JPH02166156A - ポリカーボネートと他の熱可塑性プラスチック又はエラストマーとの混合物 - Google Patents
ポリカーボネートと他の熱可塑性プラスチック又はエラストマーとの混合物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L69/00—Compositions of polycarbonates; Compositions of derivatives of polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31507—Of polycarbonate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Springs (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、
a)下記の式(1)
式中、
R1およびR2は相互に独立に水素、ハロゲン、C、−
C、−アルキル、C、−C、−シクロアルキル、Ca−
Cxe−アリール、及びCF−C1lアラールキルを表
し、 mは4ないし7の整数であり、及び 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR1の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R3およびR1は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素またはC、−C、−アルキルを表し
、 Xは炭素原子を表す に相当するジフェノールをベースとする熱可塑性ポリカ
ーボネート、及び b)成分a)以外のエラストマー又は他の熱可塑性プラ
スチック及び、随時 C)標準的な添加剤 を含む混合物、それらの製造方法、及びフィルムの製造
用としてのそれらの利用に関する。
C、−アルキル、C、−C、−シクロアルキル、Ca−
Cxe−アリール、及びCF−C1lアラールキルを表
し、 mは4ないし7の整数であり、及び 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR1の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R3およびR1は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素またはC、−C、−アルキルを表し
、 Xは炭素原子を表す に相当するジフェノールをベースとする熱可塑性ポリカ
ーボネート、及び b)成分a)以外のエラストマー又は他の熱可塑性プラ
スチック及び、随時 C)標準的な添加剤 を含む混合物、それらの製造方法、及びフィルムの製造
用としてのそれらの利用に関する。
ドイツ特許出願P3 832 396.6は本発明によ
る混合物のポリカーボネート(a)及びそれらの原料及
びそれらの製造方法を記載している。
る混合物のポリカーボネート(a)及びそれらの原料及
びそれらの製造方法を記載している。
ポリカーボネート(a)の出発生成物は式(1)式中、
R1およびR″は相互に独立に水素、ハロゲン、好まし
くは塩素又は臭素、c、−’c、−アルキル、Cs −
Ca−シクロアルキル、Cl−Cl1l−アリール、好
ましくはフェニル、及びC6cti−アラールキル、好
ましくはフェニル−C、−C、−アルキル、特にベンジ
ルを表し、mは4ないし7の整数、好ましくは4または
5を表し、及び、 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR4の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R3およびR1は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素又はC、−C、−アルキルを表し、 Xは炭素原子を表す に相当するジヒドロキシジフェニルシクロアルカンであ
る。
くは塩素又は臭素、c、−’c、−アルキル、Cs −
Ca−シクロアルキル、Cl−Cl1l−アリール、好
ましくはフェニル、及びC6cti−アラールキル、好
ましくはフェニル−C、−C、−アルキル、特にベンジ
ルを表し、mは4ないし7の整数、好ましくは4または
5を表し、及び、 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR4の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R3およびR1は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素又はC、−C、−アルキルを表し、 Xは炭素原子を表す に相当するジヒドロキシジフェニルシクロアルカンであ
る。
好ましくは、R1とR1とは同時に1個まl−2個の原
子X上の、特に、ただ1個の原子X上のアルキルを表す
。好ましいアルキル基はメチルである;ジフェニル置換
炭素原子(c−1)に対してα−位のX原子は、好まし
くはニアルキル置換されておらず、対照的に、C−1に
対して β−位のニアルキル置換が好ましい。C−1に
対してβ−位にあるX原子がニアルキル置換されており
、β″位にあるXi子が−アルキル置換されていること
が最も好ましい。
子X上の、特に、ただ1個の原子X上のアルキルを表す
。好ましいアルキル基はメチルである;ジフェニル置換
炭素原子(c−1)に対してα−位のX原子は、好まし
くはニアルキル置換されておらず、対照的に、C−1に
対して β−位のニアルキル置換が好ましい。C−1に
対してβ−位にあるX原子がニアルキル置換されており
、β″位にあるXi子が−アルキル置換されていること
が最も好ましい。
好ましいジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、環
状脂肪族基に5ないし6個の環炭素原子を有する[式(
1)においてmが4または5を表すもの1、例えば下記
式: に対応するジフェノールであり、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−3,3,5−)リメチルシクロ
ヘキサン(式■)が特に好ましい。
状脂肪族基に5ないし6個の環炭素原子を有する[式(
1)においてmが4または5を表すもの1、例えば下記
式: に対応するジフェノールであり、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−3,3,5−)リメチルシクロ
ヘキサン(式■)が特に好ましい。
式(1)に対応するジヒドロキシジフェニルシクロアル
カン(夏)は式(V)に対応するフェノに′ と式(Vl)に対応するケトン: 式(V)及び(Vl)中、 X、R’、R2、R3、R4およびmは式(1)におい
て定義したものと同様であるとの縮合により、既知の手
法で製造することができる。
カン(夏)は式(V)に対応するフェノに′ と式(Vl)に対応するケトン: 式(V)及び(Vl)中、 X、R’、R2、R3、R4およびmは式(1)におい
て定義したものと同様であるとの縮合により、既知の手
法で製造することができる。
式(V)に対応するフェノールは文献から既知の物質で
あるか、または、文献から既知の方法により得られる物
質である(クレゾール、キシレノールに関しては、例え
ばウルマン([11fmann)、工業化学事典(En
zyk+opadie der technishen
Chemie)、第4改定増補版、第15巻、61−
77頁、フエアラーク・ヘミ−(Veralag Ch
emie)、ワインハイム(Weinheim)/ニュ
ーヨーク、1978.クロロフェノールに関してはウル
マン、工業化学事典、第4版、フェアラーク・ヘミ−,
1979、第18巻、191−214頁を参照)。
あるか、または、文献から既知の方法により得られる物
質である(クレゾール、キシレノールに関しては、例え
ばウルマン([11fmann)、工業化学事典(En
zyk+opadie der technishen
Chemie)、第4改定増補版、第15巻、61−
77頁、フエアラーク・ヘミ−(Veralag Ch
emie)、ワインハイム(Weinheim)/ニュ
ーヨーク、1978.クロロフェノールに関してはウル
マン、工業化学事典、第4版、フェアラーク・ヘミ−,
1979、第18巻、191−214頁を参照)。
式(V)に対応する適当なフェノールの例はフェノール
、0−クレゾール、m−クレゾール、2.6−シメチル
フエノール、2−クロロフェノール、3−クロロフェノ
ール、2.6−シクロロフエノール、2−シクロヘキシ
ルフェノール、 2.6−ジフェニルフェノール、及び
0−ベンジルフェノールである。
、0−クレゾール、m−クレゾール、2.6−シメチル
フエノール、2−クロロフェノール、3−クロロフェノ
ール、2.6−シクロロフエノール、2−シクロヘキシ
ルフェノール、 2.6−ジフェニルフェノール、及び
0−ベンジルフェノールである。
式(IV)に対応するケ]・ンは文献から既知の物質で
ある(例えば下記の文献を参照のこと)バイルシュタイ
ン、有機化学ハンドブック(Beilstais)!a
ndbuch der organischen Ch
e+wie)、第7巻、第4版、スプリンガー・7エア
ラーク(Springer−Verlag)、ベルリン
、1925、及び対応する補遺板、第1ないし4巻、及
びジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエ
テ4 (J、Am、Chem、Soc、)79巻、(1
957)、1488−1492頁、米国特許第2.69
2.289号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエ
ティ(J、Chem、Soc、X1959)、2186
−2192頁及びジャーナル・オプ・オルガニック・ケ
ミストリー(J、Org、Chem、)38巻、(19
73)、4431−4435頁、ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエティ87、(1965)
1353−1364頁を参照):式(Vl)に対応する
ケトンの一般的製造方法は、例えば“オルガニック(O
rganikum) ” 、第15版、1977、VE
B−ドイツチャー科学出版(VEB−Deutsche
r Verlag der 1lfissenscha
fLen Berlin) 、ベルリン、例えば698
頁に記載されている。
ある(例えば下記の文献を参照のこと)バイルシュタイ
ン、有機化学ハンドブック(Beilstais)!a
ndbuch der organischen Ch
e+wie)、第7巻、第4版、スプリンガー・7エア
ラーク(Springer−Verlag)、ベルリン
、1925、及び対応する補遺板、第1ないし4巻、及
びジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエ
テ4 (J、Am、Chem、Soc、)79巻、(1
957)、1488−1492頁、米国特許第2.69
2.289号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイエ
ティ(J、Chem、Soc、X1959)、2186
−2192頁及びジャーナル・オプ・オルガニック・ケ
ミストリー(J、Org、Chem、)38巻、(19
73)、4431−4435頁、ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエティ87、(1965)
1353−1364頁を参照):式(Vl)に対応する
ケトンの一般的製造方法は、例えば“オルガニック(O
rganikum) ” 、第15版、1977、VE
B−ドイツチャー科学出版(VEB−Deutsche
r Verlag der 1lfissenscha
fLen Berlin) 、ベルリン、例えば698
頁に記載されている。
式(Vl)に対応する既知のケトンの例は: 3.3−
ジメチルシクロペンタノン、2.2−ジメチルシクロヘ
キサノン、3.3−ジメチルシクロヘキサノン、4゜4
−ジメチルシクロヘキサノン、3−エチル−3−メチル
シクロペンタノン、2.3.3−1−ジメチルシクロペ
ンタノン、 3,3.4〜トリメチルシクロペンタノン
、3.3−ジメチルシクロヘプタノン、4.4−ジメチ
ルシクロヘプタノン、3−エチル−3−メチルシクロヘ
キサノン、2,4.41−リメチルシクロヘキサノン、
33.4−トリメチルシクロヘキサノン、3,3.5−
トリメチルシクロヘキサノン、3.4.4−1リメチル
シクロヘキサノン、3.3.54リメチルシクロヘブタ
ノン、3.5.5− トリメチルシクロヘプタノン、5
−エチル−2゜5−ジメチルシクロヘプタノン、2,3
.3.5−テトラメチルシクロヘプタノン、2,3.5
.5−テトラメチルシクロヘプタノン、3,3,5.5
−テトラメチルシクロヘプタノン、4−エチル−2,3
,4−)ジメチルシクロペンタノン、3−エチル−4−
イソプロピル−3−メチルシクロペンタノン、4−第2
ブチル−3,3−ジメチルシクロペンタノン、2−イソ
プロピル−3,3,4−トリメチルシクロペンタノン、
3−エチル−4−イソプロピル−3−メチルシクロヘキ
サノン、4−エチル−3〜イソプロピル−4−メチルシ
クロヘキサノン、3−第2ブチル−4,4−ジメチルシ
クロヘキサノン、2−ブチル−3、,3,4−)ジメチ
ルシクロペンタノン、2−ブチル−3゜3.4− トリ
メチルシクロヘキサノン、4−ブチル〜3.3゜5−ト
リメチルシクロヘキサノン、3−イソへキシル−3−メ
チルシクロヘキサノン、及び3.3.8−トリメチルシ
クロオクタノンである。
ジメチルシクロペンタノン、2.2−ジメチルシクロヘ
キサノン、3.3−ジメチルシクロヘキサノン、4゜4
−ジメチルシクロヘキサノン、3−エチル−3−メチル
シクロペンタノン、2.3.3−1−ジメチルシクロペ
ンタノン、 3,3.4〜トリメチルシクロペンタノン
、3.3−ジメチルシクロヘプタノン、4.4−ジメチ
ルシクロヘプタノン、3−エチル−3−メチルシクロヘ
キサノン、2,4.41−リメチルシクロヘキサノン、
33.4−トリメチルシクロヘキサノン、3,3.5−
トリメチルシクロヘキサノン、3.4.4−1リメチル
シクロヘキサノン、3.3.54リメチルシクロヘブタ
ノン、3.5.5− トリメチルシクロヘプタノン、5
−エチル−2゜5−ジメチルシクロヘプタノン、2,3
.3.5−テトラメチルシクロヘプタノン、2,3.5
.5−テトラメチルシクロヘプタノン、3,3,5.5
−テトラメチルシクロヘプタノン、4−エチル−2,3
,4−)ジメチルシクロペンタノン、3−エチル−4−
イソプロピル−3−メチルシクロペンタノン、4−第2
ブチル−3,3−ジメチルシクロペンタノン、2−イソ
プロピル−3,3,4−トリメチルシクロペンタノン、
3−エチル−4−イソプロピル−3−メチルシクロヘキ
サノン、4−エチル−3〜イソプロピル−4−メチルシ
クロヘキサノン、3−第2ブチル−4,4−ジメチルシ
クロヘキサノン、2−ブチル−3、,3,4−)ジメチ
ルシクロペンタノン、2−ブチル−3゜3.4− トリ
メチルシクロヘキサノン、4−ブチル〜3.3゜5−ト
リメチルシクロヘキサノン、3−イソへキシル−3−メ
チルシクロヘキサノン、及び3.3.8−トリメチルシ
クロオクタノンである。
好ましいケトンの例は;
および
である。
上記のビスフェノールを製造するには、一般に、ケトン
(IV) 1モル当たり2ないし10モルの、好ましく
は2,5ないし6モルのフェノール(V)を使用する。
(IV) 1モル当たり2ないし10モルの、好ましく
は2,5ないし6モルのフェノール(V)を使用する。
好ましい反応時間は1ないし100時間である。この反
応は一般に、−30ないし300℃の、好ましくは−1
5°Cないし150°Cの温度で、lないし20bar
の、好ましくは1ないし1Obarの圧力下で実施する
。
応は一般に、−30ないし300℃の、好ましくは−1
5°Cないし150°Cの温度で、lないし20bar
の、好ましくは1ないし1Obarの圧力下で実施する
。
上記の縮合は一般に、酸触媒の存在下に実施する。例は
塩化水素、臭化水素、弗化水素、三弗化硼素、三塩化ア
ルミニウム、二塩化亜鉛、四塩化チタニウム、四塩化錫
、ハロゲン化燐、五酸化燐、燐酸、濃塩酸又は濃硫酸、
及び酢酸と無水酢酸との混合物である。酸性イオン交換
体を使用することも可能である。
塩化水素、臭化水素、弗化水素、三弗化硼素、三塩化ア
ルミニウム、二塩化亜鉛、四塩化チタニウム、四塩化錫
、ハロゲン化燐、五酸化燐、燐酸、濃塩酸又は濃硫酸、
及び酢酸と無水酢酸との混合物である。酸性イオン交換
体を使用することも可能である。
上記の反応は、更に助触媒、例えばCI−CI!アルキ
ルメルカプタン、硫化水素、チオフェノール、チオ酸及
び硫化ジアルキルを、好ましくはケトン1モル当たり0
.Olないし0.4モル、特にケトン1モル当たり0.
05ないし0.2モルの量で添加することにより加速す
ることができる。
ルメルカプタン、硫化水素、チオフェノール、チオ酸及
び硫化ジアルキルを、好ましくはケトン1モル当たり0
.Olないし0.4モル、特にケトン1モル当たり0.
05ないし0.2モルの量で添加することにより加速す
ることができる。
上記の縮合は無溶媒で、又は不活性溶媒(例えば脂肪族
炭化水素及び芳香族炭化水素又はクロロ炭化水素)の存
在下に実施することができる。
炭化水素及び芳香族炭化水素又はクロロ炭化水素)の存
在下に実施することができる。
触媒が同時に脱水剤としても機能する場合には脱水剤を
別個に使用する必要はないが、使用した触媒が反応で生
成する水と結合しない場合において、良好な転化を達成
するには脱水剤の使用が有利である。
別個に使用する必要はないが、使用した触媒が反応で生
成する水と結合しない場合において、良好な転化を達成
するには脱水剤の使用が有利である。
適当な脱水剤の例は例えば無水酢酸、ゼオライト、ポリ
燐酸及び五酸化燐である。
燐酸及び五酸化燐である。
フェノール(V)及びケトン(Vl)は(v)対(Vl
)のモル比が2:lないしlO:l、及び好適には2.
5:lないし6:1で、−30℃ないし300’O,好
適には−15°Cないし150℃の温度で、1ないし2
0バール、及び好適には1ないし1obarの圧力下で
、酸性触媒の存在において及び随時助触媒及び/又は溶
剤及び/又は脱水剤の存在において反応することができ
る。
)のモル比が2:lないしlO:l、及び好適には2.
