JPH0218329A

JPH0218329A - フェライト薄膜の形成方法

Info

Publication number: JPH0218329A
Application number: JP63167108A
Authority: JP
Inventors: Tatsuhiko Suzuki; 達彦鈴木; Keisuke Kobayashi; 小林　啓佑
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1988-07-05
Filing date: 1988-07-05
Publication date: 1990-01-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は、耐熱性基体上に、磁気記録媒体、光磁気記
録媒体、磁気ヘッド、磁気光学素子、マイクロ波素子、
磁歪素子、磁気＠響素子等として作用するフェライト薄
膜を形成する方法に関する。

（従来の技術）フェライトの薄膜を形成する方法としては、物理的蒸着
法（ＰＶＤ法）、化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）、スパッ
タリング法等、いろいろな方法があるが、いずれも、組
成の調節が難しいばかりか、高価な装置を必要とすると
いう問題がある。そこで、ゾル・ゲル法による湿式製膜
法の検討が行われている。

たとえば、窯業協会、昭和６２年年会講演予稿集、第８
２７頁（１９８７年）には、各種金属の硝酸塩や塩化物
等の無機塩を原料とするゾル・ゲル法によるフェライト
薄膜の形成方法が記載されている。しかしながら、この
方法では、無機塩あるいはその水和物の粒子以上の均質
性は得られず、単一相の形成が難しいという問題がある
。

（発明が解決しようとする課題）この発明の目的は、従来の方法の上述した問題点を解決
し、基体上に、均質性に優れたフェライト薄膜を形成す
る方法を提供するにある。

（課題を解決するための手段）上記目的を達成するために、この発明においては、下記
Ａ群、Ｂｇ、ｌ、Ｄ群および１群の化合物のうち、Ａ群
、Ｂ群、Ｄ群およびＥｌか、または、Ａ群、０群、Ｄ群
および１群からそれぞれ選ばれた化合物を含む混合溶液
を調製する工程と、Ａ群：Ｆｅの、メトキシド、エトキ
シド、プロポキシド、ブトキシド、メトキシエトキシド
またはエトキシエトキシドＢ＆￥：Ｃｏ、Ｎ　１ＳＺｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、ＬＭｑ、Ａ
Ｉ、Ｃｒ、■、Ｓｂ、ＭＯｌ ”ｌｉ、３ｎの、メトキシド、エトキシド、プロポキシ
ド、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエ
１〜キシドＣ群：［３ａ、３ｒ、　Ｐｂの、メトキシド、エトキシ
ド、プロポキシド、ブトキシド、メトキシエトキシドま
たはエトキシエトキシドＤ群：モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、七）２−プロパツールアミン、ジ
２−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール１群：メタノール、エタンごル、プロパツール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工程と、上記薄膜を乾燥する工程と、上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、フェライト薄
膜に変換する工程と、を含むことを特徴とする、フェライト薄膜の形成方法が
提供される。

この発明は、上述したＡ群、Ｂ群、０群、Ｄ群および１
群の化合物のうち、Ａ群、Ｂ群、Ｄ群および１群からぞ
ぞれ選ばれた化合物を使用する場合と、Ａ群、０群、Ｄ
群および１群からそれぞれ選ばれた化合物を使用する場
合とがある。以下においては、便宜上、前者を第１の方
法と呼び、後者を第２の方法と呼ぶことにする。もつと
も、Ｂ群および０群の化合物に関しては、２種以上を同
時に使用することもできるものである。

さて、第１の方法によれば、下記一般式で表わされるス
ピネル型フェライトを得ることができる。

Ｆｅ２Ｏ４ただし、Ｍ：Ｂ群の金属元素（Ｆｅと、Ｃｏ、Ｎ　ｉ　
、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、「Ｍｇ、Ａ　Ｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｓｂ、ＭＯ，Ｔｉ、３ｎの少なくとも１種）すなわち、たとえば、ＭがＣｏの場合にはＣ０Ｆｅ２Ｏ
４が得られ、Ｎ１の場合にはＮ　ｉ　Ｆｅ２Ｏ４が１ｑ
られ、Ｍｎと７−ｎの場合にはＭｎ−Ｚｎ系のＭｎｘ７
　ｎｌ−ｘ　Ｆｅ２０４混晶フエライトが１ｑられる。

