2.7(d、2H,J=6Hz)、2.7
3−3.0 (m、 L H)、3.13(d、2H,
J=6Hz)、3.42(s、lH)、4.0−4.4
5(m、3H)、7.07−7.56(m、15Hz) I R(801Tl):3070.3000.1740
、I430、I270.905.740 cx−’実施
例5:5S−ヒドロキシ−6−ドリフエニルメトキシー
3−オキソヘキサン酸エチ ルの製造 活性亜鉛1.559と乾燥THF12xQ、を混合した
溶液に、706Cでブロモ酢酸エチル0 、2 ffQ
を滴下し、20分間同じ温度で撹拌した後、S−3−ヒ
ドロキシ−4−トリフェニルメトキシブチロニトリル1
.379を加え、更にブロモ酢酸エチル1.33x(l
を1時間かけてゆっ(りと滴下した。
反応液を70℃で20分間撹拌した後、室温に戻し、T
HP36xQと50%炭酸カリウム水溶液3x(lを加
え、室温で30分間撹拌した。水50RQを加え、酢酸
エチルで抽出(100ttrQ×3)した後、溶媒を溜
去して得られた油状物に、アセトニトリル10頗、水1
0酎及びIN塩酸4xQを加え、室温で30分間撹拌し
た。アセトニトリルを溜去し酢酸エチル(100X3)
で抽出した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を溜去す
ることによって得られた油状物をシリカゲルのカラム(
ヘキサン:アセトン=6i1)にて精製し、9531g
の58−ヒドロキシ−6−ドリフヱニルメトキシー3−
オキソヘキサン酸エチルを得た。
実施例6;5S−ヒドロキシ−6−ドリフエニルメトキ
シー3−才キソヘキサン酸t−ブチルの製造 活性亜鉛1.969と乾燥THF’30z(!を混合し
た溶液に、5−3−ヒドロキシ−4−トリフェニルメト
キシブチロニトリル3.43SFを加えた後、70℃で
ブロモ酢酸t−ブチル5.08iQを1時間かけて滴下
した。更に20分間70℃で撹拌した後、5℃に冷却し
、6N−HCl2でpF(1,8として、1時間撹拌し
た。飽和N aHCO3水溶液を加えてpH7とした後
、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで抽出(
100mQX 2)した。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカゲルの
カラム(ヘキサン:アセトン=5:1)で精製し、2.
99の5S−ヒドロキシ−6−ドリフエニルメトキシー
3−オキソヘキサン酸(−ブチルを得た。
’H−NMR(CD CQs):6 f 、43 (s
、 9 H)、2゜73(d、2H,J=5Hz)、3
.12(d、2I(、J=5Hz)、3.33(s、2
H)、4.0−4.3(m、  IH)、7.17−7
.53(糟、15H)I R(neat):3600.
2970.171O11140,700cm−’ [α]”−一14.0(c= 1.0.EtOH)実施
例7:58−ヒドロキシ−6−ペンゾイロキシー3−オ
キソヘキサン酸t−ブチルの製造 活性亜鉛1 、969(30mmog)と乾燥THF3
0Raを混合した溶液に、5−3−ヒドロキシ−4ベン
ゾイロキシブチロニトリル2.059を加えた後、70
℃でブロモ酢酸t−ブチル5,0811Qを1時間かけ
て滴下した。更に20分間70℃で撹拌した後、5℃に
冷却し、6N−HCl2でpHI、8として1時間撹拌
した。飽和Nal−1cOs水溶液を加えてp)(7と
した後、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで
抽出(100M&X 2)した。
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得
られた油状物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセト
ン−5;l)で精製し、3553!9の58−ヒドロキ
シ−6−ペンゾイロキシー3−オキソヘキサン酸t−ブ
チルを固体として得た。
IH−NMR(CDCe3):δL、46(s、9H)
、2゜85(d、2H,J=6Hz)、3.09(d、
IH,J=4Hz)、3.42(s、2H)、4.32
−4.6(m、3H)、7.26−7.6(m、3H)
、8.0−8.11(m、2H) I R(KBr):3495.1730.1700.1
335.1290.1150.720cx−’mp:6
7〜68℃ 実施例8:S−5,6−0−イソプロピリデン−5゜6
−シヒドロキシー3−オキソヘキサ ン酸エチルの製造 活性亜鉛13.99(21,2mmoff)と乾燥TH
F100屑Qを混合した溶液に、S−3,4−0−イソ
プロピリデン−3,4−ジヒドロキシブチロニトリル1
