JPH0223776B2 - - Google Patents

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JPH0223776B2
JPH0223776B2 JP57011674A JP1167482A JPH0223776B2 JP H0223776 B2 JPH0223776 B2 JP H0223776B2 JP 57011674 A JP57011674 A JP 57011674A JP 1167482 A JP1167482 A JP 1167482A JP H0223776 B2 JPH0223776 B2 JP H0223776B2
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Japan
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clean
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Katsuto Yagi
Juji Isayama
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体の製造などに必要とする清浄
な作業環境を作り出すための清浄作業室に関す
る。
従来、半導体製造工程に用いられていた清浄作
業室の代表的な例(全面ダウンフロー式クリーン
ルーム)を第1図に示す。1は建屋、2はクリー
ンルーム室内、3は高性能フイルタ、4は照明
灯、5は天井部多孔板、6は床部多孔板、7は空
調用給気ダクト、8は空調用戻りダクト、9は露
光、エツチング、拡散、メタライズ等の製造ライ
ン用機器、10は製造ラインへ水、ガス等を供給
する配管類である。図中矢印で示すように高性能
フイルタ3で処理された清浄空気は天井全面より
室内2に吹き出し、室内空気は床下を通つて排出
される。これにより、室内全体をほぼ一称な高清
浄度に維持し、全工程の作業をこの清浄雰囲気中
で行えるようにしている。この全面ダウンフロー
式クリーンルームは室全体の清浄度を高める上か
らは最良の方式とされていたが、次のような欠点
がある。
(1) 清浄化区域および空調対象区域が広く、高価
な高性能フイルタを多量に使用しているため、
設備費が非常に高い。
(2) 空調維持費、フイルタ交換費用などのランニ
ングコストが高い。
(3) 室全体の空調を行うため、製造ライン別(工
程別)の空調温度制御ができない。
(4) 製造ラインのメンテナンスをクリーンルーム
室内で行うため、それによる発塵が他の製造ラ
イン(工程)に及ぼす影響が大きい。
(5) 床全面を多孔板としているため、床強度が弱
く、最近の微細パターンの半導体の製造には振
動の点で問題がある。
上記(1)〜(4)の欠点を改善するものとして特開昭
56−162335号が挙げられる。しかし、これは清浄
作業室内の圧力を管理することにより清浄度を管
理するという技術的思想に基づくものであり、空
気流通部の幅を通路部の幅より小さく設けること
により作業部と通路部との気流境界線を通路部側
へふくらませて通路部の気流中の塵埃が作業部に
流入するのを防止して作業部の清浄度保持性能を
向上させるという点についてはなんら配慮されて
いない。そのため作業者が作業部と通路部との境
界付近にいると作業者の周囲に発生する気流の乱
れにより通路部の塵埃が作業部内に流入して作業
部内の清浄度を低下させ易いという問題がある。
また、上記(1)〜(5)の欠点を改善するため、ほぼ並
行して設けられた作業部と通路部を局部的に覆う
よう構成した清浄作業室が本発明者らによつて考
え出された。
第2図は清浄作業室の長手方向に直角な断面図
で、製造ラインの作業用機器9を床上に向い合せ
に設置し、2ラインを1組として清浄作業室内に
収納した場合を示す。支柱10と横梁11とで門
形フレームを組み、これに天板12と両側の側板
13を張つてトンネル状覆いを構成し、このトン
ネル状覆いとそれを設置する床面とで囲まれた清
浄作業室内に作業用機器9を設置する作業部14
aと作業者が通行する通路部14bとをトンネル
状覆いの長手方向に連続して設ける。作業部14
aの天井部には空気浄化要素である送風機15,
16、送風チヤンバ17,18、高性能フイルタ
19,20と作業部照明灯21を収納し、その下
部の清浄空気吹出し口に格子状の散光板22を設
置する。また、通路部14bの天井部空間には通
路部照明灯23を収納し、その下部の清浄空気吹
出し口に格子状の散光板24を設置する。25は
