JPH02134361A - アルキルチオ安息香酸誘導体 - Google Patents
アルキルチオ安息香酸誘導体Info
- Publication number
- JPH02134361A JPH02134361A JP63288459A JP28845988A JPH02134361A JP H02134361 A JPH02134361 A JP H02134361A JP 63288459 A JP63288459 A JP 63288459A JP 28845988 A JP28845988 A JP 28845988A JP H02134361 A JPH02134361 A JP H02134361A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- liquid crystal
- optically active
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002253 acid Substances 0.000 title description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 10
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- -1 biphenyl ester Chemical class 0.000 abstract description 18
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 abstract description 17
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 abstract description 7
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 abstract description 7
- 230000005621 ferroelectricity Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000004044 response Effects 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- FMRRBUROSXDNJP-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxy-2-phenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 FMRRBUROSXDNJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000018199 S phase Effects 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- QPRQEDXDYOZYLA-YFKPBYRVSA-N (S)-2-methylbutan-1-ol Chemical compound CC[C@H](C)CO QPRQEDXDYOZYLA-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQSCHALQLXXKKC-UHFFFAOYSA-N 4-phenylmethoxybenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 AQSCHALQLXXKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 2
- VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N decane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCS VTXVGVNLYGSIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N sec-pentyl alcohol Natural products CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- GVCWRZMXKFRSRL-UHFFFAOYSA-N 2-decylbenzenecarbothioic s-acid Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1C(S)=O GVCWRZMXKFRSRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMOYUTKNPLBTMT-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1OCC1=CC=CC=C1 GMOYUTKNPLBTMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 4-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002262 Schiff base Substances 0.000 description 1
- 150000004753 Schiff bases Chemical class 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005012 alkyl thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004781 supercooling Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical group 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C323/62—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
- C09K19/20—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
- C09K19/2007—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
- C09K19/2021—Compounds containing at least one asymmetric carbon atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
