JPH0223775B2 - - Google Patents

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JPH0223775B2
JPH0223775B2 JP57011673A JP1167382A JPH0223775B2 JP H0223775 B2 JPH0223775 B2 JP H0223775B2 JP 57011673 A JP57011673 A JP 57011673A JP 1167382 A JP1167382 A JP 1167382A JP H0223775 B2 JPH0223775 B2 JP H0223775B2
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JP
Japan
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clean
wind speed
air
working
air outlet
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JP57011673A
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JPS58129124A (ja
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Katsuto Yagi
Juji Isayama
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体の製造などに必要とする清浄な
作業環境を作り出すための清浄作業室に関する。
従来、半導体製造工程に用いられていた清浄作
業室の代表的な例(全面ダウンフロー式クリーン
ルーム)を第1図に示す。
1は建屋、2はクリーンルーム室内、3は高性
能フイルタ、4は照明灯、5は天井部多孔板、6
は床部多孔板、7は空調用給気ダクト、8は空調
用戻りダクト、9は露光、エツチング、拡散、メ
タライズ等の製造ライン用機器、10は製造ライ
ンの水、ガス等を供給する配管類である。図中矢
印で示すように高性能フイルタ3で処理された清
浄空気は天井全面より室内2に吹出し、室内空気
は床下を通つて排出される。これにより、室内全
体をほぼ一称な高清浄度に維持し、全工程の作業
をこの清浄雰囲気中で行えるようにしている。こ
の全面ダウンフロー式クリーンルームは室全体の
清浄度を高める上からは最良の方式とされていた
が、次のような欠点がある。
(1) 清浄化区域および空調対象区域が広く、高価
な高性能フイルタを多量に使用しているため、
設備費が非常に高い。
(2) 空調維持費、フイルタ交換費用などのランニ
ングコストが高い。
(3) 室全体の空調を行うため、製造ライン別(工
程別)の空調温度制御ができない。
(4) 製造ラインのメンテナンスをクリーンルーム
室内で行うため、それによる発塵が他の製造ラ
イン(工程)に及ぼす影響が大きい。
(5) 床全面を多孔板としているため、床強度が弱
く、最近の微細パターンの半導体の製造には振
動の点で問題がある。
上記(1)〜(4)の欠点を改善するものとして特開昭
56−162335号が挙げられる。
しかし、これには通路部の両側に作業部が設け
られ作業部側面に設けられた隔壁の下部にのみ排
気口が設けられている場合の通路部の気流(清浄
度の低い気流)が作業部の気流(清浄度の高い気
流)に混入するのを作業部の気流の平均風速を通
路部の気流の平均風速よりも大きくするとともに
気流の気流境界線近傍の吹出風速を作業部の気流
の平均風速よりも大きくする風速分布調整手段を
用いて防止するという技術的思想はなんら開示さ
れていない。
これらの欠点を改善するため、ほぼ並行して設
けられた作業部と通路部を局部的に覆うよう構成
した清浄作業室が本発明者らによつて考え出され
た。
第2図は清浄作業室の長手方向に直角な断面図
で、製造ラインの作業用機器9を床下に向い合せ
に設置し、2ラインを1組として清浄作業室内に
収納した場合を示す。支柱10と横梁11とで門
形フレームを組み、これに天板12と両側の側板
13を張つてトンネル状覆いを構成し、このトン
ネル状覆いとそれを設置する床面とで囲まれた清
浄作業室内に作業用機器9を設置する作業部14
aと作業者が通行する通路部14bとをトンネル
状覆いの長手方向に連続して設ける。作業部14
aの天井部には空気浄化要素である送風機15,
16、送風チヤンバ17,18、高性能フイルタ
19,20と作業部照明灯21を収納し、その下
部の清浄空気吹出し口に格子状の散光板22を設
置する。また、通路部14bの天井部空間には通
路部照明灯23を収納し、その下部の清浄空気吹
出し口に格子状の散光板24を設置する。25は
作業部天井と通路部天井との間の仕切り用化粧板
である。
通路部14bの天井高さは作業者が立つて通行
できる程度に高くし、作業部14aの天井高さは
作業に支障がない限り低くする(一例を示せば、