もっとも、この第１の方法では、３価のＦｅが一部置換
された、ＣＯＦｅＣ０Ｆｅ２−ｘ等のフェライトを得る
こともできる。

また、第２の方法によれば、下記一般式で表わされるマ
グネトブランバイト型フェライトを得ることができる。

Ｍ　Ｆ　ｅ　１２０１９ただし、Ｍ：０群の金属元素（Ｂａ、Ｓｒ、Ｐｂの少な
くとも１種）また、第２の方法による場合は、ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、ｚ
ｎ、ｃａ、Ｔｒ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｌａ、Ｃｅ、ｐｒ、３ｍ
等を加えて変性することもでき、その場合には、Ｂａ［
Ｃ１２−２、Ｃ０ｘＴｌｘＯ１９等のフェライトが得ら
れる。

以下、第１の方法を各工程別にさらに詳しく説明する。

混合溶液の調製工程：第１の方法においては、まず、下記のＡ、Ｂ、Ｄ、　Ｅ
＠鮮から選ばれた化合物を含む混合溶液を調製する。

Ａ群二Ｆｅの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシドＢ群：Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、ＣＩＪ、Ｌｉ、ＭＯ，
ＡＩ、Ｃｒ、■、３ｂ、ＭＯ。

Ｈｉ、３ｎの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシドＤ群：モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、七）２−プロパツールアミン、ジ
２−プロパツールアミン、アセチルアセトン、■チレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコールＥ群：メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール上記Ａ、Ｂ各群におけるプロポキシドは、コープロバノ
ール、２−プロポキシドのいずれであってもよい。また
、ブトキシドは、１−ブトキシド、２−ブトキシド、イ
ソブトキシド、↑−ブトキシドのいずれでおってもよい
。さらに、Ｅ群のプロパツールは、コープロバノール、
２−プロパツールのいずれでおってもよい。ざらにまた
、ブタノールは、］−ブタノール、２−ブタノール、イ
ソブタノール、ｔ−ブタノールのいずれであってもよい
。

上記Ａ、Ｂ各群の化合物は、フェライトの主成分となる
ものである。

また、０群の化合物は、焼成に至るまでの各工程で、加
水分解によってＡ、Ｂ各群の化合物が微粒子状の水酸化
物や酸化物として析出するのを抑制するものである。

また、Ｅ群の化合物は溶媒として作用するものである。

Ａ、Ｄ、Ｆの各群からは、１種を選択、使用する。２種
以上を選択、使用することも可能ではあるが、そうして
も得られる薄膜に特性上の有意差はほとんど認められず
、工程の複雑化等によるコスト上昇など、不都合のほう
がよほど大きい。

また、Ｂ群からは、１種を選択してもよく、２種以上を
選択してもよい。２種以上を選択するときは、金属元素
の異なるものを選択する。この場合、混晶フェライトが
得られる。

さらに、Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅ各群からは、どの化合物を選択
しても、得られる薄膜に特性上の有意差はほとんど認め
られない。すなわち、アルコキシ基やアルコキシアルコ
キシ基の相異による、得られる薄膜の特性上の有意差は
ほとんど認められない。

Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｅ各群の化合物の混合割合は、それらの種
類によって多少異なるものの、Ａ群の化合物をａモル、
Ｂ群の化合物をｂモル、０群の化合物をｄモル、Ｅ群の
化合物をｅリットルとしたとき、式、０．１　（ａ十ｂ）≦ｄ≦３　（ａ＋ｂ）０．０１≦［
（ａ＋ｂ）／ｅ］≦３を同時に満足する範囲であるのが好ましい。

すなわち、ｄ＜０．１　（ａ十ｂ）では、Ａ、Ｂ各群の
化合物の加水分解を十分に抑制できないことがあるし、
ｄ＞３　（ａ十ｂ）では、混合溶液の粘度が高くなりす
ぎて製膜できないことがある。

また、［（ａ＋ｂ）／ｅ］　＜０．０１では、溶媒が多
すぎて実用的でない。ざらに、［（ａ十ｂ）／ｅｌ＞３
では、Ａ、Ｂ各群の化合物が溶は残ることがある。

混合操作は、０群の化合物とＥ群の化合物との混合溶液
にＡＳＢ各群の化合物を添加、混合することでよい。な
お、混合操作が完了するまでは、Ａ、Ｂ各群の化合物を
極力湿気に晒さないよにするのが好まく、乾燥窒素など
で置換したグラブボックス内等で行うのが好ましいが、
それ以後の操作は大気中で行うことができる。