5:lないし6:1で、−30℃ないし300’O,好
適には−15°Cないし150℃の温度で、1ないし2
0バール、及び好適には1ないし1obarの圧力下で
、酸性触媒の存在において及び随時助触媒及び/又は溶
剤及び/又は脱水剤の存在において反応することができ
る。
式(1)において、R3とR4とは同時に1個ないし2
個の原子Xにおいて双方共アルキルであることが好まし
いが、特に、ただ1個の原子X上においてアルキルであ
ることが好ましい。好適なアルキル基はメチルであるが
、エチル又は直鎖状又は分校状C1−Caアルキル基も
使用することができる。シフエノール置換C原子(c−
1)に対しa−位にあるXi子は好適にはニアルキル置
換されていないが、C−1に対しβ−位にあるXJJK
子はニアルキル置換されていることが好ましい。
個の原子Xにおいて双方共アルキルであることが好まし
いが、特に、ただ1個の原子X上においてアルキルであ
ることが好ましい。好適なアルキル基はメチルであるが
、エチル又は直鎖状又は分校状C1−Caアルキル基も
使用することができる。シフエノール置換C原子(c−
1)に対しa−位にあるXi子は好適にはニアルキル置
換されていないが、C−1に対しβ−位にあるXJJK
子はニアルキル置換されていることが好ましい。
つのβ−位がニアルキル置換されていて、他のβ−位が
七ノーアルキル置換されている化合物が最も好ましい。
七ノーアルキル置換されている化合物が最も好ましい。
多くの場合においては、反応は完全に一様ではなく、即
ち数種の異なる生成物が生じる可能性があり、従って最
初に所望の生成物を混合物から単離しなければならない
。反応の詳細については、シュネル(Schnell)
、ポリカーボネートの化学と物理(chemistry
and P hysics or P ol
ycarbonaLes) 、インターサイエンス・パ
ブリッシャーズ(Interscience Publ
ishers)、ニューヨーク、1964を参照された
い。或場合には、適当な触媒及び反応条件を通じて所望
の化合物の単離が一層容易となるように化合物を沈澱又
は晶出させるような方法で反応を制御することが可能で
ある。式(n)に対応するジフェノールの製造は下記に
記載される。
ち数種の異なる生成物が生じる可能性があり、従って最
初に所望の生成物を混合物から単離しなければならない
。反応の詳細については、シュネル(Schnell)
、ポリカーボネートの化学と物理(chemistry
and P hysics or P ol
ycarbonaLes) 、インターサイエンス・パ
ブリッシャーズ(Interscience Publ
ishers)、ニューヨーク、1964を参照された
い。或場合には、適当な触媒及び反応条件を通じて所望
の化合物の単離が一層容易となるように化合物を沈澱又
は晶出させるような方法で反応を制御することが可能で
ある。式(n)に対応するジフェノールの製造は下記に
記載される。
実施例 A、 1
撹拌機、滴下濾斗、温度計、還流冷却器、及びガス導入
管を備えたtoの丸底フラスコに、7゜5モル(70E
NI )のフェノール及び0.15モル(30,39)
のドデシルチオールを装入し、28ないし30℃で乾燥
HCIガスを飽和させる。
管を備えたtoの丸底フラスコに、7゜5モル(70E
NI )のフェノール及び0.15モル(30,39)
のドデシルチオールを装入し、28ないし30℃で乾燥
HCIガスを飽和させる。
得られる溶液に1.5モル(2! Og)のジヒドロイ
ン7オロン(3,3,5−)リメチルシクヘキサンー1
−オン)及び1.5モル(1519)のフェノールを3
時間に互って滴下して加える。その際反応溶液を通じて
HCIガスを流し続ける。添加後、HCIガスを更に5
時間導入する。次いで混合物を室温で8時間反応させる
。次いで水蒸気蒸留により過剰なフェノールを除去する
。残渣を熱時石油エーテル(60−90)で二度、塩化
メチレンで一度熱時抽出し、濾別する。収量:3709
゜融点: 205−207℃。
ン7オロン(3,3,5−)リメチルシクヘキサンー1
−オン)及び1.5モル(1519)のフェノールを3
時間に互って滴下して加える。その際反応溶液を通じて
HCIガスを流し続ける。添加後、HCIガスを更に5
時間導入する。次いで混合物を室温で8時間反応させる
。次いで水蒸気蒸留により過剰なフェノールを除去する
。残渣を熱時石油エーテル(60−90)で二度、塩化
メチレンで一度熱時抽出し、濾別する。収量:3709
゜融点: 205−207℃。
実施例 A、 2
式(ff)のジフェノールの製造
撹拌機、温度計、還流冷却器、及びガス導入管を備えた
撹拌装置中に、16929 (18モル)のフェノー
ル、60.6g (0,3モル)のドデシルチオール及
び4209 (3モル)のジヒドロイン7オロン(3
,3,5−トリメチルシクヘキサンー!−オン)を23
−30℃で導入する。この溶液に乾燥MCIガスを28
−30℃において5時間に互って導入する。次いで混合
物を28−30℃で約70時間撹拌させる。95%のケ
トンが転化した時(GCにより試験)、反応混合物に2
.5gの水を添加し、45%NaOHを加えてpH値を
6に調節する。反応混合物を80°C″c1時間撹拌し
、ついで25°Cに冷却する。水相をデカンテーション
で捨て、残留する残渣を80℃で水で洗浄する。
撹拌装置中に、16929 (18モル)のフェノー
ル、60.6g (0,3モル)のドデシルチオール及
び4209 (3モル)のジヒドロイン7オロン(3
,3,5−トリメチルシクヘキサンー!−オン)を23
−30℃で導入する。この溶液に乾燥MCIガスを28
−30℃において5時間に互って導入する。次いで混合
物を28−30℃で約70時間撹拌させる。95%のケ
トンが転化した時(GCにより試験)、反応混合物に2
.5gの水を添加し、45%NaOHを加えてpH値を
6に調節する。反応混合物を80°C″c1時間撹拌し
、ついで25°Cに冷却する。水相をデカンテーション
で捨て、残留する残渣を80℃で水で洗浄する。
−得られる粗製生成物を濾別し、n−ヘキサンで二回熱
時抽出し、及び塩化メチレンで二回抽出し、次いで濾過
する。残渣をキシレンから二回再結晶する。
時抽出し、及び塩化メチレンで二回抽出し、次いで濾過
する。残渣をキシレンから二回再結晶する。
収量コア53g
融点:209−211’0
実施例 A、 3
式(II)のジフェノールの製造
撹拌機、温度計、還流冷却器、及びガス導入管を備えた
撹拌装置中に、5649 (6モル)のフェノール、
I O,89(0,12モル)のブタンチオール及rJ
l 409 (1モル)のジヒドロイン7オロン(
3,3,5−トリメチルシフヘキサン−1−オン)を3
0°Cで導入する。この温度で37%HCIガス44g
を添加する。次いで反応混合物を28−30℃で約70
時間撹拌する。95%のケトンが転化した時(GCによ
り試験)、反応混合物に2αの水を添加し、45%Na
OHを加えてpH値を6に調節する。反応混合物を80
°0で1時間撹拌し、次いで25℃に冷却する。水相を
デカンテーションで捨て、残留する残渣を80°Cで水
で洗浄する。得られる粗製生成物を濾別し、n−ヘキサ
ンで二回熱時抽出し、及び塩化メチレンで二回抽出し、
次いで30℃で濾過する。
撹拌装置中に、5649 (6モル)のフェノール、
I O,89(0,12モル)のブタンチオール及rJ
l 409 (1モル)のジヒドロイン7オロン(
3,3,5−トリメチルシフヘキサン−1−オン)を3
0°Cで導入する。この温度で37%HCIガス44g
を添加する。次いで反応混合物を28−30℃で約70
時間撹拌する。95%のケトンが転化した時(GCによ
り試験)、反応混合物に2αの水を添加し、45%Na
OHを加えてpH値を6に調節する。反応混合物を80
°0で1時間撹拌し、次いで25℃に冷却する。水相を
デカンテーションで捨て、残留する残渣を80°Cで水
で洗浄する。得られる粗製生成物を濾別し、n−ヘキサ
ンで二回熱時抽出し、及び塩化メチレンで二回抽出し、
次いで30℃で濾過する。
収量:253y
融点: 205−208°C
実施例 A、 4
式(Ib)(R’及びR”−CH,)のジフェノールの
製造 撹拌機、温度計、還流冷却器、及びガス導入管を備えた
撹拌装置中に、2196g (18モル)の2.6−シ
メチルフエノール、38.29 (0,36モル)の
β−メルカプトプロピオン酸及び4209 (3モル)
のジヒドロイン7オロン(3,3,5−トリメチルシフ
ヘキサン−1−オン)を35℃で導入する。この溶液に
乾燥MCIガスを35℃において5時間に互って導入す
る。次いで混合物を28−30°Cで約10時間に亙っ
て反応させる。95%のケトンが転化した時(GCによ
り試験)、反応混合物に2.50の水を添加し、45%
NaOH溶液を加えてpH値を6に調節する。反応混合
物を80°Cで1時間撹拌し、次いで室温に冷却する。
製造 撹拌機、温度計、還流冷却器、及びガス導入管を備えた
撹拌装置中に、2196g (18モル)の2.6−シ
メチルフエノール、38.29 (0,36モル)の
β−メルカプトプロピオン酸及び4209 (3モル)
のジヒドロイン7オロン(3,3,5−トリメチルシフ
ヘキサン−1−オン)を35℃で導入する。この溶液に
乾燥MCIガスを35℃において5時間に互って導入す
る。次いで混合物を28−30°Cで約10時間に亙っ
て反応させる。95%のケトンが転化した時(GCによ
り試験)、反応混合物に2.50の水を添加し、45%
NaOH溶液を加えてpH値を6に調節する。反応混合
物を80°Cで1時間撹拌し、次いで室温に冷却する。
水相をデカンテーションで捨て、残留する残渣を60℃
で水で洗浄する。得られる粗製生成物を濾別し、n−ヘ
キサンで三回熱時抽出し、次いで濾過する。
で水で洗浄する。得られる粗製生成物を濾別し、n−ヘ
キサンで三回熱時抽出し、次いで濾過する。
収量:856g
融点:236−238℃
実施例 A、 5
式(IIF)のジフェノールの製造
実施例A、2と同じ方法により、3モルのジヒドロイン
7オロンの代わりに3モルの3,3−ジメチルシクロヘ
キサノンを使用する。生成物の融点は199−201’
Oであった。
7オロンの代わりに3モルの3,3−ジメチルシクロヘ
キサノンを使用する。生成物の融点は199−201’
Oであった。
ポリカーボネートはドイツ特許出願P3832 396
.6により式(r)に対応するジフェノールから製造す
ることができる。
.6により式(r)に対応するジフェノールから製造す
ることができる。
式(1)に対応する単一のジフェノール、及び式(1)
に対応する数種のジフェノールの両方を使用することが
可能であり、前者の場合はホモポリカーボネートが生成
し、後者の場合は共重合ポリカーボネートが生成する。
に対応する数種のジフェノールの両方を使用することが
可能であり、前者の場合はホモポリカーボネートが生成
し、後者の場合は共重合ポリカーボネートが生成する。
更に磁気(1)に対応するジフェノールは又高分子量の
熱可塑性芳香族ポリカーボネートを製造するために、他
のジフェノール、例えば弐〇〇−Z−OH(■)に対応
するジフェノールと混合物して使用することができる。
熱可塑性芳香族ポリカーボネートを製造するために、他
のジフェノール、例えば弐〇〇−Z−OH(■)に対応
するジフェノールと混合物して使用することができる。
弐HO−Z−OH(■)に対応する適当な他のジフェノ
ールは、Zが一個又は多数個の芳香族核を含んでいても
よく、置換されていてもよく、及び脂肪族残基又は式(
りに対応するもの以外の環状脂肪族残基又は架橋成分と
してペテロ原子を含んでいてもよい、6ないし30炭素
原子を含む芳香族残機であるジフェノールである。
ールは、Zが一個又は多数個の芳香族核を含んでいても
よく、置換されていてもよく、及び脂肪族残基又は式(
りに対応するもの以外の環状脂肪族残基又は架橋成分と
してペテロ原子を含んでいてもよい、6ないし30炭素
原子を含む芳香族残機であるジフェノールである。
式(■)に対応するジフェノールの例はハイドロキノン
、ジヒドロキシジフェニル、ビス−(ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン、ビス=(ヒドロキシフェニル)−シク
ロアルカン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルフィ
ド、ビス−(ヒドロキシフェニル)−工−チル、ビス−
(ヒドロキシフェニル)−ケトン、ビス=(ヒドロキシ
フェニル)−スルホン、ビス−(ヒドロキシフェニル)
−スルホキシド、α、α“−ビス−(ヒドロキシフェニ
ル)−ジイソプロピルベンゼン及びそれらの核ハロゲン
化化合物である。
、ジヒドロキシジフェニル、ビス−(ヒドロキシフェニ
ル)−アルカン、ビス=(ヒドロキシフェニル)−シク
ロアルカン、ビス−(ヒドロキシフェニル)−スルフィ
ド、ビス−(ヒドロキシフェニル)−工−チル、ビス−
(ヒドロキシフェニル)−ケトン、ビス=(ヒドロキシ
フェニル)−スルホン、ビス−(ヒドロキシフェニル)
−スルホキシド、α、α“−ビス−(ヒドロキシフェニ
ル)−ジイソプロピルベンゼン及びそれらの核ハロゲン
化化合物である。
これら及び他の適当なジフェノールは例えば米国特許筒
3.028.365号、2,999.835号、3.1
48.172号、3.275.601号、2,991.
273号、3,271,367号、3,062.781
号、2,970.131号及び2,999.846号に
;ドイツ特許公開公報環1,570.703号、2,0
63,050号、2,063.052号、2,211.
0956号に;フランス特許筒1.561,518号に
、及び前記の0ポリカーボネートの化学と物理”、イン
ターサイエンス・パブリッシャーズ、ニューヨーク、!
964、と題したH、シュネル(Schne目)の本に
記載されている。
3.028.365号、2,999.835号、3.1
48.172号、3.275.601号、2,991.
273号、3,271,367号、3,062.781
号、2,970.131号及び2,999.846号に
;ドイツ特許公開公報環1,570.703号、2,0
63,050号、2,063.052号、2,211.
0956号に;フランス特許筒1.561,518号に
、及び前記の0ポリカーボネートの化学と物理”、イン
ターサイエンス・パブリッシャーズ、ニューヨーク、!
964、と題したH、シュネル(Schne目)の本に
記載されている。
好適な他のジフェノールは、例えば、4.4’−ジヒド
ロキシジフェニル、2.2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−フロパン、2.4−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルブタン、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、σ、α1−ヒ
スー(4−ヒドロキシフェニル)−p−ジイソプロピル
ベンゼン、2.2−ヒス−(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(3−クロロ
−4−ヒドロキシフェニル)−フロパン、ビス−(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−メタン、2
.2−ビス−(3,5−ジメチル4−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパン、ビス−(3,5−ジメチル−4〜ヒド
ロキシフエニル)−スルホン、2.4−ビス−(3,5
〜ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブ
タン、1.トビスー(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−シクロヘキサン、σ a −ビス−(3
,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−旦−ジイ
ソプロピルベンゼン、2.2−ビス−(3,5−ジクロ
ロ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン2it[2,
2−+:−スー(3゜5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−プロパンである。
ロキシジフェニル、2.2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−フロパン、2.4−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルブタン、1.1−ビス−(4−
ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、σ、α1−ヒ
スー(4−ヒドロキシフェニル)−p−ジイソプロピル
ベンゼン、2.2−ヒス−(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、2.2−ビス−(3−クロロ
−4−ヒドロキシフェニル)−フロパン、ビス−(3,
5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−メタン、2
.2−ビス−(3,5−ジメチル4−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパン、ビス−(3,5−ジメチル−4〜ヒド
ロキシフエニル)−スルホン、2.4−ビス−(3,5
〜ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルブ
タン、1.トビスー(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−シクロヘキサン、σ a −ビス−(3
,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−旦−ジイ
ソプロピルベンゼン、2.2−ビス−(3,5−ジクロ
ロ−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン2it[2,
2−+:−スー(3゜5−ジブロモ−4−ヒドロキシフ
ェニル)−プロパンである。
特に好適な式(■)に対応するジフェノールは、例えl
f2.2−ヒス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパ
ン、2.2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シ7エ二ル)−プロパン、2.2−ビス=(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−フロパン、2.2
−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル
)−プロパン及び1.1−ヒス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキサンである。
f2.2−ヒス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパ
ン、2.2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シ7エ二ル)−プロパン、2.2−ビス=(3,5−ジ
クロロ−4−ヒドロキシフェニル)−フロパン、2.2
−ビス−(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル
)−プロパン及び1.1−ヒス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキサンである。
2.2−ヒス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン
が特に好適である。
が特に好適である。
他のジフェノールは個々に及び相互に混合して使用して
もよい。
もよい。
式(1)に対応するジフェノール対随時使用される、例
えば式(■)に対応する他のジフェノールのモル比は、
(1)100モル%対他のジフェノール0モル%から(
1)2モル%対他のジフェノール98モル%、好適には
(1)100モル%対他のジフェノール0モル%ないし
く1) 5”モル%対他のジフェノール95モル%、及
び−層好適には(I)100モル%対他のジフェノール
0モル%ないしく1)lOモル%対他のジフェノール9
0モル%、及び最も好適には(1)100モル%対他の
ジフェノール0モル%ないしくI)20モル%対他のジ
フェノール80モル%である。
えば式(■)に対応する他のジフェノールのモル比は、
(1)100モル%対他のジフェノール0モル%から(
1)2モル%対他のジフェノール98モル%、好適には
(1)100モル%対他のジフェノール0モル%ないし
く1) 5”モル%対他のジフェノール95モル%、及
び−層好適には(I)100モル%対他のジフェノール
0モル%ないしく1)lOモル%対他のジフェノール9
0モル%、及び最も好適には(1)100モル%対他の
ジフェノール0モル%ないしくI)20モル%対他のジ
フェノール80モル%である。
随時能のジフェノールと併用された、式(1)に対応す
るジフェノールの高分子量ポリカーボネートは、ポリカ
ーボネートを製造するのに使用される任意の既知な方法
で製造することができる。
るジフェノールの高分子量ポリカーボネートは、ポリカ
ーボネートを製造するのに使用される任意の既知な方法
で製造することができる。
その際各種のジフェノールが相互に結合してランダム及
びブロック共重合体を形成することができる。
びブロック共重合体を形成することができる。
ポリカーボネートは既知の方法で分枝していてもよい。
分校が必要な場合は、少量の、好適には0.05ないし
2.0モル%(使用されたジフェノールに対して)の三
官能性又は三官能性以上化合物、特に3個又は三個以上
のフェノール性ヒドロキシル基を含む化合物を共縮合さ
せることにより、既知の方法で達成することができる。
2.0モル%(使用されたジフェノールに対して)の三
官能性又は三官能性以上化合物、特に3個又は三個以上
のフェノール性ヒドロキシル基を含む化合物を共縮合さ
せることにより、既知の方法で達成することができる。
三個又は三個以上のフェノール性ヒドロキシル基を含む
分校剤ハフ0ログルシノール、 4.6−シメチルー2
.4.6−トリー(4−ヒドロキシフェニル)−ヘプト
−2−エン、4゜6−シメチルー2.4.6− トリー
(4−ヒドロキシフェニル)へブタン、1.3.5−ト
リー(4−ヒトO# シフ エニル)−ベンゼン、1.
1.1−トリ=(4−ヒドロキシフェニル)−エタン、
トリー(4−ヒドロキシフェニル)−フェニルメタン、
2.2−ビス−(4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキシル)−フロパン、2.4−E’ス
ス−4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−7エノー
ル、2.6−ビス−(2−ヒドロキシ−5°−メチルベ
ンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−ヒドロキ
シフェノール)−2−<2.4〜ジヒドロキシフエニル
)−フロパン、ヘキサ−(4−(4−ヒドロキシフェニ
ル−イソプロピル)−フェニル)−オルト−テレフタル
酸エステル、テトラ−(4ヒドロキシフエニル)−メタ
ン、テトラ−(4−(4−ヒドロキシフェニル−イソプ
ロピル)−7エノキシ)−メタン及び1.4−ビス−(
(4°−14”−ジヒドロキシトリフェニル)−メチル
)−ベンゼンを含んでいる。
分校剤ハフ0ログルシノール、 4.6−シメチルー2
.4.6−トリー(4−ヒドロキシフェニル)−ヘプト
−2−エン、4゜6−シメチルー2.4.6− トリー
(4−ヒドロキシフェニル)へブタン、1.3.5−ト
リー(4−ヒトO# シフ エニル)−ベンゼン、1.
1.1−トリ=(4−ヒドロキシフェニル)−エタン、
トリー(4−ヒドロキシフェニル)−フェニルメタン、
2.2−ビス−(4,4−ビス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−シクロヘキシル)−フロパン、2.4−E’ス
ス−4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)−7エノー
ル、2.6−ビス−(2−ヒドロキシ−5°−メチルベ
ンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−ヒドロキ
シフェノール)−2−<2.4〜ジヒドロキシフエニル
)−フロパン、ヘキサ−(4−(4−ヒドロキシフェニ
ル−イソプロピル)−フェニル)−オルト−テレフタル
酸エステル、テトラ−(4ヒドロキシフエニル)−メタ
ン、テトラ−(4−(4−ヒドロキシフェニル−イソプ
ロピル)−7エノキシ)−メタン及び1.4−ビス−(
(4°−14”−ジヒドロキシトリフェニル)−メチル
)−ベンゼンを含んでいる。
他の三官能性化合物の例を挙げれば、2.4−ジヒドロ
キシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌール及び3,
3−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2−オキソ−2,3−ジヒドロインドールである。
キシ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌール及び3,
3−ビス−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
2−オキソ−2,3−ジヒドロインドールである。
ポリカーボネート(a)の分子量を調節する連鎖停止剤
として、単官能性化合物を既知の方法により普通の濃度
で使用することができる。適当な化合物は例えばフェノ
ール、tart、−ブチルフェノール又は他のアルキル
−C、−C、−置換フェノールである。式(vm ) 上式中 Rは分枝しt: C、及び/又はC,アルキル基である
、 に対応する少量のフェノールは分子量の調節に特に適当
である。アルキル残基Rにおいて、CH3プロトンの%
は47ないし89%で、CH及びCHlのプロトンの%
は53ないし11%の間である。RはOH基に対して〇
−及び/又はp−位Jこあることが好ましく、特にオル
ト成分の特に好適な上限は20%である。連鎖停止剤は
使用されるジフェノールに対し、一般に0.5モルない
し10モル%の量で、及び好適には1.5ないし8モル
%の量で使用される。
として、単官能性化合物を既知の方法により普通の濃度
で使用することができる。適当な化合物は例えばフェノ
ール、tart、−ブチルフェノール又は他のアルキル
−C、−C、−置換フェノールである。式(vm ) 上式中 Rは分枝しt: C、及び/又はC,アルキル基である
、 に対応する少量のフェノールは分子量の調節に特に適当
である。アルキル残基Rにおいて、CH3プロトンの%
は47ないし89%で、CH及びCHlのプロトンの%
は53ないし11%の間である。RはOH基に対して〇
−及び/又はp−位Jこあることが好ましく、特にオル
ト成分の特に好適な上限は20%である。連鎖停止剤は
使用されるジフェノールに対し、一般に0.5モルない
し10モル%の量で、及び好適には1.5ないし8モル
%の量で使用される。
ポリカーボネート(a)は既知の方法で、好適には相界
面重縮合法([(、シュネル“ポリカーボネ−4の化学
及び物理”、ポリマー・レビューズ(Polyw+er
Reviews)、1巻、33頁以下、インターサイ
エンス・パブリッシャーズ(!nterscience
Publ、)、1964参照)によって製造すること
ができる。
面重縮合法([(、シュネル“ポリカーボネ−4の化学
及び物理”、ポリマー・レビューズ(Polyw+er
Reviews)、1巻、33頁以下、インターサイ
エンス・パブリッシャーズ(!nterscience
Publ、)、1964参照)によって製造すること
ができる。
この方法においては、式(1)に対応するジフェノール
を水性アルカリ相に溶解する。他のジフェノールとの共
重合ポリカーボネートを製造するためには、式(1)に
対応するジフェノールと他のジフェノール、例えば式(
■)に対応するジフェノールの混合物が使用される。分
子量を調節するために、例えば式(■)に対応する連鎖
停止剤を添加することができる。次いで反応は不活性な
、好適にはポリカーボネートを溶解する有機相の存在に
おいて相界面重縮合法によりホスゲンを用いて行われる
。反応温度は0ないし40℃の範囲である。
を水性アルカリ相に溶解する。他のジフェノールとの共
重合ポリカーボネートを製造するためには、式(1)に
対応するジフェノールと他のジフェノール、例えば式(
■)に対応するジフェノールの混合物が使用される。分
子量を調節するために、例えば式(■)に対応する連鎖
停止剤を添加することができる。次いで反応は不活性な
、好適にはポリカーボネートを溶解する有機相の存在に