0gを加えた後、60℃でブロモ酢酸エチル23.6x
Qを1時間かけて滴下し、滴下終了後、更に1時間60
℃で攪拌した。5℃に冷却し、6N−T(CQでpH2
,5として30分間撹拌した。
5N−NaOHでpH7とした後、N aHCOx 1
09を加え、固体を濾去し、溶液を酢酸エチルで抽出(
150M(1×2)t、た。硫酸ナトリウムで乾燥後、
溶媒を溜去する事により得られた油状物をシリカゲルの
カラム(ヘキサン:アセトン=4:l)によって精製し
、12.49のS−5,6−0−イソプロピリデン−5
,6−シヒドロキシー3−オキソヘキサン酸エチルを得
た。
’H−NMR(CDC12,):δ3.28(t、3H
,J=6Hz)、1.35および1.42(2s、6H
)、2゜75−2.98(m、2H)、3.48(s、
2H)、3゜45−3.68(m、IH)、4.15(
q、2H)、4゜0−4.8(m、2H) I R(neat): 2990.1740.1720
.1240.1070cx”” 〔αコ”=5.2 1(c=1.2.EtOH)実施例
9:S−5,6−0−イソプロピリデン−5゜6−シヒ
ドロキシー3−オキソヘキサ ン酸t−ブチルの製造 活性亜鉛3.929と乾燥THF60m12を混合した
溶液に、S−3,4−0−イソプロピリデン−3,4−
ジヒドロキシブチロニトリル2.829を加えた後、7
0℃でブロモ酢酸t−ブチル9.691Qを1時間かけ
て滴下した。更に20分間70℃で撹拌した後、5℃に
冷却し、6N−HCf2でpH2,5として1時間撹拌
した。飽和N aHCOs水溶液を加えてpH7とした
後、析出した固体を濾過し、濾液を塩化メチレンで抽出
(200+v(1×2)した。硫酸ナトリウムで乾燥後
、溶媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカゲ
ルのカラム(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)によって
精製し、3.69のS−5,6−0−イソプロピリデン
−5゜6−シヒドロキシー3−オキソヘキサン酸し一ブ
チルを得た。
’H−NMR(CDCρ、):δl、37および1.4
3(2s、6H)、1.50(s、9H)、2.73−
3.0(+n、 2 H)、3.35(s、2H)、3
.45−3.7(m。
IH)、4.07−4.63(a、2H)I R(ne
at): 2990.1740.1720.1370.
1170cx−’ [α]”=6.59(c=1.14.EtOH)実施例
10:3.5−ジヒドロキシ−6−トリフェニルメトキ
シヘキサン酸エチルの製 乾燥THF8xf2と乾燥EtOH2a+Cの混合溶液
に一70℃で水素化ホウ素ナトリウム57r19を加え
、そのままの温度で2時間撹拌した後、飽和N)[、C
i2水溶液20ytQを加え、室温で30分間撹拌した
。CHtC12tで抽出(L OQ*i2X 3)した
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を溜去することによ
って得られた油状物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:
アセトン−3:l)で精製し、415i9の3.5−ジ
ヒドロキン−6−トリフェニルメトキシヘキサン酸エチ
ルを得た。得られた生成物はI(PLC分析により、6
6:37のモル比で、(3R15S)及び(3S、5S
)体を含むことが確認された。
なおHPLCの測定条件は以下の通りである:カラム:
ファインバック(F ine  pak)S I LC
+s−J日本分光(株)製)4.6mmIDX20mm カラム温度;40℃ 移動相:水/アセトニトリル= 65 / 35 (v
/v)流速: 1 、5 x(1/ lll1n検出:
210gm 実施例11:(3R,5S)−ジヒドロキシ−6−トリ
フェニルメトキシヘキサン酸エチ ルの製造 乾燥THF336xQと乾燥MeOH84xQの混合溶
媒に、トリエチルボランIM  THF溶液46 、2
 z(lを室温で加え、そのままの温度で1時間撹拌し
た後、−70℃で58−ヒドロキン−6−ドリフエニル
メトキシー3−オキソヘキサン酸エチル13.39のT
HP30d溶液を加え、−70℃で30分間撹拌した。
水素化ホウ素ナトリウム1.49gを加え、−70℃で
2時間撹拌した後、飽和NH4Cf2水溶液200xQ
を冷却したまま徐々に加え、更に飽和NH,OQ水溶液
200祿とEtOH100112,30%過酸化水素水
100スCの混合物を徐々に加えて室温で30分間撹拌
した。THFを減圧溜去した後、塩化メチレンで抽出し
く500g(bc3)、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を溜去することによって得られた油状物をシリカゲルの