通路部天井高さ2200mm、作業部天井高さ1800mm)。
作業部天井高さはできるだけ低くした方が、作業
部空間の気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が
良くなる。
送風機15,16の運転により、外部空気はプ
レフイルタ26を通して空気吸込み口27から吸
込まれる。作業部用送風機15から送風チヤンバ
17の送り出された空気は作業部用高性能フイル
タ19により清浄化された後、作業部天井の全面
から室内の作業部14aへ吹き出し、また、通路
部用送風機16から送風チヤンバ18へ送り出さ
れた空気は通路部用高性能フイルタ20により清
浄された後、通路部天井の全面から室内の通路部
14bへ吹き出す。この場合、作業部の吹出し風
速は天井全面にわたり均一である。散光板22,
24は照明の散光と清浄気流の整流のために設け
られたものである。
天井面から吹き出された清浄気流は図の矢印で
示すように室内を流れ、両側の側板13の下部に
設けた側面排気口28から外部の保全域へ排出さ
れる。室内圧力は排気口28での圧力損失分だけ
外気に対し正圧となるので、外部からの汚染空気
の流入を防止できる。
側面排気口28は、製造ラインへの水、ガス等
の配管類や電線等の引込みにも利用される。側板
13は、作業用機器9の補修や配管等を外部の保
全域から行えるように、ねじ止めあるいは引掛金
具等を用いて部分的に取りはずせるようにしてお
く。また、室内の作業環境の改善と外部からの作
業管理の必要上、側板13の一部を透明板とする
ことがある。
第3図にはモジユール化した清浄作業室を多数
連結してなる本方式による清浄作業室の外観を示
す。
しかし、この方式による清浄作業室においては
排気口28が両側板13の下部のみであるため、
すべての気流が側面排気口28へ向つて流れ、作
業部14aの吹出し風速を天井全面にわたり均一
とした場合、作業部14aと通路部14bの気流
境界線29は図示のようになり、通路部を通る作
業者からの発塵の影響および作業部を斜めに流れ
る気流のため作業用機器9の前面に生じるうず流
などにより、通路部の空気が作業部内に流入する
という問題があつた。
なお、他に関連するものとして、特開昭55−
118541号が挙げられるが、これには清浄度が異な
る気流が並行して流れる場合に清浄度の高い気流
の平均風速を清浄度の低い気流の平均風速より大
きくするとともにそれらの気流境界線の清浄度の
高い側に気流境界線近傍の吹出風速を清浄度の高
い側の平均風速より大きくする風速分布調整手段
を設けて気流の混入防止を図るという技術的思想
が開示されていない。
本発明は上記問題点に鑑み、第1の空気吐出口
からの清浄空気の平均風速(作業部の平均風速)
を第2の空気吐出口からの清浄空気の平均風速
(通路部の平均風速)以上となるよう設定し、か
つ、第1の空気吐出口に第1の空気吐出口から吹
出される気流と第2の空気吐出口から吹出される
気流の気流境界線近傍の吹出風速を増大させる風
速分布調整手段を設けて排気口が隔壁の下部のみ
に設けられている場合でも通路部の気流が作業部
内に流入するのを防止して作業部の清浄度保持性
能を向上させることを目的とするものである。
以下、本発明の実施例を図面によつて説明す
る。
第4図は本発明の一実施例を示す清浄作業室の
長手方向に直角な断面図、第5図は天井の清浄空
気吹出し部の詳細図である。
作業部の上方に設けられた空気浄化手段40は
送風機15,16と、送風チヤンバ17,18
と、送風チヤンバ17に設けられた高性能フイル
タ19と、高性能フイルタ19の下流に形成され
散光板22が設けられた第1の空気吐出口42
と、送風チヤンバ18に設けられた高性能フイル
タ20と、高性能フイルタ20の下流に形成され
散光板24が設けられた第2の空気吐出口44と
により構成される。
なお、符号9〜28は第2,3図と対応する部
分を示すが、本実施例では、作業部天井の清浄空
気吹出し口に風速分布調整手段として、たとえば
多孔板30を設ける。この多孔板30は、第5図
に詳細図示したように占孔率を通路部14bに近
付くにつれて大きくしたもので、その側板13に
近い部分では、孔が小さく、空気抵抗が大きいた
め、吹出し風量、風速は小さいが、通路部14b
に近い部分では、孔が大きく、空気抵抗が小さい
ため、吹出し風量、風速はより大となり、たとえ
ば第5図の矢印A,B,Cで示すような風速分布
が得られる。図で矢印の長さが風速を表わしてい
る。
これにより、作業部の気流は通路部の気流との
気流境界線29近傍の吹出風速が増大し第4図に
示すように気流境界線29は床面近くまでほぼ垂
直に立つた状態となり、清浄度の低い通路部の気
流が隔壁としての側板13の下部に設けられた排
気口28へシヨートサーキツトするのを防止す
る。そのため通路部の気流は床面に沿つて排気口
28へ流れ、作業部の高い清浄度を要する部分へ
は流入しない。
清浄作業室内においては第4図に示すように、
作業部14aは作業者が通路部14bから自由に
出入りできるよう設けられ、作業部14aの側板
