JPH02177105A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPH02177105A JPH02177105A JP32904688A JP32904688A JPH02177105A JP H02177105 A JPH02177105 A JP H02177105A JP 32904688 A JP32904688 A JP 32904688A JP 32904688 A JP32904688 A JP 32904688A JP H02177105 A JPH02177105 A JP H02177105A
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Landscapes
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、その摺動面に接合用ガラスが露呈する構成を
採る磁気ヘッドに関する。
採る磁気ヘッドに関する。
[従来の技術]
磁気ディスク装置、磁気テープ装置などに用いられる磁
気ヘッドのうち、狭トラツク幅化を実現し、且つ高保磁
力のメタル記録媒体などにも記録/再生可能とするため
、次のような構成を採る磁気ヘッドがある。これは、フ
ェライト等よりなるコア基体のフロント側に突部を設け
、該突部を含むコア基体の側面領域に、高透磁率、高飽
和磁束密度の、例えばCo−Nb−Zr非晶質磁性合金
等よりなる磁性層を被着してなる一対のコア半体を用い
るもので1両コア半体は、それぞれの突部の頂点部位の
磁性層同士を突き合わせて作動ギャップを形成すると共
に、接合用ガラスで一体化されている。そして1作動ギ
ャップの両側の前記突部で形づくられる凹部に前記接合
用ガラスが充填され、従って磁気ヘッドの摺動面に接合
用ガラスが面一に露呈する構造となっている。
気ヘッドのうち、狭トラツク幅化を実現し、且つ高保磁
力のメタル記録媒体などにも記録/再生可能とするため
、次のような構成を採る磁気ヘッドがある。これは、フ
ェライト等よりなるコア基体のフロント側に突部を設け
、該突部を含むコア基体の側面領域に、高透磁率、高飽
和磁束密度の、例えばCo−Nb−Zr非晶質磁性合金
等よりなる磁性層を被着してなる一対のコア半体を用い
るもので1両コア半体は、それぞれの突部の頂点部位の
磁性層同士を突き合わせて作動ギャップを形成すると共
に、接合用ガラスで一体化されている。そして1作動ギ
ャップの両側の前記突部で形づくられる凹部に前記接合
用ガラスが充填され、従って磁気ヘッドの摺動面に接合
用ガラスが面一に露呈する構造となっている。
[発明が解決しようとする課M]
上記した構成をとる磁気ヘッドにおいては、非晶質磁性
合金などからなる前記磁性層の特性劣化防止などの目的
から、前記接合用ガラスは作業点を低くするためにpb
○を70%以上含有した。
合金などからなる前記磁性層の特性劣化防止などの目的
から、前記接合用ガラスは作業点を低くするためにpb
○を70%以上含有した。
例えば1作業点500℃程度の低融点ガラスを用いてい
た。しかしながら、この低融点の接合用ガラスは、従来
より多用されているフェライトバルク材のみよりなるコ
アを接合するための例えば作業点が600〜800℃程
度の比較的高融点の接合用ガラスに比して、耐水性、耐
摩耗性が著しく劣っている。このため、前記した構成を
採った従来の磁気ヘッドにおいては、摺動面に露呈した
接合用ガラスが、長時間にわたる記録媒体との相対摺動
により摩耗してガラス面に凹部を生じ。
た。しかしながら、この低融点の接合用ガラスは、従来
より多用されているフェライトバルク材のみよりなるコ
アを接合するための例えば作業点が600〜800℃程
度の比較的高融点の接合用ガラスに比して、耐水性、耐
摩耗性が著しく劣っている。このため、前記した構成を
採った従来の磁気ヘッドにおいては、摺動面に露呈した
接合用ガラスが、長時間にわたる記録媒体との相対摺動
により摩耗してガラス面に凹部を生じ。
この摺動面の偏摩耗による段差によって記録媒体を擦傷
し、記録媒体の耐久性を劣化させるという問題があった
。