この発明は、新規な液晶を呈する化合物、その製造法お
よびこれら化合物を使用した液晶素子を提供するもので
ある0本発明によって提供される液晶を呈する化合物は
、単独で強誘電性(キラルスメクチックC相)を呈する
化合物であり、電気光学的スイッチング素子として使用
される強誘電性液晶表示素子の構成成分となり得る新規
液晶化合物に関するものである。
よびこれら化合物を使用した液晶素子を提供するもので
ある0本発明によって提供される液晶を呈する化合物は
、単独で強誘電性(キラルスメクチックC相)を呈する
化合物であり、電気光学的スイッチング素子として使用
される強誘電性液晶表示素子の構成成分となり得る新規
液晶化合物に関するものである。
[従来の技術]
液晶化合物として数多く知られているものに。
ネマチック液晶と呼ばれているものがある。このものは
、現在液晶表示装置に使用される化合物又は組成物の主
流を成しているけれども、短所の一つに、応答速度が遅
く、数m S e Gのオーダーの応答速度しか得られ
ないということがあり、そのため表示の大型化に対して
限界に近づいていると言われている。
、現在液晶表示装置に使用される化合物又は組成物の主
流を成しているけれども、短所の一つに、応答速度が遅
く、数m S e Gのオーダーの応答速度しか得られ
ないということがあり、そのため表示の大型化に対して
限界に近づいていると言われている。
このような従来型の液晶表示素子の欠点を改善するもの
として、双安定性を有する液晶の使用がクラーク及びラ
ガウエルにより提案されている(特開昭56−1072
16号)、この双安定性を有する液晶は、強誘電性液晶
と呼ばれ、高速応答性とメモリ性が得られることが注目
され、特に近年において、その実用化の検討が活発であ
り、実用強訪電性液晶物質の開発が急務になっている。
として、双安定性を有する液晶の使用がクラーク及びラ
ガウエルにより提案されている(特開昭56−1072
16号)、この双安定性を有する液晶は、強誘電性液晶
と呼ばれ、高速応答性とメモリ性が得られることが注目
され、特に近年において、その実用化の検討が活発であ
り、実用強訪電性液晶物質の開発が急務になっている。
一般に、強誘電性は、光学活性部位を有する化合物で、
かつその分子長軸が層の法線方向からチルトした分子配
向をを有する一連のスメクチック相において発現される
。中でも、キラルスメクチックC(以下Sどと略記する
)相は、比較的低電圧動作性のため実用上優位とされる
。
かつその分子長軸が層の法線方向からチルトした分子配
向をを有する一連のスメクチック相において発現される
。中でも、キラルスメクチックC(以下Sどと略記する
)相は、比較的低電圧動作性のため実用上優位とされる
。
このように強誘電性液晶は、自発分極を有するために非
常に速い応答速度を有する上に、メモリ性のある双安定
状態を発現させることができ、さらに視野角が優れてい
ることから、大容量大画面のデイスプレィ用材料として
適している。
常に速い応答速度を有する上に、メモリ性のある双安定
状態を発現させることができ、さらに視野角が優れてい
ることから、大容量大画面のデイスプレィ用材料として
適している。
このような強誘電性液晶として1975年、RlB、
Meyerらにより合成された4−(4−n−デシルオ
キシベンジリデンアミノ)桂皮a−2−メチルブチルエ
ステル(以下00口AMBGと略記する。)が知られて
いる(J、Physique 36 L−691197
51) 。
Meyerらにより合成された4−(4−n−デシルオ
キシベンジリデンアミノ)桂皮a−2−メチルブチルエ
ステル(以下00口AMBGと略記する。)が知られて
いる(J、Physique 36 L−691197
51) 。
この000AMBCは、シッフベースを構造内に含むた
め、その化学的安定性に難がある。そこで、強誘電性液
晶材料として、物理的、化学的に安定な種々の化合物が
探索され、現在、4−14−nアルキルオキシフェニル
)−1−カルボン酸−2−メチルブチルエステル(以下
CNと略記する。)を始めとするエステル系化合物の探
索にその主力が移ってきている。しかし、このCNを始
めとするエステル系化合物は、Sc°相を示さないか、
示したとしてもその5c11相を示す温度範囲が狭く、
しがも液晶な加熱、冷却したときで異な、る相系列を示
すモノトロピック液晶であるため、実用に耐えるものは
少ない(Liquid Crystals and 0
rderedFluids 4(19J141) 。
め、その化学的安定性に難がある。そこで、強誘電性液
晶材料として、物理的、化学的に安定な種々の化合物が
探索され、現在、4−14−nアルキルオキシフェニル
)−1−カルボン酸−2−メチルブチルエステル(以下
CNと略記する。)を始めとするエステル系化合物の探
索にその主力が移ってきている。しかし、このCNを始
めとするエステル系化合物は、Sc°相を示さないか、
示したとしてもその5c11相を示す温度範囲が狭く、
しがも液晶な加熱、冷却したときで異な、る相系列を示
すモノトロピック液晶であるため、実用に耐えるものは
少ない(Liquid Crystals and 0
rderedFluids 4(19J141) 。
一方、硫黄を含む液晶化合物として、アルキルチオエス
テル(Liquid Crystals and 0r
deredFluids 4f1984))やフェニル
チオエステル(特開昭62−205056号、62−2
81854号、63−27451号)等のチオエステル
骨格を有する強誘電性液晶や、特開昭62−29276
6号に登載されているアルキルヂオフェニルビリミジン
骨格を含む強誘電性液晶が知られている。
テル(Liquid Crystals and 0r
deredFluids 4f1984))やフェニル
チオエステル(特開昭62−205056号、62−2
81854号、63−27451号)等のチオエステル
骨格を有する強誘電性液晶や、特開昭62−29276
6号に登載されているアルキルヂオフェニルビリミジン
骨格を含む強誘電性液晶が知られている。
しかし、これら化合物はSc“相の温度範囲が狭く、あ
るいはモノトロピック液晶であるため、現在まで硫黄原
子を骨格に導入することは、強誘電性液晶として有効と
は言えなかった。
るいはモノトロピック液晶であるため、現在まで硫黄原
子を骨格に導入することは、強誘電性液晶として有効と
は言えなかった。
一方、現在までアルキルチオ安息香酸骨格を含み、かつ
不斉炭素原子を含む光学的に活性なカルボニルオキシ基
がフェニル基に結合した骨格については知られていない
、そこで、エステル系強誘電性液晶や既知の硫黄含有強