13の側に作業用機器9が設けられる。作業者は
通路部14bの側に位置して作業を行なうことが
一般的である。作業者は無塵服を着用した場合で
も作業用機器に比べ多量の粒子を発生し、清浄作
業内においては発塵源となり、半導体製造工程の
ような特に高い清浄度が要求される清浄作業室に
おいては発塵体として扱われ、作業者の作業位置
が存在領域46となる。一例としてカバーオール
型の無塵服を着用した作業者は座つているだけで
0.3μ以上の粒径の粒子を毎分およそ15000個発生
し、作業者が体を動かすことにより作業者から発
生する粒子の数は座つているときの数倍となり、
さらに歩行時には座つているときの約10倍の粒子
を発生する。
本実施例では作業用機器9に対し作業を行なう
作業者が発塵体として扱われた例が示されている
が、これに限ることなく、作業部内で作業を行な
う産業用ロボツトや、作業用機器に部品等を外部
から供給するための搬送具等も発塵体として扱わ
れる。この場合、いわゆるエアーカーテンのよう
に作業部14a内の通路部14bとの境界付近の
風速のみを他の部分の風速に比べ極端に大きくす
ると、作業者の頭部等に当つた高速気流が動圧で
作業部14a内に向い、作業者からの発塵を飛散
させる恐れがある。また、作業部全体の吹出し風
速を不必要に大きくすることは、壁面等に付着し
た塵埃の飛散を招き、エネルギー的にも不経済な
ので、第4,5図に示すように、作業部内の隣接
区域の風速の差を余り大きくせずに、作業部吹出
し風速を存在領域46に近付くにつれて順次大き
くすることが大切であり、理想的には連続性を持
つ風速分布とすることが望ましい。また、通路部
14bの風速が大き過ぎると、第2図に示す気流
状態に近くなるので、通路部平均風速≦作業部平
均風速の関係に保てば一層よい。これは、作業部
用送風機15と通路部用送風機16の風量を吹出
し口面積に応じて適宜設定することにより達成で
きる。作業部14aに供給される清浄空気の平均
風速は作業部内での層流を維持し、かつその風速
により発塵体からの発塵を飛散させない風速とし
て0.2m/秒〜0.5m/秒に設定するとよく、か
つ、作業部14a内において発塵体近傍に向けて
吹出される清浄空気の平均風速は除塵効果を向上
させるとともにその風速により発塵体からの発塵
を飛散させない風速として0.3m/秒〜0.6m/秒
に設定することが望ましい。
各部風速の一例を示せば、通路部平均風速を
0.2m/s、作業部平均風速を0.4m/sとし、作
業部内のA,B,C各部の吹出し風速をそれぞれ
0.6m/s、0.4m/s、0.2m/sと存在領域46
に近付くにつれて順次大きくする。
こうすることにより、作業部14aの通路部1
4bの側において吹出風速が作業部の他の部分よ
り大きくなるため発塵源から発生した塵埃を速や
かに下方に流し去ることができ、作業者から多量
の発塵があつてもその塵埃が作業部内に滞留する
ことを防止できる。さらに、側面排気口28から
のみ排気を行つても、清浄気流は第4図の矢印で
示すように流れ、作業部14aと通路部14bの
気流境界線29は床面近くまでほぼ垂直に立つた
状態となる。したがつて、通路部14bを通る作
業者からの発塵が作業部14aに設置された機器
9の最も清浄度を必要とする部分に流入すること
を防止でき、また、機器9の前後にそつて清浄気
流が下降するので、うず流も生じにくく、床面か
ら排気を行つた場合とほぼ同様に、作業部14a
の清浄度保持性能を向上させることができる。し
かも、床下排気ダクトを必要としないので、工事
費が安く、既設の建屋に設置することも容易であ
り、また、床を多孔板とすることによつて床強度
が低下することもない。
風速分布調整のため、必要に応じて通路部14
bの清浄空気吹出し口にも通路部用多孔板31を
設置することがある。作業部用多孔板30、通路
部用多孔板31は、照明灯21,23による乱流
を防止するため、照明灯21,23の下に設置す
ることが望ましく、この場合は、多孔板30,3
1に透光性材料(透明樹脂板等)を用いる。
風速分布調整手段としては、図示した多孔板3
0の代りに吹出し気流の方向を変える風向板等を
用いても同様の効果が得られる。
以上の説明から明らかなように本実施例によれ
ば、従来最良の方式とされていた全面ダウンフロ
ー式クリーンルームに比べ、次の効果がある。
(1) 清浄化区域および空調対象区域が大幅に減少
するため、設備費が約半分で済む。
(2) ランニングコストも約半分に減する。
(3) 製造ライン別の空調温度制御が可能となる。
(4) 製造ラインのメンテナンスが外部の保全部域
から行えるので、メンテナンス作業による発塵
が他の製造ラインに影響を及ぼすことを防止で
きる。
(5) 床強度を上げることができるので、微細加工
を行う製造ラインの振動防止の点でもすぐれて
いる。
本発明によれば作業部の平均風速通路部の平均
風速以上となるよう設定し、かつ、作業部の空気
吐出口に作業部の気流と通路部の気流の気流境界
線近傍の吹出風速を増大させる風速分布調整手段
