JPH01298017A - β−アルミナ薄膜の形成方法 - Google Patents

β−アルミナ薄膜の形成方法

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JPH01298017A
JPH01298017A JP63130831A JP13083188A JPH01298017A JP H01298017 A JPH01298017 A JP H01298017A JP 63130831 A JP63130831 A JP 63130831A JP 13083188 A JP13083188 A JP 13083188A JP H01298017 A JPH01298017 A JP H01298017A
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JP
Japan
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thin film
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mol
alumina
mixed solution
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JP63130831A
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Tatsuhiko Suzuki
達彦 鈴木
Yoshio Matsuda
松田 良夫
Keisuke Kobayashi
小林 啓佑
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/02Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
    • C23C18/12Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
    • C23C18/125Process of deposition of the inorganic material
    • C23C18/1279Process of deposition of the inorganic material performed under reactive atmosphere, e.g. oxidising or reducing atmospheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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    • C23C18/1204Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
    • C23C18/1208Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216Metal oxides

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  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、Na  イオン伝導性を示し、ナトリウム
−硫黄電池、ナトリウムセンサ、各種表示素子等として
好適なβ−アルミナ薄膜を基体上に形成する方法に関す
る。
従来の技術 β−アルミナは、高いNa+イオン伝導性を示し、固体
電池や各種センサへの応用が検討されている固体電解質
の1種であるが、イオン伝導性を−層内上させるべく、
薄膜化の検討が行われている。
たとえば、窯業協会、昭和60年年会講演予稿集、第5
9頁(1985年)には、高周波スパッタリング装置に
よるスパッタリング法によって基体上にβ−アルミナの
薄膜を形成する方法が記載されている。しかしながら、
この方法は、組成の制御が難しく、スパッタリングに使
用するターゲットの組成と、形成される薄膜の組成とを
一致ざぜにくいなどの問題がおる。
発明が解決しようとする課題 この発明の目的は、従来の方法の上述した問題点を解決
し、基体上に、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を形成
する方法を提供するにある。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するために、この発明においては、下記
A群、8群、0群およびD群からそれぞれ選ばれた化合
物を含む混合溶液を調製する工程と、 A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工程と、 上記薄膜を乾燥する工程と、 上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、β−アルミナ
薄膜に変換する工程と、 を含むことを特徴とする、β−アルミナ薄膜の形成方法
が提供される。
さて、β−アルミナは、元来、Na2O・11A+20
3なる組成をもつ化合物のことであるが、最近では、M
2O−XAl2O3(ただし、M:Na  、K  、
ACI  等、x=5〜11)で表わされる化合物一般
をさすようになっている。このうちで、Na  イオン
伝導性を示すβ−アルミナニハ、理想形でsるNa2O
・11A+203の組成をもつものと、それと類似の構
造をしているがスピネルブロックの積み重なり方が異な
る、理想形としてNazo・5.33AI203なる組
成をもつものとがあり、β−アルミナという場合には、
通常、これら2相のミクロな混合相をさしている。
導電率が高いのは、Na2O・5.33AI203なる
組成をもつものでおるが、それを安定化させるために、
この発明においては、通常用いられているLiやMQ等
のアルカリ金属をざらに添加することができる。その場
合には、それら金属をアルコキシドの形で添加する。