おいて相界面重縮合法によりホスゲンを用いて行われる
。反応温度は0ないし40℃の範囲である。
随時使用される分校剤(好適には0.05ないし2モル
%)は最初にジフェノールと共に水性アルカリ相に導入
してもよく、又はホスゲン化の前に有機溶剤中の溶液に
添加してもよい。
%)は最初にジフェノールと共に水性アルカリ相に導入
してもよく、又はホスゲン化の前に有機溶剤中の溶液に
添加してもよい。
式(1)のジフェノールの外に、随時他のジフェノール
(■)、そのモノ−及び/又はビス−クロロ蟻酸エステ
ルも使用することができ、その場合これらは有機溶剤に
溶解して添加される。使用される連鎖停止剤及び分校剤
の量は、式(■)、及び随時式(■)に対応するジフェ
ノ−レート残基のモル量によって決定される。クロロ蟻
酸エステルが使用される場合は、既知の方式によってホ
スゲンの量を軽減することができる。
(■)、そのモノ−及び/又はビス−クロロ蟻酸エステ
ルも使用することができ、その場合これらは有機溶剤に
溶解して添加される。使用される連鎖停止剤及び分校剤
の量は、式(■)、及び随時式(■)に対応するジフェ
ノ−レート残基のモル量によって決定される。クロロ蟻
酸エステルが使用される場合は、既知の方式によってホ
スゲンの量を軽減することができる。
′:11鎖停止剤及び随時、分校剤及びクロロ蟻酸エス
テルに適当な溶剤は、例えば塩化メチレン、クロロベン
ゼン、アセトン、アセトニトリル及びこれらの溶剤の混
合物、特に塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物であ
る。使用される連鎖停止剤及び分校剤を随時同じ溶剤に
溶解してもよい。
テルに適当な溶剤は、例えば塩化メチレン、クロロベン
ゼン、アセトン、アセトニトリル及びこれらの溶剤の混
合物、特に塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物であ
る。使用される連鎖停止剤及び分校剤を随時同じ溶剤に
溶解してもよい。
相界面重縮合の有機溶剤として、例えば塩化メチレン、
クロロベンゼン、及び塩化メチレンとクロロベンゼンの
混合物が使用される。
クロロベンゼン、及び塩化メチレンとクロロベンゼンの
混合物が使用される。
水性アルカリ性用として例えばNaOH水溶液が使用さ
れる。
れる。
相界面重縮合法によるポリカーボネート(a)の製造は
第三アミン、特に第三脂肪族アミン、例えばトリブチル
アミン又はトリエチルアミンのような触媒によって普通
の方法で接触される。触媒は、使用されるジフェノール
のそルを基準として、0.05ないし10モル%の量で
使用される。触媒はホスゲンイヒの始まる前又はその最
中又はホスゲン化の後で添加してもよい。
第三アミン、特に第三脂肪族アミン、例えばトリブチル
アミン又はトリエチルアミンのような触媒によって普通
の方法で接触される。触媒は、使用されるジフェノール
のそルを基準として、0.05ないし10モル%の量で
使用される。触媒はホスゲンイヒの始まる前又はその最
中又はホスゲン化の後で添加してもよい。
ポリカーボネート(a)は又既知の均質相法、所謂“ピ
リジン法“により、及び又例えばホスゲンの替わりにジ
フェニルカーボネートを使用する既知の熔融エステル交
換法により製造することができる。
リジン法“により、及び又例えばホスゲンの替わりにジ
フェニルカーボネートを使用する既知の熔融エステル交
換法により製造することができる。
ポリカーボネート(a)の分子量M、(予め較正した後
ゲル・クロマトグラフィーにより測定された、重量平均
分子量)は少なくとも10,000、及びより好適には
10.000ないし300゜000の範囲、及びポリカ
ーボネートが射出成形品の製造に使用される場合、20
.000ないし80.000の範囲にあることが最も好
ましい。
ゲル・クロマトグラフィーにより測定された、重量平均
分子量)は少なくとも10,000、及びより好適には
10.000ないし300゜000の範囲、及びポリカ
ーボネートが射出成形品の製造に使用される場合、20
.000ないし80.000の範囲にあることが最も好
ましい。
それらは直鎖状であってもよく、分校状であってもよい
。且つポリカーボネート(a)は、式(I)に対応する
ジフェノールを基剤とした均質ポリカーボネート又は共
重合ポリカーボネートである。
。且つポリカーボネート(a)は、式(I)に対応する
ジフェノールを基剤とした均質ポリカーボネート又は共
重合ポリカーボネートである。
従って本発明の意味するところのポリカーボネート(a
)は、少なくとも10,000、及び好適にはto、o
ooないし300,000の範囲、及びより好適にはポ
リカーボネートが射出成形品の製造に使用される場合、
20.000ないし8o、oooの範囲にあるMw値(
重量平均分子量)を有し、式(Ia) 上式中 X、R’、R”、R3、R4及びmは式(1)に定義さ
れた通りである、 に対応する二官能性カーボネート構造単位を、各場合と
もポリカーボネート中の二官能性カーボネート構造単位
の合計量を100モル%として、100モル%ないし2
モル%の量で、好適には10゛0モル%ないし5モル%
の量で、より好適には100モル%ないし10モル%の
量で、及び最も好適には100モル%ないし20モル%
の量で含む、高分子量、熱可塑性、芳香族ポリカーボネ
ートである。
)は、少なくとも10,000、及び好適にはto、o
ooないし300,000の範囲、及びより好適にはポ
リカーボネートが射出成形品の製造に使用される場合、
20.000ないし8o、oooの範囲にあるMw値(
重量平均分子量)を有し、式(Ia) 上式中 X、R’、R”、R3、R4及びmは式(1)に定義さ
れた通りである、 に対応する二官能性カーボネート構造単位を、各場合と
もポリカーボネート中の二官能性カーボネート構造単位
の合計量を100モル%として、100モル%ないし2
モル%の量で、好適には10゛0モル%ないし5モル%
の量で、より好適には100モル%ないし10モル%の
量で、及び最も好適には100モル%ないし20モル%
の量で含む、高分子量、熱可塑性、芳香族ポリカーボネ
ートである。
従ってこのポリカーボネートは各場合共100モル%を
補足する量まで、例えば式(■a)他の好都合な性質と
共に高い耐熱性を有する新規ポリカーボネートは式(I
)に対応するジフェノールの組込みによって得られる。
補足する量まで、例えば式(■a)他の好都合な性質と
共に高い耐熱性を有する新規ポリカーボネートは式(I
)に対応するジフェノールの組込みによって得られる。
これは特にmが4又は5である、ジフェノール(1)を
基剤としたポリカーボネート番こおいて、特に式(I
b)式(■a)中、 −Z−は式(■)中の−Z−に相当する、に対応する他
の二官能性カーボネート構造単位を、各場合ともポリカ
ーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計量
を100モル%として、0モル%(を包含して)ないし
98モル%(まで包含して)、好適には0モル%ないし
95モル%、より好適には0モル%ないし90モル%、
及び最も好適には0モル%ないし80モル%の量で含ん
でいる。
基剤としたポリカーボネート番こおいて、特に式(I
b)式(■a)中、 −Z−は式(■)中の−Z−に相当する、に対応する他
の二官能性カーボネート構造単位を、各場合ともポリカ
ーボネート中の二官能性カーボネート構造単位の合計量
を100モル%として、0モル%(を包含して)ないし
98モル%(まで包含して)、好適には0モル%ないし
95モル%、より好適には0モル%ないし90モル%、
及び最も好適には0モル%ないし80モル%の量で含ん
でいる。
上式中
相互に独立であるR1及びR1は式(I)に定義された
意味を有し、−層好適には水素を表す、 に対応するジフェノール基剤とするポリカーボネートに
おいて適用される。
意味を有し、−層好適には水素を表す、 に対応するジフェノール基剤とするポリカーボネートに
おいて適用される。
好適なポリカーボネート(a)は、式(Ia)に対応す
る構造単位において、mが4又は5であるポリカーボネ
ート、特に式(Ic) 上式中 R1及びR1は式(Ia)に定義された意味を有するが
、好適には水素である、 に対応する単位のポリカーボネートである。
る構造単位において、mが4又は5であるポリカーボネ
ート、特に式(Ic) 上式中 R1及びR1は式(Ia)に定義された意味を有するが
、好適には水素である、 に対応する単位のポリカーボネートである。
これらの、R1及びR1が好適には水素である、式(I
b)に対応するジフェノールを基剤としたポリカーボネ
ートは、その高い耐熱性以外に又高い紫外線安定性、及
び熔融物の良好な流動的挙動を示す。
b)に対応するジフェノールを基剤としたポリカーボネ
ートは、その高い耐熱性以外に又高い紫外線安定性、及
び熔融物の良好な流動的挙動を示す。
更に、ポリカーボネートの性質は他のジフェノール、特
に式(■)に対応するジフェノールとの組合わせによっ
て好都合に変化させることができる。
に式(■)に対応するジフェノールとの組合わせによっ
て好都合に変化させることができる。
下記の実施例B、lないしB、5はポリカーボネート(
a)の製造を記載する。相対粘度はCHICI、に溶か
したポリカーボネートの0.5重量%溶液について測定
された。
a)の製造を記載する。相対粘度はCHICI、に溶か
したポリカーボネートの0.5重量%溶液について測定
された。
ガラス転移温度は示差走査熱量計(D S C)によっ
て測定された。
て測定された。
実施例 8. 1
31.09 (0,1モル)の実施例(A、1)のジ
フェノール、334g (0,6モル)のKOH及び5
60gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶解す
る。次いで560m12の塩化メチレンに溶かした0、
1889のフェノールの溶液を池加する。pH13ない
し14で、及び温度21ないし25°Cで徹底的に撹拌
された溶液中に19゜8g (0,2モル)のホスゲン
を導入し、次いで0 、 l raQのエチルピリジン
を添加し、続けて45分間撹拌した。ビスフェルレート
を含まない水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相
を水で中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。ポリカ
ーボネートは1.259の相対粘度を有していた。
フェノール、334g (0,6モル)のKOH及び5
60gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶解す
る。次いで560m12の塩化メチレンに溶かした0、
1889のフェノールの溶液を池加する。pH13ない
し14で、及び温度21ないし25°Cで徹底的に撹拌
された溶液中に19゜8g (0,2モル)のホスゲン
を導入し、次いで0 、 l raQのエチルピリジン
を添加し、続けて45分間撹拌した。ビスフェルレート
を含まない水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相
を水で中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。ポリカ
ーボネートは1.259の相対粘度を有していた。
重合体のガラス転移温度は233°C!(DSC)であ
ることが認められた。
ることが認められた。
68.49 (0,3モル)のビスフェノールA(2
,2−ビス=(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン)
、2 t 7.Og (0,7モル)の実施例(A、I
)のジフェノール、3364g (6モル)のKOH及
び2700gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら
溶解する。次いで2500+m12の塩化メチレンに溶
かした1、88gのフェノールの溶液を添加する。pH
13ないし14で、及び温度21ないし25℃で徹底的
に撹拌された溶液中に198g (2モル)のホスゲン
を導入し、次いで1m12のエチルピリジンを添加し、
続けて45分間撹拌した。ビスフェノレートを含まない
水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相を水で中性
となるまで洗浄し、溶剤を除去した。ポリカーボネート
は1.336の相対粘度を有していた。
,2−ビス=(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン)
、2 t 7.Og (0,7モル)の実施例(A、I
)のジフェノール、3364g (6モル)のKOH及
び2700gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら
溶解する。次いで2500+m12の塩化メチレンに溶
かした1、88gのフェノールの溶液を添加する。pH
13ないし14で、及び温度21ないし25℃で徹底的
に撹拌された溶液中に198g (2モル)のホスゲン
を導入し、次いで1m12のエチルピリジンを添加し、
続けて45分間撹拌した。ビスフェノレートを含まない
水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相を水で中性
となるまで洗浄し、溶剤を除去した。ポリカーボネート
は1.336の相対粘度を有していた。
重合体のガラス転移は度は212℃(D S C)であ
ることが認められた。
ることが認められた。
実施例 8.3
114g (0,5モル)のビスフェノールA及び15
59 (0,5モル)の実施例(A、l)のジフェノ
ールの混合物を実施例8.2のように反応させてポリカ
ーボネートを形成した。
59 (0,5モル)の実施例(A、l)のジフェノ
ールの混合物を実施例8.2のように反応させてポリカ
ーボネートを形成した。
ポリカーボネートは1.386の相対粘度を有していた
。
。
重合体のガラス転移温度は195°0(DSC)である
ことが認められた。
ことが認められた。
実施例 8.4
159.69 (0,7モル)のビスフェノールA及
び939 (0,3モル)の実施例(A。3)のジフ
ェノールの混合物を実施例8.2のように反応させてポ
リカーボネートを形成した。
び939 (0,3モル)の実施例(A。3)のジフ
ェノールの混合物を実施例8.2のように反応させてポ
リカーボネートを形成した。
ポリカーボネートは1.437の相対粘度を有していた
。
。
重合体のガラス転移温度は180°0(DSC)である
ことが認められた。
ことが認められた。
実施例 8.5
31.0g (0,1モル)の実施例(A、3)のジフ
ェノール、24.0g (0,6モル)のNaOH及
び270gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶
解する。次いで250m+2の塩化メチレンに溶かした
0、309gの4−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル)−フェノールの溶液を添加するapH13ないし
14で、及び温度21ないし25℃で徹底的に撹拌され
た溶液中に19.89 (0,2モル)のホスゲンを
導入し、次いで0 、1 vanのエチルピリジンを添
加し、続けて45分間撹拌した。
ェノール、24.0g (0,6モル)のNaOH及
び270gの水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶
解する。次いで250m+2の塩化メチレンに溶かした
0、309gの4−(1,1,3,3−テトラメチルブ
チル)−フェノールの溶液を添加するapH13ないし
14で、及び温度21ないし25℃で徹底的に撹拌され
た溶液中に19.89 (0,2モル)のホスゲンを
導入し、次いで0 、1 vanのエチルピリジンを添
加し、続けて45分間撹拌した。
ビスフェノレートを含まない水性相を分別し、燐酸で酸
性とした後有I!相を水で中性となるまで洗浄し、溶剤
を除去した。ポリカーボネートはl。
性とした後有I!相を水で中性となるまで洗浄し、溶剤
を除去した。ポリカーボネートはl。
314の相対粘度を有していた。
重合体のガラス転移温度は234°0(DSC)である
ことが認められた。
ことが認められた。
実施例 8.6
148.29 (0,65モル)の2.2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、108.5fI
(0゜35モル)の実施例(A、l)のジフェノール
、336.6g (6モル)のKOH,及び27009
の水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶解する。次
いで2500m12の塩化メチレンに溶かした8、86
gの4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フ
ェノールの溶液を添加する。pH13−14で、及びW
度21−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に1989
(2モル)のホスゲンを導入する。
4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、108.5fI
(0゜35モル)の実施例(A、l)のジフェノール
、336.6g (6モル)のKOH,及び27009
の水を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶解する。次
いで2500m12の塩化メチレンに溶かした8、86
gの4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フ
ェノールの溶液を添加する。pH13−14で、及びW
度21−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に1989
(2モル)のホスゲンを導入する。
次いで1m(!のエチルピリジンを添加し、続けて混合
物を45分間撹拌する。ビスフェノレートを含まない水
性相を分別し、燐酸で酸性としt:後有機相を水で中性
となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
物を45分間撹拌する。ビスフェノレートを含まない水
性相を分別し、燐酸で酸性としt:後有機相を水で中性
となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
ポリカーボネートは1.20の相対粘度を有していた。
実施例 8.7
3.875 kg (12,5モル)の実施例(A−
2)のビスフェノールを6.675 kgの45%Na
OH及び30Qの水中に不活性ガス雰囲気中で撹拌しな
がら溶解する。次いで9.430の塩化メチレン、!!
、3αのクロロベンゼン及び23.59のフェノールを
添加する。pH1314で、及び温度20−25℃で良
く撹拌された溶液中に2.475#9のホスゲンを導入
する。導入が完結した後、!2.5IIIQのN−エチ
ルピリジンを添加する。次いで混合物を45分間反応さ
せる。
2)のビスフェノールを6.675 kgの45%Na
OH及び30Qの水中に不活性ガス雰囲気中で撹拌しな
がら溶解する。次いで9.430の塩化メチレン、!!
、3αのクロロベンゼン及び23.59のフェノールを
添加する。pH1314で、及び温度20−25℃で良
く撹拌された溶液中に2.475#9のホスゲンを導入
する。導入が完結した後、!2.5IIIQのN−エチ
ルピリジンを添加する。次いで混合物を45分間反応さ
せる。
ビスフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で有
機相を酸性とした後、電解質が無くなるまで洗浄し、溶
剤を除去する。
機相を酸性とした後、電解質が無くなるまで洗浄し、溶
剤を除去する。
相対粘度:1.300
ガラス転移温度:238℃。
実施例 8.8
15.59 (0,05モル)の実施例A、3のビスフ
ェノール、13.49 (0,05モル)のビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン(ヒス7
z /−ルZ )及び24.09 (0,6モル)(
INNa、 OHを不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら
3621112の水中に溶解する。次いで271mff
の塩化メチレン中に溶解した0、516gの4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを添加す
る。pti13−14で、及び温度20−25℃で徹底
的に撹拌された溶液中に19.89のホスゲンを導入す
る。導入が完了した5分間後0 、1 mQのN−エチ
ルピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる。
ェノール、13.49 (0,05モル)のビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン(ヒス7
z /−ルZ )及び24.09 (0,6モル)(
INNa、 OHを不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら
3621112の水中に溶解する。次いで271mff
の塩化メチレン中に溶解した0、516gの4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)フェノールを添加す
る。pti13−14で、及び温度20−25℃で徹底
的に撹拌された溶液中に19.89のホスゲンを導入す
る。導入が完了した5分間後0 、1 mQのN−エチ
ルピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる。
ビスフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で酸
性とした後有機相を水で中性となるまで洗浄し、溶剤を
除去した。
性とした後有機相を水で中性となるまで洗浄し、溶剤を
除去した。
相対粘度:1.297
ガラス転移温度=208℃
実施例 8.9
15.59 (0,05モル)の実施例(A、りのビ
スフェノール、17.69 (0,05モル)の4.
4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン及び24.0
g (0,6モル)のNaOHを不活性ガス雰囲気中で
411m12の水中に撹拌しながら溶解する。
スフェノール、17.69 (0,05モル)の4.
4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン及び24.0
g (0,6モル)のNaOHを不活性ガス雰囲気中で
411m12の水中に撹拌しながら溶解する。
次いで308m+2の塩化メチレン中に溶解した0゜5
169の4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
−フェノールを添加する。p H13−14で、及び温
度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に19゜8
9のホスゲンを導入する。導入が完了した5分間後、0
.1mgのN−エチルピリジンを添加する。
169の4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
−フェノールを添加する。p H13−14で、及び温
度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に19゜8
9のホスゲンを導入する。導入が完了した5分間後、0
.1mgのN−エチルピリジンを添加する。
混合物を45分間反応させる。ビスフェルレートを含ま
ない水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相を水で
中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
ない水性相を分別し、燐酸で酸性とした後有機相を水で
中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
相対粘度:1.218
ガラス転移温度=212℃
実施例 B、IO
18,39(0,05モル)の実施例(A、4)のビス
フェノール及び23.69 (0,42モル)のKO
Hを不活性ガス雰囲気中で100m+2の水中に撹拌し
ながら溶解する。次いで100+Qの塩化メチレンを添
加する。pH13−14で、及び温度20−25℃で徹
底的に撹拌された溶液中に17.3gのホスゲンを導入
する。導入が完了した5分間後、0.3raQのN−エ
チルピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる
。ビスフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で
有機相を酸性とした後、水で中性となるまで洗浄し、溶
剤を除去した。
フェノール及び23.69 (0,42モル)のKO
Hを不活性ガス雰囲気中で100m+2の水中に撹拌し
ながら溶解する。次いで100+Qの塩化メチレンを添
加する。pH13−14で、及び温度20−25℃で徹
底的に撹拌された溶液中に17.3gのホスゲンを導入
する。導入が完了した5分間後、0.3raQのN−エ
チルピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる
。ビスフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で
有機相を酸性とした後、水で中性となるまで洗浄し、溶
剤を除去した。
相対粘度:1.310
ガラス転移温度: 241 ”0
実施例 8.11
29.69 (0,1モル)の実施例(A、5)のビ
スフェノール及び24.09 (0,6モル)のNa
OH’)不活性ガス雰囲気中で370mQの水中に撹拌
しながら溶解する。次いで277rsQの塩化メチレン
に溶かした0、4139の4−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)フェノールを添加し、pH13−14
で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中
に17.3gのホスゲンを導入する。
スフェノール及び24.09 (0,6モル)のNa
OH’)不活性ガス雰囲気中で370mQの水中に撹拌
しながら溶解する。次いで277rsQの塩化メチレン
に溶かした0、4139の4−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)フェノールを添加し、pH13−14
で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中
に17.3gのホスゲンを導入する。
導入が完了した5分間後、0.1+*I2のN−エチル
ピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる。ビ
スフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で有機
相を酸性とした後、水で中性となるまで洗浄し、溶剤を
除去した。
ピリジンを添加する。混合物を45分間反応させる。ビ
スフェルレートを含まない水性相を分別し、燐酸で有機
相を酸性とした後、水で中性となるまで洗浄し、溶剤を
除去した。
相対粘度:1.370
ガラス転移温度:193℃
実施例 8.12
62.0g (0,2モル)のビスフェノール A。
1.182.4g (0,8モル)のビスフェノール
A及び2409 (6モル)のNaOHを不活性ガス
雰囲気中で2400+αの水中に撹拌しながら溶解する
。次いで2400m12の塩化メチレンに溶かした6、
6039の4〜(1,1,3,3−テトラメチルブチル
)フェノールを添加する。p H1,3−14で、及び
温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に17.
3gのホスゲンを導入する。導入が完了した5分間後、
1mffのN−エチルピリジンを添加する。混合物を4
5分間反応させる。ビスフェルレートを含まない水性相
を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後、水で中性とな
るまで洗浄し、溶剤を除去した。
A及び2409 (6モル)のNaOHを不活性ガス
雰囲気中で2400+αの水中に撹拌しながら溶解する
。次いで2400m12の塩化メチレンに溶かした6、
6039の4〜(1,1,3,3−テトラメチルブチル
)フェノールを添加する。p H1,3−14で、及び
温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液中に17.