誘電性液晶に比べ。
不斉炭素原子を含む光学的に活性なカルボニルオキシ基
がフェニル基に結合した骨格については知られていない
、そこで、エステル系強誘電性液晶や既知の硫黄含有強
誘電性液晶に比べ。
Sど相の温度範囲が広(モノトロピックでない強誘電性
液晶の開発が望まれていた。
液晶の開発が望まれていた。
1本発明が解決しようとする課題1
本発明は、強誘電性液晶表示に用いる液晶化合物として
、 l エステル結合を有し極めて化学的に安定な化合物 2 広い温度範囲でSど相を示す化合物3、骨格的に低
粘度である化合物 4、カルボニル基に由来する大きい自発分極を有する化
合物 5、印加電界に対して高速応答性を示す化合物を満たす
化合物を見出し、実際に表示素子として使用できる化合
物を提供することにある。
、 l エステル結合を有し極めて化学的に安定な化合物 2 広い温度範囲でSど相を示す化合物3、骨格的に低
粘度である化合物 4、カルボニル基に由来する大きい自発分極を有する化
合物 5、印加電界に対して高速応答性を示す化合物を満たす
化合物を見出し、実際に表示素子として使用できる化合
物を提供することにある。
そこで本発明はこのような要求に応じるため、現在まで
考慮されていなかった硫黄原子の物性(例^ば炭素原子
程度の低い電気陰性度、スルフィド結合に折れ曲がり角
度96°等)に着目し、これを利用し、低い温度で幅広
いS c”相を持つ化合物を提供することにある。
考慮されていなかった硫黄原子の物性(例^ば炭素原子
程度の低い電気陰性度、スルフィド結合に折れ曲がり角
度96°等)に着目し、これを利用し、低い温度で幅広
いS c”相を持つ化合物を提供することにある。
更に、従来合成が困難とされていたアルキルチオ安息香
酸をp−アミノ安息香酸とアルキルメルカプタンとから
簡便番こアルキルチオ安息香酸を合成する新規合成法を
見出し、これを中間体とすることで容易に液晶化合物の
アルキル鎖の長さが変更でき、そのために発現する液晶
相のl類や温度範囲の制御を容易にすることが可能な液
晶化合物を提供することにある。
酸をp−アミノ安息香酸とアルキルメルカプタンとから
簡便番こアルキルチオ安息香酸を合成する新規合成法を
見出し、これを中間体とすることで容易に液晶化合物の
アルキル鎖の長さが変更でき、そのために発現する液晶
相のl類や温度範囲の制御を容易にすることが可能な液
晶化合物を提供することにある。
[課題を解決するためのT′−段]
本発明によって提供される化合物は、−数式%式%(1
1 [式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わし6、
m、nはそれぞれ0又はlの整数を表わしくただし、(
m、n)= (0,1)の組み合わせを除<)、Q”は
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表わ
す] で表わされる、新規なアルキルチオ安息香酸誘導体を提
供するものである。
1 [式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わし6、
m、nはそれぞれ0又はlの整数を表わしくただし、(
m、n)= (0,1)の組み合わせを除<)、Q”は
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表わ
す] で表わされる、新規なアルキルチオ安息香酸誘導体を提
供するものである。
本発明では、アルキル基と安息香酸エステル基とをkt
ljで結合したチオエーテル骨格を用いたことにより、
硫黄原子の物性を、Sど相の発現や強誘電性に寄与させ
ることができた。
ljで結合したチオエーテル骨格を用いたことにより、
硫黄原子の物性を、Sど相の発現や強誘電性に寄与させ
ることができた。
すなわち、硫肯原子の炭素程度の低い電気陰性度を、不
斉炭素原子の近傍に位置したカルボニル基の双極子モー
メントの増大に利用し、スルフィドの折れ曲がり角96
°を、液晶分子の層内での傾き易さ、螺旋構造の取り易
さに利用することで本発明を完成させた。
斉炭素原子の近傍に位置したカルボニル基の双極子モー
メントの増大に利用し、スルフィドの折れ曲がり角96
°を、液晶分子の層内での傾き易さ、螺旋構造の取り易
さに利用することで本発明を完成させた。
本発明に係る化合物は次の製造法にしたがって製造する
ことができる。
ことができる。
[式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わす、]
式(i])で示される化合物又はその反応性誘導体と、
・・・・・・ (II! )
[式中、m、nはそれぞれ0又は1の整数を表わしくた
だし、(m、n)= (0,1)の組み合わせを除()
、Qゝは不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル
基を表わす、] 式(111)で示される化合物とを反応させることによ
って出来る。
だし、(m、n)= (0,1)の組み合わせを除()
、Qゝは不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル
基を表わす、] 式(111)で示される化合物とを反応させることによ
って出来る。
式(II )で示されるアルキルチオ安息香酸は、従来
合成が困難で入手し難い化合物であるが、これを廉価な
p−アミノ安息香酸を塩酸水溶液中、亜硝酸ナトリウム
にてジアゾニウム塩に変換させたのち、これを単離する
ことなく直接、アルキルメルカブタンを反応させて製造
することができることを見出した。
合成が困難で入手し難い化合物であるが、これを廉価な
p−アミノ安息香酸を塩酸水溶液中、亜硝酸ナトリウム
にてジアゾニウム塩に変換させたのち、これを単離する
ことなく直接、アルキルメルカブタンを反応させて製造
することができることを見出した。
これは、特に中間体としてアリルメルカプト化合物を用
いないため、容易にアルキル鎖の異なるチオエーテル骨
格を取得する新規な製造性であり、アルキルチオ安息香
酸骨格を初めて液晶骨格に取り入れることが可能になっ
た。
いないため、容易にアルキル鎖の異なるチオエーテル骨
格を取得する新規な製造性であり、アルキルチオ安息香
酸骨格を初めて液晶骨格に取り入れることが可能になっ
た。
式(II)で示される化合物中の置換基Rとして、長鎖
アルキル基(好ましくは、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル)が挙げられる。
アルキル基(好ましくは、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル)が挙げられる。
式(Ill )で示される化合物は、4−ヒドロキシ安