を設けて排気口が隔壁の下部のみに設けられてい
る場合でも通路部の気流が作業部内に流入するの
を防止して作業部内の清浄度を保持できるととも
に床面の排気口工事を不要とすることができ施工
の容易な清浄作業室を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は先行技術である全面ダウンフロー式ク
リーンルームを示す側断面図、第2図は本発明の
基礎となつた清浄作業室の長手方向に直角な断面
図、第3図はその外観を示す斜視図、第4図は本
発明の第1実施例における清浄作業室の長手方向
に直角な断面図、第5図はその要部詳細図であ
る。 9:作業用機器、12:トンネル状覆いの天
板、13:側板、14a:室内の作業部、14
b:室内の通路部、15,16:送風機、19,
20:高性能フイルタ、22,24:天井部の清
浄空気吹出し口に設置した散光板、27:空気吸
込み口、28:側面排気口、30:風速分布調整
手段である作業部用多孔板、A,B,C:風速分
布を示す矢印。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定方向に配列された製造ラインを形成する
    よう作業機器が配設された一対の作業部を備え、
    かつ、該一対の作業部はそれぞれ並行して設けら
    れるとともに該一対の作業部の中間に該作業部に
    並行して延びる通路部とを備えてなる清浄空間
    と、前記清浄空間を建屋空間から隔離するよう少
    なくとも前記作業空間の側面に設けられた隔壁
    と、前記隔壁の下部に設けられた排気口と、前記
    清浄空間の上方に配設され前記清浄空間内に清浄
    空気を供給する空気浄化手段と、前記空気浄化手
    段に設けられそれぞれ清浄空気を前記作業部およ
    び前記通路部に上方から供給する第1の空気吐出
    口および第2の空気吐出口とを備えてなる清浄作
    業室において、前記第1の空気吐出口からの清浄
    空気の平均風速を前記第2の空気吐出口からの清
    浄空気の平均風速以上となるよう設定し、かつ、
    前記第1の空気吐出口は前記第1の空気吐出口か
    ら吹出される気流と前記第2の空気吐出口から吹
    出される気流の気流境界線近傍の吹出風速を前記
    第1の空気吐出口からの清浄空気の平均風速より
    大きくする風速分布調整手段を備えてなることを
    特徴とする清浄作業室。 2 前記風速分布調整手段は前記作業部の吹出風
    速を前記通路部に近付くにつれて順次大きくなる
    よう構成されたことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の清浄作業室。
JP57011673A 1982-01-29 1982-01-29 清浄作業室 Granted JPS58129124A (ja)

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JPS58129124A JPS58129124A (ja) 1983-08-02
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59185923A (ja) * 1983-04-07 1984-10-22 Sanki Eng Co Ltd クリーンルームの形成方法
JP2007160249A (ja) * 2005-12-15 2007-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd ファンフィルターユニット

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55118541A (en) * 1979-03-05 1980-09-11 Sanko Kuki Sochi Kk Downflow system laminar flow type clean room
JPS5631230B2 (ja) * 1973-02-23 1981-07-20
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6038819Y2 (ja) * 1979-08-17 1985-11-20 株式会社日立製作所 温度調節装置付清浄作業室

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5631230B2 (ja) * 1973-02-23 1981-07-20
JPS55118541A (en) * 1979-03-05 1980-09-11 Sanko Kuki Sochi Kk Downflow system laminar flow type clean room
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

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