3gのホスゲンを導入する。導入が完了した5分間後、
1mffのN−エチルピリジンを添加する。混合物を4
5分間反応させる。ビスフェルレートを含まない水性相
を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後、水で中性とな
るまで洗浄し、溶剤を除去した。
相対粘度:1.298
ガラス転移温度:172℃
実施例 B、13
170.59 (0,55モル)の実施例(A、3)
のビスフェノール、102.69 (0,45モル)
のビスフェノールA及び240g (6モル)のNaO
Hを不活性ガス雰囲気中で2400mffの水中に撹拌
しながら溶解する。次いで2400mαの塩化メチレン
に溶かした5、1589の4−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)フェノールを添加する。pH13−1
4で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液
中に1989のホスゲンを導入する。導入が完了した5
分間後、1IInのN−エチルピリジンを添加する。混
合物を45分間反応させる。ビスフェルレートを含まな
い水性相を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後、水で
中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
のビスフェノール、102.69 (0,45モル)
のビスフェノールA及び240g (6モル)のNaO
Hを不活性ガス雰囲気中で2400mffの水中に撹拌
しながら溶解する。次いで2400mαの塩化メチレン
に溶かした5、1589の4−(1,1,3,3−テト
ラメチルブチル)フェノールを添加する。pH13−1
4で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された溶液
中に1989のホスゲンを導入する。導入が完了した5
分間後、1IInのN−エチルピリジンを添加する。混
合物を45分間反応させる。ビスフェルレートを含まな
い水性相を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後、水で
中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
相対粘度:1.302
ガラス転移温度:203℃
実施例 8.14
108.59 (0,35モル)の実施例(A、f)
のビスフェノール、148.29 (0,65モル)
のビスフェノールA及rJ2409 (6モル)のN
aOHを不活性ガス雰囲気中で2400m12の水中に
撹拌しながら溶解する。次いで2400mQの塩化メチ
レンに溶かした6、189gの4−(1,1,3,3−
テトラメチルブチル)フェノールを添加する。pH13
−14で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された
溶液中に1989のホスゲンを導入する。導入が完了し
た5分間後、1IIi2のN−エチルピリジンを添加す
る。混合物を45分間反応させる。ビスフェルレートを
含まない水性相を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後
、水で中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
のビスフェノール、148.29 (0,65モル)
のビスフェノールA及rJ2409 (6モル)のN
aOHを不活性ガス雰囲気中で2400m12の水中に
撹拌しながら溶解する。次いで2400mQの塩化メチ
レンに溶かした6、189gの4−(1,1,3,3−
テトラメチルブチル)フェノールを添加する。pH13
−14で、及び温度20−25℃で徹底的に撹拌された
溶液中に1989のホスゲンを導入する。導入が完了し
た5分間後、1IIi2のN−エチルピリジンを添加す
る。混合物を45分間反応させる。ビスフェルレートを
含まない水性相を分別し、燐酸で有機相を酸性とした後
、水で中性となるまで洗浄し、溶剤を除去した。
相対粘度:1.305
ガラス転移温度=185℃
新規ポリカーボネートのUV安定性を評価するために水
銀灯(エツジ[adgel・フィルター305nm)を
用いてUV照射下の一次遊離基の生成を、2.2.−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンを基剤とし
たポリカーボネートと比較して測定した。
銀灯(エツジ[adgel・フィルター305nm)を
用いてUV照射下の一次遊離基の生成を、2.2.−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンを基剤とし
たポリカーボネートと比較して測定した。
実施例B、lのポリカーボネートは一次遊離基生成速度
が小さく、従ってUV安定性が高いことを示している。
が小さく、従ってUV安定性が高いことを示している。
本発明は
a)少なくとも10.0001好適には10.000な
いし300,000、及びより好適には生成混合物が射
出成形品の製造に使用される場合、2o、oooないし
80,000のMw値(重量平均分子量)を有し、式(
Ia) 上式中 X1R’、R”、R3、R4及びmは式(I)に定義さ
れた通りである、 に対応する二官能性カーボネート構造単位を、各場合と
もポリカーボネート中の二官能性カーボネート構造単位
の合計量を100モル%として、100モル%ないし2
モル%の量で、好適にはl。
いし300,000、及びより好適には生成混合物が射
出成形品の製造に使用される場合、2o、oooないし
80,000のMw値(重量平均分子量)を有し、式(
Ia) 上式中 X1R’、R”、R3、R4及びmは式(I)に定義さ
れた通りである、 に対応する二官能性カーボネート構造単位を、各場合と
もポリカーボネート中の二官能性カーボネート構造単位
の合計量を100モル%として、100モル%ないし2
モル%の量で、好適にはl。
0モル%ないし5モル%の量で、より好適には100モ
ル%ないし10モル%の量で、及び最も好適には100
モル%ないし20モル%の量で含む、高分子量、熱可塑
性、芳香族ポリカーボネート、b)99.6重量%ない
し0.1重量%、好適には99重量%ないし2重量%及
び−層好適には97゜511量%ないし10重量%の、
成分a)のポリカーボネート以外のエラストマー又は他
の熱可塑性プラスチック、 を含む混合物に関する。
ル%ないし10モル%の量で、及び最も好適には100
モル%ないし20モル%の量で含む、高分子量、熱可塑
性、芳香族ポリカーボネート、b)99.6重量%ない
し0.1重量%、好適には99重量%ないし2重量%及
び−層好適には97゜511量%ないし10重量%の、
成分a)のポリカーボネート以外のエラストマー又は他
の熱可塑性プラスチック、 を含む混合物に関する。
特に好適なポリカーボネート(a)は式(Ia)におい
てmが4又は5であり、−層好適には式(IC) 上式中 R1及びR1は式(Ia)に定義された通りであるが、
好適には水素である、 に対応する構造単位を有するポリカーボネートである。
てmが4又は5であり、−層好適には式(IC) 上式中 R1及びR1は式(Ia)に定義された通りであるが、
好適には水素である、 に対応する構造単位を有するポリカーボネートである。
本発明における成分(b)として適当な他の熱可塑性プ
ラスチックは bl)好適には40℃よりも高い、特に60℃ないし2
20℃の範囲のガラス温度を有する非晶質熱可塑性プラ
スチック、及び又 b2)好適には60℃よりも高い、及び−層好適には8
0℃ないし400℃の範囲の融点を有する部分的に結晶
性の熱可塑性プラスチックの両者である。
ラスチックは bl)好適には40℃よりも高い、特に60℃ないし2
20℃の範囲のガラス温度を有する非晶質熱可塑性プラ
スチック、及び又 b2)好適には60℃よりも高い、及び−層好適には8
0℃ないし400℃の範囲の融点を有する部分的に結晶
性の熱可塑性プラスチックの両者である。
本発明による混合物の成分b)のエラストマーは
b3)0℃以下、好適には一10℃以下及び−層好適に
は−15℃ないし一140℃の範囲のガラス温度を有す
る重合体である。
は−15℃ないし一140℃の範囲のガラス温度を有す
る重合体である。
他の非晶質熱可塑性プラスチックの例はポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリア
ミド、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリケトン、熱
可塑性ビニル重合体、例えばポリメチルアクリレート、
又は芳香族ビニル化合物の均質重合体、芳香族ビニル化
合物の共重合体又はゴム、ポリエーテル、ポリイミド、
及び熱可塑性ポリウレタン上へのビニル単量体のグラフ
ト重合体の部類から成る非晶質重合体である。
ト、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリア
ミド、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリケトン、熱
可塑性ビニル重合体、例えばポリメチルアクリレート、
又は芳香族ビニル化合物の均質重合体、芳香族ビニル化
合物の共重合体又はゴム、ポリエーテル、ポリイミド、
及び熱可塑性ポリウレタン上へのビニル単量体のグラフ
ト重合体の部類から成る非晶質重合体である。
結晶性熱可塑性プラスチックb2)の例は脂肪族ポリニ
スデル、ポリアリーレンスルフィドであり、熱可塑性プ
ラスチックの部分的に結晶性の例は上記のbl)に表示
されている。
スデル、ポリアリーレンスルフィドであり、熱可塑性プ
ラスチックの部分的に結晶性の例は上記のbl)に表示
されている。
エラストマーb3)の例は各種のゴムであり、例えばエ
チレンープロピレンホム、ポリイソプレン、ポリクロロ
プレン、ポリシロキサン、ランダムポリプロピレン、ジ
エン、オレフィン及びアクリルゴム及び天然ゴTo、ス
トレンーブタジエン・ブロック共重合体、エチレンと酢
酸ビニルとの又は(メタ)アクリレートとの共重合体、
bl)又はb2)の項で熱可塑性プラスチックとして表
示されていなければ弾性ポリウレタン及び弾性ポリカー
ボネート−ポリエーテル・ブロック共重合体である。
チレンープロピレンホム、ポリイソプレン、ポリクロロ
プレン、ポリシロキサン、ランダムポリプロピレン、ジ
エン、オレフィン及びアクリルゴム及び天然ゴTo、ス
トレンーブタジエン・ブロック共重合体、エチレンと酢
酸ビニルとの又は(メタ)アクリレートとの共重合体、
bl)又はb2)の項で熱可塑性プラスチックとして表
示されていなければ弾性ポリウレタン及び弾性ポリカー
ボネート−ポリエーテル・ブロック共重合体である。
非晶質の熱可塑性プラスチックbl)は特にドイツ特許
出願P3,832,396.6によるポリカーボネート
以外のポリカーボネートである。これらの他のポリカー
ボネートは均質ポリカーボネート及び又共重合ポリカー
ボネートの両者であってもよく、及び直鎖状状又は分校
状の両者であってもよい。ポリカーボネートとして特に
好適なビスフェノールはビスフェノールA[−2,2−
ヒス−(4ヒドロキシフエニル)−プロパン1でアル。
出願P3,832,396.6によるポリカーボネート
以外のポリカーボネートである。これらの他のポリカー
ボネートは均質ポリカーボネート及び又共重合ポリカー
ボネートの両者であってもよく、及び直鎖状状又は分校
状の両者であってもよい。ポリカーボネートとして特に
好適なビスフェノールはビスフェノールA[−2,2−
ヒス−(4ヒドロキシフエニル)−プロパン1でアル。
これらの他の熱可塑性ポリカーボネートは既知である。
他の熱可塑性ポリカーボネートの分子量M、(テトラヒ
ドロフラン中でゲル透過クロマトグラフィーにより測定
された重量平均分子量)は!0.000ないし300.
000の範囲にあり、好適には12,000ないし15
0.000の範囲内にある。
ドロフラン中でゲル透過クロマトグラフィーにより測定
された重量平均分子量)は!0.000ないし300.
000の範囲にあり、好適には12,000ないし15
0.000の範囲内にある。
他の熱可塑性ポリカーボネートは単独で、及び本発明に
よる混合物の成分b)との混合物中での両者の場合共使
用することができる。
よる混合物の成分b)との混合物中での両者の場合共使
用することができる。
本発明による混合物の製造のための成分b)として好適
な他の熱可塑性プラスチックは又脂肪族、熱可塑性ポリ
エステルであり、より好適にはポリアルキレンテレフタ
レート、即ち例えばエチレンクリコール、プロパン−1
,3−ジオオール、ブタン=1.4−ジオール、ヘキサ
ン−1,3−ジオール及び1.4ビス−ヒドロキシメチ
ルシクロヘキサンである。
な他の熱可塑性プラスチックは又脂肪族、熱可塑性ポリ
エステルであり、より好適にはポリアルキレンテレフタ
レート、即ち例えばエチレンクリコール、プロパン−1
,3−ジオオール、ブタン=1.4−ジオール、ヘキサ
ン−1,3−ジオール及び1.4ビス−ヒドロキシメチ
ルシクロヘキサンである。
これらのポリアルキレンチレフタレ−]・の分子量(M
、)は10.000ないしso、oooの範囲にある。
、)は10.000ないしso、oooの範囲にある。
ポリアルキレンテレフタレートは既知の方法、例えばエ
ステル交換によりテレ7タアル酸ニアルキルエステルと
対応するジオールから得ることができる(例えば米国特
許第2.647.885号、2.643,989号、2
,534.028号、2,578,660号、2,74
2.494号、2,901.466号参照)。これらの
ポリエステルは既知である。
ステル交換によりテレ7タアル酸ニアルキルエステルと
対応するジオールから得ることができる(例えば米国特
許第2.647.885号、2.643,989号、2
,534.028号、2,578,660号、2,74
2.494号、2,901.466号参照)。これらの
ポリエステルは既知である。
好適な他の熱可塑性プラスチックは熱可塑性ポリアミド
をも含む。
をも含む。
適当な熱可塑性ポリアミドは任意の部分的に結晶性のポ
リアミド、特にポリアミド−6、ポリアミド−6,6及
びこれらの二種の成分を基剤とした部分的に結晶性の共
重合ポリアミドである。他の適当な熱可塑性ポリアミド
は、酸成分が完全に又は部分的に、特にアジピン酸又は
テレフタル酸及び/又はイソフタル酸及び/又はスペリ
ン酸及び/又はセパチン酸及び/又はアゼライン酸及び
/又はドデカンジカルボン酸及び/又はアジピン酸及び
/又はシクロヘキサンジカルボン酸のカプロラクタムか
ら成り、及びジアミン成分が完全に又は部分的に、特に
I−及び/又はp−キシリレンジアミン及び/又はテト
ラメチレンジアミン及び/又はヘキサメチレンジアミン
及び/又は2.2.4−及び/又は2.4.4− )ジ
メチルへキサメチレンジアミン及び/又はイソホロンジ
アミン及び/又は1.4−ジアミノブタンから成る、部
分的に結晶性のポリアミドであり、その組成は原理的に
は先行技術から既知である(例えばエンサイクロペジア
・オブ・ポリマーズ(Encyclopedia of
Polymers)11巻、315頁以下参照)。
リアミド、特にポリアミド−6、ポリアミド−6,6及
びこれらの二種の成分を基剤とした部分的に結晶性の共
重合ポリアミドである。他の適当な熱可塑性ポリアミド
は、酸成分が完全に又は部分的に、特にアジピン酸又は
テレフタル酸及び/又はイソフタル酸及び/又はスペリ
ン酸及び/又はセパチン酸及び/又はアゼライン酸及び
/又はドデカンジカルボン酸及び/又はアジピン酸及び
/又はシクロヘキサンジカルボン酸のカプロラクタムか
ら成り、及びジアミン成分が完全に又は部分的に、特に
I−及び/又はp−キシリレンジアミン及び/又はテト
ラメチレンジアミン及び/又はヘキサメチレンジアミン
及び/又は2.2.4−及び/又は2.4.4− )ジ
メチルへキサメチレンジアミン及び/又はイソホロンジ
アミン及び/又は1.4−ジアミノブタンから成る、部
分的に結晶性のポリアミドであり、その組成は原理的に
は先行技術から既知である(例えばエンサイクロペジア
・オブ・ポリマーズ(Encyclopedia of
Polymers)11巻、315頁以下参照)。
他の適当な熱可塑性ポリアミドは、随時一種又は多種の
上記の出発成分を使用して、完全に又は部分的に炭素原
子口ないし!2を含むラクタムから製造される部分的に
結晶性のポリアミドである。
上記の出発成分を使用して、完全に又は部分的に炭素原
子口ないし!2を含むラクタムから製造される部分的に
結晶性のポリアミドである。
特に好適な部分的に結晶性のポリアミドはポリアミド−
6、ポリアミド−6,6又は少量の(最高約10重量%
まで)他の共重合成分を含む共重合ポリアミドである。
6、ポリアミド−6,6又は少量の(最高約10重量%
まで)他の共重合成分を含む共重合ポリアミドである。
適当なポリアミドは、例えばヘキサメチレンジアミン、
デカメチレンジアミン、 2.2.4−及び2,4゜4
−トリメチルへキサメチレンジアミン、■−又はp−キ
シレンジアミン、ビス−(4−アミノシクロヘキシル)
−メタン、 4.4’−及び2.2′−ジアミノジシク
ロヘキシルメタン、2.2−ビス−(4−アミノシクロ
ヘキシル)−プロパン、4,4°−及び2.2’−ジア
ミノジシクロヘキシルメタンの混合物、2.2−ビス−
(4−アミノシクロヘキシル)−プロパン、3.3°−
ジメチル−4,4°−ジアミノジシクロヘキシルメタン
、3−アミノエチル−3,5,5−)ジメチルシクロヘ
キシルアミン、2.5−ビス−(アミノメチル)−ノル
ボルナン、2.6−ビス−(アミノエチル)−ノルボル
ナン、1.4−ジアミノシクロヘキサン、及びこれらの
ジアミンの混合物のようなジアミンと、例えば蓚酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、デカンジカルボン酸、ヘプタ
デカンジカルボン酸、2,2.4− トリメチルアジピ
ン酸、2゜4.4−トリメチルアジピン酸、イソフタル
酸及びテレフタル酸、及びこれらのジカルボン酸の混合
物との重縮合により得られる非晶質のポリアミドである
。従って、上に挙げられた数種のジアミン及び/又はジ
カルボン酸の重縮合により得られた非晶質共重合ポリア
ミドも又含まれる。ω−アミノカプロン酸、ω−アミノ
ウンデカン酸又はω−アミノラウリン酸のようなω−ア
ミノカルボン酸、又はそれらのラクタムを用いて製造さ
れた非晶質の共重合ポリアミドも又包含される。
デカメチレンジアミン、 2.2.4−及び2,4゜4
−トリメチルへキサメチレンジアミン、■−又はp−キ
シレンジアミン、ビス−(4−アミノシクロヘキシル)
−メタン、 4.4’−及び2.2′−ジアミノジシク
ロヘキシルメタン、2.2−ビス−(4−アミノシクロ
ヘキシル)−プロパン、4,4°−及び2.2’−ジア
ミノジシクロヘキシルメタンの混合物、2.2−ビス−
(4−アミノシクロヘキシル)−プロパン、3.3°−
ジメチル−4,4°−ジアミノジシクロヘキシルメタン
、3−アミノエチル−3,5,5−)ジメチルシクロヘ
キシルアミン、2.5−ビス−(アミノメチル)−ノル
ボルナン、2.6−ビス−(アミノエチル)−ノルボル
ナン、1.4−ジアミノシクロヘキサン、及びこれらの
ジアミンの混合物のようなジアミンと、例えば蓚酸、ア
ジピン酸、アゼライン酸、デカンジカルボン酸、ヘプタ
デカンジカルボン酸、2,2.4− トリメチルアジピ
ン酸、2゜4.4−トリメチルアジピン酸、イソフタル
酸及びテレフタル酸、及びこれらのジカルボン酸の混合
物との重縮合により得られる非晶質のポリアミドである
。従って、上に挙げられた数種のジアミン及び/又はジ
カルボン酸の重縮合により得られた非晶質共重合ポリア
ミドも又含まれる。ω−アミノカプロン酸、ω−アミノ
ウンデカン酸又はω−アミノラウリン酸のようなω−ア
ミノカルボン酸、又はそれらのラクタムを用いて製造さ
れた非晶質の共重合ポリアミドも又包含される。
特に適当な非晶質、熱可塑性ポリアミドはイソフタル酸
、ヘキサメチレンジアミン及び4.4°−シアミニジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジアミン、2.2.4
−及び2.4.4− )ジメチルへキサメチレンジアミ
ン、2.5−及び/又は2.6−ビス−(アミノメチル
)−ノルボルネン;のような他のジアミンから得られた
ポリアミド;イソフタル酸、4.4’−シアミニジシク
ロヘキシルメタン及びω−カプロラクタムから得られI
;ポリアミド;イソフタル酸、3.3−ジメチル−4,
4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン及びω−ラウリ
ンラクタムから得られたポリアミド;及びテレフタル酸
及び2.2.4=及び2,4.4−トリメチルへキサメ
チレンジアミンの異性体混合物から得られたポリアミド
である。
、ヘキサメチレンジアミン及び4.4°−シアミニジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジアミン、2.2.4
−及び2.4.4− )ジメチルへキサメチレンジアミ
ン、2.5−及び/又は2.6−ビス−(アミノメチル
)−ノルボルネン;のような他のジアミンから得られた
ポリアミド;イソフタル酸、4.4’−シアミニジシク
ロヘキシルメタン及びω−カプロラクタムから得られI
;ポリアミド;イソフタル酸、3.3−ジメチル−4,
4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン及びω−ラウリ
ンラクタムから得られたポリアミド;及びテレフタル酸
及び2.2.4=及び2,4.4−トリメチルへキサメ
チレンジアミンの異性体混合物から得られたポリアミド
である。
純粋な4.4′−ジアミノジシクロヘキシルメタンを使
用する代わりに、 70ないし99モル%の4.4′−ジアミノ異性体、l
ないし30モル%の2,4″−ジアミノ異性体、口ない
し2モル%の2.2゛−ジアミノ異性体及び、随時工業
用銘柄のジアミノジフェニルメタンの水素化により得ら
れる対応する高度に縮合したジアミン から成るジアミノジシクロヘキシルメタンの位ll異性
体の混合物を使用することも可能である。
用する代わりに、 70ないし99モル%の4.4′−ジアミノ異性体、l
ないし30モル%の2,4″−ジアミノ異性体、口ない
し2モル%の2.2゛−ジアミノ異性体及び、随時工業
用銘柄のジアミノジフェニルメタンの水素化により得ら
れる対応する高度に縮合したジアミン から成るジアミノジシクロヘキシルメタンの位ll異性
体の混合物を使用することも可能である。
適当な熱可塑性ポリアミドは、非晶質ポリアミド成分が
部分的に結晶性のポリアミド成分よりも少ない、部分的
に結晶性及び非晶質なポリアミドの混合物から成ってい
てもよい。非晶質ポリアミド及びそれらの製造方法は既
往技術から周知である(例えば、ウルマン、工業化学事
典、19巻、50頁参照)。
部分的に結晶性のポリアミド成分よりも少ない、部分的
に結晶性及び非晶質なポリアミドの混合物から成ってい
てもよい。非晶質ポリアミド及びそれらの製造方法は既
往技術から周知である(例えば、ウルマン、工業化学事
典、19巻、50頁参照)。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は所謂“LC1合
体”である、LC重合体と称される重合体は液晶融成物
を形成できる重合体である。′サーモトロピック(Lh
ermotropic)−としても記載されているこの
種の重合体は、多数開示されている(例えばヨーロッパ
特許公開公報EP−A第0,131.846号、0,1
32.637号及び0.134.959号を参照)。
体”である、LC重合体と称される重合体は液晶融成物
を形成できる重合体である。′サーモトロピック(Lh
ermotropic)−としても記載されているこの
種の重合体は、多数開示されている(例えばヨーロッパ
特許公開公報EP−A第0,131.846号、0,1
32.637号及び0.134.959号を参照)。
上記の文献には更に文献が挙げられており、重合体融成
物の液晶状態の測定法も又記載されている。
物の液晶状態の測定法も又記載されている。
″LC重合体”は例えば、随時置換されたp−ヒドロキ
シ安息香酸、随時置換されたイソ−及び/又はテレフタ
ル酸、2,7−シヒドロキシナフタレン及び他のジフェ
ノールを基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A第0
.131.846号)、随時置換されたp−ヒドロキシ
安息香酸、ジフェノール、炭酸及び随時芳香族ジカルボ
ン酸を基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A第0.
132.637号)及び随時置換されたp−ヒドロキシ
安息香酸、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸、イソ
フタル酸、ハイドロキノン及び3.4°−及び/又は4
,4“−ジヒドロキシジフェニルエーテル及び/又は3
.4′−及び/又は4.4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィドを基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A
第0.134.959号)である。
シ安息香酸、随時置換されたイソ−及び/又はテレフタ
ル酸、2,7−シヒドロキシナフタレン及び他のジフェ
ノールを基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A第0
.131.846号)、随時置換されたp−ヒドロキシ
安息香酸、ジフェノール、炭酸及び随時芳香族ジカルボ
ン酸を基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A第0.
132.637号)及び随時置換されたp−ヒドロキシ
安息香酸、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸、イソ
フタル酸、ハイドロキノン及び3.4°−及び/又は4
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.4′−及び/又は4.4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィドを基剤とした芳香族ポリエステル(EP−A
第0.134.959号)である。
LC重合体は室温で18ないし1300A、好適には2
5ないし300人及び特に25ないし150Aの持続(
persistence)長さを有している。
5ないし300人及び特に25ないし150Aの持続(
persistence)長さを有している。
室温における重合体の持続長さは、e条件下での希薄溶
液中の分子鎖の平均回転半径(convolution
)(例えばP、J、70−リ[F1ory]“高分子化
学の原理[Pr1nciples of Polyme
r ChemisLryl”コーネル[CornaH]
大学出版、アイサカ(Ithacal、ニューヨーク、
参照)及びターン(にuhn)のステップ(Step)
長さの半分を特徴付けるものである。持続長さは希薄溶
液中で種々の方法、例えば光散乱及びX線小角測定によ
り測定できる。適当な試料を用いれば、持続長さは中性
子小角散乱を使用して固体中でも測定できる。それ以上
の理論的及び実験的方法は例えばS、H,ウェンドルフ
(Wendorff)により、′重合体における液晶配
列(Liquid Crysta口ine 0rder
in Po1y+mers)”、A、ブルームシュタ
イン[BlumsLeinl、カブミック・プレス(A
cadea+1cPress)、1978、f16頁以
下に、及び“S、M、アー口二[Aharonil、M
acrotaoIecules 19、(2985)、
429頁以下に引用された文献中に記載されている。
液中の分子鎖の平均回転半径(convolution
)(例えばP、J、70−リ[F1ory]“高分子化
学の原理[Pr1nciples of Polyme
r ChemisLryl”コーネル[CornaH]
大学出版、アイサカ(Ithacal、ニューヨーク、
参照)及びターン(にuhn)のステップ(Step)
長さの半分を特徴付けるものである。持続長さは希薄溶
液中で種々の方法、例えば光散乱及びX線小角測定によ
り測定できる。適当な試料を用いれば、持続長さは中性
子小角散乱を使用して固体中でも測定できる。それ以上
の理論的及び実験的方法は例えばS、H,ウェンドルフ
(Wendorff)により、′重合体における液晶配
列(Liquid Crysta口ine 0rder
in Po1y+mers)”、A、ブルームシュタ
イン[BlumsLeinl、カブミック・プレス(A
cadea+1cPress)、1978、f16頁以
下に、及び“S、M、アー口二[Aharonil、M
acrotaoIecules 19、(2985)、
429頁以下に引用された文献中に記載されている。
好適な他の熱可塑性プラスチックは芳香族ポリエステル
カーボネートをも含んでいる。
カーボネートをも含んでいる。
本発明により熱可塑性プラスチックb)として使用する
ことができる芳香族ポリエステル及びポリエステルカー
ボネートは、少なくとも一つの芳香族ビスフェノール、
例えば式(■)の化合物、少なくとも一つの芳香族ジカ
ルボン酸及び随時炭酸から構成されている。適当な芳香
族ジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタル酸
、イソフタル酸、 tart、−ブチルイソフタル酸、
3.3°−ジフェニルジカルボン酸、4.4’−ジフェ
ニルジカルボンm、4.4°−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、3゜4°−ベンゾフェノ、ンジカルボン酸、4.