カラム(ヘキサン:アセトン=3:l)によって精製し
、12.69の3.5−ジヒドロキシ−6−トリフェニ
ルメトキシヘキサン酸を得た。得られた生成物は)IP
Lc分析により、95;5のモル比で(3R,5S)異
性体を有利に含むことが確認された。
実施例12:(3R,5S)−ジヒドロキシ−6−ベン
ゾイロキシヘキサン酸t−ブチルの 製造 乾燥THFI7.1罰と乾燥MeOH8,6酎の混合溶
液に、トリエチルボランIMTHF溶液9.35xQを
室温で加え、そのままの温度で1時間撹拌した後、−8
0℃で58−ヒドロキシ−6−ペンゾイロキシー3−オ
キソヘキサン酸t−ブチル2.376gを加え、−80
℃で40分間撹拌した後、水素化ホウ素ナトリウム36
4119を加え、そのままの温度で更に2時間撹拌した
。徐々に0℃に昇温しながら飽和N H、Cρ水溶液2
5xQを加え、30分間撹拌後、30%過酸化水素水1
2゜5村とEtOH]2.5iQからなる溶液を加え、
更に30分間撹拌した。THF’とEtOHを溜去した
後、CHt Cムで抽出(100肩ρ×2)し、硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事により得られた油
状物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセトン=5:
l)によって精製し、2.29の3,5ジヒドロキシ−
6−ベンゾイロキシヘキサン酸(−ブチルが得られた。
得られた生成物はHPLC分析により、98;2のモル
比で(3R,5S)異性体を有利に含む事が確認された
’HNMR(CDCQ3):δ1.47 (s、 9 
H)、1゜63−1.82(+++、2H)、2.45
(d、2H,J=5Hz)、4.1−4.3(m、4H
)、7.32−7.7(m。
3H)、8.0−8.22(m、2H)I R(nea
t):3450.3000.1730.1040.85
0.720C置−電 実施例13:(3R,5S)−ジヒドロキシ−6−ベン
ゾイロキシヘキサン酸t−ブチルの 製造 5S−ヒドロキシ−6−ベンゾイロキシ−3−オキソヘ
キサン酸t−ブチル20019と乾燥THF2xQから
なる溶液に、−75℃でジイソブチルアルミニウムハイ
ドライドの1Mヘキサン溶液」24蛙を加え、−75℃
で4.5時間撹拌した。
徐々に0℃に昇温しながらIN−HC&でpH7とした
後、酢酸エチルで抽出(loiQ、X2)L、硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を溜去する事により得られた油状
物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセトン=5:1
)によって精製し、190′R9の3゜5−ジヒドロキ
シ−〇−ベンゾイロキシヘキサン酸t−ブチルを得た。
得られた生成物は)IPLC分析により、80:20の
比率で(3R,5S)異性体を有利に含む事が確認され
た。
実施例14 :(3R,55)−5,6−0−イソプロ
ピリデン−3,5,6−ドリヒドロキ シヘキサン酸エチルの製造 水素化ホウ素リチウムのIM  THP溶液29好を一
70℃に冷却し、S−5,6−0−イソプロピリデン−
5,6−シヒドロキシー3−オキソヘキサン酸エチル3
.34!Qと乾燥THF4.3ff(からなる溶液を1
時間かけて滴下した後、更に70℃で2時間撹拌した。
−70℃から0℃に昇温しながら2N−HCQ12yt
(lを加えてpH7とした後、THFを溜去し、酢酸エ
チルで抽出(50村x2)した。硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を溜去する事によって得られた油状物をシリカ
ゲルのカラム(ヘキサン:アセトン=5:l)にて精製
する事により2.99の5.6−0−イソプロピリデン
−3,5,6−)ジヒドロキシヘキサン酸エチルを得た
。得られた生成物はHPLC分析により78:22のモ
ル比で(3R,5S)異性体を有利に含むことが確認さ
れた。なおHPLCの測定条件は以下の通りである。
カラム;キラールセル(Chiral  Ce1l)O
J (ダイセル(株)製)4.6ml1l DX250
mmカラム温度:25℃ 移動相:ヘキサン/イソプロパツール=92/8(v/
v) 流速: 0 、9 xQ/ win 検出:21On11 ’H−NMR(CD CI2.):δ1.27 (t、
3 H,J =6Hz)、1.35および1.4(2s
、6H)、1.63−1.93(m、2H)、2.50
(d、2H,J=6Hz)、3.2−3.74(m、2
H)、4.01−4.53(m、5H) I R(neat):3470.3000.1730.
