JPS63130565A - ビフエニルカルボン酸エステル誘導体 - Google Patents
ビフエニルカルボン酸エステル誘導体Info
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- JPS63130565A JPS63130565A JP27412786A JP27412786A JPS63130565A JP S63130565 A JPS63130565 A JP S63130565A JP 27412786 A JP27412786 A JP 27412786A JP 27412786 A JP27412786 A JP 27412786A JP S63130565 A JPS63130565 A JP S63130565A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本発明ハ、新規なビフェニルカルボン酸エステル誘導体
およびそれを含む液晶組成物に関する。さらに詳しく言
えば、本発明は、強誘電性液晶組成物の成分として有用
でかつ化学的安定性に優れた新規なビフェニルカルボン
酸エステル誘導体ならびにこのビフェニルカルボン酸エ
ステル誘導体の少くとも1種を含有する液晶組成物に関
する。
およびそれを含む液晶組成物に関する。さらに詳しく言
えば、本発明は、強誘電性液晶組成物の成分として有用
でかつ化学的安定性に優れた新規なビフェニルカルボン
酸エステル誘導体ならびにこのビフェニルカルボン酸エ
ステル誘導体の少くとも1種を含有する液晶組成物に関
する。
(従来技術)
ネマティック液晶を利用した表示素子は、時計、電卓の
奴示部などに用いられ、広く普及している。しかし、応
答性、コントラスト視角特性の面では未だ充分に満足で
きるものではない。特に応答速度の点では、発光ダイオ
ード等地の表示素子に比べて遅いため高速応答を必要と
するプリンターヘラrなどのオプトエレクトロニクスの
分野への応用は限られている現状にある。
奴示部などに用いられ、広く普及している。しかし、応
答性、コントラスト視角特性の面では未だ充分に満足で
きるものではない。特に応答速度の点では、発光ダイオ
ード等地の表示素子に比べて遅いため高速応答を必要と
するプリンターヘラrなどのオプトエレクトロニクスの
分野への応用は限られている現状にある。
1980年、クラークおよびラブルパル(アゾライド・
フィツクス・レターズ、36,899゜1980)によ
って発表された強誘電性液晶の光スイツチング現象を利
用した表示方式は、高速応答性、メモリー性の付与が期
待でき、次世代表示素子として注目をあびている。強誘
電性液晶は、1975年アール・ビー・メイアーらによ
って初めて見出されたものでおるが(ル・ジュルナール
・ ドウ・フィック、鼓、 L−69、(I975)
)、液晶物質が強誘電性を示すには次の条件を満足しな
げればならない。
フィツクス・レターズ、36,899゜1980)によ
って発表された強誘電性液晶の光スイツチング現象を利
用した表示方式は、高速応答性、メモリー性の付与が期
待でき、次世代表示素子として注目をあびている。強誘
電性液晶は、1975年アール・ビー・メイアーらによ
って初めて見出されたものでおるが(ル・ジュルナール
・ ドウ・フィック、鼓、 L−69、(I975)
)、液晶物質が強誘電性を示すには次の条件を満足しな
げればならない。
■ 分子構造中に不斉炭素原子を有し、かつ光学活性で
あること。
あること。
■ 分子長軸方向に垂直な永久双極子モーメントを有す
ること。
ること。
■ カイラルスメクテイツクC相(SmC*相)を有す
ること。
ること。
強誘電性液晶は、上記の制限をうけるため、ネマティッ
ク液晶に比べ見出されている材料の数は少い。本発明者
らは、カイラルスメクティックC相を有し、液晶組成物
成分として有用な液晶化合物の開発を目的として鋭意研
究した結果本発明により、新規なビフェニルカルボン酸
エステル誘導体を提供することに成功した。
ク液晶に比べ見出されている材料の数は少い。本発明者
らは、カイラルスメクティックC相を有し、液晶組成物
成分として有用な液晶化合物の開発を目的として鋭意研
究した結果本発明により、新規なビフェニルカルボン酸
エステル誘導体を提供することに成功した。