息香酸や、4°−(4−ヒドロキシフェニル)安息香酸
を出発原料とし、ハロゲン化ベンジルを作用させ、4−
ベンジルオキシ安息香酸や4°−(4−ベンジルオキシ
フェニル)安息香酸を合成し、これに光学的に活性なア
ルコールを縮合させた後、脱ベンジル化して製造するこ
とができる。
息香酸や、4°−(4−ヒドロキシフェニル)安息香酸
を出発原料とし、ハロゲン化ベンジルを作用させ、4−
ベンジルオキシ安息香酸や4°−(4−ベンジルオキシ
フェニル)安息香酸を合成し、これに光学的に活性なア
ルコールを縮合させた後、脱ベンジル化して製造するこ
とができる。
式(II )と式(Ill )で示される化合物の反応
は適宜、溶媒中(例えば、酢酸エチル、トルエン・ベン
ゼン、キシレン、エチルエーテル5テロトヒドロフラン
、ヘキサン等)、縮合剤の存在化で行なうか・式(11
)で示される化合物の反応誘導体を使用して行なう、そ
の際の縮合剤としては、シンクロヘキシルカルボジイミ
ド等が挙げられ1反応誘導体を使用する場合における反
応誘導体としては、酸クロライド等の酸ハライド等が挙
げられる。
は適宜、溶媒中(例えば、酢酸エチル、トルエン・ベン
ゼン、キシレン、エチルエーテル5テロトヒドロフラン
、ヘキサン等)、縮合剤の存在化で行なうか・式(11
)で示される化合物の反応誘導体を使用して行なう、そ
の際の縮合剤としては、シンクロヘキシルカルボジイミ
ド等が挙げられ1反応誘導体を使用する場合における反
応誘導体としては、酸クロライド等の酸ハライド等が挙
げられる。
上述した方法にて製造した化合物は、意外にもVa M
原子を入れても融点が上がらず、酸素の場合に比べほと
んど変わることな(、シかも広い範囲で強誘電性を示す
ことが判明した。
原子を入れても融点が上がらず、酸素の場合に比べほと
んど変わることな(、シかも広い範囲で強誘電性を示す
ことが判明した。
[作 用J
本発明における式(1)の化合物は、硫黄原子ををチオ
エーテル骨格として有するアルキルチオ安息香酸誘導体
の液晶化合物である。
エーテル骨格として有するアルキルチオ安息香酸誘導体
の液晶化合物である。
特に、直鎖アルキルチオエーテル骨格としたときは、長
鎖アルギル基のフレキシブル基と安息香酸を含むコア基
との結合角を、エーテル結合に比べ、約10“程小さく
することが可能となり、分子の層内での傾き易(かつ広
い温度範囲で強誘電性を示すことが可能になった。
鎖アルギル基のフレキシブル基と安息香酸を含むコア基
との結合角を、エーテル結合に比べ、約10“程小さく
することが可能となり、分子の層内での傾き易(かつ広
い温度範囲で強誘電性を示すことが可能になった。
本発明の化合物は、上記理由により応答性、メモリ性に
優れた液晶表示素子の利用可能性を有する強誘電性液晶
材料である。
優れた液晶表示素子の利用可能性を有する強誘電性液晶
材料である。
また本発明の化合物は、既に知られている強誘電性液晶
材料物と配合して強誘電性を示す温度領域を上下に広げ
たり、応答性を改善したりできる。
材料物と配合して強誘電性を示す温度領域を上下に広げ
たり、応答性を改善したりできる。
[実施例1
以下、実施例により本発明の化合物について更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
以下、C,S、、S、、Sc、SA、I相はそれぞれ結
晶、スメクチックB相、はっきりと同定出来ないがキラ
ルスメクチツク相、キセルスメクチックC相、スメクチ
ックA相1等方相を示す。
晶、スメクチックB相、はっきりと同定出来ないがキラ
ルスメクチツク相、キセルスメクチックC相、スメクチ
ックA相1等方相を示す。
本発明の化合物の精製は、シリカゲルクロマトグラフィ
ー及びアルコール、ヘキサンによる再結晶にて行なった
。以下に示す相転移点の測定値は、物質の純度により若
干の影響を受けることもある。
ー及びアルコール、ヘキサンによる再結晶にて行なった
。以下に示す相転移点の測定値は、物質の純度により若
干の影響を受けることもある。
〈実施例1〉
4−ローデシルチオフェニル−1−カルボン酸−(ρf
sl−2−メヂルブチル才キシ力ルポニル)ビフェニル
エステルの合成。
sl−2−メヂルブチル才キシ力ルポニル)ビフェニル
エステルの合成。
+1−1−
1)及び水30.0mβを、激しく撹拌しながら50℃
に加熱し懸濁させた後、0℃付近まで油1品を下げる。
に加熱し懸濁させた後、0℃付近まで油1品を下げる。
この懸濁液に、亜硝酸ナトリウム5.18gを最少用の
水に溶かしたものを徐々に加えてジアゾ化する。このと
き必要ならば、水を加え液温が0〜5℃に保たれるよう
にする0反応液が黄色透明になる点を終点とし1次に、
酢酸ナトリウム冷飽和水溶液で液中p Hを6に合わせ
る。このとき析出物があれば濾過する。デシルメルカプ
タン13.1gを水酸化ナトリウム6.00gの水30
.OmQifJ液に溶かし、0〜5℃に保らmけしなが
ら、上記のジアゾニウム塩溶液を徐々に滴下してい(0
滴下完了後、反応液を1時間かけて60℃に加熱し、そ
の後60℃、2時間撹拌を続けると激しい反応が起こり
窒素が発生する。窒素発生が収まった後冷却し、褐色の
固形物を濾過する。この固形物に、水500mQ、2−
プロパツール50m!2を加え、lfiけしながら70
℃に加熱し固形物を溶解させる。その後10Wし%硫酸
を液中p)Iを1以下になるように加えた後、5℃番こ
冷却して析出物を得る。この析出物をn−ヘキサン30
0mQ及びメタノール200mλで再結晶を行なうこと
で無色St状品の牛 I−デシルチオ安息香酸8.20gが得られる(収率3
7%)。
水に溶かしたものを徐々に加えてジアゾ化する。このと
き必要ならば、水を加え液温が0〜5℃に保たれるよう
にする0反応液が黄色透明になる点を終点とし1次に、
酢酸ナトリウム冷飽和水溶液で液中p Hを6に合わせ
る。このとき析出物があれば濾過する。デシルメルカプ
タン13.1gを水酸化ナトリウム6.00gの水30
.OmQifJ液に溶かし、0〜5℃に保らmけしなが
ら、上記のジアゾニウム塩溶液を徐々に滴下してい(0
滴下完了後、反応液を1時間かけて60℃に加熱し、そ
の後60℃、2時間撹拌を続けると激しい反応が起こり
窒素が発生する。窒素発生が収まった後冷却し、褐色の
固形物を濾過する。この固形物に、水500mQ、2−
プロパツール50m!2を加え、lfiけしながら70
℃に加熱し固形物を溶解させる。その後10Wし%硫酸
を液中p)Iを1以下になるように加えた後、5℃番こ
冷却して析出物を得る。この析出物をn−ヘキサン30
0mQ及びメタノール200mλで再結晶を行なうこと
で無色St状品の牛 I−デシルチオ安息香酸8.20gが得られる(収率3
7%)。
I R: 29:l11. 1680、1600.