し、記録媒体の耐久性を劣化させるという問題があった
。
本発明の目的は、このような従来技術のもつ問題を解決
でき、接合用ガラスの摩耗を大幅に低減でき、以って耐
久性に優れた磁気ヘッドを提供することにある。
でき、接合用ガラスの摩耗を大幅に低減でき、以って耐
久性に優れた磁気ヘッドを提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は上記した目的を達成するため、基体上に高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性合金材料よりなる磁性層を形
成した一対のコア半体を接合用ガラスによって接合・固
着し、摺動面にこの接合用ガラスが露呈する構成の磁気
ヘッドにおいて、前記接合用ガラスとして、100℃の
水に1時間保持した際の溶出量が、0 、01 m g
/ m m 2以下のガラスを用いるようにされる。
率、高飽和磁束密度の磁性合金材料よりなる磁性層を形
成した一対のコア半体を接合用ガラスによって接合・固
着し、摺動面にこの接合用ガラスが露呈する構成の磁気
ヘッドにおいて、前記接合用ガラスとして、100℃の
水に1時間保持した際の溶出量が、0 、01 m g
/ m m 2以下のガラスを用いるようにされる。
[作 用]
接合用ガラスの組成を調整する上で問題となるのは、■
耐水性、耐摩耗性、■気泡の発生が極力ないこと、■ギ
ャップの接合が可能であること、の3条件であるが、高
透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金材料よりなる磁性層
をもつ従来の磁気ヘッドにおいては、上記3条件を総べ
て満たす組成のガラスを見出すことが困難であった。
耐水性、耐摩耗性、■気泡の発生が極力ないこと、■ギ
ャップの接合が可能であること、の3条件であるが、高
透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金材料よりなる磁性層
をもつ従来の磁気ヘッドにおいては、上記3条件を総べ
て満たす組成のガラスを見出すことが困難であった。
本発明者らは種々検討の結果、100℃の水に1時間保
持した際の溶出量が、O,01mg/mm2以下の耐水
性に優れたガラスを用いることにより、摺動面に露呈す
る接合用ガラスの摩耗を可及的に低減できることを見出
した。従って、摺動面のガラスに凹部が生じることが抑
止され、長期使用においても記録媒体を擦傷する虞がな
い。
持した際の溶出量が、O,01mg/mm2以下の耐水
性に優れたガラスを用いることにより、摺動面に露呈す
る接合用ガラスの摩耗を可及的に低減できることを見出
した。従って、摺動面のガラスに凹部が生じることが抑
止され、長期使用においても記録媒体を擦傷する虞がな
い。
[実施例]
以下本発明を図示した実施例によって説明する。
第1図は本発明の1実施例に係る磁気ヘッドを示す斜視
図である。同図において、l、2は対となったコア半体
で、該コア半体1,2は、コア基体3と該コア基体3上
に被着された磁性層4をそれぞれ具備している。上記コ
ア基体3は、該実施例においては、Mn−Znフェライ
ト単結晶材よりなっているが、N i −Z nフェラ
イト等の他の磁性材料、或いはセラミックス、結晶化ガ
ラス等非磁性材料であっても良く、耐摩耗特性の良好な
ものが選択されている。上記両コア基体3の互いに対向
する側面には略山形の突部5,5がそれぞれ切削・形成
され、一方のコア半体lのコア基体3には上記突部5が
フロント側からリア側に連続して形成され、他方のコア
半体2のコア基体3には中間が途切れた形でフロント側
とリア側に突部5がそれぞれ形成されている。
図である。同図において、l、2は対となったコア半体
で、該コア半体1,2は、コア基体3と該コア基体3上
に被着された磁性層4をそれぞれ具備している。上記コ
ア基体3は、該実施例においては、Mn−Znフェライ
ト単結晶材よりなっているが、N i −Z nフェラ
イト等の他の磁性材料、或いはセラミックス、結晶化ガ
ラス等非磁性材料であっても良く、耐摩耗特性の良好な
ものが選択されている。上記両コア基体3の互いに対向