本発明は、一般式
%式%(I)
(式中、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基であり、
本の符号は光学活性原子を示す)で表わされる化合物並
びにその化合物の少くとも1種を含有することを特徴と
する液晶組成物を提供するものである。本発明に係る新
規な強誘電性液晶性化合物はそれらを相互に混合し、あ
るいは、他の液晶組成物に添加することにより5rnC
”相の温度範囲を拡張することができ、また、表示素子
の動作温度範囲の拡張に有効である。
本の符号は光学活性原子を示す)で表わされる化合物並
びにその化合物の少くとも1種を含有することを特徴と
する液晶組成物を提供するものである。本発明に係る新
規な強誘電性液晶性化合物はそれらを相互に混合し、あ
るいは、他の液晶組成物に添加することにより5rnC
”相の温度範囲を拡張することができ、また、表示素子
の動作温度範囲の拡張に有効である。
以下に本発明に係る新規化合物の合成ルートを説明し、
実施例によシその製造方法及び使用例を具体的に説明す
る。
実施例によシその製造方法及び使用例を具体的に説明す
る。
図式中に示された(I)〜(viii)の記号は、いず
れも実施例中の対応する各化合物に符されているもので
ある。例中の説明において使用される略号を以下に解説
する。
れも実施例中の対応する各化合物に符されているもので
ある。例中の説明において使用される略号を以下に解説
する。
m、p・:融点
SmC” : カイラルスメクテイツクC相SmA
: スメクテイツク人相 Sx: 同定できなかったスメクテイツク相Ch:
コレステリック相 工s○、:等方性液体 Crysi: 結晶状態 実施例 1 (約−(−)−p−2−クロロプロポキシカルボニルフ
ェニル4′−へブチルオキシビフェニル−41−カルボ
キシレート(viii)の合成 (a) 4−ビフェニルアセテ−) (I)の合成反
応容器K 、 4−ヒPロキシビフェニル255J1
ベンゼン1/、 ピリジ/130IIを仕込み、これ
に、水冷下撹拌しながら塩化アセチル141gを滴下し
た。滴下後、徐々に昇温し、還流下に4時間攪拌した。
: スメクテイツク人相 Sx: 同定できなかったスメクテイツク相Ch:
コレステリック相 工s○、:等方性液体 Crysi: 結晶状態 実施例 1 (約−(−)−p−2−クロロプロポキシカルボニルフ
ェニル4′−へブチルオキシビフェニル−41−カルボ
キシレート(viii)の合成 (a) 4−ビフェニルアセテ−) (I)の合成反
応容器K 、 4−ヒPロキシビフェニル255J1
ベンゼン1/、 ピリジ/130IIを仕込み、これ
に、水冷下撹拌しながら塩化アセチル141gを滴下し
た。滴下後、徐々に昇温し、還流下に4時間攪拌した。
放冷後、反応液を水へ注加した。遊離したベンゼン層を
充分水洗した後、芒硝で乾燥させベア’fンt−留去1
.て、311Jの4−ビフェニルアセテート(I)を得
た。
充分水洗した後、芒硝で乾燥させベア’fンt−留去1
.て、311Jの4−ビフェニルアセテート(I)を得
た。
m=p、80.3〜85.6℃
(b) 4−アセチル−4′−アセトキシビフェニル
(II)の合成 反応容器に塩化メチレンtSl、無水塩化アルミニウム
382IIを仕込み、氷水浴で5℃以下に冷却した。次
に同温度で攪拌しながら塩化アセチル125gを滴下し
、さらに、4−ビフェニルアセテート(I) 225I
i(塩化メチV7450Cf−に溶解させた)を滴下し
た。滴下後、0〜5℃で3時間、10℃で3時間攪拌し
、希塩酸に注加した。得られた塩化メチレン層を充分水
洗した後、芒硝で乾燥させた。塩化メチレンを留去し、
残留分をエタノールよシ再結晶して、4−アセチル−4
′−アセトキシピフェニル(lI) 222i fan
得た。
(II)の合成 反応容器に塩化メチレンtSl、無水塩化アルミニウム
382IIを仕込み、氷水浴で5℃以下に冷却した。次
に同温度で攪拌しながら塩化アセチル125gを滴下し
、さらに、4−ビフェニルアセテート(I) 225I
i(塩化メチV7450Cf−に溶解させた)を滴下し
た。滴下後、0〜5℃で3時間、10℃で3時間攪拌し
、希塩酸に注加した。得られた塩化メチレン層を充分水
洗した後、芒硝で乾燥させた。塩化メチレンを留去し、
