JPH01298017A - β−アルミナ薄膜の形成方法 - Google Patents
β−アルミナ薄膜の形成方法Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、Na イオン伝導性を示し、ナトリウム
−硫黄電池、ナトリウムセンサ、各種表示素子等として
好適なβ−アルミナ薄膜を基体上に形成する方法に関す
る。
−硫黄電池、ナトリウムセンサ、各種表示素子等として
好適なβ−アルミナ薄膜を基体上に形成する方法に関す
る。
従来の技術
β−アルミナは、高いNa+イオン伝導性を示し、固体
電池や各種センサへの応用が検討されている固体電解質
の1種であるが、イオン伝導性を−層内上させるべく、
薄膜化の検討が行われている。
電池や各種センサへの応用が検討されている固体電解質
の1種であるが、イオン伝導性を−層内上させるべく、
薄膜化の検討が行われている。
たとえば、窯業協会、昭和60年年会講演予稿集、第5
9頁(1985年)には、高周波スパッタリング装置に
よるスパッタリング法によって基体上にβ−アルミナの
薄膜を形成する方法が記載されている。しかしながら、
この方法は、組成の制御が難しく、スパッタリングに使
用するターゲットの組成と、形成される薄膜の組成とを
一致ざぜにくいなどの問題がおる。
9頁(1985年)には、高周波スパッタリング装置に
よるスパッタリング法によって基体上にβ−アルミナの
薄膜を形成する方法が記載されている。しかしながら、
この方法は、組成の制御が難しく、スパッタリングに使
用するターゲットの組成と、形成される薄膜の組成とを
一致ざぜにくいなどの問題がおる。
発明が解決しようとする課題
この発明の目的は、従来の方法の上述した問題点を解決
し、基体上に、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を形成
する方法を提供するにある。
し、基体上に、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を形成
する方法を提供するにある。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために、この発明においては、下記
A群、8群、0群およびD群からそれぞれ選ばれた化合
物を含む混合溶液を調製する工程と、 A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工程と、 上記薄膜を乾燥する工程と、 上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、β−アルミナ
薄膜に変換する工程と、 を含むことを特徴とする、β−アルミナ薄膜の形成方法
が提供される。
A群、8群、0群およびD群からそれぞれ選ばれた化合
物を含む混合溶液を調製する工程と、 A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工程と、 上記薄膜を乾燥する工程と、 上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、β−アルミナ
薄膜に変換する工程と、 を含むことを特徴とする、β−アルミナ薄膜の形成方法
が提供される。
さて、β−アルミナは、元来、Na2O・11A+20
3なる組成をもつ化合物のことであるが、最近では、M
2O−XAl2O3(ただし、M:Na 、K 、
ACI 等、x=5〜11)で表わされる化合物一般
をさすようになっている。このうちで、Na イオン
伝導性を示すβ−アルミナニハ、理想形でsるNa2O
・11A+203の組成をもつものと、それと類似の構
造をしているがスピネルブロックの積み重なり方が異な
る、理想形としてNazo・5.33AI203なる組
成をもつものとがあり、β−アルミナという場合には、
通常、これら2相のミクロな混合相をさしている。
3なる組成をもつ化合物のことであるが、最近では、M
2O−XAl2O3(ただし、M:Na 、K 、
ACI 等、x=5〜11)で表わされる化合物一般
をさすようになっている。このうちで、Na イオン
伝導性を示すβ−アルミナニハ、理想形でsるNa2O
・11A+203の組成をもつものと、それと類似の構
造をしているがスピネルブロックの積み重なり方が異な
る、理想形としてNazo・5.33AI203なる組
成をもつものとがあり、β−アルミナという場合には、
通常、これら2相のミクロな混合相をさしている。
導電率が高いのは、Na2O・5.33AI203なる
組成をもつものでおるが、それを安定化させるために、
この発明においては、通常用いられているLiやMQ等
のアルカリ金属をざらに添加することができる。その場
合には、それら金属をアルコキシドの形で添加する。
組成をもつものでおるが、それを安定化させるために、
この発明においては、通常用いられているLiやMQ等
のアルカリ金属をざらに添加することができる。その場
合には、それら金属をアルコキシドの形で添加する。
以下、この発明を各工程別にさらに詳しく説明する。