する側面には略山形の突部5,5がそれぞれ切削・形成
され、一方のコア半体lのコア基体3には上記突部5が
フロント側からリア側に連続して形成され、他方のコア
半体2のコア基体3には中間が途切れた形でフロント側
とリア側に突部5がそれぞれ形成されている。
そして、前記両コア基体3の前記突部5形成面側に、高
透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金よりなる前記磁性層
4が、蒸着、スパッタリングなどの適宜の薄膜形成技術
で所定厚みに全面被着されて成膜形成される。該実施例
においては、磁性層4として、Co−Nb−Zr磁性合
金を用いて非晶質磁性層を形成しているが、他の非晶質
磁性合金層、或いは、Fe−Al−5i系等の結晶質磁
性合金層であっても良い。
透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金よりなる前記磁性層
4が、蒸着、スパッタリングなどの適宜の薄膜形成技術
で所定厚みに全面被着されて成膜形成される。該実施例
においては、磁性層4として、Co−Nb−Zr磁性合
金を用いて非晶質磁性層を形成しているが、他の非晶質
磁性合金層、或いは、Fe−Al−5i系等の結晶質磁
性合金層であっても良い。
前記したコア半体1,2は、前記突部5の頂部部分を研
磨して所定トラック幅をもつ磁性層接合面を作成され、
何れか一方の少くともフロント側の磁性層接合面にギャ
ップJR制膜を被着した状態で、図示の如く突部5の頂
部部分の磁性層4,4同士をフロント側とリア側で突き
合わせて、閉磁路を形成し、また、フロント側に作動ギ
ャップ6を形成するようになされる。そして1両コア半
体1.2は、後で詳述する接合用ガラス7で一体化され
、その摺動面側は平滑に仕上げられて、コア基体3.磁
性層4.接合用ガラス7は面一とさ・れている。
磨して所定トラック幅をもつ磁性層接合面を作成され、
何れか一方の少くともフロント側の磁性層接合面にギャ
ップJR制膜を被着した状態で、図示の如く突部5の頂
部部分の磁性層4,4同士をフロント側とリア側で突き
合わせて、閉磁路を形成し、また、フロント側に作動ギ
ャップ6を形成するようになされる。そして1両コア半
体1.2は、後で詳述する接合用ガラス7で一体化され
、その摺動面側は平滑に仕上げられて、コア基体3.磁
性層4.接合用ガラス7は面一とさ・れている。
なお、8は巻線窓で、該巻線窓8にコイル9が巻回され
ている。
ている。
前記接合用ガラス7は、本発明の特徴とするものであり
、耐水性、耐摩耗性に優れたガラス組成と、該ガラス組
成よりも耐水性、耐摩耗性に劣るが1作業点が低いガラ
ス組成とを組合せることにより、本発明者らは、前記し
た■耐水性、耐摩耗性、■気泡の発生が極力ないこと、
■ギャップの接合が可能であることの3条件を満足する
ものがあることを見出した。すなわち、本発明者らはガ
ラス組成について種々検討した結果、前記接合用ガラス
として、100℃の水に1時間保持した際の溶出量が、
0.01mg/mm”以下の耐水性に優れたガラスを用
いると、摺動時にガラス面に凹部が生じるのを可及的に
防止でき、長期使用においても記録媒体を擦傷する虞が
ないことを見出した。
、耐水性、耐摩耗性に優れたガラス組成と、該ガラス組
成よりも耐水性、耐摩耗性に劣るが1作業点が低いガラ
ス組成とを組合せることにより、本発明者らは、前記し
た■耐水性、耐摩耗性、■気泡の発生が極力ないこと、
■ギャップの接合が可能であることの3条件を満足する
ものがあることを見出した。すなわち、本発明者らはガ
ラス組成について種々検討した結果、前記接合用ガラス
として、100℃の水に1時間保持した際の溶出量が、
0.01mg/mm”以下の耐水性に優れたガラスを用
いると、摺動時にガラス面に凹部が生じるのを可及的に
防止でき、長期使用においても記録媒体を擦傷する虞が
ないことを見出した。
ガラスの水に対する溶出量を種々変えた接合用ガラス7
を用いて第1図の形状の磁気ヘッドを作製した。この磁
気ヘッドをメタルフロッピーディスクを用いて耐久試験
を行なった。この際の摺動条件は、ディスク回転速度7
50rpm、ヘッドの押付は力25g、温度40℃1相