残留分をエタノールよシ再結晶して、4−アセチル−4
′−アセトキシピフェニル(lI) 222i fan
得た。
rq、p、 128.7〜1296℃
(C)4−7セチルー4′−ヒドロキシビフェニル<
+r+>の合成 反応容器に、4−アセチル−4′−アセトキシピフェニ
ル(Ii)222.9およびメタノール1.21を仕込
み、攪拌下に、85%苛性力IJ 230.9(水46
0CHに溶解させたもの)を投入した。
+r+>の合成 反応容器に、4−アセチル−4′−アセトキシピフェニ
ル(Ii)222.9およびメタノール1.21を仕込
み、攪拌下に、85%苛性力IJ 230.9(水46
0CHに溶解させたもの)を投入した。
還流下に4時間反応させた後、反応液を水へ注加し、塩
酸酸性とした。
酸酸性とした。
析出した結晶を枦集し、エタノールより再結晶シて4−
アセチル−4′−ヒドロキシビフェニル(+++) 1
45 Nを得た。
アセチル−4′−ヒドロキシビフェニル(+++) 1
45 Nを得た。
m、p、 210.0〜21t4℃
(a) 4−アセチル−4′−へブチルオキシビフェ
ニル(I■)の合成 反応容器に、4−アセチル−4′−ヒドロキシビフェニ
ル(+++) 42゜4111無水炭酸カリ55.21
9、ヘプチルブロマイド4311およびシクロヘキサノ
7300CCを仕込み、120〜130℃で、6時間攪
拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸性とし、析出した
結晶をP果し、塩化メチレンに溶解させた。塩化メチレ
ン層を芒硝で乾燥させた後、塩化メチレンを留去し、残
留分をメチルエチルケトンよシ再結晶して4−アセチル
−4′−へブチルオキシビフェニル(+V) 50 g
を得た。
ニル(I■)の合成 反応容器に、4−アセチル−4′−ヒドロキシビフェニ
ル(+++) 42゜4111無水炭酸カリ55.21
9、ヘプチルブロマイド4311およびシクロヘキサノ
7300CCを仕込み、120〜130℃で、6時間攪
拌した。反応液を水に注加し、塩酸酸性とし、析出した
結晶をP果し、塩化メチレンに溶解させた。塩化メチレ
ン層を芒硝で乾燥させた後、塩化メチレンを留去し、残
留分をメチルエチルケトンよシ再結晶して4−アセチル
−4′−へブチルオキシビフェニル(+V) 50 g
を得た。
m−p−135,0〜136.2℃
(e) 4−へブチルオキシビフェニル−4′−カル
ボン酸(V)の合成 反応容器に、95%苛性ソーダ136Iおよび水770
CCを仕込み攪拌しながら、臭素129Iを10℃以下
で滴下し、次亜臭素酸ソーダ水溶液を調製した。
ボン酸(V)の合成 反応容器に、95%苛性ソーダ136Iおよび水770
CCを仕込み攪拌しながら、臭素129Iを10℃以下
で滴下し、次亜臭素酸ソーダ水溶液を調製した。
別の反応容器に、4−アセチル−4′−へブチルオキシ
ビフェニル(lv) 50 、!i+およびジオキサン
950CCを仕込み、攪拌し表から上記調製した次亜臭
素酸ソーダ水溶液を10〜15℃で滴下した。滴下後、
徐々に昇温させ50℃とした後、同温度で5時間攪拌し
た。次に亜硫酸ソーダ3011(水11に溶解させたも
の)を投入し、30分攪拌した後、塩酸を加え酸性とし
た。析出した結晶をP集し、メチルエチルケトンよシ再
結晶シて42.511の4−ヘプチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸(いを得た。
ビフェニル(lv) 50 、!i+およびジオキサン
950CCを仕込み、攪拌し表から上記調製した次亜臭
素酸ソーダ水溶液を10〜15℃で滴下した。滴下後、
徐々に昇温させ50℃とした後、同温度で5時間攪拌し
た。次に亜硫酸ソーダ3011(水11に溶解させたも
の)を投入し、30分攪拌した後、塩酸を加え酸性とし
た。析出した結晶をP集し、メチルエチルケトンよシ再
結晶シて42.511の4−ヘプチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸(いを得た。
(f) 4−へブチルオキシビフェニル−4′−カル
ボニルクロライ) (vi)の合成 反応容器に4−ヘプチルオキシビフェニル−4′−カル
ボン酸(v) 5 g 、少量のツメチルホルムアミド