混合溶液の薄膜形成工程：第１の方法においては、次に、耐熱性基体上に上記混合
溶液の薄膜を形成する。つまり、製膜する。

基体は、後述する焼成温度に耐えるものであればよく、
金、銀、白金などの金属や、これら金属の少なくも１種
を主成分とする合金や、ガラス、炭素、ケイ素、シリカ
、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、チタン酸ストロ
ンチウム、チタニア、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ホ
ウ素、炭化ケイ素等の無は質材料を使用することができ
る。形状は、繊維状、フィルム状、板状、バルク状など
、いずれであってもよい。これらの基体は、その表面を
研磨して平滑にしたり、洗浄して油分などによる汚れを
除去したりしておくのが好ましい。

薄膜の形成は、刷毛、ローラー等による塗布や、スプレ
ーによる塗イ［や、混合溶液に基体を浸漬した後引き上
げるデイツプコーティング法等によることが出来る。な
かでも、比較的簡単で、しかも引上速度を変えることで
膜厚を変えることができるデイツプコーティング法が好
ましい。

乾燥工程：第１の方法においては、次に、基体上に形成した薄膜を
乾燥し、Ｅ群の化合物、つまり溶媒を蒸発させてＡ、Ｂ
、Ｄ各群の化合物からなるゲル化薄膜とする。この工程
は、常温で行ってもよく、５０〜１００℃程度の恒温下
で行ってもよい。

焼成工程：第１の方法においては、次に、上記乾燥薄膜を酸化性雰
囲気中にて基体ごと焼成し、有機成分を分解して飛ばす
とともに、ＡＳＢ各群の化合物を酸化させる。すると、
上述したスピネル型フェライト薄膜が得られる。この焼
成は、たとえば次のようにして行う。

すなわち、薄膜を基体ごと加熱炉に入れ、酸化性雰囲気
中で焼成温度まで昇温し、その温度に一定時間保持した
俊、室温まで冷却する。焼成雰囲気は、空気か、２０〜
１００％の濃度の酸素とする。昇温速度は、１〜ｂ好ましい。１℃／分未満では、昇温に時間がかかりすぎ
て実用的でない。１０００℃／分を越えると、薄膜に亀
裂等ができることがある。焼成温度は、３５０〜１２０
０℃であるのが好ましい。３５０℃未満では、薄膜内の
有機成分が残ることがあり、１２００℃を越えると、薄
膜が一部溶解したり蒸発することがある。焼成時間は、
数十分から数時間程度でよい。冷却速度もまた、昇温の
場合と同様の理由で１〜１０００’Ｃ／分であるのが好
ましい。

以上においては、第１の方法について説明したが、第２
の方法も、基本的には第１の方法と変わらない。

すなわち、混合溶液の調製工程に関して、第１の方法に
おけるＢ群の化合物に代えて、０群の化合物、つまり、
Ｂａ、Ｓｒ、Ｐｂの、メトキシド、エトキシド、プロポ
キシド、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキ
シエトキシドを使用するという点がただ異なるだけであ
る。

もっとも、第２の方法においては、ｃｏ、Ｎｉ。

Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｎｂ、ｌ−ａ。

Ｃｅ、ｌ）ｒ、３ｍ等で変性することができ、その場合
には、混合溶液の調製工程でそれをメトキシド、エトキ
シド、プロポキシド、ブトキシド、メトキシエトキシド
またはエトキシエトキシドの形で添加する。添加間は、
Ｆｅに対して１〜１５モル％程度でよい。

（実　施　例）実施例１乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのメト
キシドを０．０２モル、Ｎｉのメトキシドを０．０１モ
ル計り取り、これにモノエタノールアミンを０．０３モ
ル添加し、ざらにメタノールを１００ｍ１加え、スター
９を用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。

一方、厚みが’１ｍｍの石英ガラス板を、トリクロルエ
チレン、アセトン、エタノール、純水を順次用いてそれ
ぞれ３分づつ超音波洗浄した後、高純度乾燥窒素を吹き
付けて乾燥した。