4’〜ジフエニルエーテルジカルポン酸、4.4’−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、2.2−ビス−(4−
カルボキシ7エ二ル)−フロパン及びトリメチル−3−
フェニルインダン−4,5°−ジカルボン酸である。
ことができる芳香族ポリエステル及びポリエステルカー
ボネートは、少なくとも一つの芳香族ビスフェノール、
例えば式(■)の化合物、少なくとも一つの芳香族ジカ
ルボン酸及び随時炭酸から構成されている。適当な芳香
族ジカルボン酸は例えばオルトフタル酸、テレフタル酸
、イソフタル酸、 tart、−ブチルイソフタル酸、
3.3°−ジフェニルジカルボン酸、4.4’−ジフェ
ニルジカルボンm、4.4°−ベンゾフェノンジカルボ
ン酸、3゜4°−ベンゾフェノ、ンジカルボン酸、4.
4’〜ジフエニルエーテルジカルポン酸、4.4’−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、2.2−ビス−(4−
カルボキシ7エ二ル)−フロパン及びトリメチル−3−
フェニルインダン−4,5°−ジカルボン酸である。
芳香族ジカルボン酸の中でテレフタル酸及び/又はイソ
フタル酸が特に好適に使用される。
フタル酸が特に好適に使用される。
芳香族ポリエステル及びポリエステル−ボネートは、例
えば均一な溶液中での方法により、熔融物中のエステル
交換法により、及び二相界面法によるような、ポリエス
テル又はポリエステルカーボネートの製造のための文献
から既知な種類の方法により製造することができる。熔
融物中のエステル交換法及び特に二相界面法が好適に使
用される。
えば均一な溶液中での方法により、熔融物中のエステル
交換法により、及び二相界面法によるような、ポリエス
テル又はポリエステルカーボネートの製造のための文献
から既知な種類の方法により製造することができる。熔
融物中のエステル交換法及び特に二相界面法が好適に使
用される。
熔融物のエステル交換法(酢酸エステル法及びフェニル
エステル法)は例えば米国特許第3.494゜885号
、4..386.186号、4,661.580号、4
,680.371号及び4,680.372号及びヨー
ロッパ特許公開公報EP−へ第26,120号、26.
121号、26.684号、28.030号、39゜8
45号、91.602号、97.970号79,075
号、146.887号、156.103号、234,9
13号、234.919号及び240.301号及びド
イツ特許公開公報DE−O3第1.495.626号及
び2,232.977号に記載されている。二相界面法
は例えばヨーロッパ特許公開公報EP−A第68.01
4号、88,322号、134,898号、151.7
50号、182,189号、219.708号、272
.426号に、ドイツ特許公開公報DE−O5第2,9
49.024号、3,007,934号、3,440.
020号に、及びポリマー・レビュー (Polyme
r Review)、10“界面及び溶液法による縮合
重合体(condensa L ion Polyme
rs by Interfacial and 5ol
uLion)“ポール(Paul)、W、モーガン(M
orga、n)、インターサイエンス番パブリッシャー
ズ(Interscience Publishsrs
)、ニューヨーク1965、第1章、325頁、ポリエ
ステルに記載されている。
エステル法)は例えば米国特許第3.494゜885号
、4..386.186号、4,661.580号、4
,680.371号及び4,680.372号及びヨー
ロッパ特許公開公報EP−へ第26,120号、26.
121号、26.684号、28.030号、39゜8
45号、91.602号、97.970号79,075
号、146.887号、156.103号、234,9
13号、234.919号及び240.301号及びド
イツ特許公開公報DE−O3第1.495.626号及
び2,232.977号に記載されている。二相界面法
は例えばヨーロッパ特許公開公報EP−A第68.01
4号、88,322号、134,898号、151.7
50号、182,189号、219.708号、272
.426号に、ドイツ特許公開公報DE−O5第2,9
49.024号、3,007,934号、3,440.
020号に、及びポリマー・レビュー (Polyme
r Review)、10“界面及び溶液法による縮合
重合体(condensa L ion Polyme
rs by Interfacial and 5ol
uLion)“ポール(Paul)、W、モーガン(M
orga、n)、インターサイエンス番パブリッシャー
ズ(Interscience Publishsrs
)、ニューヨーク1965、第1章、325頁、ポリエ
ステルに記載されている。
酢酸エステル法においては、一般にビスフェノールジア
セテートが、及びフェニルエステル法においては一般に
ビスフェノール、芳香族ジカルボン酸又は芳香族ジカル
ボン酸のジフェニルエステル及び随時ジフェニルカーボ
ネートが、フェノールの脱離を伴い、及び随時CO3の
脱離を伴って、ポリエステル又はポリエステルカーボネ
ートの生成に使用される。二相界面法においては、ポリ
エステル及びポリエステルカーボネートの製造に使用さ
れる出発物質は一般にアルカリ金属フエルレート、芳香
族ジカルボン酸ジクロリド及び随時ホスゲンである。こ
の縮合法においては、ポリエステル及びポリエステルカ
ーボネートはアルカリ金属塩化物の生成と共に生じる。
セテートが、及びフェニルエステル法においては一般に
ビスフェノール、芳香族ジカルボン酸又は芳香族ジカル
ボン酸のジフェニルエステル及び随時ジフェニルカーボ
ネートが、フェノールの脱離を伴い、及び随時CO3の
脱離を伴って、ポリエステル又はポリエステルカーボネ
ートの生成に使用される。二相界面法においては、ポリ
エステル及びポリエステルカーボネートの製造に使用さ
れる出発物質は一般にアルカリ金属フエルレート、芳香
族ジカルボン酸ジクロリド及び随時ホスゲンである。こ
の縮合法においては、ポリエステル及びポリエステルカ
ーボネートはアルカリ金属塩化物の生成と共に生じる。
一般に生成する塩は水相中に溶解するが、生成するポリ
エステル又は生成するポリエステルカーボネートは有機
相中に溶解して存在し、それから単離される。
エステル又は生成するポリエステルカーボネートは有機
相中に溶解して存在し、それから単離される。
好適な他の熱可塑性プラスチックは又熱可塑性、直鎖状
又は分校状ポリアリーレンスルフィドを含んでいる。そ
れらは下記の一般式 上式中 R□ないしR6は個々別々又は同一であってもよ<、C
l−Clアルキル、フェニル又は水素を表す、 に対応する構造単位を有している。ポリアリーレンスル
フィドは又ジフェニル単位を含んでいてもよい。
又は分校状ポリアリーレンスルフィドを含んでいる。そ
れらは下記の一般式 上式中 R□ないしR6は個々別々又は同一であってもよ<、C
l−Clアルキル、フェニル又は水素を表す、 に対応する構造単位を有している。ポリアリーレンスル
フィドは又ジフェニル単位を含んでいてもよい。
ポリアリーレンスルフィド及びそれらの製造方法は既知
である(例えば米国特許第3.354,129号、ヨー
ロッパ特許公開公報EP−A第0.171.021号参
照)。
である(例えば米国特許第3.354,129号、ヨー
ロッパ特許公開公報EP−A第0.171.021号参
照)。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は熱可塑性ポリア
リーレンスルホンである。
リーレンスルホンである。
適当なポリアリーレンスルホンは平均重量平均分子量M
w (cHCl s中にて光散乱法により測定した)が
t、oooないし200.000、及び好適には20.
000ないし60.000の範囲にある。−例として既
知の方法により4.4″−ジクロロフェニルスルホン及
びビスフェノール、特に2.2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンから得られる2、000ないし
200,000の平均重量平均分子量M、を有するポリ
アリーレンスルホンがある。
w (cHCl s中にて光散乱法により測定した)が
t、oooないし200.000、及び好適には20.
000ないし60.000の範囲にある。−例として既
知の方法により4.4″−ジクロロフェニルスルホン及
びビスフェノール、特に2.2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンから得られる2、000ないし
200,000の平均重量平均分子量M、を有するポリ
アリーレンスルホンがある。
これらのポリアリーレンスルホンは既知である(例えば
米国特許第3.264,536号、ドイツ特許公告公報
DE−AS第1,794.171号、英国特許環1,2
64゜900号、米国特許第3.641,207号、ヨ
ーロッパ特許公開公報EP−A−第038.028号、
ドイツ特許公開公報DE−O9第3.601.419号
及び第3,601.420号参照)、適当なポリアリー
レンスルホンは又既知の方法で分校していてもよい(例
えばドイツ特許公開公報DE−O3第2.305.41
3号参照)。
米国特許第3.264,536号、ドイツ特許公告公報
DE−AS第1,794.171号、英国特許環1,2
64゜900号、米国特許第3.641,207号、ヨ
ーロッパ特許公開公報EP−A−第038.028号、
ドイツ特許公開公報DE−O9第3.601.419号
及び第3,601.420号参照)、適当なポリアリー
レンスルホンは又既知の方法で分校していてもよい(例
えばドイツ特許公開公報DE−O3第2.305.41
3号参照)。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は又ポリフェニレ
ンオキシド、好適にはポリ−(2,6−ジアルキル−1
,4−7二二レンオキシド)である。本発明の目的に適
当なポリフェニレンオキシドは2.000ないし100
,000、好適には20,000ないしao、oooの
重量平均分子量M、(クロロホルム中で光散乱法により
測定)を有している。これらのポリフェニレンオキシド
は既知である。
ンオキシド、好適にはポリ−(2,6−ジアルキル−1
,4−7二二レンオキシド)である。本発明の目的に適
当なポリフェニレンオキシドは2.000ないし100
,000、好適には20,000ないしao、oooの
重量平均分子量M、(クロロホルム中で光散乱法により
測定)を有している。これらのポリフェニレンオキシド
は既知である。
好適なポリ=(2,6−ジアルキル−1,4−フェニレ
ンオキシド)は銅塩及び第三アミンの複合触媒の存在に
おいて酸素を用いて2.6−ジアルキルフェノールを酸
化縮合することにより既知の方法で得ることができる(
例えばドイツ特許公開公報DE−O8第2.126.4
34号及び米国特許第3,306,875号を参照)。
ンオキシド)は銅塩及び第三アミンの複合触媒の存在に
おいて酸素を用いて2.6−ジアルキルフェノールを酸
化縮合することにより既知の方法で得ることができる(
例えばドイツ特許公開公報DE−O8第2.126.4
34号及び米国特許第3,306,875号を参照)。
適当なポリ−(2,6−ジアルキル−1,4−7xニレ
ンオキシド)は特に、例えばポリ−(2,6−シメチル
ーl。
ンオキシド)は特に、例えばポリ−(2,6−シメチル
ーl。
4−7二二レンオキシド)のような、ポリ−[2,6−
ジ(c1−C4−アルキル)−1,4−フェニレンオキ
シド1で°ある。
ジ(c1−C4−アルキル)−1,4−フェニレンオキ
シド1で°ある。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は芳香族ポリエー
テルケトンをも含む(例えば英国特許第1.078.2
34号、米国特許第4.0IO,147号及びヨーロッ
パ特許公告公報EP−O3第0.135.938号参照
)。
テルケトンをも含む(例えば英国特許第1.078.2
34号、米国特許第4.0IO,147号及びヨーロッ
パ特許公告公報EP−O3第0.135.938号参照
)。
それらは下記繰り返し構造要素
−0−E−0−E’
上式中
−E’−は二つの結合手を有するビスアリールケトンの
残基であり、−0−E−0−は二つの結合手を有するジ
フェル−ト残基である、 それらは例えば英国特許第1.078.234号に従い
、式アルカリー〇−E−0−アルカリを有するジアルカ
リジフェル−ト及び式ハロゲン−E。
残基であり、−0−E−0−は二つの結合手を有するジ
フェル−ト残基である、 それらは例えば英国特許第1.078.234号に従い
、式アルカリー〇−E−0−アルカリを有するジアルカ
リジフェル−ト及び式ハロゲン−E。
ハロゲンヲ有スるビス−(ハロアリール)−ケトンから
得ることができる。一つの適当なジアルカリジフェル−
トは例えば2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)
−プロパンからのものであり、一方適当なビス−(ハロ
アリール)−ケトンは4.4′−ジクロロベンゾフェノ
ンである。
得ることができる。一つの適当なジアルカリジフェル−
トは例えば2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)
−プロパンからのものであり、一方適当なビス−(ハロ
アリール)−ケトンは4.4′−ジクロロベンゾフェノ
ンである。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は熱可塑性ビニル
重合体をも含んでいる。
重合体をも含んでいる。
本発明の意義におけるビニル重合体はビニル化合物の均
質重合体、ビニル化合物の共重合体及びゴム上のビニル
重合体のグラフト重合体である。
質重合体、ビニル化合物の共重合体及びゴム上のビニル
重合体のグラフト重合体である。
本発明の目的に適当な均質重合体及び共重合体はスチレ
ン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリ
レートリル、(メタ)アクリル酸のC+C+t(シクロ
)アルキルエステル、C,−04−カルボン酸ビニルエ
ステルの重合体であり、共重合体も又既知の方法により
これらのビニル化合物の混合物から得ることができる。
ン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリ
レートリル、(メタ)アクリル酸のC+C+t(シクロ
)アルキルエステル、C,−04−カルボン酸ビニルエ
ステルの重合体であり、共重合体も又既知の方法により
これらのビニル化合物の混合物から得ることができる。
均質重合体又は共重合体は0.3ないし1.5d127
9 (既知の方法で23℃でトルエン中での測定値)の
極限粘度を持たねばならない。
9 (既知の方法で23℃でトルエン中での測定値)の
極限粘度を持たねばならない。
適当なビニル重合体は例えば熱可塑性ポリ−〇。
−01−アルキルメタクリレート、例えばメチル、エチ
ル、プロピル又はブチルメタクリレート、好適にはメチ
ル又はエチルメタクリレートである。
ル、プロピル又はブチルメタクリレート、好適にはメチ
ル又はエチルメタクリレートである。
これらのメタクリレートの均質重合体及び共重合体の両
者が含まれる。更に、他のエチレン系不飽和、共重合可
能な単量体、例えば(メタ)アクリロニトリル、(a−
メチル)スチレン、ブロモスチレン、酢酸ビニル、C,
−C,−アルキルアクリレート、(メタ)アクリル酸エ
チレン、プロピレン及びN−ビニルピロリドンも少量に
共重合することができる。
者が含まれる。更に、他のエチレン系不飽和、共重合可
能な単量体、例えば(メタ)アクリロニトリル、(a−
メチル)スチレン、ブロモスチレン、酢酸ビニル、C,
−C,−アルキルアクリレート、(メタ)アクリル酸エ
チレン、プロピレン及びN−ビニルピロリドンも少量に
共重合することができる。
本発明の目的に適当な熱可塑性ポリ−C,−C4−アル
キルメタクリレートは文献上既知であるか又は文献から
既知な方法により得ることができる。
キルメタクリレートは文献上既知であるか又は文献から
既知な方法により得ることができる。
適当なビニル重合体は、随時最高40重量%のアクリル
酸又はメタクリル酸のエステル、特にメチルメタクリレ
ート又はロープチルアクリレートを含む、スチレン又は
σ−メチルスチレン及びアクリロニトリルの共重合体を
含んでいる。スチレン誘導体は常時単量体として存在し
なければならない。スチレン誘導体は100ないし10
重量%、好適には90ないし20重量%、及び−層好適
には80ないし30重量%の比率で存在し、塊状、溶液
、懸濁液又は乳化状の遊離基重合のような標準的な方法
により得ることができるが、水中の遊離基乳化重合によ
ることが好ましい。
酸又はメタクリル酸のエステル、特にメチルメタクリレ
ート又はロープチルアクリレートを含む、スチレン又は
σ−メチルスチレン及びアクリロニトリルの共重合体を
含んでいる。スチレン誘導体は常時単量体として存在し
なければならない。スチレン誘導体は100ないし10
重量%、好適には90ないし20重量%、及び−層好適
には80ないし30重量%の比率で存在し、塊状、溶液
、懸濁液又は乳化状の遊離基重合のような標準的な方法
により得ることができるが、水中の遊離基乳化重合によ
ることが好ましい。
適当なグラフト重合体は、ガラス転移温度0℃以下、好
適には一20’O以下のゴムの存在において、上に言及
したビニル単量体又はビニル単量体の混合物の重合によ
り形成される。グラフト重合体は一般に1ないし85重
量%及び好適にあ10ないし80重量%のゴムを含む。
適には一20’O以下のゴムの存在において、上に言及
したビニル単量体又はビニル単量体の混合物の重合によ
り形成される。グラフト重合体は一般に1ないし85重
量%及び好適にあ10ないし80重量%のゴムを含む。
グラフト重合体は溶液、塊状又は乳化液中で、好適には
乳化液中で製造することができる。;ビニル単量体の混
合物が同時に又は順次グラフト重合することができる。
乳化液中で製造することができる。;ビニル単量体の混
合物が同時に又は順次グラフト重合することができる。
適当なゴムは好適にはジエンゴム及びアクリレートゴム
である。
である。
ジエンゴムは例えばポリブタジェン、ポリイソプレン及
びブタジェンと最高35重量%の、スチレン、アクリロ
ニトリル、メチルメタクリレート及びC,−C,アルキ
ルアクリレートのようなコモノマーとの共重合体である
。
びブタジェンと最高35重量%の、スチレン、アクリロ
ニトリル、メチルメタクリレート及びC,−C,アルキ
ルアクリレートのようなコモノマーとの共重合体である
。
アクリレートゴムは例えば、随時最高t51を量%のス
チレン、メチルメタクリレート、ブタジェン、ビニルメ
チルエーテル、アクリロニトリルのような、他の不飽和
単量体、及び少なくとも一種の例えばジビニルベンゼン
、グリコール−ビス−アクリレート、ビス−アクリルア
ミド、燐酸トリアリルエーテル、クエン酸トリアリルエ
ーテル、アクリル酸及びメタクリル酸のアリルエステル
、トリアリルイソシアヌレートのような多官能性架橋剤
と混合された、CI Cs−アルキリアクリレート、特
にCtCi−アルキルアクリレートの架橋した、粒状の
乳化重合体であり、アクリレートゴムは最高4重量%の
架橋剤コモノマーを含んでいる。
チレン、メチルメタクリレート、ブタジェン、ビニルメ
チルエーテル、アクリロニトリルのような、他の不飽和
単量体、及び少なくとも一種の例えばジビニルベンゼン
、グリコール−ビス−アクリレート、ビス−アクリルア
ミド、燐酸トリアリルエーテル、クエン酸トリアリルエ
ーテル、アクリル酸及びメタクリル酸のアリルエステル
、トリアリルイソシアヌレートのような多官能性架橋剤
と混合された、CI Cs−アルキリアクリレート、特
にCtCi−アルキルアクリレートの架橋した、粒状の
乳化重合体であり、アクリレートゴムは最高4重量%の
架橋剤コモノマーを含んでいる。
ジエンゴムとアクリレートゴムとの混合物及び又芯−鞘
構造を有するゴムは又グラフト重合体の製造−こ適当で
ある。
構造を有するゴムは又グラフト重合体の製造−こ適当で
ある。
グラフト重合の場合、ゴムは分割された粒子状に、例え
ばラテックス状として、存在しなければならない。これ
らに粒子は一般にlonw+ないし2000 nmの平
均粒径を有している。
ばラテックス状として、存在しなければならない。これ
らに粒子は一般にlonw+ないし2000 nmの平
均粒径を有している。
グラフト重合体は既知の方法、例えばペルオキシジスル
アエート、又はレドックス開始剤のような水溶性の開始
剤を用いて、50ないし90℃の温度で、ゴムラテック
スの存在においてビニル単量体の遊離基乳化グラフト重
合により製造することができる。
アエート、又はレドックス開始剤のような水溶性の開始
剤を用いて、50ないし90℃の温度で、ゴムラテック
スの存在においてビニル単量体の遊離基乳化グラフト重
合により製造することができる。
80重量%以上のゲル含量及び80ないし800nmの
平均粒径(d so)を有する、粒子状の高度に架橋し
たゴム(ジエン又はアルキルアクリレートゴム)上の遊
離基グラフト重合により製造された乳化グラフト重合体
が好適である。
平均粒径(d so)を有する、粒子状の高度に架橋し
たゴム(ジエン又はアルキルアクリレートゴム)上の遊
離基グラフト重合により製造された乳化グラフト重合体
が好適である。
工業用のABS重合体が特に適当である。
ビニル均質重合体及び/又はグラフト重合体とビニル重
合体の混合物も適当である。
合体の混合物も適当である。
好適な他の熱可塑性プラスチックb)は熱可塑性ポリウ
レタンを含んでいる。これらはジイソシアネート、完全
に又は主として脂肪族のオリゴ−及び/又はポリ−エス
テル及び/又は−エーテルと一種又は多種の連鎖延長剤
との反応生成物である。これらの熱可塑性ポリウレタン
は事実上直鎖状であり、熱可塑性的な加工特性を有して
いる。
レタンを含んでいる。これらはジイソシアネート、完全
に又は主として脂肪族のオリゴ−及び/又はポリ−エス
テル及び/又は−エーテルと一種又は多種の連鎖延長剤
との反応生成物である。これらの熱可塑性ポリウレタン
は事実上直鎖状であり、熱可塑性的な加工特性を有して
いる。
熱可塑性ポリウレタンは既知であり、周知の方法で得る
ことができる(例えば米国特許筒3,214゜411号
;J、H,サンダース(Saunders)及びに、C
,フリッシ(Frisch)、′ポリウレタン、化学と
技術(PolyureLhanes、Chemistr
y and Technology)″、■巻、299
頁ないし451頁、インテアサイエンス・パブリッシャ
ーズ、ニューヨーク、1964;及びモーベイ・ケミカ
ル(Mobay Chen+1cal)社、“A Pr
ocessing Handbook for Tsx
in Urethane Elastoplastic
Materials” 、ピッツバーグ(p;ttb
urgh)、ペンシルバニア、参照)。
ことができる(例えば米国特許筒3,214゜411号
;J、H,サンダース(Saunders)及びに、C
,フリッシ(Frisch)、′ポリウレタン、化学と
技術(PolyureLhanes、Chemistr
y and Technology)″、■巻、299
頁ないし451頁、インテアサイエンス・パブリッシャ
ーズ、ニューヨーク、1964;及びモーベイ・ケミカ
ル(Mobay Chen+1cal)社、“A Pr
ocessing Handbook for Tsx
in Urethane Elastoplastic
Materials” 、ピッツバーグ(p;ttb
urgh)、ペンシルバニア、参照)。
オリゴエステル及びポリエステルの製造の出発原料は例
えばアジピン酸、琥珀酸、セパチン酸スペリン酸、蓚酸
、メチルアジピン酸、グルタール酸、ピメリン酸、アゼ
ライン酸、7タル酸、テレフタル酸及びイソフタル酸で
ある。
えばアジピン酸、琥珀酸、セパチン酸スペリン酸、蓚酸
、メチルアジピン酸、グルタール酸、ピメリン酸、アゼ
ライン酸、7タル酸、テレフタル酸及びイソフタル酸で
ある。
アジピン酸が好適である。
オリゴエステル及びポリエステルの製造に適当なグリコ
ールは、例えばエチレングリコール、1゜2−及び1.