1420、1290(c m−’) ’II−NMR: 0.90、1.28.3.00.7.30.7.98(
ppm) p−ヒドロキシビフェニルカルボン酸(s)−2メチル
ブチルエステルの合成: p−ヒドロキシビフェニルカルボンaF3.75gを、
(s)−2−メチルブチルアルコール4.63gと共に
、I)−)ルエンスルフォン#0.lOgのa在下、約
6時間加熱還流した後濾過し、未反応のp−ヒドロキシ
ビフェニルカルボン酸を除く0次に、1llNJIをエ
バボレートし、未反応の(s)−2−メチルブチルアル
コールを留去し、得た結晶をn−ヘキサン200mRよ
り再結晶し、対応する無色の化合物2.05gを得た(
収+41%)。
1420、1290(c m−’) ’II−NMR: 0.90、1.28.3.00.7.30.7.98(
ppm) p−ヒドロキシビフェニルカルボン酸(s)−2メチル
ブチルエステルの合成: p−ヒドロキシビフェニルカルボンaF3.75gを、
(s)−2−メチルブチルアルコール4.63gと共に
、I)−)ルエンスルフォン#0.lOgのa在下、約
6時間加熱還流した後濾過し、未反応のp−ヒドロキシ
ビフェニルカルボン酸を除く0次に、1llNJIをエ
バボレートし、未反応の(s)−2−メチルブチルアル
コールを留去し、得た結晶をn−ヘキサン200mRよ
り再結晶し、対応する無色の化合物2.05gを得た(
収+41%)。
4−n−デシルチオフェニル−1−カルボン酸−(pt
ql−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェニル
エステルの合成: (1−1)で合成したn〜デシルチオ安息香酸4、oo
gを四塩化炭素50mβ中、塩化チオニル16.2gと
共に3時間加熱還流した後、未反応の塩化チオニル及び
四塩化炭素を留去し、黄色の油状物を得た6次に3−A
で合成したp−ヒドロキシビフェニルカルボン酸1sl
−2−メチルブチルニスデル3.90gをトルエンlo
omffに溶かした1flifflを加え、更にピリジ
ン5.40gを加え、80℃にて3時間攪拌する0反応
終了徨、酢酸エチル100 m A及び5wt、%塩M
200 m gを加ル抽出した。この酢酸エチル層を
飽和食塩水100mffで洗った後、無水硫酸ナトリウ
ムを入れ乾燥さセた。酢酸エチルを留去して、これをn
ヘキサン 酢酸エチル=5=1混合物を溶離液としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離し、無色
結晶を得た。更に、この結晶をn−ヘキナン、メタノー
ルより再結晶し、4−〇−デシルチオフェニルー1−カ
ルボン酸−+1)−(31−2−メチルブチルオキシカ
ルボニル)ビフェニルエステル3、lugを得た。取得
物について以下の測定により構造を確認した。
ql−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェニル
エステルの合成: (1−1)で合成したn〜デシルチオ安息香酸4、oo
gを四塩化炭素50mβ中、塩化チオニル16.2gと
共に3時間加熱還流した後、未反応の塩化チオニル及び
四塩化炭素を留去し、黄色の油状物を得た6次に3−A
で合成したp−ヒドロキシビフェニルカルボン酸1sl
−2−メチルブチルニスデル3.90gをトルエンlo
omffに溶かした1flifflを加え、更にピリジ
ン5.40gを加え、80℃にて3時間攪拌する0反応
終了徨、酢酸エチル100 m A及び5wt、%塩M
200 m gを加ル抽出した。この酢酸エチル層を
飽和食塩水100mffで洗った後、無水硫酸ナトリウ
ムを入れ乾燥さセた。酢酸エチルを留去して、これをn
ヘキサン 酢酸エチル=5=1混合物を溶離液としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離し、無色
結晶を得た。更に、この結晶をn−ヘキナン、メタノー
ルより再結晶し、4−〇−デシルチオフェニルー1−カ
ルボン酸−+1)−(31−2−メチルブチルオキシカ
ルボニル)ビフェニルエステル3、lugを得た。取得
物について以下の測定により構造を確認した。
’H−NMlt
0.85. 3.40、4.21. 7.27. 8.
15(p pm) マススペクトル: m/ z 二 5 6 0 (M+)元素分析: 炭素:計算イ直 7496% 実測値 74.22% 水素、計15値 791% 実測値 7.78% 硫黄、計算値 5.72% 実測t(i 5.50% 〈実施例2〉 4−n−ドデシルチオフェニルートヵルポンm−(pf
sl−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェニル
エステルの合成: +2−1) II−ドデシルチオ安、Q香酷の合成:(1−11にお
いてデシルメルカプタンに換えて、ドデシルメルカプタ
ンを用いて、同様の反応を行なった。1ル1られたn−
ドデシルチオ安、9合酸のNMRlIRは合成例(1−
1)における物とほとんど同様であって、わずかにメチ
レン鎖に対応するピークあるいは強度比の異なったピー
クを与^た。
15(p pm) マススペクトル: m/ z 二 5 6 0 (M+)元素分析: 炭素:計算イ直 7496% 実測値 74.22% 水素、計15値 791% 実測値 7.78% 硫黄、計算値 5.72% 実測t(i 5.50% 〈実施例2〉 4−n−ドデシルチオフェニルートヵルポンm−(pf
sl−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェニル
エステルの合成: +2−1) II−ドデシルチオ安、Q香酷の合成:(1−11にお
いてデシルメルカプタンに換えて、ドデシルメルカプタ
ンを用いて、同様の反応を行なった。1ル1られたn−
ドデシルチオ安、9合酸のNMRlIRは合成例(1−
1)における物とほとんど同様であって、わずかにメチ
レン鎖に対応するピークあるいは強度比の異なったピー
クを与^た。
4−n−ドデシルチオフェニル−1−カルボン酸−(p
−(sl−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェ
ニルエステルの合成; 合成例(1−3)において、n−デシルチオ安息香酸に
換えて、1トドデシルチオ安息香酸を用いて同様の反応
を行なった。得られた4−n−ドデシルチオフェニル−
1−カルボン酸−(P−1s)−2−メチルブチルオキ
シカルボニル)ビフェニルエステルのN M Rは、合
成例(1−3)における物とほとんど同様であり、わず
かにメチレン鎖に対応するピークあるいは吸収の強度比
の異なったチャートを与えた。
−(sl−2−メチルブチルオキシカルボニル)ビフェ
ニルエステルの合成; 合成例(1−3)において、n−デシルチオ安息香酸に
換えて、1トドデシルチオ安息香酸を用いて同様の反応
を行なった。得られた4−n−ドデシルチオフェニル−