1380、1180、l  160cx=実施例15 
:(3R,5S)−6−ベンゾイロキシ−3,5−0−
イソプロピリデン−3゜ 5−ジヒドロキシヘキサン酸し一ブチ ルの製造 (3R,5S)−ジヒドロキシ−6−ベンゾイロキシヘ
キサン酸t−ブチル8.949とCH,Cl2t22.
5酎の混合溶液に、2.2−ジメトキシプロパン35.
8xQとp−1ルエンスルホン酸269肩りを加え、室
温で4時間撹拌した後、飽和NaHCOs水溶液500
xQを加えた。水層と有機層を分液した後、水層をCH
t CQ tで抽出しく20好×2)、合せた有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する事によって得
られた油状物をシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセト
ン=10:f)で精製する事により7.249の(3R
,5S)−6−ペンゾイロキシ−3,5−0−イソプロ
ピリデン−3,5ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチルを
結晶として得た。
’H−NMR(CDCI23):δ1.44(s、9H
)、■。
45(d、6H,J=3Hz)、1.55−1.59(
m2I()、2.35−2.46(m、2H)、4.2
2−4゜37(m、4H)、7.43−7.59(m、
3H)、80−8 、1 Cm、2H) I  R(neat): 2 9 7 5 、 172
0、  l 270、 1150、I 100.718
C肩−1 mp:55〜56℃ 実施例16 :(3R,5S)−6−ベンゾイロキシ−
3,5−0−イソブチリデン−3,5 −ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチル の製造 (3R,5S)−ジヒドロキシ−6−ベンゾイロキシヘ
キサン酸t−ブチル19とCHtCQt5txQの混合
溶液にイソブチルアルデヒドl村とp−トルエンスルホ
ン酸1019を加え、室温で3時間撹拌した後、飽和N
 aHCOs水溶液2jIQを加えた。有機層と水層を
分液した後、水層をCHt CQtで抽出しく50JI
I2X2)、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を溜去する
事によって得られた油状物をシリカゲルのカラム(ヘキ
サン:アセトン=IO+1)によって精製し、8081
19の(3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−
0−イソブチリデン−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸
t−ブチルを油状物として得た。
’HNMR(CD C+23):δ0.93(d、61
−(、J=6H2)、  1.45(s、9H)、  
1.57−2.03(m。
3H)、2.4−2.6(m、2H)、3.9−4.2
7(m、2H)、4.27−4.93(m、IH)、7
.26−7.73(m、3H)、7.98−8.2(m
、2H)I R(neat):3000.1725.1
400.1310.1060.750cm−’ 実施例17 :(3R,5S)−6−ベンゾイロキシ3
.5−0−シクロへキシルメチレン −3,5−ジヒドロキシヘキサン酸t ブチルの製造 アルデヒドとしてイソブチルアルデヒドの代りにシクロ
ヘキサンカルボキシアルデヒド521jI9を用いる他
は、実施例16と同様に反応、後処理及び精製を行い、
811g9の(3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3
.5−0−シクロl\キルメチレンー3,5−ジヒドロ
キシヘキサン酸t−ブチルを油状物として得た。
’H−NMR(CDCI23):δ0.93−2.0(
m、13H)、1.4(s、9H)、2.37−2.5
8<m、2H)、3.80−4゜17(Ill、2H)
、4.17−4゜4(m、3H)、7.28−7.65
(m、3H)、7.92−8.1(+n、3 H) I R(neat):2950.1760.1490.