作業部天井と通路部天井との間の仕切り用化粧板
である。
通路部14bの天井高さは作業者が立つて通行
できる程度に高くし、作業部14aの天井高さは
作業に支障がない限り低くする(一例を示せば、
通路部天井高さ2200mm、作業部天井高さ1800mm)。
作業部天井高さはできるだけ低くした方が、作業
部空間の気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が
良くなる。
送風機15,16の運転により、外部空気はプ
レフイルタ26を通して空気吸込み口27から吸
込まれる。作業部用送風機15から送風チヤンバ
17へ送り出された空気は作業部用高性能フイル
タ19により清浄化された後、作業部天井の全面
から室内の作業部14aへ吹き出し、また、通路
部用送風機16から送風チヤンバ18へ送り出さ
れた空気は通路部用高性能フイルタ20により清
浄された後、通路部天井の全面から室内の通路部
14bへ吹き出す。散光板22,24は照明の散
光と清浄気流の整流のために設けられたものであ
る。
天井面から吹き出された清浄気流は図の矢印で
示すように室内を流れ、両側の側板13の下部に
設けた側面排気口28から外部の保全域へ排出さ
れる。室内圧力は排気口28での圧力損失分だけ
外気に対し正圧となるので、外部からの汚染空気
の流入を防止できる。
側面排気口28は、製造ラインへの水、ガス等
の配管類や電線等の引込みにも利用される。側板
13は、作業用機器9の補修や配管等を外部の保
全域がら行えるように、ねじ止めあるいは引掛金
具等を用いて部分的に取りはずせるようにしてお
く。また、室内の作業環境の改善と外部からの作
業管理の必要上、側板13の一部を透明板とする
ことがある。
第3図にはモジユール化した清浄作業室を多数
連結してなる本方式による清浄作業室の外観を示
す。
しかし、この方式による清浄作業室において
は、排気口28が両側板13の下部のみであるた
め、すべての気流が側面排気口28へ向つて流
れ、作業部14aと通路部14bの気流境界線2
9は図示のようになり、通路部を通る作業者から
の発塵の影響および作業部を斜めに流れる気流の
ため作業用機器9の前面に生じるうず流などによ
り、通路部の空気が作業部内に流入するという問
題があつた。
本発明は上記問題点に鑑み、通路部の下方には
清浄空間内の空気を清浄空間外へ排出する空気流
通部を設け、空気流通部の幅を通路部の幅より小
さくなるよう設けることにより作業部と通路部と
の気流境界線が清浄空間内の床面に近付くにつれ
作業部から通路部へ向かつてふくらみ通路部の気
流中の塵埃が作業部に流入するのを有効に防止し
て作業部の清浄度保持性能を向上させることを目
的とするものである。
以下、本発明の実施例を第4図〜第7図により
説明する。
本発明の第1実施例を第4図により説明する。
本実施例では、作業部14aは作業者が通行す
る通路部14bに隣接してこれに沿つて設けら
れ、その内部には清浄度が要求される作業機器9
が設置されるとともに、作業者が通路部14bよ
り自由に出入りできるよう設けられている。ま
た、作業部14aと通路部14bとはそれらの両
側面に設けられた隔壁としての側板13により一
連の清浄空間を形成している。作業部の上方に設
けられた空気浄化手段は送風機15,16と、送
風チヤンバ17,18と、送風チヤンバ17に設
けられた高性能フイルタ19と、高性能フイルタ
19の下流に形成され散光板22が設けられた第
1の空気吐出口と、送風チヤンバ18に設けられ
た高性能フイルタ20と、高性能フイルタ20の
下流に形成され散光板24が設けられた第2の空
気吐出口とにより構成される。
本実施例では、清浄空間は並行して設けられた
2つの作業部14aと作業部14aの中間に設け
られた通路部14bとにより形成される。空気浄
化手段の第1の空気吐出口および第2の空気吐出
口はそれぞれ作業部14aおよび通路部14bの
天井面を形成する。空気浄化手段は通路部14b
の天井面が作業部14aの天井面より高くなるよ
う逆凹字形断面を有し、作業部14a側の端部上
面に空調給気ダクト接続口34が設けられる。こ
れにより空調給気ダクト(図示せず)を通路部の
両側の作業部の空調給気ダクト接続口34に接続
するだけで通路部およびその両側の作業部に空調
空気を供給でき、ダクト工事を大幅に簡略化する
ことができる。第2,3図と対応する部分を示す
が、本実施例では、両側板13の下部の側面排気
口28のほかに、通路部14bの床面にも清浄作
業室長手方向に連続または断続した床排気口30
