JPH02130705A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置に装備される磁
気ヘッドに関し、特に磁気回路が金属磁性薄膜によって
形成される磁気ヘッドに関するものである。

（従来の技術） 近年、映像機器の高品位化に伴って、広帯域の信号を記
録再生出来る磁気ヘッドの開発が活発になっている（例
えば特開昭６２−１４６４１３［Ｇ１１Ｂ５／１２７］
）。

斯種磁気ヘッドの一例を第４図に示す。

該磁気ヘッドは、一対のコア半体（１０ａ）　（１０ｂ
）の突合せ部に磁気ギャップ部（６１）を介装して構成
され、両コア半体（１０ａ）　（１０ｂ）は低融点ガラ
ス部（５７）（５８）によって互いに溶着固定されてい
る。又、各コア半体は、結晶化ガラス等からなる第１の
非磁性基板（１３）の表面に、スパッタリングによって
センダスト等の金属磁性層（３２）を形成すると共に、
該磁性層（３２）の表面に低融点の接合ガラス層（４２
）を介して第２の非磁性基板（２２）を配備している。

該磁気ヘッドの製造工程に於いては、第５図（ａ）に示
す一対のブロック半体（８２）　（８３）が作製される
。

両ブロック半体（８２）　（８３）は夫々、複数の非磁
性部（１４）　＜１５）を金属磁性層（３３）　（３３
）を介してガラス溶着して形成され、一方のブロック半
体（８２）にはコイル渭（７３）と溶着溝（５９）とが
凹設されている。又、両ブロック半体（８２）　（８３
）の突合せ部には、磁性層（３３）　（３４）の両側に
低融点ガラス部（５０）が設けられている。一方のブロ
ック半体（８２）の突合せ面（６２）には、磁気ギャッ
プ部となるＳ　ｉ　Ｏ２膜（図示省略）がスパッタリン
グにより形成される。

上記ブロック半体＜８２）のコイル渭＜７３）と溶着溝
（５９）に夫々ガラス棒（５６）を配置して、両ブロッ
ク半体（８２）　（８３）を突き合わせ、これを加熱炉
に入れて、ガラス棒（５６）と低融点ガラス部（５０）
を溶融せしめる。これによって両ブロック半体（８２）
　（８３）が第６図（ｂンの如く互いに溶着固定され、
ヘッドブロック（９１）が得られる。

その後、ヘッドブロック（９１）を図中Ｃ線に沿ってス
ライスし、磁気テープとの摺接面（対接面）を研磨加工
することによって、第４図の磁気ヘッドが完成する。

（解決しようとする課題） ところが第４図の磁気ヘッドに於いては、両コア半体（
１０ｍ）　（１０ｂ）を溶着固定する為の低融点ガラス
部（５７）がテープ対接面り２０）のみならず、ヘッド
側面にも大きく露出しているから、長期の使用に伴って
、低融点ガラス部〈５７）が空気との接触により化学反
応を起こし、両コア半体の接合強度が低下する問題があ
った。

又、該磁気ヘッドの製造工程に於いては、第５図（ｂ）
に示すスライス加工にて低融点ガラス部（５０）を切断
する際、該低融点ガラス部（５０）が加工に伴う発熱に
よって軟化して、両ブロック半体〈８２）（８３）の接
合強度が低下し、これによって接合位置がずれて、所定
形状の磁気ギャップ部が得られない問題があった。

本発明の目的は、両コア半体を互いに溶着固定している
低融点ガラス部の露出面積が従来よりも狭く、然も前記
スライス工程にて両ブロック半体の接ぎ位置にズレを生
じることのない構造の磁気ヘッドを提供することである
。

（課題を解決する為の手段） 本発明に係る磁気ヘッドに於いて、磁気ギャップ部（６
）を介して互いに接合固定すべき一対のコア半体（１０
ａ）（１０ｂ）は夫々、第１の非磁性基板（１）と第２
の非磁性基板（２）の間に、磁性Ｎ（３）と接ぎガラス
層（４）を介装して形成されている。

両コア半体（１０ａ）　（１０ｂ）は、接合ガラス層（
４）の突合せ部に接合ガラス層（４）よりも低い融点の
ガラス部（５）を介装することによって互いに溶着固定
されている。該低融点ガラス部（５）は、表面が両コア
半体の磁気記録媒体との対接面（２０）の中央部に露出
すると共に、磁性層く３）と接合ガラス層（４）と第２
非磁性基板（２）によって包囲された領域を、対接面（
２０）からコイル窓（７）まで伸びている。

（作用及び効果） 上記磁気ヘッドに於いては、低融点ガラス部（５）は、
磁性層（３）、接合ガラス層（４）及び第２非磁性基板
（２〉によって包囲され、表面が磁気記録媒体との対接
面（２０）に露出しているに過ぎないから、従来の磁気
ヘッドに比べて低融点ガラス部の露出面積が狭い、従っ
て、低融点ガラス部（５）が空気との接触によって変質
して、両コア半体（１０ａ）　（１０ｂ）の接合強度が
低下する虞れはない。