次に、上記混合溶液に上記石英ガラス板を浸漬し、１分
後、垂直に１０ｃｍ／分の速度で引き上げ、石英ガラス
板上に混合溶液の薄膜を形成した。

次に、上記薄膜を５０℃の恒温槽中で３０分乾燥した。

次に、上記乾燥薄膜を、石英ガラス板ごと電気炉に入れ
、１０℃／分の速度で７００℃まで昇温し、その温度に
２時間保持した後、５０℃／分の速度で室温まで冷却し
た。

かくして得られた薄膜を元素分析法とＸ線回折法とで分
析したところ、ＮｉＦｅ２Ｏ４なるＮｉ−フエライ１へ
薄膜でめり、６００倍の顕微鏡による観察でも異物や亀
裂等は認められず、極めて均質でめった。

実施例２乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｎｉのエトキシドを０．０１モ
ル計り取り、これにジェタノールアミンを０．０３モル
添加し、さらにエタノールを１００ｍ１加え、スター９
を用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下、実施例
１と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜もまた、ＮｉＦｅ２Ｏ４なるＮｉ−フェライト
薄膜であり、実施例１で得られたものと同様、極めて均
質であった。

実施例３乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｇｏのエトキシドを０．０１モ
ル計り取り、これにジェタノールアミンを０．０３モル
添加し、さらにエタノールを１００ｍ１加え、スター９
を用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下、実施例
１と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、Ｃ０Ｆｅ２Ｏ４なるＧｏ−７１ライト薄膜
であり、実施例１で得られたものと同様、極めて均質で
あった。

実施例４乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｚｎのエトキシドを０．０１モ
ル計り取り、これにジェタノールアミンを０．０３モル
添加し、ざらにエタノールを１００ｍ１加え、スター９
を用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下、実施例
１と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、７ｎＦｅ２０４なるｚｎ−フェライト薄膜
であり、実施例１で得られたものと同様、極めて均質で
あった。

実施例５乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｍｎのエトキシドを０．０１モ
ル計り取り、これにジェタノールアミンを０．０３モル
添加し、さらにエタノールを１００ｍ１加え、スター９
を用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下、実施例
１と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、ＭｎＦｅ２０ｑなるＭｎ−フェライト薄膜
であり、実施例１で得られたものと同様、極めて均質で
めった。

実施例６乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｎｉのエトキシドを０．００５
モル、ｚｎのエトキシドを０゜０１モル計り取り、これ
にジェタノールアミンを０．０３モル添加し、さらにエ
タノールを１００ｍ１加え、スター９を用いて３０分攪
拌し、混合溶液を冑た。以下、実施例１と同様にして、
石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、Ｎ　ｌ　□、５　Ｚ　Ｉ’ｌ□、５　Ｆ　
Ｃ２０４なるＮｒ−２ｎフエライト薄膜でおり、実施例
１で１ｑられたものと同様、極めて均質であった。

実施例７乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０２モル、Ｍｎのエトキシドを０．００５
モル、ｚｎのエトキシドを０゜０１モル計り取り、これ
にジェタノールアミンを０．０３モル添加し、さらにエ
タノールを１００ｍ１加え、スタークを用いて３０分攪
拌し、混合溶液を得た。以下、実施例１と同様にして、
石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、Ｍｎ０５　Ｚｎｏ、５　Ｆｅ２Ｏ４なるＭ
ｎ−２ｎフエライト薄膜であり、実施例１で得られたも
のと同様、極めて均質であった。

実施例８乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのメト
キシドを０．０１２モル、Ｂａのメトキシドを０．００
１モル計り取り、これにモノエタノールアミンを０．０
１５モル添加し、ざらにメタノールを１００ｍ１加え、
スタークを用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。

一方、厚みが１ｍｍの石英ガラス板を、トリクロルエチ
レン、アセトン、エタノール、純水を順次用いてそれぞ
れ３分づつ超音波洗浄した後、高純度乾燥窒素を吹き付
けて乾燥した。

次に、上記薄膜を５０’Ｃの恒温槽中で３０分乾燥した
。

次に、上記乾燥薄膜を、石英ガラス板ごと電気炉に入れ
、１０℃／分の速度で８５０℃まで昇温し、その温度に
２時間保持した後、５０’Ｃ／分の速度で室温まで冷却
した。