混合溶液の調製工程:
この発明においては、まず、下記のA、B、C1D各鮮
から選ばれた化合物を含む混合溶液を調製する。
から選ばれた化合物を含む混合溶液を調製する。
A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 上記A、B各群におけるプロポキシドは、1−プロポキ
シド、2−プロポキシドのいずれであってもよい。また
、ブトキシドは、1−ブトキシド、2−ブトキシド、イ
ソブトキシド、↑−ブトキシドのいずれであってもよい
。さらに、D群のプロパノールは、1−プロパノール、
2−プロパノールのいずれであってもよい。さらにまた
、ブタノールは、1−ブタノール、2−ブタノール、イ
ソブタノール、t−ブタノールのいずれであってもよい
。
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 上記A、B各群におけるプロポキシドは、1−プロポキ
シド、2−プロポキシドのいずれであってもよい。また
、ブトキシドは、1−ブトキシド、2−ブトキシド、イ
ソブトキシド、↑−ブトキシドのいずれであってもよい
。さらに、D群のプロパノールは、1−プロパノール、
2−プロパノールのいずれであってもよい。さらにまた
、ブタノールは、1−ブタノール、2−ブタノール、イ
ソブタノール、t−ブタノールのいずれであってもよい
。
上記A、B各群の化合物は、β−アルミナの主成分とな
るものである。また、0群の化合物は、焼成に至るまで
の各工程で、加水分解によってA、B各群の化合物が微
粒子状の水酸化物や酸化物として析出するのを抑制する
ものである。さらに、D群の化合物は、溶媒として作用
するものである。
るものである。また、0群の化合物は、焼成に至るまで
の各工程で、加水分解によってA、B各群の化合物が微
粒子状の水酸化物や酸化物として析出するのを抑制する
ものである。さらに、D群の化合物は、溶媒として作用
するものである。
A、B、C,Dの各群からは、1種を選択、使用する。
2種以上を選択、使用することも可能ではあるが、そう
しても得られる薄膜に特性上の有意差はほとんど認めら
れず、工程の複雑化等によるコスト上昇など、不都合の
ほうがよほど大きい。
しても得られる薄膜に特性上の有意差はほとんど認めら
れず、工程の複雑化等によるコスト上昇など、不都合の
ほうがよほど大きい。
また、A、B各群からは、どの化合物を選択しても、j
qられる薄膜に特性上の有意差はほとんど認められない
。すなわち、アルコキシ基ヤアルコキシアルコキシ基の
相異による、1qられる薄膜の特性上の有意差はほとん
ど認められない。
qられる薄膜に特性上の有意差はほとんど認められない
。すなわち、アルコキシ基ヤアルコキシアルコキシ基の
相異による、1qられる薄膜の特性上の有意差はほとん
ど認められない。
同様に、C,D各群からどの化合物を選択しても、得ら
れる薄膜の特性上の有意差はほとんど認められない。
れる薄膜の特性上の有意差はほとんど認められない。
A、B、C,D各群の化合物の混合割合は、それらの種
類によって多少異なるものの、A群の化合物をaモル、
B群の化合物をbモル、0群の化合物Cモル、D群の化
合物をdリットルとしたとき、式、 0.09≦[a/ (a+b)]≦0.20.1≦[c
/ (a+b)]≦10 0、02≦ [(a+b)/d コ ≦2を同時に満足
する範囲であるのが好ましい。
類によって多少異なるものの、A群の化合物をaモル、
B群の化合物をbモル、0群の化合物Cモル、D群の化
合物をdリットルとしたとき、式、 0.09≦[a/ (a+b)]≦0.20.1≦[c
/ (a+b)]≦10 0、02≦ [(a+b)/d コ ≦2を同時に満足
する範囲であるのが好ましい。
すなわち、[a/ (a+b)] <0.09ではNa
が少なく、[a/ (a+b)] >0.2ではNaが
多くなってβ−アルミナ以外のものが副生することがお
る。また、[c/ (a十b)] <0゜1ではA、B
各群の化合物の加水分解を十分に抑制できないことがあ
るし、[c/ (a十b)] >10では混合溶液の粘
度が高くなりすぎて製膜できないことがおる。さらに、
[(a+b)/d]<0.02では溶媒が多すぎて実用
的でない。また、[(a+b)/d] >2では、AS
B各群の化合物が溶は残ることがある。
が少なく、[a/ (a+b)] >0.2ではNaが
多くなってβ−アルミナ以外のものが副生することがお
る。また、[c/ (a十b)] <0゜1ではA、B
各群の化合物の加水分解を十分に抑制できないことがあ
るし、[c/ (a十b)] >10では混合溶液の粘
度が高くなりすぎて製膜できないことがおる。さらに、
[(a+b)/d]<0.02では溶媒が多すぎて実用
的でない。また、[(a+b)/d] >2では、AS
B各群の化合物が溶は残ることがある。
混合操作は、0群の化合物とD群の化合物との混合溶液
にA、B各群の化合物を同時に添加、混合することであ
ってもよく、また、0群の化合物とD群の化合物との混
合溶液にA、B各群の化合物を添加してなる溶液を別々