を設ける。床31は二重構造として、床下還気ダ
クト32を形成し、床排気口30からの排気を床
下還気ダクト32と還気口33を通じて外部の保
全域へ流す。
送風機15,16の運転により、空調給気ダク
ト接続口34から流入する空調給気と保全域から
プレフイルタ26を通して空気吸込み口27へ還
流する空気はミキシングチヤンバ35で合流し、
送風機15,16から送風チヤンバ17,18へ
送り出された空気は高性能フイルタ19,20で
清浄化された後、室内の作業部14aと通路部1
4bへそれぞれの天井部から吹き出す。本実施例
では第1の風速設定手段は送風機15とフイルタ
19とにより構成され、第2の風速設定手段は送
風機16とフイルタ20とにより構成される。第
1の空気吐出口および第2の空気吐出口の面積は
それぞれ作業部14aに設置される機器9の大き
さおよび通路部14bとして必要な幅により予め
設定されるので、各吐出口における平均風速は各
風速設定手段の送風機とフイルタとの特性の組合
せにより設定される。作業部14aに供給される
空気の平均風速は気流が層流状態を保ち得る風速
で、かつ作業者に不快感を与えないとともに機器
9部分における乱流の発生や発塵の防止を図れる
範囲の風速に設定される。
このような風速の範囲は0.2m/秒〜0.6m/秒
の範囲であり、作業部14aの平均風速はこの範
囲内で設定され、通路部14bの平均風速は作業
部14aの平均風速以下となるよう設定される。
1例として、清浄気流の風速は、たとえば作業部
14aでは0.4m/s、通路部14bでは0.2m/
sというように、作業部平均風速≧通路部平均風
速の関係に保つようにする。
本実施例においては、清浄作業室内の作業者は
通路部14bを歩行し、通路部14bから自由に
出入りできるよう設けられた作業部14aの内部
で作業用機器9を用いて作業を行なう。特に集積
回路等の半導体製造工程の場合、作業用機器9は
大型のものが多く、これらのものを通常のクリー
ンベンチ内に格納するのはスペース的に困難であ
るとともに作業性を低下させる。本実施例では通
路部14bから自由に出入りできるよう設けられ
た作業部14aの内部に作業用機器9を設けてい
るので必要な清浄度を保てるとともに作業性を損
なうことがない。また、半導体製造工程の場合に
は作業部への出入りや他の作業部への移動が頻繁
に行なわれるが、本実施例ではこれらの出入りや
移動を妨げることがない。清浄作業室内において
は作業者は無塵服を着用した場合でも作業用機器
に比べ多量の粒子を発生し発塵源として扱われ、
特に一例としてカバーオール型の無塵服を着用し
た作業者は歩行時に0.3μ以上の粒径の粒子を一人
当たり毎分および150000個発生するため、通路部
には多量の粒子が存在し作業部より低い清浄度に
なる。本実施例では、作業部14aに供給される
清浄空気の平均風速が通路部14bに供給される
清浄空気の平均風速以上であるので、作業部14
aと通路部14bとの境界部において通路部14
bの気流が作業部14aに侵入するのを防止する
とともに、通路部14bにおいても上方から清浄
空気が吹出されるので発塵源から発生した塵埃を
下方に流し去ることができ、作業者から多量の発
塵があつてもその塵埃が通路部14b内に滞留す
ることを防止できる。これにより清浄空気はより
高い清浄度が必要な作業部において層流状態を保
ちやすくなり、作業部の床面近傍まで通路部の気
流が混入することなく図の矢印で示すように流
れ、作業部14aと通路部14bの気流境界線2
9は図示のように床面に近付くにつれ作業部から
通路部へ向かつてふくらみ、空気流通部としての
床排気口30に至る。そのため、気流境界線29
の作業部側では床面近傍に向かうにつれ気流のベ
クトルが通路部に向かう方向となり、作業者の影
響で作業部内に流入した塵埃や作業部内で発生し
た塵埃を通路部側へ向かつて早急に流すことがで
き作業部内の清浄度を向上させることができる。
また、床排気口30を通路部の中央部に設けるこ
とにより、通路部の気流が床面に近付くにつれい
ずれの作業部からも離れた位置で収束するので、
通路部の気流中の塵埃の作業部への流入を防止で
きる。さらに、床排気口30の幅が通路部の幅よ
り小さいため、床排気口30への流入風速が速く
なり床面近傍に浮遊する塵埃を早急に排出でき
る。この状態では、作業部14aの気流は二方向
に分かれて床排気口30と側面排気口28から排
出され、通路部14bの気流は床排気口30から
のみ排出されるので、通路部14bを通る作業者
からの発塵が作業部14aへ影響を及ぼすことが