対湿度20%とした。そして、この条件で摺動させた時
の、摩耗量、及びヘッド出力に及ぼすヘッド摺動回数の
影響を観測した。すなわち、摺動回数が200万パス毎
に磁気ヘッドの摺動面の形状がどのように変化したかを
調べるため、コア基体3に対する磁性層4並びに接合用
ガラス7の段差を測定した。
を用いて第1図の形状の磁気ヘッドを作製した。この磁
気ヘッドをメタルフロッピーディスクを用いて耐久試験
を行なった。この際の摺動条件は、ディスク回転速度7
50rpm、ヘッドの押付は力25g、温度40℃1相
対湿度20%とした。そして、この条件で摺動させた時
の、摩耗量、及びヘッド出力に及ぼすヘッド摺動回数の
影響を観測した。すなわち、摺動回数が200万パス毎
に磁気ヘッドの摺動面の形状がどのように変化したかを
調べるため、コア基体3に対する磁性層4並びに接合用
ガラス7の段差を測定した。
また、摺動回数に対する再生出力を併せて測定した。な
お、コア基体3には前述したようにM n −Znフェ
ライトを用い、磁性層4はCo−Nb−Zr磁性合金を
スパッタリングで非晶質に成膜した。
お、コア基体3には前述したようにM n −Znフェ
ライトを用い、磁性層4はCo−Nb−Zr磁性合金を
スパッタリングで非晶質に成膜した。
表−1は上記した実験に用いた接合用ガラス7の組成を
示しており、溶出量は、100’Cの水中に1時間保持
した際のガラスの重量減少を、ガラスの単位表面積当り
で求めたものである。
示しており、溶出量は、100’Cの水中に1時間保持
した際のガラスの重量減少を、ガラスの単位表面積当り
で求めたものである。
(表−1)
第2図は、表−1に示す4種類のガラスを用いて磁気ヘ
ッドを作製し、この磁気ヘッドによりメタルフロッピー
ディスクとの摺動後の段差を測定した結果を示している
。測定は、磁気ヘッドの摺動面を第1図で矢印で示す摺
動方向に従って粗さ計により行なった0段差は、コア基
体3を基準にすると、磁性層4及び接合用ガラス7共に
凹部を生じており、この段差を各摺動回数毎に計測した
。
ッドを作製し、この磁気ヘッドによりメタルフロッピー
ディスクとの摺動後の段差を測定した結果を示している
。測定は、磁気ヘッドの摺動面を第1図で矢印で示す摺
動方向に従って粗さ計により行なった0段差は、コア基
体3を基準にすると、磁性層4及び接合用ガラス7共に
凹部を生じており、この段差を各摺動回数毎に計測した
。
図中、#l〜#4の特性曲線は、表−1の実験例1〜実
験例4に示したガラスを、接合用ガラス7に用いたとき
の特性をそれぞれ示しており、#5は、コア基体3と磁
性層4の段差を示している。
験例4に示したガラスを、接合用ガラス7に用いたとき
の特性をそれぞれ示しており、#5は、コア基体3と磁
性層4の段差を示している。
第2図から明らかなように、ガラス溶出量が最少である
実験例1 (特性#1)の場合、段差が最も小さく且つ
平坦な特性であることが判る。また、ガラス溶出量が0
、 OO9m g/rnm”である実験例2(特性#
2)とガラス溶出JiO,03mg/ m m ”であ
る実験例(特性#3)′とでは、磁気ヘッド作製直後の
段階では近似する段差をもつが、1000万回パス摺動
後では、実験例2は段差が少<0.05μm程度の良好
な値を示すのに対し。
実験例1 (特性#1)の場合、段差が最も小さく且つ
平坦な特性であることが判る。また、ガラス溶出量が0
、 OO9m g/rnm”である実験例2(特性#
2)とガラス溶出JiO,03mg/ m m ”であ
る実験例(特性#3)′とでは、磁気ヘッド作製直後の
段階では近似する段差をもつが、1000万回パス摺動
後では、実験例2は段差が少<0.05μm程度の良好
な値を示すのに対し。
実験例3では略0.4μm程度の大きな段差を示すこと
が判る。また、ガラス溶出量が最大の実験例4(特性#
4)の場合、磁気ヘッドを作製した直後の段階で、すで
に接合用ガラス7には0.2μmの大きな段差(凹部)
を生じている。これは。
が判る。また、ガラス溶出量が最大の実験例4(特性#
4)の場合、磁気ヘッドを作製した直後の段階で、すで
に接合用ガラス7には0.2μmの大きな段差(凹部)