1−カルボン酸−(P−1s)−2−メチルブチルオキ
シカルボニル)ビフェニルエステルのN M Rは、合
成例(1−3)における物とほとんど同様であり、わず
かにメチレン鎖に対応するピークあるいは吸収の強度比
の異なったチャートを与えた。
〈実施例3〉
4−iisi2−メチルブチルオキシカルボニル)今一
フェニル−4−(ドデシルヂオペンゾイルオキへ
シ)ベンゾエートの合成;
p−ヒドロキシ安息香酸−4−((sl−2−メチルブ
チルオキシカルボニル)フェニルエステルノ合成p−ベ
ンジルオキシ安息香酸6.54gを四塩化炭素40mI
2中、塩化チオニル12.5gと共に3時間加熱還流し
た後、未反応の塩化チオニル及び四塩化炭素を留去し、
黄色の油状物を得た1次に1sl−2−メチルブチルア
ルコール1.64gをトルエン40.0mI2に溶がし
た溶液を加え、3時間加熱還流する0反応終了後、反応
液に酢酸エチル30.0mn、5wt%塩酸100mf
fを加水100m1で洗った後、無水硫酸ナトリウムを
入れ乾燥させた。酢酸エチルを留去して、これをローヘ
キサン・酢酸エチル=10:l混合物を溶離液としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離し、無色
油状物4.49gを得た1次に、この油状物をエタノー
ル15mI2に溶解し、シクロヘキセン6.75g及び
パラジウムブラック0.45gの存在下、1時間加熱還
流した6反応液を濾過しパラジウムブラックを除いた後
、エタノール及びシクロヘキセンを留去して得られる無
色油状物をトルエン80.0mβに溶解させ。
チルオキシカルボニル)フェニルエステルノ合成p−ベ
ンジルオキシ安息香酸6.54gを四塩化炭素40mI
2中、塩化チオニル12.5gと共に3時間加熱還流し
た後、未反応の塩化チオニル及び四塩化炭素を留去し、
黄色の油状物を得た1次に1sl−2−メチルブチルア
ルコール1.64gをトルエン40.0mI2に溶がし
た溶液を加え、3時間加熱還流する0反応終了後、反応
液に酢酸エチル30.0mn、5wt%塩酸100mf
fを加水100m1で洗った後、無水硫酸ナトリウムを
入れ乾燥させた。酢酸エチルを留去して、これをローヘ
キサン・酢酸エチル=10:l混合物を溶離液としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離し、無色
油状物4.49gを得た1次に、この油状物をエタノー
ル15mI2に溶解し、シクロヘキセン6.75g及び
パラジウムブラック0.45gの存在下、1時間加熱還
流した6反応液を濾過しパラジウムブラックを除いた後
、エタノール及びシクロヘキセンを留去して得られる無
色油状物をトルエン80.0mβに溶解させ。
水20.Orr+12で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、トルエンを留去し、+5l−2−メチルブチル−
4ヒドロキシベンゾエート2.99gを得た(収率93
%)。次に、p−ベンジルオキシ安息香酸0.80gを
四塩化炭素15mj2中、塩化チオ;ル4.17gと共
に3時間加熱還流した後、未反応の塩化チオニル及び四
塩化炭素を留去し、黄色の油状物を得た。次に、上述し
た(sl2−メチルプヂル〜4=ヒドロキシベンゾニー
1−0.73gをトルエン7.00mgに溶かした溶液
を加え、更にピリジン3.50gを加え、80℃にて3
時間撹拌する。反応終了後、酢酸エチル30.0mI2
及後、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。酢酸エチ
ルを留去して、メタノールより再結晶し、4((s)−
2−メチルブチルオキシカルボニル)フェニル−4−ベ
ンジルオキシベンゾエート0.89gを得た8次に、こ
れをエタノールIO,Orr+j!に溶解し、シクロヘ
キセン1.Olg及びパラジウムブラック0.18gの
存在下、1時間加熱還流した8反応?庚を濾過しパラジ
ウムブラックを除いた後、エタノール及びシクロヘキセ
ンを留去し、p−ヒドロキシ安息香酸−4−++31−
2−メチルブチル才ギシ力ルボニル)フェニルエステル
0.69gを14た。
燥後、トルエンを留去し、+5l−2−メチルブチル−
4ヒドロキシベンゾエート2.99gを得た(収率93
%)。次に、p−ベンジルオキシ安息香酸0.80gを
四塩化炭素15mj2中、塩化チオ;ル4.17gと共
に3時間加熱還流した後、未反応の塩化チオニル及び四
塩化炭素を留去し、黄色の油状物を得た。次に、上述し
た(sl2−メチルプヂル〜4=ヒドロキシベンゾニー
1−0.73gをトルエン7.00mgに溶かした溶液
を加え、更にピリジン3.50gを加え、80℃にて3
時間撹拌する。反応終了後、酢酸エチル30.0mI2
及後、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。酢酸エチ
ルを留去して、メタノールより再結晶し、4((s)−
2−メチルブチルオキシカルボニル)フェニル−4−ベ
ンジルオキシベンゾエート0.89gを得た8次に、こ
れをエタノールIO,Orr+j!に溶解し、シクロヘ
キセン1.Olg及びパラジウムブラック0.18gの
存在下、1時間加熱還流した8反応?庚を濾過しパラジ
ウムブラックを除いた後、エタノール及びシクロヘキセ
ンを留去し、p−ヒドロキシ安息香酸−4−++31−
2−メチルブチル才ギシ力ルボニル)フェニルエステル
0.69gを14た。
実施例(2−1)で合成したn−ドデシルチオ安、9香
酸2.OOgを四塩イヒ炭素50 m g中、塩化チオ
ニル1.4.9gと共に3時間加熱還流したリウム水溶
液、飽和食塩水50.0m!で洗ったp−ヒドロキシ安
息香酸−4−(fsl−2−メチルブチルオ午ジカルボ
ニル〕フェニルエステル2.04gをトルエン50.0
mI2に溶かした溶液を加え、更にピリジン4.90g
を加え、80℃にて3時間撹拌する0反応路r後、酢酸
エチルloomff及び5 w t、%塩酸200 m
12を加え、酢酸エチル抽出した。この酢酸エチル層
を5wt%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水10
0mI2で洗った後、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥さ
せた。酢酸エチルを留去して、これをn−ヘキサンより
再結晶し、無色粉末結晶を4− f tsl−2−メチ
ルブチルオキシカルボニル)フェニル−4−(4−ドデ
シルチオベンゾイルオキシ)ベンゾエート2.OOgを
得た(収率50%)。
酸2.OOgを四塩イヒ炭素50 m g中、塩化チオ
ニル1.4.9gと共に3時間加熱還流したリウム水溶
液、飽和食塩水50.0m!で洗ったp−ヒドロキシ安
息香酸−4−(fsl−2−メチルブチルオ午ジカルボ