3−プロピレングリコール、ブタン−1,2−1−1,
3−1−1,4〜、−2,3−及び−2,4−ジオール
、ヘキサンジオール、ビス−ヒドロキシルメチルシクロ
ヘキサン、ジエチレングリコール及び2.2−ジメチル
プロピレングリコールである。更に少量の、即ち最高1
モル%の三価又は多価アルコール、例えばトリメチロー
ルプロパン、グリセロール、ヘキサントリオール等がグ
リコールと共に使用できる。
ールは、例えばエチレングリコール、1゜2−及び1.
3−プロピレングリコール、ブタン−1,2−1−1,
3−1−1,4〜、−2,3−及び−2,4−ジオール
、ヘキサンジオール、ビス−ヒドロキシルメチルシクロ
ヘキサン、ジエチレングリコール及び2.2−ジメチル
プロピレングリコールである。更に少量の、即ち最高1
モル%の三価又は多価アルコール、例えばトリメチロー
ルプロパン、グリセロール、ヘキサントリオール等がグ
リコールと共に使用できる。
得られるヒドロキシオリゴエステル又はポリエステルは
少なくとも600の分子量、約25ないし190、及び
好適には約40ないし150のヒドロキシル価、約O1
5ないし2の酸価及び約0゜Olないし0.2%の水分
含量を有している。
少なくとも600の分子量、約25ないし190、及び
好適には約40ないし150のヒドロキシル価、約O1
5ないし2の酸価及び約0゜Olないし0.2%の水分
含量を有している。
オリゴエステル及びポリエステルは又、例えばオリゴカ
ブロラクトン又はポリカプロラクトンのようなオリゴマ
ー的又は高分子的ラクトン、及び例えばポリブテン−1
,4−ジオールカーボネート又はポリヘキサン−1,6
−ジオールカーボネートのような脂肪族ポリカーボネー
トを含んでいる。
ブロラクトン又はポリカプロラクトンのようなオリゴマ
ー的又は高分子的ラクトン、及び例えばポリブテン−1
,4−ジオールカーボネート又はポリヘキサン−1,6
−ジオールカーボネートのような脂肪族ポリカーボネー
トを含んでいる。
熱可塑性ポリウレタン用の出発物質として特に適当なオ
リゴエステルはアジピン酸と少なくとも一つの第一ヒド
ロキシル基を含むグリコールから製造される。酸価がl
Ol及び好適には約0.5ないし2に達した時に縮合を
終了する。反応の際に形成する水は、最終水分含量が約
0.01ないし0.05%、及び好適にか0.01ない
し0.02の間になるように、同時に又は後で分別され
る。
リゴエステルはアジピン酸と少なくとも一つの第一ヒド
ロキシル基を含むグリコールから製造される。酸価がl
Ol及び好適には約0.5ないし2に達した時に縮合を
終了する。反応の際に形成する水は、最終水分含量が約
0.01ないし0.05%、及び好適にか0.01ない
し0.02の間になるように、同時に又は後で分別され
る。
熱可塑性ポリウレタンの製造のためのオリゴエーテル又
はポリエーテルは、例えばテトラメチレングリコール、
プロピレングリコール及びエチレングリコールを基剤と
したものである。
はポリエーテルは、例えばテトラメチレングリコール、
プロピレングリコール及びエチレングリコールを基剤と
したものである。
ポリアセタールは又ポリエーテルと同様に見做され、そ
のように使用される。
のように使用される。
オリゴエーテル又はポリエーテルは600ないし2,0
00、及び好適には1.000ないし2゜Oooの平均
分子量M、(生成物のOH価により測定された数平均)
を有していなければならない。
00、及び好適には1.000ないし2゜Oooの平均
分子量M、(生成物のOH価により測定された数平均)
を有していなければならない。
4.4′−ジフェニルメタンジイソシアネートはポリウ
レタンの製造の有機ジイソシアネートとして好適に使用
される。それは5%よりも少ない2,4゜−ジフェニル
メタンジイソシアネート及び2%よりも少ないジフェニ
ルメタンジインシアネートの二量体を含んでいなければ
ならない。更に、I C!で表した酸度は約0.005
ないし0.2%の範囲になければならない。801%と
して表される酸度は、熱い水性メタノール溶液中のイン
シアネートから塩化物を抽出し、又は水で加水分解によ
り塩化物を遊離させ、その中に存在する塩素イオンの濃
度を求めるために標準の硝酸銀溶液で抽出物を滴定する
ことにより測定される。
レタンの製造の有機ジイソシアネートとして好適に使用
される。それは5%よりも少ない2,4゜−ジフェニル
メタンジイソシアネート及び2%よりも少ないジフェニ
ルメタンジインシアネートの二量体を含んでいなければ
ならない。更に、I C!で表した酸度は約0.005
ないし0.2%の範囲になければならない。801%と
して表される酸度は、熱い水性メタノール溶液中のイン
シアネートから塩化物を抽出し、又は水で加水分解によ
り塩化物を遊離させ、その中に存在する塩素イオンの濃
度を求めるために標準の硝酸銀溶液で抽出物を滴定する
ことにより測定される。
熱可塑性ポリウレタンの製造に、例えばエチレン、プロ
ピレン、ブチレン、シクロ−1,3−ベンチレン、シク
ロ−1,4−ヘキシレン、シクロ−1,2−ヘキシレン
、2.4− )リレン、2.6−トリレン、p−フェニ
レン、n−フェニレン、キシリレン、 1.4−ナフチ
レン、1.5−す7チレン、4.4°−ジフェニレンの
ジイソシアネート;2.2〜ジフェニルプロパン−4,
4″−ジイソシアネート、アゾベンゼン−4,4′−ジ
イソシアネート、ジフェニルスルホン−4,41−ジイ
ソシアネート、ジクロロへキサメチレンジイソシアネー
ト、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、l−クロロ−2,4−ジイソシアネ
ート、フルフリルジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、インフォロンジイソシアネー
ト、ジフェニルエタンジイソシアネート及びエチレング
リコール、ブタンジオール等のビス−(インシアネート
フェニル)−エーテルを含む他のジイソシアネートを使
用することも可能である。
ピレン、ブチレン、シクロ−1,3−ベンチレン、シク
ロ−1,4−ヘキシレン、シクロ−1,2−ヘキシレン
、2.4− )リレン、2.6−トリレン、p−フェニ
レン、n−フェニレン、キシリレン、 1.4−ナフチ
レン、1.5−す7チレン、4.4°−ジフェニレンの
ジイソシアネート;2.2〜ジフェニルプロパン−4,
4″−ジイソシアネート、アゾベンゼン−4,4′−ジ
イソシアネート、ジフェニルスルホン−4,41−ジイ
ソシアネート、ジクロロへキサメチレンジイソシアネー
ト、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、l−クロロ−2,4−ジイソシアネ
ート、フルフリルジイソシアネート、ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート、インフォロンジイソシアネー
ト、ジフェニルエタンジイソシアネート及びエチレング
リコール、ブタンジオール等のビス−(インシアネート
フェニル)−エーテルを含む他のジイソシアネートを使
用することも可能である。
適当な連鎖延長剤はイソシアネートと反応する活性水素
を含む有機二官能性化合物、例えばジオール、ヒドロキ
シカルボン酸、ジカルボン酸、ジアミン及びアルカノー
ルアミン及び水である。かような連鎖延長剤の例は、例
えばエチレン、プロピレン及びブチレングリコール、ブ
タン−1,4−ジオール、ブタンジオール、キシリレン
グリコール、アミレンゲリコール、1.4−7エニレン
ービスーβ−ヒドロキシエチルエーテル、1.3−7エ
ニレンービスーβ−ヒドロキシエチルエーテル、ビス−
(ヒドロキシメチルシクロヘキサン)、ヘキサンジオー
ル、アジピン酸、ω−ヒドロキシカプロン酸、チオジグ
リコール、エチレンジアミン、プロピレン、ブチレン、
ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、トリ
レン及びキサイリレンジアミン、ジアミノジシクロヘキ
シルメタン、イソフォロンジアミン、3.3’−ジクロ
ロベンジジン、3.3’−ジニトロベンジジン、エタノ
ールアミン、アミノプロピルアルコール及びp−アミノ
ベンジルアルコールである。オリゴエステル又はポリエ
ステル対二官能性連鎖延長剤のモル比はl:lないしl
:50の範囲及び好適にはl;2ないし1=30の範囲
である。
を含む有機二官能性化合物、例えばジオール、ヒドロキ
シカルボン酸、ジカルボン酸、ジアミン及びアルカノー
ルアミン及び水である。かような連鎖延長剤の例は、例
えばエチレン、プロピレン及びブチレングリコール、ブ
タン−1,4−ジオール、ブタンジオール、キシリレン
グリコール、アミレンゲリコール、1.4−7エニレン
ービスーβ−ヒドロキシエチルエーテル、1.3−7エ
ニレンービスーβ−ヒドロキシエチルエーテル、ビス−
(ヒドロキシメチルシクロヘキサン)、ヘキサンジオー
ル、アジピン酸、ω−ヒドロキシカプロン酸、チオジグ
リコール、エチレンジアミン、プロピレン、ブチレン、
ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、トリ
レン及びキサイリレンジアミン、ジアミノジシクロヘキ
シルメタン、イソフォロンジアミン、3.3’−ジクロ
ロベンジジン、3.3’−ジニトロベンジジン、エタノ
ールアミン、アミノプロピルアルコール及びp−アミノ
ベンジルアルコールである。オリゴエステル又はポリエ
ステル対二官能性連鎖延長剤のモル比はl:lないしl
:50の範囲及び好適にはl;2ないし1=30の範囲
である。
二官能性連鎖延長剤に加えて、三官能性又は三官能性以
上の連鎖延長剤を、使用される二官能性連鎖延長剤のモ
ル数に対して最高約5モル%の少ない量で使用すること
も可能である。
上の連鎖延長剤を、使用される二官能性連鎖延長剤のモ
ル数に対して最高約5モル%の少ない量で使用すること
も可能である。
三官能性又は三官能性以上の連鎖延長剤の例はグリセロ
ール、トリメチロールゾロパン、ヘキサントリオール、
ペンタエリトリトール及びトリエタノールアミンである
。
ール、トリメチロールゾロパン、ヘキサントリオール、
ペンタエリトリトール及びトリエタノールアミンである
。
単官能性成分、例えばブタノールも熱可塑性ポリウレタ
ンの製造に使用することができる。
ンの製造に使用することができる。
熱可塑性ポリウレタンの構造単位として挙げられたジイ
ソシアネート、オリゴエステル、ポリエーテル、連鎖延
長剤及び単官能性成分いずれも文献上既知であるか又は
文献上既知の方法によって得ることができる。
ソシアネート、オリゴエステル、ポリエーテル、連鎖延
長剤及び単官能性成分いずれも文献上既知であるか又は
文献上既知の方法によって得ることができる。
ポリウレタンの既知の製造法は、例えば下記のように行
われる: 例えばオリゴエステル又はポリエステル、有機ジイソシ
アネート及び連鎖延長剤は好適には約50ないし220
℃の温度に個々に加熱され、次いで混合される。オリゴ
エステル又はポリエステルを好適には最初側々に加熱し
、次いで連鎖延長剤と混食し、得られる混合物を予熱さ
れたインシアネートと混合する。
われる: 例えばオリゴエステル又はポリエステル、有機ジイソシ
アネート及び連鎖延長剤は好適には約50ないし220
℃の温度に個々に加熱され、次いで混合される。オリゴ
エステル又はポリエステルを好適には最初側々に加熱し
、次いで連鎖延長剤と混食し、得られる混合物を予熱さ
れたインシアネートと混合する。
ポリウレタンの製造の出発成分は短時間に強力な混合を
与える任意の機械的撹拌機により混合することができる
。混合物の粘度の上昇が機械的撹拌の際にあまり早過ぎ
るようであれば、反応速度を低下させるために温度を下
げるか、又は少量(エステルに対しo、ootないし0
.05重量%)のクエン酸等を添加してもよい。反応速
度を上げるためには、例えば米国特許第2,729.6
18号に言及された第三アミンのような適当な触媒を使
用することもできる。
与える任意の機械的撹拌機により混合することができる
。混合物の粘度の上昇が機械的撹拌の際にあまり早過ぎ
るようであれば、反応速度を低下させるために温度を下
げるか、又は少量(エステルに対しo、ootないし0
.05重量%)のクエン酸等を添加してもよい。反応速
度を上げるためには、例えば米国特許第2,729.6
18号に言及された第三アミンのような適当な触媒を使
用することもできる。
エラストマーb3)の例は、エチレン/プロピレンゴム
、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリシロキサン
、アタクチック ポリプロピレン、ジエン、オレフィン
及びアクリレートゴム並びに天然ゴムのような各種のゴ
ム、スチレン/ブタジェンブロック共重合体、エチレン
と酢酸ビニル又は(メタ)アクリル酸エステルとの共重
合体、弾性ポリウレタン、弾性ポリカーボネートポリエ
ーテルブロック共重合体及びポリエステルポリエーテル
ブロック共重合体である。
、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリシロキサン
、アタクチック ポリプロピレン、ジエン、オレフィン
及びアクリレートゴム並びに天然ゴムのような各種のゴ
ム、スチレン/ブタジェンブロック共重合体、エチレン
と酢酸ビニル又は(メタ)アクリル酸エステルとの共重
合体、弾性ポリウレタン、弾性ポリカーボネートポリエ
ーテルブロック共重合体及びポリエステルポリエーテル
ブロック共重合体である。
本質的に少なくとも二種の下記の単量体:クロロプレン
、ブタジェン、イソプレン、イソブチン、スチレン、ア
クリロニトリル、エチレン、プロピレン酢酸ビニル及び
アルコール成分中に1ないし18炭素原子を有する(メ
タ)アクリル酸エステルから得られる、弾性的性質を有
する共重合体、即ち例えば“有機化学の方法(MeLh
odan der Orgabnischen Che
mis)−17−ベンーヴアイル(Houben4ey
l)、14/1巻、ゲオルグ・ティーメ(Gaorg
Thiema)社、ストゥー/トガルト(SLuLJa
rt)、196L 393ないし403頁に、及びC,
B、バックナル(Bucknall)、“強化プラスチ
ック(Toughened Plastics)″、サ
イエンス・パブリッシャーズ、ロンドン、1977に記
載された種類の重合体−特にグラフト共重合体(グラ7
トゴム)−を使用することが好ましい。
、ブタジェン、イソプレン、イソブチン、スチレン、ア
クリロニトリル、エチレン、プロピレン酢酸ビニル及び
アルコール成分中に1ないし18炭素原子を有する(メ
タ)アクリル酸エステルから得られる、弾性的性質を有
する共重合体、即ち例えば“有機化学の方法(MeLh
odan der Orgabnischen Che
mis)−17−ベンーヴアイル(Houben4ey
l)、14/1巻、ゲオルグ・ティーメ(Gaorg
Thiema)社、ストゥー/トガルト(SLuLJa
rt)、196L 393ないし403頁に、及びC,
B、バックナル(Bucknall)、“強化プラスチ
ック(Toughened Plastics)″、サ
イエンス・パブリッシャーズ、ロンドン、1977に記
載された種類の重合体−特にグラフト共重合体(グラ7
トゴム)−を使用することが好ましい。
−例を挙げれば15ないし45重量%の酢酸ビニル単位
を有し、DIN 53735により190℃で測定し
て非流動性ないし1000、好適にはO6lないし20
のメルト・インデックス及び2.16kpの耐荷力を有
するエチレン/酢酸ビニル共重合体がある。
を有し、DIN 53735により190℃で測定し
て非流動性ないし1000、好適にはO6lないし20
のメルト・インデックス及び2.16kpの耐荷力を有
するエチレン/酢酸ビニル共重合体がある。
下記のものも挙げることができる:エチレン対プロピレ
ン残基の重量比が40=60ないし90:lO5好適に
は40 : 60ないし65 : 35の範囲にある所
XIIEPM又はEPDMゴム。
ン残基の重量比が40=60ないし90:lO5好適に
は40 : 60ないし65 : 35の範囲にある所
XIIEPM又はEPDMゴム。
非架橋EPM又はEPDMゴムのムーニー粘度(MLl
、4/100℃)は25ないし100.及び好適には3
5ないし90の間にある。非架橋EPM又はEPDMゴ
ムのゲル含量は1重量%以下である。
、4/100℃)は25ないし100.及び好適には3
5ないし90の間にある。非架橋EPM又はEPDMゴ
ムのゲル含量は1重量%以下である。
使用されるエチレン/プロピレン共重合体(EPM)は
事実上二重結合を含まないが、エチレン/プロピレン/
ジエン三元共重合体は100Oc原子当たりlないし2
0の二重結合を含んでいる。
事実上二重結合を含まないが、エチレン/プロピレン/
ジエン三元共重合体は100Oc原子当たりlないし2
0の二重結合を含んでいる。
例えば下記のものは適当なジエン単量体と言うことがで
きる:例えばイソプレン及びブタジェンのような共役ジ
エン、及び例えば1.4−ペンタジェン、1.4−ヘキ
サジエン、l、5−へキサジエン、2,5〜ジメチル−
1,5−へキナジエン及び1.4−オクタジエンのよう
な5ないし25C厚子を有する非共役ジエン;例えばシ
クロペンタジェン、シクロへキサジエン、シクロオクタ
ジエン及びジシクロペンタジェンのような環式ジエン:
例えば5〜エチリデン−2−ノルボルネン、5−ブチリ
デン−2−ノルボルネン、2−メタリル−5−ノルボル
ネン、2−インプロペニル−5−ノルボルネン び例えば3−メチル−トリジクロー(5.2.1.0.
2.6)−3。
きる:例えばイソプレン及びブタジェンのような共役ジ
エン、及び例えば1.4−ペンタジェン、1.4−ヘキ
サジエン、l、5−へキサジエン、2,5〜ジメチル−
1,5−へキナジエン及び1.4−オクタジエンのよう
な5ないし25C厚子を有する非共役ジエン;例えばシ
クロペンタジェン、シクロへキサジエン、シクロオクタ
ジエン及びジシクロペンタジェンのような環式ジエン:
例えば5〜エチリデン−2−ノルボルネン、5−ブチリ
デン−2−ノルボルネン、2−メタリル−5−ノルボル
ネン、2−インプロペニル−5−ノルボルネン び例えば3−メチル−トリジクロー(5.2.1.0.