以下、この発明を各工程別にさらに詳しく説明する。
混合溶液の調製工程: この発明においては、まず、下記のA、B、C1D各鮮
から選ばれた化合物を含む混合溶液を調製する。
A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 8群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
キシド 0群:モノエタノールアミン、ジェタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
2−プロパツールアミン、アセチルアセトン、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール 上記A、B各群におけるプロポキシドは、1−プロポキ
シド、2−プロポキシドのいずれであってもよい。また
、ブトキシドは、1−ブトキシド、2−ブトキシド、イ
ソブトキシド、↑−ブトキシドのいずれであってもよい
。さらに、D群のプロパノールは、1−プロパノール、
2−プロパノールのいずれであってもよい。さらにまた
、ブタノールは、1−ブタノール、2−ブタノール、イ
ソブタノール、t−ブタノールのいずれであってもよい
上記A、B各群の化合物は、β−アルミナの主成分とな
るものである。また、0群の化合物は、焼成に至るまで
の各工程で、加水分解によってA、B各群の化合物が微
粒子状の水酸化物や酸化物として析出するのを抑制する
ものである。さらに、D群の化合物は、溶媒として作用
するものである。
A、B、C,Dの各群からは、1種を選択、使用する。
2種以上を選択、使用することも可能ではあるが、そう
しても得られる薄膜に特性上の有意差はほとんど認めら
れず、工程の複雑化等によるコスト上昇など、不都合の
ほうがよほど大きい。
また、A、B各群からは、どの化合物を選択しても、j
qられる薄膜に特性上の有意差はほとんど認められない
。すなわち、アルコキシ基ヤアルコキシアルコキシ基の
相異による、1qられる薄膜の特性上の有意差はほとん
ど認められない。
同様に、C,D各群からどの化合物を選択しても、得ら
れる薄膜の特性上の有意差はほとんど認められない。
A、B、C,D各群の化合物の混合割合は、それらの種
類によって多少異なるものの、A群の化合物をaモル、
B群の化合物をbモル、0群の化合物Cモル、D群の化
合物をdリットルとしたとき、式、 0.09≦[a/ (a+b)]≦0.20.1≦[c
/ (a+b)]≦10 0、02≦ [(a+b)/d コ ≦2を同時に満足
する範囲であるのが好ましい。
すなわち、[a/ (a+b)] <0.09ではNa
が少なく、[a/ (a+b)] >0.2ではNaが
多くなってβ−アルミナ以外のものが副生することがお
る。また、[c/ (a十b)] <0゜1ではA、B
各群の化合物の加水分解を十分に抑制できないことがあ
るし、[c/ (a十b)] >10では混合溶液の粘
度が高くなりすぎて製膜できないことがおる。さらに、
[(a+b)/d]<0.02では溶媒が多すぎて実用
的でない。また、[(a+b)/d] >2では、AS
B各群の化合物が溶は残ることがある。
混合操作は、0群の化合物とD群の化合物との混合溶液
にA、B各群の化合物を同時に添加、混合することであ
ってもよく、また、0群の化合物とD群の化合物との混
合溶液にA、B各群の化合物を添加してなる溶液を別々
に調製し、各溶液から所定量を採取して混合することで
あってもよい。
なお、混合操作が完了するまでは、ASB各群の化合物
を極力湿気に晒さないよにするのが好まく、乾燥窒素な
どで置換したグラブボックス内等で行うのが好ましい。
しかしながら、それ以後の操作は大気中で行うことがで
きる。
混合溶液の薄膜形成工程: この発明においては、次に、耐熱性基体上に上記混合溶
液の薄膜を形成する。つまり、製膜する。
基体は、後述する焼成温度に耐えるものでおればよく、
ニッケル、コバルト、クロム、チタン、金、銀、白金な
どの金属や、これら金属の少なくも1種を主成分とする
合金や、ガラス、炭素、ケイ素、シリカ、アルミナ、マ
グネシア、ジルコニア、チタニア、窒化ホウ素、窒化ケ
イ素、炭化ホウ素などの無機質材料を使用することがで
きる。
形状は、繊維状、フィルム状、板状、バルク状など、い
ずれであってもよい。これらの基体は、その表面を研磨
して平滑にしたり、洗浄して油分などによる汚れを除去
したりしておくのが好ましい。
薄膜の形成は、刷毛、ローラー等による塗布や、スプレ
ーによる塗布や、混合溶液に基体を浸漬した後引き上げ
るデイツプコーティング法等によることが出来る。なか
でも、比較的簡単で、しかも引上速度を変えることで膜
厚を変えることができるデイツプコーティング法が好ま
しい。
乾燥工程: この発明においては、次に、基体上に形成した薄膜を乾
燥し、D群の化合物、つまり溶媒を蒸発させてA、B、
C各群の化合物からなるゲル化薄膜とする。この工程は
、常温で行ってもよく、50〜100℃程度の恒温下で
行ってもよい。
焼成工程: この発明においては、次に、上記乾燥薄膜を酸化性雰囲
気中にて基体ごと焼成し、有機成分を分解して飛ばすと
ともに、A、B各群の化合物を酸化させる。かくして、
β−アルミナ薄膜が得られる。この焼成は、たとえば次
のようにして行う。
すなわち、薄膜を基体ごと加熱炉に入れ、酸化性雰囲気
中で焼成温度まで昇温し、その温度に一定時間保持した
後、室温まで冷却する。焼成雰囲気は、空気か、20〜
100%の濃度の酸素とする。昇温速度は、1〜b ましい。1°C/分未満では、昇温に時間がかかりすぎ
て実用的でない。500℃/分を越えると、薄膜に亀裂
等ができることがおる。焼成温度は、1000〜170
0℃が好ましい。1000’C未満ではβ−アルミナを
生成しない場合がおり、1700 ’Cを越えるとNa
が蒸発して組成の均一性が損われることがある。ざらに
好ましい焼成温度は、1150〜1500℃である。焼
成時間は、数十分から数時間程度でよい。冷却速度もま
た、昇温の場合と同様の理由で1〜500’C/分であ
るのが好ましい。