に調製し、各溶液から所定量を採取して混合することで
あってもよい。
にA、B各群の化合物を同時に添加、混合することであ
ってもよく、また、0群の化合物とD群の化合物との混
合溶液にA、B各群の化合物を添加してなる溶液を別々
に調製し、各溶液から所定量を採取して混合することで
あってもよい。
なお、混合操作が完了するまでは、ASB各群の化合物
を極力湿気に晒さないよにするのが好まく、乾燥窒素な
どで置換したグラブボックス内等で行うのが好ましい。
を極力湿気に晒さないよにするのが好まく、乾燥窒素な
どで置換したグラブボックス内等で行うのが好ましい。
しかしながら、それ以後の操作は大気中で行うことがで
きる。
きる。
混合溶液の薄膜形成工程:
この発明においては、次に、耐熱性基体上に上記混合溶
液の薄膜を形成する。つまり、製膜する。
液の薄膜を形成する。つまり、製膜する。
基体は、後述する焼成温度に耐えるものでおればよく、
ニッケル、コバルト、クロム、チタン、金、銀、白金な
どの金属や、これら金属の少なくも1種を主成分とする
合金や、ガラス、炭素、ケイ素、シリカ、アルミナ、マ
グネシア、ジルコニア、チタニア、窒化ホウ素、窒化ケ
イ素、炭化ホウ素などの無機質材料を使用することがで
きる。
ニッケル、コバルト、クロム、チタン、金、銀、白金な
どの金属や、これら金属の少なくも1種を主成分とする
合金や、ガラス、炭素、ケイ素、シリカ、アルミナ、マ
グネシア、ジルコニア、チタニア、窒化ホウ素、窒化ケ
イ素、炭化ホウ素などの無機質材料を使用することがで
きる。
形状は、繊維状、フィルム状、板状、バルク状など、い
ずれであってもよい。これらの基体は、その表面を研磨
して平滑にしたり、洗浄して油分などによる汚れを除去
したりしておくのが好ましい。
ずれであってもよい。これらの基体は、その表面を研磨
して平滑にしたり、洗浄して油分などによる汚れを除去
したりしておくのが好ましい。
薄膜の形成は、刷毛、ローラー等による塗布や、スプレ
ーによる塗布や、混合溶液に基体を浸漬した後引き上げ
るデイツプコーティング法等によることが出来る。なか
でも、比較的簡単で、しかも引上速度を変えることで膜
厚を変えることができるデイツプコーティング法が好ま
しい。
ーによる塗布や、混合溶液に基体を浸漬した後引き上げ
るデイツプコーティング法等によることが出来る。なか
でも、比較的簡単で、しかも引上速度を変えることで膜
厚を変えることができるデイツプコーティング法が好ま
しい。
乾燥工程:
この発明においては、次に、基体上に形成した薄膜を乾
燥し、D群の化合物、つまり溶媒を蒸発させてA、B、
C各群の化合物からなるゲル化薄膜とする。この工程は
、常温で行ってもよく、50〜100℃程度の恒温下で
行ってもよい。
燥し、D群の化合物、つまり溶媒を蒸発させてA、B、
C各群の化合物からなるゲル化薄膜とする。この工程は
、常温で行ってもよく、50〜100℃程度の恒温下で
行ってもよい。
焼成工程:
この発明においては、次に、上記乾燥薄膜を酸化性雰囲
気中にて基体ごと焼成し、有機成分を分解して飛ばすと
ともに、A、B各群の化合物を酸化させる。かくして、
β−アルミナ薄膜が得られる。この焼成は、たとえば次
のようにして行う。
気中にて基体ごと焼成し、有機成分を分解して飛ばすと
ともに、A、B各群の化合物を酸化させる。かくして、
β−アルミナ薄膜が得られる。この焼成は、たとえば次
のようにして行う。
すなわち、薄膜を基体ごと加熱炉に入れ、酸化性雰囲気
中で焼成温度まで昇温し、その温度に一定時間保持した
後、室温まで冷却する。焼成雰囲気は、空気か、20〜
100%の濃度の酸素とする。昇温速度は、1〜b ましい。1°C/分未満では、昇温に時間がかかりすぎ
て実用的でない。500℃/分を越えると、薄膜に亀裂
等ができることがおる。焼成温度は、1000〜170
0℃が好ましい。1000’C未満ではβ−アルミナを
生成しない場合がおり、1700 ’Cを越えるとNa
が蒸発して組成の均一性が損われることがある。ざらに
好ましい焼成温度は、1150〜1500℃である。焼
成時間は、数十分から数時間程度でよい。冷却速度もま
た、昇温の場合と同様の理由で1〜500’C/分であ
るのが好ましい。
中で焼成温度まで昇温し、その温度に一定時間保持した
後、室温まで冷却する。焼成雰囲気は、空気か、20〜
100%の濃度の酸素とする。昇温速度は、1〜b ましい。1°C/分未満では、昇温に時間がかかりすぎ
て実用的でない。500℃/分を越えると、薄膜に亀裂
等ができることがおる。焼成温度は、1000〜170
0℃が好ましい。1000’C未満ではβ−アルミナを
生成しない場合がおり、1700 ’Cを越えるとNa
が蒸発して組成の均一性が損われることがある。ざらに
好ましい焼成温度は、1150〜1500℃である。焼
成時間は、数十分から数時間程度でよい。冷却速度もま
た、昇温の場合と同様の理由で1〜500’C/分であ
るのが好ましい。
実施例
実施例1
乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのエト
キシドを0.015モル、Alの2−プロポキシドを0
.085モル計り取り、これにトリエタノールアミンを
0.01モル添加し、さらにエタノールを100m1加
え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を
得た。
キシドを0.015モル、Alの2−プロポキシドを0
.085モル計り取り、これにトリエタノールアミンを
0.01モル添加し、さらにエタノールを100m1加
え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を
得た。
一方、厚みがQ、5mmの白金板を、トリクロルエチレ
ン、アセトン、エタノール、純水を順次用いてそれぞれ
3分づつ超音波洗浄した後、高純度乾燥窒素を吹き付け
て乾燥した。
ン、アセトン、エタノール、純水を順次用いてそれぞれ
3分づつ超音波洗浄した後、高純度乾燥窒素を吹き付け
て乾燥した。
次に、上記混合溶液に上記白金板を浸漬し、1分後、垂
直に10cm/分の速度で引き上げ、白金板上に混合溶
液の薄膜を形成した。
直に10cm/分の速度で引き上げ、白金板上に混合溶
液の薄膜を形成した。
次に、上記薄膜を50’Cの恒温槽中に30分入れ、乾
燥した。
燥した。
次に、上記乾燥薄膜を、白金板ごと電気炉に入れ、10
’C/分の速度で1200℃まで昇温し、その温度に1
時間保持した後、10℃/分の速度で室温まで冷却した
。
’C/分の速度で1200℃まで昇温し、その温度に1
時間保持した後、10℃/分の速度で室温まで冷却した
。
かくして1qられたβ−アルミナ薄膜をX線回折法で同
定したところ、β−アルミナの回折ピークが現われた。
定したところ、β−アルミナの回折ピークが現われた。
厚みは25nmで、600倍の顕微鏡による観察でも異
物や亀裂等は認められず、極めて均質であった。
物や亀裂等は認められず、極めて均質であった。
実施例2
乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naの2−
プロポキシドを0.015モル、Alの2−プロポキシ
ドを0.085モル計り取り、これにモノエタノールア
ミンを0.01モル添加し、ざらにイソプロパノールを
5Qml加え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な
混合溶液を得た。以下、実施例1と同様にして、白金板
上に厚みが50nmのβ−アルミナの薄膜を得た。この
薄膜もまた、実施例1で得られたものと同様、極めて均
質であった。
プロポキシドを0.015モル、Alの2−プロポキシ
ドを0.085モル計り取り、これにモノエタノールア
ミンを0.01モル添加し、ざらにイソプロパノールを
5Qml加え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な
混合溶液を得た。以下、実施例1と同様にして、白金板
上に厚みが50nmのβ−アルミナの薄膜を得た。この
薄膜もまた、実施例1で得られたものと同様、極めて均
質であった。
実施例3
乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのメト
キシドを0.013モル、Alのメトキシドを0.08
5モル、liのメトキシドを0゜002モル計り取り、
これにモノエタノールアミンを0.01モル添加し、ざ
らにエタノールを100m1加え、スタークを用いて3
0分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下、実施例1と
同様にして、白金板上に厚みが25nmのβ−アルミナ
の薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例1で得られたも
のと同様、極めて均質であった。
キシドを0.013モル、Alのメトキシドを0.08
5モル、liのメトキシドを0゜002モル計り取り、
これにモノエタノールアミンを0.01モル添加し、ざ
らにエタノールを100m1加え、スタークを用いて3
0分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下、実施例1と
同様にして、白金板上に厚みが25nmのβ−アルミナ
の薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例1で得られたも
のと同様、極めて均質であった。
実施例4
乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのエト
キシドを0.013モル、AIの2−プロポキシドを0
.085モル、l−iのエトキシドを0.002モル計
り取り、これにジェタノールアミンを0.01モル添加
し、ざらにイソプロパノールを100m1加え、スター
クを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下
、実施例1、と同様にして、白金板上に厚みが25nm