を生じている。これは。
ガラス溶出量が大きいため、ヘッドの作製プロセスの仕
上げ中にすでにガラスが多く溶出したことに起因する。
上げ中にすでにガラスが多く溶出したことに起因する。
そして、実験例4の場合、摺動回数が増すにつれて更に
段差が大きくなっている。
段差が大きくなっている。
なお、コア基体3に対する磁性層4の段差は、0、−0
2μm程度で摺動中も略一定しており、この程度の段差
であれば、記録媒体を擦傷する虞もなく、長期にわたっ
て良好な出力特性をもつことが確認されている。
2μm程度で摺動中も略一定しており、この程度の段差
であれば、記録媒体を擦傷する虞もなく、長期にわたっ
て良好な出力特性をもつことが確認されている。
第3図は、摺動回数と磁気ヘッドの再生出力との関係を
示す特性図で、*l〜*4の特性曲線は、前記した表−
Iに示した実験例1〜実験例4のガラスを、接合用ガラ
ス7に用いた場合にそれぞれ対応している。
示す特性図で、*l〜*4の特性曲線は、前記した表−
Iに示した実験例1〜実験例4のガラスを、接合用ガラ
ス7に用いた場合にそれぞれ対応している。
第3図から明らかなように、実験例I (特性*l)並
びに実験例2(特性*2)の如く、ガラス溶出量がO,
O1mg/mm”以下の場合には、1000万パス摺動
後でも出力の劣化は5%以下であり、良好な特性を維持
し、十分な耐久性が保証されることが判る。一方、実験
例3(特性*3)及び実験例4(特性*4)では、摺動
回数の増加と共にヘッド出力が急激に低下し、実用に供
することができない。この急激な出力劣化は、接合用ガ
ラス7に生じた凹部によって記録媒体に傷を発生させる
ことに起因すると考えられる。
びに実験例2(特性*2)の如く、ガラス溶出量がO,
O1mg/mm”以下の場合には、1000万パス摺動
後でも出力の劣化は5%以下であり、良好な特性を維持
し、十分な耐久性が保証されることが判る。一方、実験
例3(特性*3)及び実験例4(特性*4)では、摺動
回数の増加と共にヘッド出力が急激に低下し、実用に供
することができない。この急激な出力劣化は、接合用ガ
ラス7に生じた凹部によって記録媒体に傷を発生させる
ことに起因すると考えられる。
以上のように、接合用ガラス7として、ガラス溶出量が
0 、01 m g / m m ”以下のガラス組成
をもつものを採用すれば、接合用ガラス7の摩耗を可及
的に低減でき、耐久性に優れた磁気ヘッドが実現できる
ことが確認された。
0 、01 m g / m m ”以下のガラス組成
をもつものを採用すれば、接合用ガラス7の摩耗を可及
的に低減でき、耐久性に優れた磁気ヘッドが実現できる
ことが確認された。
なお、実験例1.2で用いたガラスの組成は。
各々の溶出量に対するガラスの組成の1例として示した
ものであり、前記した組成に限定されるものではなく、
ガラス溶出量の条件さえ満足すれば、他の組成にするこ
とも可能であり、前記pb○を主成分とした低融点ガラ
ス以外にも、V z Os系などの低融点ガラスを用い
ることも可能である。
ものであり、前記した組成に限定されるものではなく、
ガラス溶出量の条件さえ満足すれば、他の組成にするこ
とも可能であり、前記pb○を主成分とした低融点ガラ
ス以外にも、V z Os系などの低融点ガラスを用い
ることも可能である。
CM明の効果]
以上のように本発明によれば、ヘッド摺動面に露呈する
接合用ガラスの摩耗を可及的に低減でき、長期使用下に
おいても、記録媒体を擦傷することなく良好な出力特性
が保証できる磁気ヘッドを提供でき、該種構造をとる磁
気ヘッドにあって、その産業的価値は多大である。
接合用ガラスの摩耗を可及的に低減でき、長期使用下に
おいても、記録媒体を擦傷することなく良好な出力特性
が保証できる磁気ヘッドを提供でき、該種構造をとる磁
気ヘッドにあって、その産業的価値は多大である。
第1図は本発明の1実施例に係る磁気ヘッドの斜視図、
第2図は4種類のガラス組成の接合用ガラスを用いて作
製した磁気ヘッドの摺動パス回数とガラス面の段差との
関係を示す特性図、第3図は同様に4種類のガラス組成
の接合用ガラスを用いて作製した磁気ヘッドの摺動パス