ニル〕フェニルエステル2.04gをトルエン50.0
mI2に溶かした溶液を加え、更にピリジン4.90g
を加え、80℃にて3時間撹拌する0反応路r後、酢酸
エチルloomff及び5 w t、%塩酸200 m
12を加え、酢酸エチル抽出した。この酢酸エチル層
を5wt%炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水10
0mI2で洗った後、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥さ
せた。酢酸エチルを留去して、これをn−ヘキサンより
再結晶し、無色粉末結晶を4− f tsl−2−メチ
ルブチルオキシカルボニル)フェニル−4−(4−ドデ
シルチオベンゾイルオキシ)ベンゾエート2.OOgを
得た(収率50%)。
(実施例4〜7)
上述の方法にて、アルキル鎖長、ベンゼンq数、エステ
ル結合数、光学活性基が1s)−2−メチルブチル、
(s)−1−メチルへブチルおよびtsl−1−メチ
ルブチル等と08の胃なった式(1)で示される化合物
を合成し、現在までの硫黄を含む強誘電性液晶には見ら
れなかった幅広い温度領域でS c”を示す化合物を得
た0次表に、この様にして得られたアルキルチオ安息香
酸骨格を含む化合物の相転移の例を示す。
ル結合数、光学活性基が1s)−2−メチルブチル、
(s)−1−メチルへブチルおよびtsl−1−メチ
ルブチル等と08の胃なった式(1)で示される化合物
を合成し、現在までの硫黄を含む強誘電性液晶には見ら
れなかった幅広い温度領域でS c”を示す化合物を得
た0次表に、この様にして得られたアルキルチオ安息香
酸骨格を含む化合物の相転移の例を示す。
(以下余白)
(実施例8)
実施例1で得られた4−n−デシルチオフェニル−1カ
ルボン酸−1p−fsl−2−メチルブチルオキシカル
ボニル)ビフェニルエステルを加熱し1等方性液体とし
た。これを、厚さ3ミクロンのスペーサーを介した2枚
のガラス透明電極に真空注入法によって注入し、薄膜セ
ルを作成した。然る後、1分間に0.5℃の割合で冷却
し、スペーサーエツジ法によりSA相を配向させ、更に
109.3℃以下に冷却して螺旋構造が消失している均
一なモノドメインを得た。90℃にて、このセルに±2
0ボルト、50ヘルツの短形波を印加したところ、約1
m5ecの明瞭な速い応答が確認できた。
ルボン酸−1p−fsl−2−メチルブチルオキシカル
ボニル)ビフェニルエステルを加熱し1等方性液体とし
た。これを、厚さ3ミクロンのスペーサーを介した2枚
のガラス透明電極に真空注入法によって注入し、薄膜セ
ルを作成した。然る後、1分間に0.5℃の割合で冷却
し、スペーサーエツジ法によりSA相を配向させ、更に
109.3℃以下に冷却して螺旋構造が消失している均
一なモノドメインを得た。90℃にて、このセルに±2
0ボルト、50ヘルツの短形波を印加したところ、約1
m5ecの明瞭な速い応答が確認できた。
(比較例1)
以下、現在まで知られている硫黄を骨格に含む強誘電性
液晶の代表的な物を取り上げ比較する。
液晶の代表的な物を取り上げ比較する。
(以下余白)
79 ℃
67 ℃
89 ℃
88 ℃
lOO℃
99 ℃
■
58.6℃
rys
\
Is。
/ 58.5℃
拳* 過冷却
■
CH。
71℃ 76℃ 82℃
手続補正書
平成元年 2月20日
[発明の効果J
Claims (3)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) [式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わし、m
,nは、それぞれ0又は1の整数を表わし、(ただし、
(m,n)=(0,1)の組み合わせを除く)、Q°は
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表わ
す] で表わされる光学活性な安息香酸誘導体。 - (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼……(II) [式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わす。] で表わされる化合物又はその反応性誘導体と、一般式(
III) ▲数式、化学式、表等があります▼……(III) [式中、m,nは、それぞれ0又は1の整数を表わし、
(ただし、(m,n)=(0,1)の組み合わせを除く
)、Q°は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキ
ル基を表わす] で表わされる化合物を反応させて、 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) [式中、R,m,n,Q°は上記と同じ] で表わされる光学活性な安息香酸誘導体の製造方法。 - (3)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) [式中、Rは炭素数6〜14のアルキル基を表わし、m
,nは、それぞれ0又は1の整数を表わし、(ただし、
(m,n)=(0,1)の組み合わせを除く)、Q°は
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表わ
す] で表わされる光学活性な安息香酸誘導体を少なくとも一
種配合成分として含有することを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63288459A JP2579810B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | アルキルチオ安息香酸誘導体 |
DE3937879A DE3937879A1 (de) | 1988-11-14 | 1989-11-14 | Optisch aktive benzoesaeurederivate, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende fluessigkristallvorrichtungen |
US07/435,872 US5055225A (en) | 1988-11-14 | 1989-11-14 | Alkyl thiobenzoate derivative, production of same and liquid crystal display element |