のβ−アルミナの薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例
1で1qられたものと同様、極めて均質であった。
キシドを0.013モル、AIの2−プロポキシドを0
.085モル、l−iのエトキシドを0.002モル計
り取り、これにジェタノールアミンを0.01モル添加
し、ざらにイソプロパノールを100m1加え、スター
クを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下
、実施例1、と同様にして、白金板上に厚みが25nm
のβ−アルミナの薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例
1で1qられたものと同様、極めて均質であった。
発明の効果
この発明の方法は、0群の化合物によってA、B各群の
化合物の加水分解を抑制しつつ混合溶液から一気に耐熱
性基体上に薄膜を形成し、乾燥し、酸化性雰囲気中で焼
成してβ−アルミナの薄膜に変換するので、実施例にも
示したように、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を容易
に)昇ることができるようになる。
化合物の加水分解を抑制しつつ混合溶液から一気に耐熱
性基体上に薄膜を形成し、乾燥し、酸化性雰囲気中で焼
成してβ−アルミナの薄膜に変換するので、実施例にも
示したように、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を容易
に)昇ることができるようになる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (イ)下記A群、B群、C群およびD群からそれぞれ選
ばれた化合物を含む混合溶液を調製する工程と、 A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド B群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド C群:モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパノールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール (ロ)耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工
程と、 (ハ)上記薄膜を乾燥する工程と、 (ニ)上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、β−ア
ルミナ薄膜に変換する工程と、 を含むことを特徴とする、β−アルミナ薄膜の形成方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63130831A JPH01298017A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | β−アルミナ薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63130831A JPH01298017A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | β−アルミナ薄膜の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01298017A true JPH01298017A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=15043718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63130831A Pending JPH01298017A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | β−アルミナ薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01298017A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277580A (ja) * | 1988-09-12 | 1990-03-16 | Sekisui Chem Co Ltd | セラミックス被覆体の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP63130831A patent/JPH01298017A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0277580A (ja) * | 1988-09-12 | 1990-03-16 | Sekisui Chem Co Ltd | セラミックス被覆体の製造方法 |
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