回数とヘッド出力との関係を示す特性図である。 1.2・・・・・・コア半体、3・・・山コア基体、4
・・・・磁性層、5・・・・・・突部、6・・・・・・
作動ギャップ、7・・・・・・接合用ガラス、8・・・
・・・巻線窓、9・・・・・・コイル。 第1図 9;フイル 第2図 摺動回数 /x106パスノ 第3図 摺動回数 /X 106パス ノー
第2図は4種類のガラス組成の接合用ガラスを用いて作
製した磁気ヘッドの摺動パス回数とガラス面の段差との
関係を示す特性図、第3図は同様に4種類のガラス組成
の接合用ガラスを用いて作製した磁気ヘッドの摺動パス
回数とヘッド出力との関係を示す特性図である。 1.2・・・・・・コア半体、3・・・山コア基体、4
・・・・磁性層、5・・・・・・突部、6・・・・・・
作動ギャップ、7・・・・・・接合用ガラス、8・・・
・・・巻線窓、9・・・・・・コイル。 第1図 9;フイル 第2図 摺動回数 /x106パスノ 第3図 摺動回数 /X 106パス ノー
Claims (2)
- (1)基体上に高透磁率、高飽和磁束密度の磁性合金材
料よりなる磁性層を形成した一対のコア半体を接合用ガ
ラスによつて接合・固着し、摺動面にこの接合用ガラス
が露呈する構成の磁気ヘッドにおいて、前記接合用ガラ
スとして、100℃の水に1時間保持した際の溶出量が
、0.01mg/mm^2以下のガラスを用いたことを
特徴とする磁気ヘッド。 - (2)請求項1記載において、前記接合用ガラスとして
PbO系の低融点ガラスを用いたことを特徴とする磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32904688A JPH02177105A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32904688A JPH02177105A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02177105A true JPH02177105A (ja) | 1990-07-10 |
Family
ID=18217005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32904688A Pending JPH02177105A (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02177105A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05236455A (ja) * | 1992-02-25 | 1993-09-10 | Nec Corp | 動画像の動きベクトル検出装置 |
JPH05328332A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-12-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高並列動き補償演算器 |
JPH0696209A (ja) * | 1992-09-09 | 1994-04-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 動き補償演算装置 |
JPH06225287A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-12 | Sony Corp | 演算回路 |
JPH07115646A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-02 | Sony Corp | 画像処理装置 |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP32904688A patent/JPH02177105A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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