実施例 実施例1 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのエト
キシドを0.015モル、Alの2−プロポキシドを0
.085モル計り取り、これにトリエタノールアミンを
0.01モル添加し、さらにエタノールを100m1加
え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を
得た。
一方、厚みがQ、5mmの白金板を、トリクロルエチレ
ン、アセトン、エタノール、純水を順次用いてそれぞれ
3分づつ超音波洗浄した後、高純度乾燥窒素を吹き付け
て乾燥した。
次に、上記混合溶液に上記白金板を浸漬し、1分後、垂
直に10cm/分の速度で引き上げ、白金板上に混合溶
液の薄膜を形成した。
次に、上記薄膜を50’Cの恒温槽中に30分入れ、乾
燥した。
次に、上記乾燥薄膜を、白金板ごと電気炉に入れ、10
’C/分の速度で1200℃まで昇温し、その温度に1
時間保持した後、10℃/分の速度で室温まで冷却した
かくして1qられたβ−アルミナ薄膜をX線回折法で同
定したところ、β−アルミナの回折ピークが現われた。
厚みは25nmで、600倍の顕微鏡による観察でも異
物や亀裂等は認められず、極めて均質であった。
実施例2 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naの2−
プロポキシドを0.015モル、Alの2−プロポキシ
ドを0.085モル計り取り、これにモノエタノールア
ミンを0.01モル添加し、ざらにイソプロパノールを
5Qml加え、スタークを用いて30分攪拌し、透明な
混合溶液を得た。以下、実施例1と同様にして、白金板
上に厚みが50nmのβ−アルミナの薄膜を得た。この
薄膜もまた、実施例1で得られたものと同様、極めて均
質であった。
実施例3 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのメト
キシドを0.013モル、Alのメトキシドを0.08
5モル、liのメトキシドを0゜002モル計り取り、
これにモノエタノールアミンを0.01モル添加し、ざ
らにエタノールを100m1加え、スタークを用いて3
0分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下、実施例1と
同様にして、白金板上に厚みが25nmのβ−アルミナ
の薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例1で得られたも
のと同様、極めて均質であった。
実施例4 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、Naのエト
キシドを0.013モル、AIの2−プロポキシドを0
.085モル、l−iのエトキシドを0.002モル計
り取り、これにジェタノールアミンを0.01モル添加
し、ざらにイソプロパノールを100m1加え、スター
クを用いて30分攪拌し、透明な混合溶液を得た。以下
、実施例1、と同様にして、白金板上に厚みが25nm
のβ−アルミナの薄膜を得た。この薄膜もまた、実施例
1で1qられたものと同様、極めて均質であった。
発明の効果 この発明の方法は、0群の化合物によってA、B各群の
化合物の加水分解を抑制しつつ混合溶液から一気に耐熱
性基体上に薄膜を形成し、乾燥し、酸化性雰囲気中で焼
成してβ−アルミナの薄膜に変換するので、実施例にも
示したように、均質性に優れたβ−アルミナ薄膜を容易
に)昇ることができるようになる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (イ)下記A群、B群、C群およびD群からそれぞれ選
    ばれた化合物を含む混合溶液を調製する工程と、 A群:Naの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
    、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
    キシド B群:Alの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド
    、ブトキシド、メトキシエトキシドまたはエトキシエト
    キシド C群:モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
    リエタノールアミン、モノ2−プロパノールアミン、ジ
    2−プロパノールアミン、アセチルアセトン、エチレン
    グリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコ
    ール、ジプロピレングリコール D群:メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
    ール、メトキシエタノール、エトキシエタノール (ロ)耐熱性基体上に上記混合溶液の薄膜を形成する工
    程と、 (ハ)上記薄膜を乾燥する工程と、 (ニ)上記乾燥薄膜を酸化性雰囲気中で焼成し、β−ア
    ルミナ薄膜に変換する工程と、 を含むことを特徴とする、β−アルミナ薄膜の形成方法
JP63130831A 1988-05-27 1988-05-27 β−アルミナ薄膜の形成方法 Pending JPH01298017A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0277580A (ja) * 1988-09-12 1990-03-16 Sekisui Chem Co Ltd セラミックス被覆体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0277580A (ja) * 1988-09-12 1990-03-16 Sekisui Chem Co Ltd セラミックス被覆体の製造方法

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