ない。また、作業部14aに供給される空気の平
均風速は上記範囲内であるので機器9が設けられ
ていても機器9の表面からの発塵を防止できると
ともに、作業部14aに設置された機器9の前後
にそつて清浄気流が下降するため、うず流もでき
にくく、うず流が塵埃を巻き込んで作業部の清浄
度を低下させることもない。
しかも、床排気口30は通路部床面にのみ設け
られており、機器を設置する作業部床面はフラツ
トであるから、床全面を多孔板としたダウンフロ
ー式クリーンルームに比べ、床強度を上げること
ができ、振動防止の点でもすぐれている。
本発明の第2実施例を第5図、第6図により説
明する。
この実施例では、両側板13の外側に、さらに
側板36を設け、その間に側面還気ダクト37を
床下還気ダクト32および側面排気口28に接続
して設けてある。この側面還気ダクト37と床下
還気ダクト32により、側面排気口28および床
排気口30からの排気は合流してプレフイルタ2
6を通り空気吸込み口27へ還流する。この場
合、室内に吹き出された清浄空気のうち、空調給
気ダクト接続口34から供給される空気量に見合
つた分だけ、側板36の下部に設けた排気口38
から外部(保全域)へ排出されるが、他の大部分
の空気は天井部の空気浄化要素へ還流し、再度清
浄化して室内へ供給される。側板13および側板
36は、ねじ止めまたは引掛金具等により取りは
ずし可能にして、製造ラインのメンテナンスを保
全域から行えるようにする。
本実施例は、超LSI等の製造に必要とされる、
0.1μm粒子の超微粒子を対象とした清浄化に特に
効果がある。
すなわち、一般大気中の粒径別塵埃濃度を第7
図に示すが、これからも分るように、従来のクリ
ーンルームの清浄度の基準である0.5μm粒子に比
べ、0.1μm粒子は約100倍の濃度を有し、現用の
高性能フイルタ(HEPAフイルタ)の集塵効率
99.99〜99.999%程度では、0.1μm粒子で100個/
ft3以下の超清浄空気を供給することは難しい。
第5,6図に示した発明は、室内から排出される
比較的清浄度の高い空気を、外部の汚染空気を混
入することなく、局所的に循環使用することによ
つて、上記のような超清浄空気の供給を可能とし
たもので、第4図の実施例で述べた室内の気流状
態の改善と相まつて、最も重要な作業部の清浄度
については全面ダウンフロー式クリーンルーム以
上の超高性能が期待できる。
以上の説明から明らかなように本実施例によれ
ば、従来最良の方式とされていた全面ダウンフロ
ー式クリーンルームに比べ、次の効果が得られ
る。
(1) 清浄化区域および空調対象区域が大幅に減少
するため、設備費が約半分で済む。
(2) ランニングコストを約半分に低減する。
(3) 全面ダウンフロー方式では難しかつた製造ラ
イン別の空調温度制御が可能となる。
(4) 製造ラインのメンテナンスが外部の保全域か
ら行えるので、メンテナンス作業による発塵が
他の製造ラインに影響を及ぼすことを防止でき
る。
(5) 製造ラインの機器を設置する作業部の床強度
を上げることができるので、微細加工を行う製
造ラインの振動防止の点でもすぐれている。
本発明によれば作業部に供給される清浄空気の
平均風速を通路部に供給される清浄空気の平均風
速以上となるよう設定し、かつ、通路部の下方に
通路部より小さい幅を有する空気流通部を設けた
ので、作業部と通路部との気流境界線が清浄空間
内の床面に近付くにつれ作業部から通路部へ向か
つてふくらみ通路部の気流中の塵埃が作業部に流
入するのを有効に防止して作業部の清浄度保持性
能を向上させることができるとともに、空気流通
部への流入風速を早めて清浄空間内の塵埃を早急
に排出でき清浄空間内の清浄度を向上させること
ができる清浄作業室を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は先行技術である全面ダウンフロー式ク
リーンルームを示す側断面図、第2図は本発明の
基礎となつた清浄作業室の長手方向に直角な断面
図、第3図はその外観を示す斜視図、第4図は本
発明の第1実施例における清浄作業室の長手方向
に直角な断面図、第5図は本発明の第2実施例に
おける清浄作業室の長手方向に直角な断面図、第
6図はその外観を示す斜視図、第7図は大気中の
粒径別塵埃濃度を示す図である。 9:作業用機器、12:トンネル状覆いの天
板、13:側板、14a:室内の作業部、14
b:室内の通路部、15,16:送風機、19,
20:高性能フイルタ、22,24:天井部の清
浄空気吹出し口に設置した散光板、27:空気吸
込み口、28:側面排気口、30:床排気口、3