かくして得られた薄膜を元素分析法とＸ線回折法とで分
析したところ、ＢａＦｅ１２Ｏ１９なるマグネトブラン
バイト型Ｂａ−へキサフェライト薄膜であり、６００倍
の顕微鏡による観察でも異物や亀裂等は認められず、極
めて均質であった。

実施例９乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのメト
キシドを０．０１２モル、３ｒのメトキシドを０．００
１モル計り取り、これにモノエタノールアミンを０．０
１５モル添加し、さらにメタノールを１００ｍ１加え、
スタークを用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下
、実施例８と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た
。

この薄膜は、Ｓ　ｒ　Ｆ　ｅ　１２０１９なるマグネト
ブランバイト型３ｒ−へキサフェライト１１１１であり
、実施例８で得られたものと同様、極めて均質であった
。

実施例１０乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのメト
キシドを０．０１２モル、Ｐｂのメトキシドを０．００
１モル計り取り、これにモノエタノールアミンを０．０
１５モル添加し、さらにメタノールを１００ｍ１加え、
スタークを用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下
、実施例８と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た
。

この薄膜は、Ｐ　ｂ　Ｆ　ｅ　１２０１ｇなるマグネト
ブランバイト型Ｐｂ−へキサフェライト薄膜であり、実
施例８で得られたものと同様、極めて均質であった。

実施例１１乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０１２モル、３ａのエトキシドを０．００
１モル計り取り、これにジェタノールアミンを０．０１
５モル添加し、ざらにエタノールを１００ｍ１加え、ス
タークを用いて３０分攪拌し、混合溶液を得た。以下、
実施例８と同様にして、石英ガラス板上に薄膜を得た。

この薄膜は、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１２０１９なるマグネト
ブランバイト型３ａ−ヘキサフェライト薄膜であり、実
施例８で得られたものと同様、極めて均質であった。

実施例１１乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Ｆｅのエト
キシドを０．０１１モル、Ｂａのエトキシドを０．００
１モル、Ｃｏのエトキシドを０゜０００５モル、ｌｉの
エトキシドを０．０００５モル計り取り、これにジェタ
ノールアミンをＯ００１５モル添加し、さらにエタノー
ルを１００ｍ１加え、スタークを用いて３０分攪拌し、
混合溶液を得た。

次に、上記薄膜を５０℃の恒温槽中で３０分乾燥した。

次に、上記乾燥薄膜を、石英ガラス板ごと電気炉に入れ
、１０℃／分の速度で８５０’Ｃまで昇温し、その温度
に２時間保持した後、５０’Ｃ／分の速度で至温まで冷
却した。

かくして得られた薄膜を元素分析法とＸ線回折法とで分
析したところ、Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　１１ｃ　Ｏｏ、　ｓＴ
　’　０．５０１９なるマグネトブランバイト型Ｂａ−
ヘキサフェライト薄膜であり、６００倍の顕微鏡による
ＦＡ察でも異物や亀裂等は認められず、極めて均質であ
った。

（発明の効果）この発明は、Ｄ群の化合物によってＡ、Ｂ、Ｃ各群の化
合物の加水分解を抑制しつつ混合溶液から一気に耐熱性
基体上に薄膜を形成し、乾燥し、酸化性雰囲気中で焼成
してフェライト薄膜に変換するので、実施例にも示した
ように、均質性に優れたフェライト薄膜を容易に得るこ
とができるようになる。

Claims

【特許請求の範囲】（イ）下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群およびＥ群の化合物
のうち、Ａ群、Ｂ群、Ｄ群およびＥ群か、または、Ａ群
、Ｃ群、Ｄ群およびＥ群からそれぞれ選ばれた化合物を
含む混合溶液を調製する工程と、Ａ群：Ｆｅの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエトキシドＢ群：Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａ
ｌ、Ｃｒ、Ｖ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｓｎの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエトキシドＣ群：Ｂａ、Ｓｒ、Ｐｂの、メトキシド、エトキシド、
プロポキシド、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエトキシドＤ群：モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ２− プロパノールアミン、ジ２−プロパノールアミン、アセチルアセトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールＥ群：メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール（ロ）耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工
程と、（ハ）上記薄膜を乾燥する工程と、（ニ）上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、フェラ
イト薄膜に変換する工程と、を含むことを特徴とする、フェライト薄膜の形成方法。