およびベンゼンを仕込み、還流下、攪拌しながら塩化チ
オニル10gを滴下した。同温度で10時間攪拌した後
、過剰の塩化チオニルトヘンゼンe[去L、4−へプチ
ルオキシビフェニル−4′−カルボニルクロライ)’
(Vり 5 gを得た。
ボニルクロライ) (vi)の合成 反応容器に4−ヘプチルオキシビフェニル−4′−カル
ボン酸(v) 5 g 、少量のツメチルホルムアミド
およびベンゼンを仕込み、還流下、攪拌しながら塩化チ
オニル10gを滴下した。同温度で10時間攪拌した後
、過剰の塩化チオニルトヘンゼンe[去L、4−へプチ
ルオキシビフェニル−4′−カルボニルクロライ)’
(Vり 5 gを得た。
(I,) (→−(−)−2−クロロプロピルp−ヒ
ドロキシベンゾエート(Vi+)の合成 反応容器に、(謁−(−)−2−クロロ−1−プロパツ
ール(応用物理式、(9)、876〜882(I980
)の反応例に従って合成したもの、[α] o =−2
0,1°)1511、p−ヒドロキシ安息香酸20 f
I、ベンゼン250CCおよび濃硫酸3ccを仕込み、
還流下生成水を除去しながら6時間攪拌した。
ドロキシベンゾエート(Vi+)の合成 反応容器に、(謁−(−)−2−クロロ−1−プロパツ
ール(応用物理式、(9)、876〜882(I980
)の反応例に従って合成したもの、[α] o =−2
0,1°)1511、p−ヒドロキシ安息香酸20 f
I、ベンゼン250CCおよび濃硫酸3ccを仕込み、
還流下生成水を除去しながら6時間攪拌した。
反応液を濃縮した後、イソプロピルエーテル(IPE)
を加え、このIPE溶液を充分水洗した。
を加え、このIPE溶液を充分水洗した。
得られたIPE層を芒硝で乾燥させた後IPEを留去し
、残苗分をベンゼンよシ再結晶して21.9の((8)
−(−)−2−クロロプロピルp−ヒドロキシベンゾエ
ート(vii)を得た。
、残苗分をベンゼンよシ再結晶して21.9の((8)
−(−)−2−クロロプロピルp−ヒドロキシベンゾエ
ート(vii)を得た。
口、p、123〜125℃ 〔α〕22=−25,1
゜(h)(■−(=)−p−(2−クロロプロポキシカ
ルボニル)フェニル4′−へブチルオキシビフェニル−
4“−カルボキシレート(viiDの合成反応容器に、
(−)−2−クロロプロピルp−ヒドロキシベンゾエー
ト(vl) 3.4 p 1ピリジン’+、31および
ベンゼン20CCを仕込み、室温下、攪拌シナから4−
へブチルオキ7ビフエニルー47−カルボニルクロライ
)’5.9 (ベンゼン30CCK溶解させたもの)を
滴下した。室温下で2時間、還流下で3時間攪拌した後
、反応液を水に注加した。ベンゼン層を充分水洗した後
、芒硝で乾燥させた。ベンゼンを留去し、残留分をメチ
ルエチルケトンより2回再結晶して(−)−p−2−ク
ロロプロポキシカルボニルフェニル4′−へブチルオキ
シビフェニル−4″−カルボキシレート(viiO2,
7gを得た。このものの含量は、液体クロマトグラフィ
ーにて99%以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポ
ツトであった。
゜(h)(■−(=)−p−(2−クロロプロポキシカ
ルボニル)フェニル4′−へブチルオキシビフェニル−
4“−カルボキシレート(viiDの合成反応容器に、
(−)−2−クロロプロピルp−ヒドロキシベンゾエー
ト(vl) 3.4 p 1ピリジン’+、31および
ベンゼン20CCを仕込み、室温下、攪拌シナから4−
へブチルオキ7ビフエニルー47−カルボニルクロライ
)’5.9 (ベンゼン30CCK溶解させたもの)を
滴下した。室温下で2時間、還流下で3時間攪拌した後
、反応液を水に注加した。ベンゼン層を充分水洗した後
、芒硝で乾燥させた。ベンゼンを留去し、残留分をメチ
ルエチルケトンより2回再結晶して(−)−p−2−ク
ロロプロポキシカルボニルフェニル4′−へブチルオキ
シビフェニル−4″−カルボキシレート(viiO2,
7gを得た。このものの含量は、液体クロマトグラフィ
ーにて99%以上、薄層クロマトグラフィーにて1スポ
ツトであった。
また赤外線吸収スペクトル測定によれば特性値は280
0〜3000crn、 1730Cm 1171C1
crn。
0〜3000crn、 1730Cm 1171C1