2:床下還気ダクト、34:空調給気ダクト接続
口、36:外側の側板、37:側面還気ダクト、
38:外部への排気口。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定方向に配列された作業機器からなる製造
    ラインを建屋空間から隔離するよう包囲して建屋
    から独立した清浄空間を形成し、該清浄空間は作
    業機器が配設される作業部と、該作業部に並行し
    て形成される通路部とから形成され、前記清浄空
    間内に清浄空気を供給する空気浄化手段が前記清
    浄空間の上方に配設され、前記空気浄化手段はそ
    れぞれ清浄空気を前記作業部に上方から供給する
    第1の空気吐出口と清浄空気を前記通路部に上方
    から供給する第2の空気吐出口とを備え、前記第
    1の空気吐出口からの清浄空気の平均風速を前記
    第2の空気吐出口からの清浄空気の平均風速以上
    となるよう設定し、前記通路部の下方には前記清
    浄空間内の空気を清浄空間外へ排出する空気流通
    部を備え、前記空気流通部はその幅が前記通路部
    の幅より小さくなるよう設けられて前記空気流通
    部から排出された清浄空気の少なくとも一部を前
    記空気浄化手段に還流させるよう構成されたこと
    を特徴とする清浄作業室。 2 前記空気流通部は前記通路部の幅方向の中央
    で前記通路部の延びる方向に沿つて延びるよう設
    けられたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の清浄作業室。 3 前記清浄空間は並行して設けられた2つの作
    業部と該作業部の中間に設けられた通路部とによ
    り形成され、前記空気浄化手段は前記通路部の天
    井面が前記作業部の天井面より高くなるよう逆凹
    字形断面に形成されるとともに前記作業部側の端
    部に空調給気ダクト接続口を備えてなることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の清浄作業
    室。
JP57011674A 1982-01-29 1982-01-29 清浄作業室 Granted JPS58129125A (ja)

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6127435A (ja) * 1984-07-18 1986-02-06 Seiken:Kk 空気清浄化システムに於る汚染空気の誘引混入防止装置
JPH067542B2 (ja) * 1984-11-22 1994-01-26 株式会社日立製作所 製造装置
JPS61104102U (ja) * 1984-12-13 1986-07-02
JPS62178824A (ja) * 1986-02-03 1987-08-05 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd クリ−ンル−ム
JPH0296543U (ja) * 1989-01-19 1990-08-01
NL2000530C2 (nl) * 2007-03-08 2008-09-09 Martin Van Schaik Gebouw voorzien van een werkplek, alsmede systeem en werkwijze voor het stofarm houden van de werkplek.
CN112229012B (zh) * 2020-10-16 2022-06-03 安徽倍净环境科技有限公司 一种组合空调箱式电子除尘空气净化装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4532066Y1 (ja) * 1967-04-27 1970-12-08
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4532066Y1 (ja) * 1967-04-27 1970-12-08
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

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JPS58129125A (ja) 1983-08-02

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