1410、l320.1070.760cm=実施例1
8 :(3R,5S)−6−ベンゾイロキシ−3,5−
0−エチリデン−3,5−ジ ヒドロキシヘキサン酸t−ブチルの製 造 アルデヒドとしてイソブチルアルデヒドの代りにアセト
アルデヒド1i&を用いる他は実施例I6と同様に反応
、後処理及び精製を行い、733M9の(3R,5S)
−6−ベンゾイロキシ−35−〇−エチリデンー3.5
−ジヒドロキシヘキサン酸tブチルを油状物として得た
’H−NMR(CDCQ3):δ0.33(d、:H−
(、J=4Hz)、1.43(s、9H)、1.56−
1.87(m。
2I])、2.46(t、2H,J=6Hz)、3.9
9−425(,2H)、4.36(d、2H,J =4
 Hz)、4.77(Q、1)f、J=4)(Z)、7
.37−7.66(m。
3H)、8.03−8.23(m、2H)I R(ne
at): 3000.1720.1370.960.8
50.720 cr 実施例19 :(3R,5S)−6−ベンゾイロキシ3
.5−O−(1−メチルプロピリデ ン)−3,5−ジヒドロキシヘキサン 酸t−ブチルの製造 p−)ルエンスルホン酸−水和物zlxg(0゜58m
mol)及びオルトギ酸メチル0.58xff(5,3
mmol)を塩化メチレン9mQに溶解し、水冷下、メ
チルエチルケトン3 、6 m12(40mmoりを5
分間かけて滴下した。10分後、室温に戻し、2時間撹
拌後、これを、(3R,5S)−6−ペンゾイロキンー
3.5−ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチルl。
099(3、4mmol)/塩化メチレン0 、5 m
Qの溶液へ加えた。1時間後、2時間後に、それぞれオ
ルトギ酸メチル0.58x(2を加え、3時間後5村の
5%N aHCOs水溶液を加え、撹拌後、塩化メチレ
ン(301i2X2)で抽出した。抽出物を無水Nat
SO4で乾燥後、濾別減圧濃縮により、茶色の油状物を
t、ts9得た。これを、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン;アセトン=100:l)により精
製し、(3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−
O−(1−メチルプロピリデン)3.5−ジヒドロキシ
ヘキサン酸t−ブチル0゜729(1,9mmol、5
7%)を無色油状物として得た。
’H−NMR(CDCQs):δ0.91(3H,t、
J=6H2)、1.43 (9H,s)、1.3〜2.
1(7H。
m)、2.2〜2.7(2H,m)、4.1〜4.5(
4H。
m)、7.3〜7.7(3H,m)、8.0〜’8.2
(2H。
m) I R(neat):2980.1720.1610.
1460、l380.1290.1170.970.8
60.730 cm−’ [α]”=+ 1.33° (cm 1.052.Me
OH)実施例20 :(3R,5S’)−6−ベンゾイ
ロキシ−3,5−0−(1,3−ジメチルブチリデン)
−3,5−ジヒドロキシヘキサ ン酸t−ブチルの製造 メチルエチルケトンの代わりにメチルイソブチルケトン
を用いて実施例19と同様の反応を行なったところ、(
3R,5S)−6−ベンゾイロキシ−3,5−0−(1
,3−ジメチルブチリデン)−3゜5−ジヒドロキシヘ
キサン酸t−ブチルを無色油状物として40%の収率で
得た。
J(−NMR(CDCρ、);δ0.92(6H,d、
J−6Hz)、1.43 (9H,s)、1.2〜2.
1(8Hm)、2.1〜2.6(2H,m)、4.0〜
4.5(4H。
m)、7.3〜7.6(3H,+++)、7.9〜8.
2(2H。
m) I R(neat):2975.1730.1615、
l460.1380.1295.1165.965.8
60.730c11−電 [α]″0−−0.70° (cm 1 、136 、
MeOH)実施例21 :(3R,5S)−6−ベンゾ
イロキシ−3,5−0−シクロへキシリデン−3゜5−
ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチ チルの製造 (3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−ジヒド
ロキシヘキサン酸t−ブチル608y9(1,87mm
ol)と1.1−ジメトキシシクロヘキサン0゜58 
x(2(3、79mmol)を311Qの塩化メチレン
に溶解し、p−トルエンスルホン酸−水和物18aty
(0゜09 mTIIol)を加えて、室温で17時間
撹拌した。
さらに11−ジメトキシシクロヘキサン0.29aQ(
1、89mmol)を加え、2時間反応させた後、5%
N a HCOs水溶液5xQを加え、5分間撹拌した
。塩化メチレン(20io、X2)で抽出し、無水N 
am S O4で乾燥をした後、濾別、減圧濃縮により
、茶色の油状物を得た。これを、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:アセトン=100:1.5
)により精製すると無色の油状物(一部面化)390i
9を得た。これをヘキサンから結晶化させて、無色の結
晶として(3R,5S)−6ペンゾイロキシー3.5−
0−シクロへキシリデン−13,5−ジヒドロキシヘキ
サン酸t−ブチル290n(0,72mmol、38%
)を得た。
’HNMR(CDC4s):δ1.43(9H,s)、
1゜2〜2.1(12H,+a)、2.2〜2.6(2
H,m)、4.1〜4.5(4H,m)、7.3〜7.