crn。
1600cm−’ であった。マススペクトル分析で
は、508に分子イオンピーク、295に基準ピークが
認められ、このものの化学構造が支持された。
は、508に分子イオンピーク、295に基準ピークが
認められ、このものの化学構造が支持された。
このものをメトラーホットステージFP−82にはさみ
、偏光顕微鏡下で相変化を観察したところ以下のようで
あった。
、偏光顕微鏡下で相変化を観察したところ以下のようで
あった。
nA
また比旋光度は、〔α)%’ニー12.7°(クロロホ
ルム溶液)であった。
ルム溶液)であった。
実施例 2〜5
実施例1に準拠して同様にして各種のビフェニルカルボ
ン酸エステル誘導体を合成し、相転移温度を測定した結
果を表1に示す。
ン酸エステル誘導体を合成し、相転移温度を測定した結
果を表1に示す。
〔表中、Rは、前記一般式(I)中における芭己号Rで
あり、それにより各化合物を示す〕実施例 6 表面にポリイミド系高分子膜を塗布し、ラビング処理し
た2枚の透明電極を有するガラス基板に、マイラーフィ
ルムをはさんで液晶セルを組立てた。なお、2枚の基板
は、そのラビング方向は平行になるようにされ、セル間
隔は9篇である。この液晶セルに、各実施例で得られた
化合物を封入し、等方性液体からSmC”相まで徐冷し
た。この液晶セルを2枚の偏光板にはさみ、電圧を印加
し、極性を反転させると表示状態が変化した。このよう
に、各実施例で得られた各化合物のSmC”相は、強誘
電性を示し、電気光学素子として使用し得るものである
。
あり、それにより各化合物を示す〕実施例 6 表面にポリイミド系高分子膜を塗布し、ラビング処理し
た2枚の透明電極を有するガラス基板に、マイラーフィ
ルムをはさんで液晶セルを組立てた。なお、2枚の基板
は、そのラビング方向は平行になるようにされ、セル間
隔は9篇である。この液晶セルに、各実施例で得られた
化合物を封入し、等方性液体からSmC”相まで徐冷し
た。この液晶セルを2枚の偏光板にはさみ、電圧を印加
し、極性を反転させると表示状態が変化した。このよう
に、各実施例で得られた各化合物のSmC”相は、強誘
電性を示し、電気光学素子として使用し得るものである
。
実施例 7
既存の強誘電性液晶化合物(S)−オクチルオキシフェ
ニル4−((2”−メチルブチル)〕〕ピフェニルー4
′−カルボキシレートMot、 Crysも、Liq。
ニル4−((2”−メチルブチル)〕〕ピフェニルー4
′−カルボキシレートMot、 Crysも、Liq。
Cryst、 37 、189.1976 )と実施例
1で得られた(I−p−(2−クロロプロポキシカルボ
ニル)フェニル4′−へブチルオキシビフェニル−4’
−カルボキシレートとを80:20(重量比)の割合で
混合した時のSmC”相の温度範囲を表2に示した。
1で得られた(I−p−(2−クロロプロポキシカルボ
ニル)フェニル4′−へブチルオキシビフェニル−4’
−カルボキシレートとを80:20(重量比)の割合で
混合した時のSmC”相の温度範囲を表2に示した。
この表から明らかなように、(S) −p−オクチルオ
キシフェニル4−C(2“−メチルブチル)〕〕ピフェ
ニルー4′−カルボキシレーは、単独では、SmC”相
の温度幅が12.6℃(76〜886℃)であるのに対
しくR)−p−(2−クロロプロポキシカルボニル)フ
ェニル4′−へブチルオキシビフェニル−41−カルボ
キシレートを20%含tr 場合は、20℃(64〜8
4℃)へと拡張されている。
キシフェニル4−C(2“−メチルブチル)〕〕ピフェ
ニルー4′−カルボキシレーは、単独では、SmC”相
の温度幅が12.6℃(76〜886℃)であるのに対
しくR)−p−(2−クロロプロポキシカルボニル)フ
ェニル4′−へブチルオキシビフェニル−41−カルボ
キシレートを20%含tr 場合は、20℃(64〜8
4℃)へと拡張されている。
この様に本発明に係る化合物は、強誘電性液晶組成物の
温度範囲を拡張する成分として有用なものである。
温度範囲を拡張する成分として有用なものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは、炭素原子数1〜18のアルキル基であり
)*の符号は、光学活性原子を示す)で表わされるビフ