US07/828,224 US5229032A (en) | 1988-11-14 | 1992-01-30 | Process for producing an optically active benzoic acid derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63288459A JP2579810B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | アルキルチオ安息香酸誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02134361A true JPH02134361A (ja) | 1990-05-23 |
JP2579810B2 JP2579810B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=17730485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63288459A Expired - Lifetime JP2579810B2 (ja) | 1988-11-14 | 1988-11-14 | アルキルチオ安息香酸誘導体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5055225A (ja) |
JP (1) | JP2579810B2 (ja) |
DE (1) | DE3937879A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5229032A (en) * | 1988-11-14 | 1993-07-20 | Showa Denko K.K. | Process for producing an optically active benzoic acid derivative |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3685032D1 (de) * | 1985-01-09 | 1992-06-04 | Dainippon Ink & Chemicals | Substituierte fluessigkristallverbindungen. |
US4943386A (en) * | 1985-01-09 | 1990-07-24 | Dainippon Ink & Chemicals, Inc. | Liquid crystalline compounds having substituents |
GB8501509D0 (en) * | 1985-01-22 | 1985-02-20 | Secr Defence | Esters |
DE3629446A1 (de) * | 1985-09-04 | 1987-03-12 | Canon Kk | Optisch aktive thiole und deren mesomorphe esterderivate |
US4816178A (en) * | 1986-04-30 | 1989-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Optically active compound and liquid crystal composition containing same |
JPH07116131B2 (ja) * | 1987-06-15 | 1995-12-13 | チッソ株式会社 | チオエ−テル化合物及び液晶組成物 |
-
1988
- 1988-11-14 JP JP63288459A patent/JP2579810B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-14 US US07/435,872 patent/US5055225A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-14 DE DE3937879A patent/DE3937879A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3937879A1 (de) | 1990-05-17 |
JP2579810B2 (ja) | 1997-02-12 |
US5055225A (en) | 1991-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01316339A (ja) | 液晶性物質 | |
EP0439190B1 (en) | Component for liquid crystal composition and liquid crystal composition containing the same | |
JPH03223263A (ja) | 液晶化合物 | |
JPH02134361A (ja) | アルキルチオ安息香酸誘導体 | |
JPH01230548A (ja) | フルオロアルキル系化合物及び液晶組成物 | |
JPS6345258A (ja) | 光学活性6−置換−ピリジン−3−カルボン酸エステル化合物および液晶 | |
JPH03109366A (ja) | アミノ酸誘導体 | |
US5229032A (en) | Process for producing an optically active benzoic acid derivative | |
JP2796722B2 (ja) | 光学素子用液晶 | |
EP0354355A1 (en) | Optically active compound and liquid crystal composition | |
TW209212B (en) | Photoactive lactate liquid crystal | |
JPH01301639A (ja) | 光学活性化合物及び液晶組成物 | |
JPS63130565A (ja) | ビフエニルカルボン酸エステル誘導体 | |
JP2900482B2 (ja) | オキシメチレン結合を有する化合物 | |
JPH04316545A (ja) | 新規なアミン誘導体 | |
JPS62114967A (ja) | ピリジン誘導体およびそれを含む液晶組成物、光スイツチング素子 | |
JPH03145441A (ja) | オキシメチレン結合を有する光学活性化合物 | |
JPH01245089A (ja) | 液晶材料 | |
JPH01311050A (ja) | テレフタル酸エステル誘導体 | |
JPH02286644A (ja) | 液晶性化合物 | |
JPH04273848A (ja) | 光学活性化合物及びそれを含む液晶組成物 | |
JPH0362885A (ja) | 光学活性化合物及び液晶組成物並びにこれを含む液晶素子 | |
JPH02255661A (ja) | ピリミジン誘導体 | |
JPH03218364A (ja) | ピリダジン系液晶化合物 | |
JPH04342572A (ja) | ピリミジン誘導体とそれを含む強誘電性液晶組成物 |