6(3H,m)、7.9〜8.2(2H,m) I R(KBr):2950.1720.1280.1
260、l155.1120.985.735C肩−1 [α]”= −0、79°(cm 1 、004 、M
eOH)mp、ニア8〜80℃ 実施例22:(3R,5S)−3,5−イソプロピリデ
ン−3,5,6−)リヒドロキシへ キサン酸t−ブチルの製造 (31’(,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−0
−イソプロピリデン−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸
t−ブチル3.649とMeO836zQを混合した溶
液にI N−NaOH101Qを加え、室温で2時間撹
拌した。反応液に水冷しながらIN−HCQを徐々に加
えてpH7にした後、MeOHを減圧溜去し、残った水
溶液をCHtCQ2で抽出(70m&X2)した。CH
t CQt層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜
去する事によって得られた油状物をシリカゲルのカラム
(ヘキサン・アセトン5:1)にて精製し2.349の
(3R,5S)−3,50−イソプロピリデン−3,5
,6−ドリヒドロキシヘキサン酸t−ブチルを油状物と
して得た。
H−NMR(CDC(2a)・δ1.45(d、6H,
J−4Hz)、1.47(s、9H)、1.5−1.8
2(m、2H)、2.32−2.71(m、3H)、3
.44−3゜68(m、2H)、3.82−4.43(
m、2H)I R(neat):2980.1720.
1365.1200.1150、I O20cx= [αコ”=−5,90(c=2.0.MeOH)実施例
23:(3R,5S)−3,5−0−イソブチリデン−
3,5,6−ドリヒドロキシ ヘキサン酸し一ブヂルの製造 (3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−0−イ
ソブチリデン−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸t−ブ
チル500xgをMeOH5xρに溶解し、室温で5分
間かけてI N−NaOH1,38i。を加えた。その
まま2,5時間撹拌した後、水10m(1を加えて、I
N−HC(!で中和(pH7)した。塩化メチレン(2
511I2×2)テ抽出し、無水N at S O4で
乾燥後、溶媒を溜去し、無色油状物362t7を得た。
これをシリカゲルのカラム(ヘキサン:アセトン=IO
:I)により精製して、292iLjの(3)1,5S
)−3,5−0−イソブチリデン−3,56−ドリヒド
ロキシヘキサン酸し一ブチルを無色油状物として得た。
’H−NMR(CDC12s);δ0.933(d、6
H,J=5Hz)、1.42(s、9H)、1.56−
2.36(m、 3 H)、2.34−2.58(m、
2H)、3.464.23 (m、4 H’)、4.3
(d、I H,J=5Hz)IR(neat):350
0,3000,1740,1495、l040.980
. 860c(’実施例24:(3R,5S)−3,5
−0−シクロへキシルメチレン−3,5,6−ドリヒ ドロキシヘキサン酸ドブチルの製造 (3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−□−シ
クロへキシルメチレン−3,5−ジヒドロキシヘキサン
酸(−ブチル500txgを実施例23と同様にしてI
 N−NaOH1:2xRで処理した後、後処理及びシ
リカゲルカラム(ヘキサン:アセトン=lO:1)によ
る精製を行う事により313jyの(3r(,5S’)
−3,5−0−シクロへキシルメチレン−3,5,6−
ドリヒドロキシヘキサン酸t−ブチルを無色油状物とし
て得た。
’H−NMR(CD C123):δ0,87−2.2
2(m。
IH)、2.33−2.52(n+、2H)、3.44
8−416(,4H)、4.25(d、IH,J=6H
z)I R(neat):3450.2930,172
011460.1370.1150,1030,850
゜740cm−重 実施例25:(3R,5S)−3,5−0−cチリデン
−3,5,6−)ジヒドロキシヘキ サン酸し一ブチルの製造 (3R,5S)−6−ペンゾイロキシー35−。
〜エチリデンー3.5−ジヒドロキシヘキサン酸t−ブ
チル500mgを実施例23と同様にしてlN−NaO
H1,5x12で処理した後、後処理及びンリカゲルカ
ラム(ヘキサン:アセトン=10:1)lこよる精製を
行う事により226oの(3R,5S)3.5−0−エ
チリデン−3,5,6−)ジヒドロキシヘキサン酸ドブ
チルを無色油状物として得た。
’HNMR(CDC123):δ1.33(d、3HJ
=6Hz)、1.42(s、9H)、1.77−2.3
6(+++2H5)、2.48(t、3H,J=6Hz
)、3.5−4゜32(m、4H)、4.83(q、I
H,J=6Hz)IR(neat):3450,300
0,1730S1380、+160.1035.960
 cx−’実施例26:(3R,5S)−3,5−O−
(1−1デルプロピリデン)−3,5,6−ドリヒドロ
キシヘキサン酸t−ブチルの製造 実施例19で得られた(3R,5S)−6−ベンゾイロ
キシ−3,5−O−(ITメチルプロピリデン)−3,
5−ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチル0.429(1
,1mmol)をメタノール4i(2に溶かし、室温で
5分間かけてlN−NaOH1,41(1,4mmol
)を加えた。そのまま1時間撹拌した後、水10次Qを
加えてlN−MCI2で中和(pH7)した。
塩化メチレン(25x9X2)で抽出し、無水NatS
O4で乾燥、濾別後、減圧濃縮し、無色油状物0゜40
9を得た。これをシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキ
サン:アセトン=100+4)で精製して、(3R,5
S)−3,5−〇−(klチルプロピリデン)−3,5
,6−ドリヒドロキシヘキサン酸tブチルを無色油状物
として280次g(1、Ommol。
92%)得た。
’H−NMR(CDCf2a):δ0.92(3H,t
、J −7,5Hz)、1.45 (9H,s)、1.