ェニルカルボン酸エステル誘導体。 2)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは、炭素原子数1〜18のアルキル基であり
、*の符号は光学活性原子を示す)で表わされるビフェ
ニルカルボン酸エステル誘導体の少くとも1種を含有す
ることを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27412786A JPS63130565A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | ビフエニルカルボン酸エステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27412786A JPS63130565A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | ビフエニルカルボン酸エステル誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63130565A true JPS63130565A (ja) | 1988-06-02 |
Family
ID=17537396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27412786A Pending JPS63130565A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | ビフエニルカルボン酸エステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63130565A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9090547B2 (en) | 2009-05-19 | 2015-07-28 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method for producing trisphenols and monoester-substituted products thereof, and 4-acylaralkylphenol derivatives |
CN115215734A (zh) * | 2022-08-17 | 2022-10-21 | 辽宁靖帆新材料有限公司 | 一种1-[4-(4-羟基苯基)苯基]-1,1-双(4-羟基苯基)乙烷的制备方法 |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP27412786A patent/JPS63130565A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9090547B2 (en) | 2009-05-19 | 2015-07-28 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Method for producing trisphenols and monoester-substituted products thereof, and 4-acylaralkylphenol derivatives |
US9567281B2 (en) | 2009-05-19 | 2017-02-14 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | 4-acylaralkylphenols and derivatives thereof |
CN115215734A (zh) * | 2022-08-17 | 2022-10-21 | 辽宁靖帆新材料有限公司 | 一种1-[4-(4-羟基苯基)苯基]-1,1-双(4-羟基苯基)乙烷的制备方法 |
CN115215734B (zh) * | 2022-08-17 | 2024-01-05 | 辽宁靖帆新材料有限公司 | 一种1-[4-(4-羟基苯基)苯基]-1,1-双(4-羟基苯基)乙烷的制备方法 |
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