2.6)−3。
8−デカジエンのようなトリシクロジエン。非共役ジエ
ン、1.5−へキサジエン、エチリデンノルボルネン える。EPDM中のジエン含量は0.5ないし10重量
%が好ましい。
ン、1.5−へキサジエン、エチリデンノルボルネン える。EPDM中のジエン含量は0.5ないし10重量
%が好ましい。
かようなEPM又はEPDMゴムはドイツ特許公開公報
DE−OS第2.808.709号に記載されている。
DE−OS第2.808.709号に記載されている。
下記のものは又エラストマーC)として好適である:ビ
ニル芳香族単量体(X)及び共役ジエン(Y)のY−Y
−型の部分的に水素化されたブロック共重合体。これら
のブロック共重合体は既知の方法によって製造できる(
例えばシェル[Shell1社製のクラトン[Krat
on]G;@)。
ニル芳香族単量体(X)及び共役ジエン(Y)のY−Y
−型の部分的に水素化されたブロック共重合体。これら
のブロック共重合体は既知の方法によって製造できる(
例えばシェル[Shell1社製のクラトン[Krat
on]G;@)。
−aにスチレン/ジエンブロック共重合体の製造に利用
され、′高分子科学及び技術辞典(Encyclopa
dia of Polymer Science an
d Tschnology)”。
され、′高分子科学及び技術辞典(Encyclopa
dia of Polymer Science an
d Tschnology)”。
15巻、インターサイエンス、ニューヨーク(1971
)508頁以下に記載されている技術は、例えばスチレ
ン、a−メチルスチレン及ヒ/又はビニルトルエン及び
ブタジェン及び/又はイソプレンのような共役ジエンの
適当なX−Yブロック共重合体製造に利用することがで
きる。選択的な水素化は、エチレン系二重結合が事実上
完全に水素化されるが、芳香族系二重結合は本質的に影
響されないような、それ自体既知の方法により行うこと
ができる。
)508頁以下に記載されている技術は、例えばスチレ
ン、a−メチルスチレン及ヒ/又はビニルトルエン及び
ブタジェン及び/又はイソプレンのような共役ジエンの
適当なX−Yブロック共重合体製造に利用することがで
きる。選択的な水素化は、エチレン系二重結合が事実上
完全に水素化されるが、芳香族系二重結合は本質的に影
響されないような、それ自体既知の方法により行うこと
ができる。
かような選択的に水素化されたブロック共重合体は例え
ばドイツ特許公開公報DE−OS第3,000、282
号に記載されている。
ばドイツ特許公開公報DE−OS第3,000、282
号に記載されている。
下記のものも好適である:スチレン及び/又はアクリロ
ニトリル及び/又はアルキル(メタ)アクリレートでグ
ラフトされたポリブタジェン、ブタジェン/スチレン共
重合体及びポリ(メタ)アクリレート、例えばスチレン
又はアルキルスチレン及び共役ジエン(耐衝撃性ポリス
チレン)、即ちドイツ特許公開公報DE−OS第1.6
94.173号(−米国特許第3.564.077号)
に記載されている種類の共重合体、アクリレート又はメ
タクリレート、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレ
ン及び/又はアルキルスでグラフトされたポリブタジェ
ン、ブタジェン/スチレン又はブタジェン/アクリロニ
トリル共重合体又はポリイソブチン又はポリイソプレン
、即ちドイツ特許公開公報DE−OS第2、348.3
77号(−米国特許第3.919.353号)又はDE
−aS第3.105.364号及びDE−OS第3.0
19.233号に記載された種類のもの。
ニトリル及び/又はアルキル(メタ)アクリレートでグ
ラフトされたポリブタジェン、ブタジェン/スチレン共
重合体及びポリ(メタ)アクリレート、例えばスチレン
又はアルキルスチレン及び共役ジエン(耐衝撃性ポリス
チレン)、即ちドイツ特許公開公報DE−OS第1.6
94.173号(−米国特許第3.564.077号)
に記載されている種類の共重合体、アクリレート又はメ
タクリレート、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレ
ン及び/又はアルキルスでグラフトされたポリブタジェ
ン、ブタジェン/スチレン又はブタジェン/アクリロニ
トリル共重合体又はポリイソブチン又はポリイソプレン
、即ちドイツ特許公開公報DE−OS第2、348.3
77号(−米国特許第3.919.353号)又はDE
−aS第3.105.364号及びDE−OS第3.0
19.233号に記載された種類のもの。
特に好適なエラストマーは例えばドイツ特許公開公報D
E−OS第2.035.390号(−米国特許第3。
E−OS第2.035.390号(−米国特許第3。
644、574号)又はDE−OS第2,248.24
2号(−英国特許第1.409.275号)に記載され
た種類のABS重合体(混合物型及びグラフ)Ifの双
方)である。
2号(−英国特許第1.409.275号)に記載され
た種類のABS重合体(混合物型及びグラフ)Ifの双
方)である。
更にエラストマーは
1.グラフト生成物に対してIOないし40、好適には
lOないし35、特に15ないし25重量%の少なくと
も一種の(メタ)アクリレート及び/又は混合物に対し
て10ないし35、好適には20ないし35重量%のア
クリロニトリル及び混合物に対して65ないし90、好
適には65ないし80重量%のスチレンを、 ■、グラフト基質である、■を基準として少なくとも7
0重量%のブタジェン残基を含む、グラフト生成物を基
準として60ないし90、好適には65ないし90、特
に75ないし85重量%のブタジェン重合体上に グラフト反応を行うことにより得られ、グラフト基質H
のゲル含量は270%(トルエン中で測定して)であり
、グラフトの度合Gは0.15ないし0.55であり、
及びグラフト重合体C)の平均粒径d、、は0.2ない
し0.6、好適には0.3ないし0.5μ層であるエラ
ストマーが最も好適に使用される(例えば、ドイツ特許
公開公報DE−O3第3.324.398号及びヨーロ
ッパ特許公開公報EP−A−第56.243号参照)。
lOないし35、特に15ないし25重量%の少なくと
も一種の(メタ)アクリレート及び/又は混合物に対し
て10ないし35、好適には20ないし35重量%のア
クリロニトリル及び混合物に対して65ないし90、好
適には65ないし80重量%のスチレンを、 ■、グラフト基質である、■を基準として少なくとも7
0重量%のブタジェン残基を含む、グラフト生成物を基
準として60ないし90、好適には65ないし90、特
に75ないし85重量%のブタジェン重合体上に グラフト反応を行うことにより得られ、グラフト基質H
のゲル含量は270%(トルエン中で測定して)であり
、グラフトの度合Gは0.15ないし0.55であり、
及びグラフト重合体C)の平均粒径d、、は0.2ない
し0.6、好適には0.3ないし0.5μ層であるエラ
ストマーが最も好適に使用される(例えば、ドイツ特許
公開公報DE−O3第3.324.398号及びヨーロ
ッパ特許公開公報EP−A−第56.243号参照)。
特に好適なエラストマーは
a)グラフト基質として、−20℃以下のガラス転移温
度を有する、グラフト生成物を基準として25ないし9
8重量%のアクリレートゴム、及びb)グラフト単量体
として、その均質重合体又は共重合体が(a)の不在下
に製造されれば25℃よりも高いガラス転移温度を有す
る筈である、グラフト生成物を基準として2ないし75
重量%の、少なくとも一種の重合体可能なエチレン系不
飽和単量体(例えばヨーロッパ特許公開公報EP−A−
第50.265号参照) のグラフト重合体を含んでいる。
度を有する、グラフト生成物を基準として25ないし9
8重量%のアクリレートゴム、及びb)グラフト単量体
として、その均質重合体又は共重合体が(a)の不在下
に製造されれば25℃よりも高いガラス転移温度を有す
る筈である、グラフト生成物を基準として2ないし75
重量%の、少なくとも一種の重合体可能なエチレン系不
飽和単量体(例えばヨーロッパ特許公開公報EP−A−
第50.265号参照) のグラフト重合体を含んでいる。
上記のエラストマー以外に、弾性ポリウレタン(例えば
テキシン[Tex1nl @ ) 、弾性ポリエステル
/ポリエーテルブロック共重合体(例えばハイトレル(
Hytrell @ )及び弾性ポリカーボネート/ポ
リエーテルブロック共重合体を使用することも可能であ
る。これらのエラストマーは既知であり、fi、tlf
H,c、エリアス(El 1as)、マクロモレキュー
レ(MakulomolekQle)、ヒュッティッヒ
・ラント・ヴエップ(H(lthig u、 Wepf
)社、バーゼル、4版、1981.787頁及びA、ノ
シェイ(Noshay)及びJ、E、マクグラス(Mc
Grath)、ブロック共重合体(Block C。
テキシン[Tex1nl @ ) 、弾性ポリエステル
/ポリエーテルブロック共重合体(例えばハイトレル(
Hytrell @ )及び弾性ポリカーボネート/ポ
リエーテルブロック共重合体を使用することも可能であ
る。これらのエラストマーは既知であり、fi、tlf
H,c、エリアス(El 1as)、マクロモレキュー
レ(MakulomolekQle)、ヒュッティッヒ
・ラント・ヴエップ(H(lthig u、 Wepf
)社、バーゼル、4版、1981.787頁及びA、ノ
シェイ(Noshay)及びJ、E、マクグラス(Mc
Grath)、ブロック共重合体(Block C。
polymers)、アカデミツク・プレス、ニューヨ
ーク、1977.341頁に記載されている。
ーク、1977.341頁に記載されている。
例えばドイツ特許公開公報DE−O5第3 、629゜
763号に記載されである種類のシリコングラ7トゴム
も使用されるエラストマーとして適当である。
763号に記載されである種類のシリコングラ7トゴム
も使用されるエラストマーとして適当である。
これらのエラストマーは既知である。
ポリカーボネートa)及びエラストマーb3)の混合物
は、例えばニーダ−−軸スクリユー又は二軸スクリュー
押出機又はロールのような標準的な装置中で熔融物中で
成分a)及びb3)を混合することにより製造できる。
は、例えばニーダ−−軸スクリユー又は二軸スクリュー
押出機又はロールのような標準的な装置中で熔融物中で
成分a)及びb3)を混合することにより製造できる。
本発明は又
Oolないし99.9重量%、好適には1ないし98重
量%及びより好適には2.5ないし90I!量%のポリ
カーボネートa)と99.9ないし0.1重量%、好適
には99ないし2重量%及び、より好適には97.5な
いし10重量%のエラストマーb3)の、ポリカーボネ
ートa)を熔融し、エラストマーb3)を添加してポリ
カーボネートの熔融物中で均質化することを特徴とする
混合物の製造方法に関する。
量%及びより好適には2.5ないし90I!量%のポリ
カーボネートa)と99.9ないし0.1重量%、好適
には99ないし2重量%及び、より好適には97.5な
いし10重量%のエラストマーb3)の、ポリカーボネ
ートa)を熔融し、エラストマーb3)を添加してポリ
カーボネートの熔融物中で均質化することを特徴とする
混合物の製造方法に関する。
ポリカーボネートa)及び他の熱可塑性プラスチックb
l)又はb2)は、例えば成分a)及びb)の溶液を混
合することにより、又は各成分をニーダ−中、ロール上
又は−軸スクリユー又は多軸スクリニー押出機中で混合
物することにより製造することができる。
l)又はb2)は、例えば成分a)及びb)の溶液を混
合することにより、又は各成分をニーダ−中、ロール上
又は−軸スクリユー又は多軸スクリニー押出機中で混合
物することにより製造することができる。
本発明は又
0.1ないし99.9重量%、好適には1ないし98重
量%及びより好適には2.5ないし90重量%のポリカ
ーボネートa)と99.9ないし0.1重量%、好適に
は99ないし2重量%及び、より好適には97.5ない
し10重量%の他の熱可塑性グラスチックbl)又はb
2)の、総ての成分を溶液状にして混合し、得られる混
合物を通常の方法で加工するか又は総ての成分を混合し
て熔融物中で均質化することを特徴とする 混合物の製造方法に関する。成分b)のために通常使用
される添加剤、例えば充填剤及び/又は成核剤及び/又
は繊維及び/又は潤滑剤及び/又は柔軟剤及び/又は着
色剤は通常の量で成分C)として混合物に添加すること
ができる。
量%及びより好適には2.5ないし90重量%のポリカ
ーボネートa)と99.9ないし0.1重量%、好適に
は99ないし2重量%及び、より好適には97.5ない
し10重量%の他の熱可塑性グラスチックbl)又はb
2)の、総ての成分を溶液状にして混合し、得られる混
合物を通常の方法で加工するか又は総ての成分を混合し
て熔融物中で均質化することを特徴とする 混合物の製造方法に関する。成分b)のために通常使用
される添加剤、例えば充填剤及び/又は成核剤及び/又
は繊維及び/又は潤滑剤及び/又は柔軟剤及び/又は着
色剤は通常の量で成分C)として混合物に添加すること
ができる。
無機性充填剤は例えば亜硝酸アルミニウム、シリケート
、二酸化チタン、タルク、璽母、カーボン・ブラックの
ようなセラミック充填剤であり:繊維は例えばガラス、
カーボン又は液晶重合体の繊維である。
、二酸化チタン、タルク、璽母、カーボン・ブラックの
ようなセラミック充填剤であり:繊維は例えばガラス、
カーボン又は液晶重合体の繊維である。
成核剤の例は硫酸バリウム及びTie、である。
これらの添加剤は通常の量で成分b)に本発明による混
合物の製造の前に又は成分a)のポリカーボネートと一
緒に又は成分a)及びb)の本発明による混合物中に引
き続き混和するかいずれかの方法で添加することができ
る。
合物の製造の前に又は成分a)のポリカーボネートと一
緒に又は成分a)及びb)の本発明による混合物中に引
き続き混和するかいずれかの方法で添加することができ
る。
同様に上記の添加剤は通常の量で成分a)のポリカーボ
ネートに、成分b)との混合物の前又は最中又は後で添
加することができる。
ネートに、成分b)との混合物の前又は最中又は後で添
加することができる。
本発明による混合物は標準的な混合装置中で通常の方法
で加工され、任意の種類の成形体をM虞することができ
る。
で加工され、任意の種類の成形体をM虞することができ
る。
本発明による混合物は自動車用のハブキャップ、ダツシ
ュボード及びハンドル柱ケーシング(stering
column castng)の製造に使用することが
できる。
ュボード及びハンドル柱ケーシング(stering
column castng)の製造に使用することが
できる。
例えばバンパー用のように低温度で高度の靭性が要求さ
れる場合、第二成分としてエラストマー(成分b3))
を含むスポイラ及び衝撃ストリップが有利である。
れる場合、第二成分としてエラストマー(成分b3))
を含むスポイラ及び衝撃ストリップが有利である。
本発明による混合物は又家庭用電気器具のケーシング、
多点挿込栓(*ultipoin connector
)及び洗濯槽として利用できる。
多点挿込栓(*ultipoin connector
)及び洗濯槽として利用できる。
特に本発明の混合物からフィルムを製造することができ
る。フィルムは1ないし1500.usの好適な厚さ、
及び10ないし900μ肩の特に好適な厚さを有してい
る。
る。フィルムは1ないし1500.usの好適な厚さ、
及び10ないし900μ肩の特に好適な厚さを有してい
る。
得られるフィルムは既知の方法で一軸的に又は二輪的に
、好適にはlf、5ないし1:3の比で伸張することが
できる。
、好適にはlf、5ないし1:3の比で伸張することが
できる。
フィルムはフィルムを製造する既知の方法で、例えばシ
ート・ダイを通して重合体熔融物の押出により、フィル
ム吹込機中で吹込することにより、深絞りにより又は流
し込みにより製造することができる。後者は適当な溶剤
中の重合体の濃厚溶液を平滑な基材上に圧加し、溶剤を
蒸発し、製造されたフィルムを基材から持ち上げる事に
より行われる。
ート・ダイを通して重合体熔融物の押出により、フィル
ム吹込機中で吹込することにより、深絞りにより又は流
し込みにより製造することができる。後者は適当な溶剤
中の重合体の濃厚溶液を平滑な基材上に圧加し、溶剤を
蒸発し、製造されたフィルムを基材から持ち上げる事に
より行われる。
混合物の成分b)に依存して、及び成分a)、b)及び
C)の混合物の重量組成に依存して、般に80ないし4
50℃での押出によって製造されるフィルムは少なくと
も20℃まで冷却後屡々二軸的に延伸される。深絞りに
適当したフィルムはa)、b)及びC)の混合物の予備
成形されたフィルムを最高約290℃の温度で圧延する
ことによっても得ることができる。
C)の混合物の重量組成に依存して、般に80ないし4
50℃での押出によって製造されるフィルムは少なくと
も20℃まで冷却後屡々二軸的に延伸される。深絞りに
適当したフィルムはa)、b)及びC)の混合物の予備
成形されたフィルムを最高約290℃の温度で圧延する
ことによっても得ることができる。
流し込みフィルムは重合体混合物の随時濃厚な溶液を平
滑な表面上に流し込み、25ないし290℃で溶剤を蒸
発することによって得られる。例えばガラス、セラミッ
ク、鋼等のような材料の平行平面板の外に、使用される
平滑な平面は重合体溶液よりも高密度であって、重合体
もその溶剤も溶解しない液体の表面であってもよい。
滑な表面上に流し込み、25ないし290℃で溶剤を蒸
発することによって得られる。例えばガラス、セラミッ
ク、鋼等のような材料の平行平面板の外に、使用される
平滑な平面は重合体溶液よりも高密度であって、重合体
もその溶剤も溶解しない液体の表面であってもよい。
本発明によるフィルムはそれ自体で又は他の重合体のフ
ィルムと組み合わせても使用できる。
ィルムと組み合わせても使用できる。
混合物の組成及び成分b)、及び随時C)の選択に依存
して、光に高度に透過性であり、複合フィルム用の追加
フィルムの選択又は成分b)/c)の選択によって極め
て均一な表面構造を有する、特に厚さが最高1000μ
■及び更には特に最高800μ翼の厚さのフィルムを製
造することが可能である。これらのフィルムは印刷が容
易で、耐弓目蚤性がある。
して、光に高度に透過性であり、複合フィルム用の追加
フィルムの選択又は成分b)/c)の選択によって極め
て均一な表面構造を有する、特に厚さが最高1000μ
■及び更には特に最高800μ翼の厚さのフィルムを製
造することが可能である。これらのフィルムは印刷が容
易で、耐弓目蚤性がある。
本発明によるフィルムは多くの工業分野において情報キ
ャリヤーとして使用することができる。
ャリヤーとして使用することができる。
応用例は自動装置の監視及び警告系及び家庭電化製品の
指針盤(scale>、工業機械及び事務用機械及び電
気絶縁フィルムを含んでいる。
指針盤(scale>、工業機械及び事務用機械及び電
気絶縁フィルムを含んでいる。
より詳細には、このフィルムは高い耐熱性を必要とする
任意の用途に使用できる。
任意の用途に使用できる。
或用途としては、本発明によるフィルムを保護ラッカー
で被覆するこが有利である、 フィルム又は複合フィルムは均質膜、複合膜又は不斉膜
の形態で製造され、既知の方法で使用されることができ
る。膜、フィルム又は複合フィルムは平滑であり、各種
の幾何学的形状−円筒形、球状又は管状−の中空品を形
成することができ、又は中空繊維を形成することもでき
る。かような成形物品は当業者には既知の方法で製造で
きる。
で被覆するこが有利である、 フィルム又は複合フィルムは均質膜、複合膜又は不斉膜
の形態で製造され、既知の方法で使用されることができ
る。膜、フィルム又は複合フィルムは平滑であり、各種
の幾何学的形状−円筒形、球状又は管状−の中空品を形
成することができ、又は中空繊維を形成することもでき
る。かような成形物品は当業者には既知の方法で製造で
きる。
本発明によるフィルムは加熱下に特に高度な寸法安定性
を有し、極めて選択的ではあるが多くの気体に対し透過
性である。従ってゲル透過法に好都合に使用することが
できる。
を有し、極めて選択的ではあるが多くの気体に対し透過
性である。従ってゲル透過法に好都合に使用することが
できる。
実施例
C)成分
CI)実施例Bl)に対応する
C2)既知の方法でスチレンの遊離基重合により製造さ
れたポリスチレン、MW(光散乱により測定)260.
00 C3)ビスフェノール−A−ポリカーボネート、相対粘
度り、、、 (25℃でC−0,59/dffでCH,
CI、中で測定)1.28 C4)ポリメチルメタクリレート V811(レーム&
ハース[RQhm & Haas])C5)ポリカプロ
ラクタム、相対粘度3−0(si−クレゾール中で0.
5重量%溶液で測定)C6)フェノール10−ジクロロ
ベンゼン(重量比1:1)中で25℃で測定された極限
粘度0゜72を有するポリエチレンテレフタレートC7
)フェノール10−ジクロロベンゼン(を量比t :
l)中で25℃で測定された極限粘度1゜21を有する
ポリブチレンテレフタレートC8)エツゾ(Esso)
社製のEPMゴム エキセラ(Exxelor)VA
t803 C9)80重量部の架橋ブタジェン(トルエン中で70
重量%以上のゲル含量)及び18重量部のメチルメタク
リレート及び2重量部のn−ブチルアクリレートから成
るグラフト基剤からの乳化重合体で、ラテックス中に存
在するグラフト基剤の平均粒径は0.3ないし0.4μ
寵である。
れたポリスチレン、MW(光散乱により測定)260.
00 C3)ビスフェノール−A−ポリカーボネート、相対粘
度り、、、 (25℃でC−0,59/dffでCH,
CI、中で測定)1.28 C4)ポリメチルメタクリレート V811(レーム&
ハース[RQhm & Haas])C5)ポリカプロ
ラクタム、相対粘度3−0(si−クレゾール中で0.
5重量%溶液で測定)C6)フェノール10−ジクロロ
ベンゼン(重量比1:1)中で25℃で測定された極限
粘度0゜72を有するポリエチレンテレフタレートC7
)フェノール10−ジクロロベンゼン(を量比t :
l)中で25℃で測定された極限粘度1゜21を有する
ポリブチレンテレフタレートC8)エツゾ(Esso)
社製のEPMゴム エキセラ(Exxelor)VA
t803 C9)80重量部の架橋ブタジェン(トルエン中で70
重量%以上のゲル含量)及び18重量部のメチルメタク
リレート及び2重量部のn−ブチルアクリレートから成
るグラフト基剤からの乳化重合体で、ラテックス中に存
在するグラフト基剤の平均粒径は0.3ないし0.4μ
寵である。
Cl0)クロロホルム中で25℃で測定された相対粘度
す、、、(0−5重1%溶液)1.62を有するポリ(
2,6−シメチルー1.4−7二二レン)−エーテルC
11)ビスフェノールAヲ基11111と650重量%
のエステル含量を有しくイソフタル酸:テレ7タル酸−
1: l)1.30の相対粘度(塩化メチレン中の0.
5重量%溶液)を有する芳香族ポリカーボネート C13)既知の方法によりジクロロジメチルスルホン及
びビスフェノールAをジフェニルスルホン中で反応させ
ることにより製造され、1.249の相対粘度(塩化メ
チレン中の0.5重量%溶液)を有するビスフェノール
Aを基剤とするポリエーテルスルホン C14)既知の方法によりジフルオロベンゾフェノン及
びビスフェノールAを反応させることにより製造され、
1.455の相対粘度(塩化メチレン中の0,5重量%
溶液)を有するビスフェノールAを基剤とするポリエー
テルケトンC15)乳化重合法により製造された28重
量%のアクリロニトリル含量を有するスチレンとアクリ
ロニトリルの共重合体 C16)実施例B13)に対応する C17)実施例B14)に対応する C18)実施例B7)に対応する。
す、、、(0−5重1%溶液)1.62を有するポリ(
2,6−シメチルー1.4−7二二レン)−エーテルC
11)ビスフェノールAヲ基11111と650重量%
のエステル含量を有しくイソフタル酸:テレ7タル酸−
1: l)1.30の相対粘度(塩化メチレン中の0.