2〜1.9(7H,m)、2 、1 (I H,br−
s)、2.1〜2.6(2H。
m)、3.4〜3.7(2H,m)、3.8〜4.2(
I I(。
m)、4.1〜4.5(IH,m) I R(neat): 3450.2970.1735
.1380、1160.955.850 cm”−’[
α]”=−10,35° (cm I 、 024 、
MeOH)実施例27:(3R,5S)−3,5−0−
’(1,3ジメチルブヂリデン)−3,5,6−’)ジ
ヒドロキシヘキサン酸t−ブチルの 製造 (3r(,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−O−
(1−メチルプロピリデン)−3,5−ジヒドロキシヘ
キサン酸t−ブチルの代わりに(3R,5S)−6−ペ
ンゾイロキシー3.5−0−(1,3−ツメチルブチリ
デン)−3,5−ジヒドロキシヘキサン酸し−ブチル(
実施例20で得たもの)を用いて実施例26と同様の反
応を行なったところ、無色の油状物として、(3R,5
S)−3,5−0−(1。
3−ジメチルブチリデン)−3,5,6−1−ジヒドロ
キシヘキサン酸t−ブチルを得た。収率81%。
’H−NMRCCDCQ3>:δ0.93(6F(、d
、J6!(z)、1.45(9H,s)、1.2〜2.
0(8)(m)、2.2〜2.6(3H,m)、3.4
〜3.7(2H。
m)、3.9〜4.2(IH,m)、4.1−4.5(
IHI R(neat):3500.2980.174
0.1385.1265.1160.965.860c
yr−’ [α]”=−12,18” (c;1.034.MeO
H)実施例28:(3R,5S)−3,5−0−シクロ
へキシリデン−3,5,6−)ジヒドロ キシヘキサン酸t−ブチルの製造 (3R,5S)−6−ペンゾイロキシー3.5−0(l
−メチルプロピリデン)−3,5−ジヒドロキシヘキサ
ン酸し一ブチルの代わりに、(3R,5S)−6−ペン
ゾイロキシー3.5−0−シクロへキシリデン−3,5
−ジヒドロキシヘキサン酸t−ブチル(実施例21で得
たもの)を用いて、実施例26と同様の反応を行なった
ところ、無色の油状物として、(3R,6S)−3,5
−0−シクロヘキシリデン−3,5,6−ドリヒドロキ
シヘキサン酸t−ブチルを得た。収率85%。
’H−NMR(CDCら):δ1.47 (9H,s)
、l。
0〜2.2(12H,m)、1.27(IH,br−s
)、2゜1〜2.6(2H,m)、3.3〜3.7(2
H,m)、39〜4.3(IH,m)、4.2〜4.5
(l H,m)r R(neat):3470.296
0.1740.1380.1170.980cm= 特許出願人鐘淵化学工業株式会社 代理人 弁理士 前出 葆 はか1名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、P^1およびP^2は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもあり、Rはア
    ルキル基を表す。] で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、P^1およびP^2は前記と同意義である。]
    で示されるブチロニトリル誘導体と、式(III):▲数
    式、化学式、表等があります▼(III) [式中、Xはハロゲンを表し、Rは前記と同意義である
    。] で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および/また
    は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式(IV):▲数式、化
    学式、表等があります▼(IV) [式中、P^1、P^2およびRは前記と同意義である
    。]で示されるケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸
    誘導体を還元することを含んで成る方法。 2、式(II)で示されるブチロニトリル誘導体として光
    学活性(3S)−ブチロニトリル誘導体を用い、式(
    I )で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸
    誘導体として光学活性(5S)−トリヒドロキシヘキサ
    ン酸誘導体を製造する請求項1記載の製造方法。 3、式(II)で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) [式中、Trはトリフェニルメチル基を表す。]で示さ
    れる化合物を用いる請求項1または2記載の製造方法。 4、式(II)で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) [式中、R^1およびR^2は水素、アルキル基もしく
    はアリール基を表すか、または共同でシクロペンチル基
    もしくはシクロヘキシル基を形成している。] で示される化合物を用いる請求項1または2記載の製造
    方法。 5、式(II)で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式(IIc) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIc) [式中、R^3およびR^4はアルキル基またはアリー
    ル基を表す。] で示される化合物を用いる請求項1または2記載の製造
    方法。 6、式(II)で示されるブチロニトリル誘導体として、
    式(IId) ▲数式、化学式、表等があります▼(IId) [式中、R^5は水素、アルキル基、アルコキシ基また
    はハロゲンを表す。] で示される化合物を用いる請求項1または2記載の製造
    方法。 7、式(III)で示されるα−ハロ酢酸エステルとして
    、Xが臭素原子である化合物を用いる請求項1から6の
    いずれかに記載の製造方法。 8、式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) [式中、Q^1およびQ^2は水酸基の保護基を表し、
    共同で環を形成していることもあり、Rはアルキル基を
    表す。] で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、P^1およびP^2は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもある。]で示
    されるブチロニトリル誘導体と、式(III):▲数式、
    化学式、表等があります▼(III) [式中、Xはハロゲンを表し、Rは前記と同意義である
    。] で示されるα−ハロ酢酸エステルとを亜鉛および/また
    は亜鉛−銅の存在下に反応させ、式(IV):▲数式、化
    学式、表等があります▼(IV) [式中、P^1、P^2およびRは前記と同意義である
    。]で示されるケト酸誘導体を合成し、次いで該ケト酸
    誘導体を還元して、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、P^1、P^2およびRは前記と同意義である
    。]で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸
    誘導体となし、更にすべての水酸基を保護して、式(V
    I): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、Q^3は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を
    表し、Q^1、Q^2およびRは前記と同意義である。 ]で示される誘導体を得、次いで保護基Q^3のみを選
    択的に脱離することを含んで成る方法。 9、式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) [式中、Q^1およびQ^2は水酸基の保護基を表し、
    共同で環を形成していることもあり、Rはアルキル基を
    表す。] で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体の製造方法であって、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、P^1およびP^2は水素または水酸基の保護
    基を表し、共同で環を形成していることもあり、Rは前
    記と同意義である。] で示される3,5,6−トリヒドロキシヘキサン酸誘導
    体のすべての水酸基を保護して、式(VI):▲数式、化
    学式、表等があります▼(VI) [式中、Q^3は選択的に脱離可能な水酸基の保護基を
    表し、Q^1、Q^2およびRは前記と同意義である。 ]で示される誘導体を得、次いで保護基Q^3のみを選
    択的に脱離することを含んで成る方法。 10、P^1がトリフェニルメチル基、置換されていて
    もよいベンゾイル基または第3級ブチルジメチルシリル
    基であり、P^2が水素である式(II)で示される化合
    物。 11、式(VIa): ▲数式、化学式、表等があります▼(VIa) [式中、R^6はトリフェニルメチル基、置換されてい
    てもよいベンゾイル基または第3級ブチルジメチルシリ
    ル基を表し、R^7およびR^8は水素、アルキル基も
    しくはアリール基を表すか、またはシクロペンチル基も
    しくはシクロヘキシル基を形成しており、Rは前記と同
    意義である。] で示される化合物。 12、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8がメ
    チル基、Rがt−ブチル基である請求項11記載の化合
    物。 13、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方が水素、他方がイソプロピル基、Rがt−ブチル基で
    ある請求項11記載の化合物。 14、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方が水素、他方がシクロヘキシル基、Rがt−ブチル基
    である請求項11記載の化合物。 15、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方が水素、他方がメチル基、Rがt−ブチル基である請
    求項11記載の化合物。 16、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方が水素、他方がフェニル基、Rがt−ブチル基である
    請求項11記載の化合物。 17、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方がメチル基、他方がエチル基、Rがt−ブチル基であ
    る請求項11記載の化合物。 18、R^6がベンゾイル基、R^7およびR^8の一
    方がメチル基、他方がイソブチル基、Rがt−ブチル基
    である請求項11記載の化合物。 19、R^6がベンゾイル基であり、R^7およびR^
    8が共同でシクロヘキシル基を形成しており、Rがt−
    ブチル基である請求項11記載の化合物。
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