5重量%溶液)を有する芳香族ポリカーボネート C13)既知の方法によりジクロロジメチルスルホン及
びビスフェノールAをジフェニルスルホン中で反応させ
ることにより製造され、1.249の相対粘度(塩化メ
チレン中の0.5重量%溶液)を有するビスフェノール
Aを基剤とするポリエーテルスルホン C14)既知の方法によりジフルオロベンゾフェノン及
びビスフェノールAを反応させることにより製造され、
1.455の相対粘度(塩化メチレン中の0,5重量%
溶液)を有するビスフェノールAを基剤とするポリエー
テルケトンC15)乳化重合法により製造された28重
量%のアクリロニトリル含量を有するスチレンとアクリ
ロニトリルの共重合体 C16)実施例B13)に対応する C17)実施例B14)に対応する C18)実施例B7)に対応する。
D)混合物
DI)CI)の37g及びC2)の37gを各々200
鱈の塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒にし
、溶剤を真空中で部分的に除去して濃厚溶液を残し、厚
さ200μ賃のフィルムをフィルム延伸卓上で製造した
。このフィルムの6片を互いに重ねて置き、200バー
ルの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧し、厚さ1
.042m1*の長方形の積層物を形成した。
鱈の塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒にし
、溶剤を真空中で部分的に除去して濃厚溶液を残し、厚
さ200μ賃のフィルムをフィルム延伸卓上で製造した
。このフィルムの6片を互いに重ねて置き、200バー
ルの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧し、厚さ1
.042m1*の長方形の積層物を形成した。
D2)CI)の309及びC2)の30gを各々200
mI2の塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒
にし、DI)のようにして溶剤を濃縮し、厚さ210μ
簿のフィルムを製造した。
mI2の塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒
にし、DI)のようにして溶剤を濃縮し、厚さ210μ
簿のフィルムを製造した。
実施例Di)のようにしてこのフィルムの6片を互いに
重ねて置き、210パールの圧力下で250℃に5分間
空気中で加圧し、厚さ0.989mmの長方形の積層物
を形成した。
重ねて置き、210パールの圧力下で250℃に5分間
空気中で加圧し、厚さ0.989mmの長方形の積層物
を形成した。
D3)CI)の25g及びC2)の25gを各々200
mQの塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒に
し、真空中で溶剤を部分的に除去して濃厚溶液を残し、
厚さ200μ真のフィルムをフィルム延伸卓上で製造し
た。このフィルムの6片を互いに重ねて置き、200バ
ールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧し、厚さ
0.61mmの長方形の積層物を形成した。
mQの塩化メチレン中に溶解した。次いで溶液を一緒に
し、真空中で溶剤を部分的に除去して濃厚溶液を残し、
厚さ200μ真のフィルムをフィルム延伸卓上で製造し
た。このフィルムの6片を互いに重ねて置き、200バ
ールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧し、厚さ
0.61mmの長方形の積層物を形成した。
D4)C5)の709及びCI)309を約260℃な
いし280℃の温度で熔融し、フラスコ中で均一にする
。熔融物が冷却した後、混合物を粉砕し、粒状物を圧延
して実施例D3)に記載された方法と同様にして厚さ1
.6m嘗の成形物を形成した。
いし280℃の温度で熔融し、フラスコ中で均一にする
。熔融物が冷却した後、混合物を粉砕し、粒状物を圧延
して実施例D3)に記載された方法と同様にして厚さ1
.6m嘗の成形物を形成した。
D5)C6)の359及びBl)の15g実施例D4)
に記載されたように圧延し、厚さ1.6II11の成形
物を形成した。
に記載されたように圧延し、厚さ1.6II11の成形
物を形成した。
D6)C16)の物質60gをC7)の物質409と混
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
D7)C16)の物質40gをC7)の物質60gと混
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6+*mの成形物を形成した。
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6+*mの成形物を形成した。
D8)C16)の物質609をC6)の物質409と混
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
D9)CIB)の物質409をC6)の物質609と混
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚さ1
.6mmの成形物を形成した。
010)C16)の物質80重量部を340℃の温度で
二軸スクリュー押出機中で08)の物質20重量部と共
に均質化し、普通の射出成形機中で80X10X4mm
の試験片を成形するために射出成形した。
二軸スクリュー押出機中で08)の物質20重量部と共
に均質化し、普通の射出成形機中で80X10X4mm
の試験片を成形するために射出成形した。
Dll)C16)の物質80重量部を340℃の温度で
二軸スクリュー押出機中でC9)の物質20を負部と共
に均質化し、普通の射出成形機中で80X10X4mm
の試験片を成形するために射出成形した。
二軸スクリュー押出機中でC9)の物質20を負部と共
に均質化し、普通の射出成形機中で80X10X4mm
の試験片を成形するために射出成形した。
D12)C18)の物質70gとC11)の物質30g
を各々4001112の塩化メチレン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ190μ肩のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加
圧し、厚さ0.92mmの長方形の成形物を形成しIこ
。
を各々4001112の塩化メチレン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ190μ肩のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加
圧し、厚さ0.92mmの長方形の成形物を形成しIこ
。
DI3)C18)の物質30gとC11)の物質709
を各々4QO+12の塩化メチレン中に溶解する。溶液
を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フィ
ルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200 pysのフィ
ルムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置
き、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で
加圧し、厚さ1.Ommの長方形の成形物を形成した。
を各々4QO+12の塩化メチレン中に溶解する。溶液
を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フィ
ルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200 pysのフィ
ルムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置
き、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で
加圧し、厚さ1.Ommの長方形の成形物を形成した。
D14)C18)の物質709とCl2)の物質30g
t−各々400m12の塩化メチレン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200μ盾のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加
圧し、厚さ0.98肩属の長方形の成形物を形成した。
t−各々400m12の塩化メチレン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200μ盾のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加
圧し、厚さ0.98肩属の長方形の成形物を形成した。
D15)C18)の物質30gとc12)の物質709
を各々400++Qの塩化メチし・ン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ180μ肩のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270°Cに5分間空気中で
加圧し、厚さ0.8+mmの長方形の成形物を形成した
。
を各々400++Qの塩化メチし・ン中に溶解する。溶
液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フ
ィルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ180μ肩のフィル
ムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて置き
、200バールの圧力下で270°Cに5分間空気中で
加圧し、厚さ0.8+mmの長方形の成形物を形成した
。
D 16) CI’8)の物質70gとCl0)の物質
30gを各々4QQm12の塩化メチレン中に溶解する
。溶液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する
;フィルム塗布卓上で濃厚溶液かラ厚さ190μ重のフ
ィルムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて
置き、200/<−ルの圧力下で270℃に5分間空気
中で加圧し、厚さl−05mmの長方形の成形物を形成
した。
30gを各々4QQm12の塩化メチレン中に溶解する
。溶液を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する
;フィルム塗布卓上で濃厚溶液かラ厚さ190μ重のフ
ィルムを製造する。このフィルムの6片を互いに重ねて
置き、200/<−ルの圧力下で270℃に5分間空気
中で加圧し、厚さl−05mmの長方形の成形物を形成
した。
DI7)C1g)の物質30gとCl0)の物質70g
を各々400璽Qの塩化メチレン中に溶解する。溶液を
一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フィル
ム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200/jmのフィルム
を製造する。このフィルムの5片を互いに重ねて置き、
200パールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧
し、厚さ0.7mmの長方形の成形物を形成した。
を各々400璽Qの塩化メチレン中に溶解する。溶液を
一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する;フィル
ム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200/jmのフィルム
を製造する。このフィルムの5片を互いに重ねて置き、
200パールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧
し、厚さ0.7mmの長方形の成形物を形成した。
DI8)C18)の物質70gをC13)の物質309
と混合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚
さ1.5g肩の成形物を形成した。
と混合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚
さ1.5g肩の成形物を形成した。
019)C18)の物質70yをC14)の物質30g
と混合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚
さ1.6mmの成形物を形成した。
と混合し、実施例D4)に記載されたように圧延し、厚
さ1.6mmの成形物を形成した。
D20)C17)の物質609とC15)の物質40g
を各々400mj2の塩化メチレン中に溶解する。溶液
を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する:フィ
ルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200μ寵のフィルム
を製造する。このフィルムの6片を互いに重ねπ置き、
200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧
し、厚さ1.0+mの長方形の成形物を形成した。
を各々400mj2の塩化メチレン中に溶解する。溶液
を一緒にし、真空中で溶剤を殆ど完全に除去する:フィ
ルム塗布卓上で濃厚溶液から厚さ200μ寵のフィルム
を製造する。このフィルムの6片を互いに重ねπ置き、
200バールの圧力下で270℃に5分間空気中で加圧
し、厚さ1.0+mの長方形の成形物を形成した。
E)Dに従って製造された試験片の試験:試験片の剪断
弾性率ブラベンダー(Brabender)型8023
01捩り振子を用いて室温以上で測定した。
弾性率ブラベンダー(Brabender)型8023
01捩り振子を用いて室温以上で測定した。
試験片をIK/分の加熱速度で下記に示された温度に加
熱し、試験片は測定期間を通じてlOpの引張り荷重に
暴露された。トルクは!570i? cya”であった
。試験片は充分な内部強度を有していないので、lOM
pa以下の弾性値で、試験片の変形は明らかに感知でき
る。
熱し、試験片は測定期間を通じてlOpの引張り荷重に
暴露された。トルクは!570i? cya”であった
。試験片は充分な内部強度を有していないので、lOM
pa以下の弾性値で、試験片の変形は明らかに感知でき
る。
結果:
実施例 番号
成分 C3)
成分 C4)
成分 C5)
成分 C6)
DI)
D2)
D3)
D4)
D5)
D6)
D7)
D8)
D9)
Dlo)
Dll)
DI2)
DI3)
DI4)
DI5)
DI6)
DI7)
DI8)
DI9)
D20)
下記温度における剪断弾性率MPa
950 <10 <10
980 <10 <10
230℃まで寸法的に安定
230℃まで寸法的に安定
230℃まで寸法的に安定
230℃まで寸法的に安定
230“Cまで寸法的に安定
各成分は完全には相溶性ではない
230℃まで寸法的に安定
各成分は完全には相溶性ではない
234℃まで寸法的に安定
234℃まで寸法的に安定
177°Cまで寸法的に安定
F)透過挙動の特性:
重合体膜の気体(透過)に対する透過率の測定不透過性
重合体膜を通る気体の透過は溶解/拡散法により記載さ
れる。この方法の特性定数は所与の圧力差Δpの場合一
定時間【の間に既知の表面積F及び厚さdのフィルムを
通過する気体の容積Vを指示する透過係数Pである。定
常状態においては、透過経過の微分式から下記式 が誘導できる。更に、透過性は温度及び気体の水分に依
存する。
重合体膜を通る気体の透過は溶解/拡散法により記載さ
れる。この方法の特性定数は所与の圧力差Δpの場合一
定時間【の間に既知の表面積F及び厚さdのフィルムを
通過する気体の容積Vを指示する透過係数Pである。定
常状態においては、透過経過の微分式から下記式 が誘導できる。更に、透過性は温度及び気体の水分に依
存する。
測定装置は一定温度に調節された二基系から成−)でい
る。−室は試験気体を受は入れように設計されており、
他室は透過気体を受は入れるように設計されている。二
基は測定すべき膜により隔離される。
る。−室は試験気体を受は入れように設計されており、
他室は透過気体を受は入れるように設計されている。二
基は測定すべき膜により隔離される。
気体を導入する前に、二基を10−3mbarまで真空
に引き、次いで第−室に気体を充填する。
に引き、次いで第−室に気体を充填する。
次いで透過した気体(不活性気体)は一定容積の透過室
の圧力の増加を生じ、気体の通過が定常状態に達するま
で時間の関数としての圧力の増加を圧力記録計(MKS
バラトロン[Baratronl)により定量的に記録
する。VはNTPで計算される。
の圧力の増加を生じ、気体の通過が定常状態に達するま
で時間の関数としての圧力の増加を圧力記録計(MKS
バラトロン[Baratronl)により定量的に記録
する。VはNTPで計算される。
外部の空気圧を考慮に入れた予定された圧力差Δpは各
場合共10’Paに調節される。膜の厚さdは膜表面に
亙る10回の独立した厚さの測定の平均値としてマイク
ロメーターにより測定される。
場合共10’Paに調節される。膜の厚さdは膜表面に
亙る10回の独立した厚さの測定の平均値としてマイク
ロメーターにより測定される。
これらの値から、透過係数Fは下記の寸法を用いて
膜の厚さ1mmを基準として(1)に従って測定される
。
。
以上の測定パラメーターは:
中度=25±t ’c
相対湿度二〇% である。
G)フィルムの製造
実施例 Gl)
20gの実施例B2に対応するポリカーボネート及び5
01℃量部のポリカーボネート及びビスフェノールA及
びイソー/テレフタル酸(f : l) ヲ基剤としt
;50重量部の芳香族ポリエステルから成り、c=o−
5g/dff及び25℃で塩化メチレン中で測定して1
.30の相対粘度を有する20gの芳香族ポリエステル
エステルを各々強力に撹拌しなから20(1+4の塩化
メチレンに溶解し、二種の溶液を一緒にし、濃縮後、平
滑なガラス板上に厚さ約150μ肩のフィルムを作成し
た。このフィルムは190℃で寸法的に安定であった。
01℃量部のポリカーボネート及びビスフェノールA及
びイソー/テレフタル酸(f : l) ヲ基剤としt
;50重量部の芳香族ポリエステルから成り、c=o−
5g/dff及び25℃で塩化メチレン中で測定して1
.30の相対粘度を有する20gの芳香族ポリエステル
エステルを各々強力に撹拌しなから20(1+4の塩化
メチレンに溶解し、二種の溶液を一緒にし、濃縮後、平
滑なガラス板上に厚さ約150μ肩のフィルムを作成し
た。このフィルムは190℃で寸法的に安定であった。
このフィルムを温度90℃で真空中で乾燥した。
次いで透過係数Pを測定した:
0、に対して : 184.9
CO□に対して二1106.6
N、に対して : 39.5
CH,に対して: 42.3
このフィルムを、相対粘度1.28;ガラス転移温度1
50°CのビスフェノールAポリカーボネートの厚さ1
54μ諺のフィルムと組み合わせ、210ba rの圧
力下約200℃で約3分間圧延し、厚さ約250μ肩の
複合フィルムを作成した。
50°CのビスフェノールAポリカーボネートの厚さ1
54μ諺のフィルムと組み合わせ、210ba rの圧
力下約200℃で約3分間圧延し、厚さ約250μ肩の
複合フィルムを作成した。
この複合フィルムは190℃でなお寸法的に安定であっ
た。透過係数P: Olに対して : 1113 CO,に対して: 703.7 N8に対して : 31.4 (上記のようにして測定された)。
た。透過係数P: Olに対して : 1113 CO,に対して: 703.7 N8に対して : 31.4 (上記のようにして測定された)。
実施例 G2)
ヨーロッパ特許EP−PS第142.024号、実施例
2に従って製造され、306℃及び1000/秒の剪断
速度で測定して120Pa−5の熔融粘度を有する15
9のポリp−7エニレンスルフイド、及び更にt5gの
成分C1)(実施例Blにに対応)から、約310°0
で小さいニーダ−中で充分に混合することにより混合物
を製造した。280°Cで200barの圧力下で混合
物から約403μ閾の厚さのフィルムを圧延した(加圧
時間:約4分間)。
2に従って製造され、306℃及び1000/秒の剪断
速度で測定して120Pa−5の熔融粘度を有する15
9のポリp−7エニレンスルフイド、及び更にt5gの
成分C1)(実施例Blにに対応)から、約310°0
で小さいニーダ−中で充分に混合することにより混合物
を製造した。280°Cで200barの圧力下で混合
物から約403μ閾の厚さのフィルムを圧延した(加圧
時間:約4分間)。
100℃以上230℃まで弾性が顕著に低下することな
く耐熱性を有しながら、下記のような透過値(上記のよ
うにして測定)が得られた:0、に対して :
27.I CO!に対して: 114.3゜ 比較のために、ポリp−フェニレンスルフィドのみにつ
いて0.及びCO8の透過値を測定した。記述の材料か
ら約280℃で4分間圧延することにより対応するフィ
ルムを作成した。
く耐熱性を有しながら、下記のような透過値(上記のよ
うにして測定)が得られた:0、に対して :
27.I CO!に対して: 114.3゜ 比較のために、ポリp−フェニレンスルフィドのみにつ
いて0.及びCO8の透過値を測定した。記述の材料か
ら約280℃で4分間圧延することにより対応するフィ
ルムを作成した。
フィルムは387μlの厚さを持っていた。
0、に対して =4.4
co、に対して: 18.6゜
このフィルムは80℃及び150℃の間で弾性の明らか
な低下を示した。
な低下を示した。
実施例 G3)
実施例D3)に従ってフィルム塗布卓上で製造され、5
1μ層の厚さを有するフィルムの透過係数Pの測定結果
は下記のようである: 0、に対して : 21.I N、に対して :2.7 CH,に対して:3.5 COlに対して: 94.2 フィルムは約160℃まで酢ぼう的に安定でありた。
1μ層の厚さを有するフィルムの透過係数Pの測定結果
は下記のようである: 0、に対して : 21.I N、に対して :2.7 CH,に対して:3.5 COlに対して: 94.2 フィルムは約160℃まで酢ぼう的に安定でありた。
実施例 G4)
実施例D2)に従って製造され、101007lの厚さ
を有するフィルムの透過係数Pの測定結果は下記のよう
である: O8に対して : 136.9 N、に対して : 27.4 CH,に対して: 39.I CO8に対して= 836.4 フィルムは約180℃まで酢ぼう的に安定であった。
を有するフィルムの透過係数Pの測定結果は下記のよう
である: O8に対して : 136.9 N、に対して : 27.4 CH,に対して: 39.I CO8に対して= 836.4 フィルムは約180℃まで酢ぼう的に安定であった。
従って、本発明による実施例は本発明によるフィルムの
大きな利点、即ち高い耐熱性及び良好な透過的性質を例
示するものである。
大きな利点、即ち高い耐熱性及び良好な透過的性質を例
示するものである。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
■
a)下記の式(I):
式中、
R1およびR8は相互に独立に水素、ノ10ゲン、C、
−CI−アルキJし、C、−C、−シクロアルキル、C
m−C+。−アリール、及びct−ctxアラールキル
を表し、 mは4ないし7の整数であり、 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR1の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R″およびR4は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素又はC1−01アルキルを表し、 Xは炭素原子を表す に相当するジフェノールを基剤とする熱可塑性ポリカー
ボネート、及び b)成分a)以外のエラストマー又は他の熱可塑性プラ
スチック及び、随時 C)標準的な添加剤 を含む混合物。
−CI−アルキJし、C、−C、−シクロアルキル、C
m−C+。−アリール、及びct−ctxアラールキル
を表し、 mは4ないし7の整数であり、 少なくとも1個の原子XにおいてR3及びR1の双方が
ともにアルキルを表すことを前提として、 R″およびR4は各々のXについて個々に選択してよく
、相互に独立に水素又はC1−01アルキルを表し、 Xは炭素原子を表す に相当するジフェノールを基剤とする熱可塑性ポリカー
ボネート、及び b)成分a)以外のエラストマー又は他の熱可塑性プラ
スチック及び、随時 C)標準的な添加剤 を含む混合物。
、2゜
a)0.1ないし99.9重量%の、少なくともlo、
ooo平均平均分子量値(重量平均分子量)を有し、下
記式 上式中 X、R’、R1、R3,R4及びmは上記lに記載の式
(1)に定義された意味を有する、に対応する二官能性
カーボネート構造単位を、各場合ともポリカーボネート
中の二官能性カーボネート構造単位の合計量を100モ
ル%として、100モル%ないし2モル%の量で含む、
高分子量、熱可塑性、芳香族ポリカーボネート、 b)99.9重量%ないし011重量%の、成分a)の
ポリカーボネート以外のエラストマー又は他の熱可塑性
プラスチック、 を含む混合物。
ooo平均平均分子量値(重量平均分子量)を有し、下
記式 上式中 X、R’、R1、R3,R4及びmは上記lに記載の式
(1)に定義された意味を有する、に対応する二官能性
カーボネート構造単位を、各場合ともポリカーボネート
中の二官能性カーボネート構造単位の合計量を100モ
ル%として、100モル%ないし2モル%の量で含む、
高分子量、熱可塑性、芳香族ポリカーボネート、 b)99.9重量%ないし011重量%の、成分a)の
ポリカーボネート以外のエラストマー又は他の熱可塑性
プラスチック、 を含む混合物。
3、(a)を熔融し、エラストマー(b)及び随時典型
的な添加剤(c)を添加し、成分(a)の熔融物中で均
質化することを特徴とする、(b)としてエラストマー
を含む上記1及び2に記載の混合物の製造方法。
的な添加剤(c)を添加し、成分(a)の熔融物中で均
質化することを特徴とする、(b)としてエラストマー
を含む上記1及び2に記載の混合物の製造方法。
1 (a)、(b)及び、随時、標準的な添加剤(c
)を溶液の形態で混合し、得られる混合物を通常の方法
で処理し、混合し、熔融物中で均質化することを特徴と
する(b)としてポリカーボネート(a)以外の他の熱
可塑性プラスチックを含む上記l及び2に記載の混合物
の製造方法。
)を溶液の形態で混合し、得られる混合物を通常の方法
で処理し、混合し、熔融物中で均質化することを特徴と
する(b)としてポリカーボネート(a)以外の他の熱
可塑性プラスチックを含む上記l及び2に記載の混合物
の製造方法。
5、上記1に記載の混合物のフィルム。
6.1ないし1500I1mの厚さを有する上記lに記
載の混合物のフィルム。
載の混合物のフィルム。
7、上記lに記載の混合物のフィルム及び他の1 合体
74ルムの複合フィルム。
74ルムの複合フィルム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 a)下記の式(I): ▲数式、化学式、表等があります▼(I) 式中、 R^1およびR^2は相互に独立に水素、ハロゲン、C
_1−C_5−アルキル、C_5−C_6−シクロアル
キル、C_6−C_1_0−アリール、及びC_7−C
_1_2−アラールキルを表し、 mは4ないし7の整数であり、 少なくとも1個の原子Xにおいて R^3及びR^4の
双方がともにアルキルを表すことを前提として、 R^3およびR^4は各々のXについて個々に選択して
よく、相互に独立に水素又はC_1−C_6−アルキル
を表し、 Xは炭素原子を表す に相当するジフェノールを基剤とする熱可塑性ポリカー
ボネート、及び b)成分a)以外のエラストマー又は他の熱可塑性プラ
スチック及び、随時 c)標準的な添加剤 を含む混合物。 2、(a)を熔融し、エラストマー(b)随時典型的な
添加剤(c)を添加し、成分(a)の熔融物中で均質化
することを特徴とする、(b)としてエラストマーを含
む上記1に記載の混合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3833953A DE3833953A1 (de) | 1988-10-06 | 1988-10-06 | Mischungen von speziellen, neuen polycarbonaten mit anderen thermoplasten oder mit elastomeren |
DE3837089 | 1988-11-01 | ||
DE3837089.1 | 1988-11-29 | ||
DE3840166.5 | 1988-11-29 | ||
DE3840166A DE3840166A1 (de) | 1988-11-01 | 1988-11-29 | Folien aus mischungen von speziellen, neuen polycarbonaten mit anderen thermoplasten oder mit elastomeren |
DE3833953.6 | 1988-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02166156A true JPH02166156A (ja) | 1990-06-26 |
JP2749663B2 JP2749663B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=27198328
Family Applications (1)
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