又、上記磁気ヘッドは、低融点ガラス部（５）がヘッド
チップ中央部、即ち磁気ギャップ部（６）の近傍に設け
られた構造であるから、その製造工程においてヘッドブ
ロックをヘッドチップ毎にスライスする際（第３図（ｇ
））参照）、切断は非磁性基板に沿って行なわれ、低融
点ガラス部（５）が切断されることはない、従って、ヘ
ッドブロックの切断時にブロック半体の接合位置にズレ
が生じることはなく、最終的に所定のギャップ長を有す
る磁気ヘッドが得られる。

（実施例） 実施例は本発明を説明するためのものであって、特許請
求の範囲に記載の発明を限定し、或は範囲を減縮する様
に解すべきではない。

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一例を示している。

ヘッドチップ（１０）は、一対のコア半体（１０ａ）　
（１０ｂ）の突会せ部に磁気ギャップ部（６）を介装し
て構成され、一方のコア半体（１０ｂ）にはコイｌし窓
（７）と溶着溝（５５）が開設されている。

各コア半体（１０ａ）（１０ｂ）は、一対の第１及び第
２非磁性基板（１）（２）の間に金属磁性１１１（３）
及び接合ガラス層（４）を介装している。非磁性基板（
１）（２）は、結晶化ガラス又は非磁性セラミック（例
えばＨＯＹＡ（株）製ＰＥＧ−３１３０Ｃ１又は石塚硝
子（株）製ＬＰ−８６２）を資材として、厚さ略１〜２
ｎｎに形成される。磁性層く３）は、センダスト、アモ
ルファス合金等の金属磁性資材からなる薄膜（厚さ２〜
７μ躊）と５ｉ０２等の非磁性資材からなる薄膜（厚さ
０．１〜０．５μ階）とを交互に積層して、３〜６層の
積層体く厚さ１０〜３０μ輪）に形成される。尚、磁性
層（３月よ、金属磁性資材のみからなる単層に形成する
ことも可能である。

両コア半体（１０ｇ）　（１０ｂ）は、接合ガラス層（
４）の突合せ部に、接合ガラスＭ（４）よりも低い融点
のガラス部（５）企介装すると共に、コイル窓（７）の
上部及び溶着溝（５５）に低融点ガラス（５１）（５２
）を充填することによって互いに溶着固定されている。

前記低融点ガラス部（５）は、表面が磁気テープ対接面
（２０）の中央部に露出しており、接合ガラス層（４）
の厚さよりも大なる幅Ｗ（例えば略８０μｍ）と、両コ
ア半体に跨る長さしく例えば略３００μ曽）と、対接面
（２０）からコイル窓（７）に至るギャップデプス方向
の深さ寸法を有している。

上記磁気ヘッドの製造方法を第３図（ａ＞〜（ｇ）に基
づいて説明する。

先ず第３図（ａ）の如く厚さ１〜２１ＩＩＩ１１の結晶
化ガラス基板（１２）の一方の表面に、結晶１ヒ温度が
５００〜５５０℃の低融点結晶１ヒガラスの膜（４１）
を、スパッタリング法、粉末沈澱法、或は印刷塗布法等
によって５〜１０μ面の厚さに形成する。又、基板（１
２）の他方の表面には、スパッタリング法、或は電子ビ
ーム蒸着法等を用いて、厚さ２〜７μ納のセンダスト膜
と厚さ０．１〜０．５μ横のＳｉＯ２膜とを交互に積層
して、所定のトラック幅に対応する厚さ（例えば１０〜
３０μ哨）の磁性膜（３１）を形成する。

次に第３図（ｂ）の如く、基板（１２）のガラス膜（４
１）の形成面に対して、幅が略３００μ悄、深さが略８
０μ蹟の溝（５３）を、グイシングツ−等を用いて１或
は複数本凹設する。尚、該溝加工は、基板（１２）にガ
ラス膜（４１）を形成した後、磁性膜（３１）を形成す
る前に行っても可い。

第３図（ｃ）の如く、軟化点が略４００〜４５０℃の低
融点溶着ガラス（５４）を前記溝（５３）に充填する。

前記工程を経て得られた複数枚の基板を同図（ｄ）の如
く積み重ね、積層方向に加圧すると同時に加熱する。こ
れによって、各基板（１２）は磁性膜（３１）を介して
互いに溶着固定されることになる。この過程で、非晶質
状態のガラス膜（４１）は結晶化し、これに伴って融点
が６００℃程度に上昇する。従って、以後の処理工程に
て結晶化ガラス膜（４１〉が軟化することはない。

上記工程を経て得られた積層体を第３図（ｄ）中Ａ線に
沿って切断し、同図（ｅ）の如く一対のブロック半体（
８）（８１）を作製する。

次に第３図（ｆ）に示す如く、一方のブロック半体（８
）にコイル溝（７１）と溶着溝〈５５）とを凹設し、ギ
ャップ形成面（８０）を研磨して、該研磨面に磁気ギャ
ップ部となるＳ　ｉ　Ｏ２膜（図示省略）をスパッタリ
ング等により形成する。

更に上記ブロック半体（８２）のコイル溝＜７１）と溶
着溝（５５）に夫々ガラス棒（５６）を配置して、両ブ
ロック半体（８）（８１）を突き合わせ、加熱炉内にて
ガラス棒（５６）と溶着ガラス（５４）を溶融せしめる
。これによって両ブロック半体（８）（８１）が同図（
ｇ）の如く互いに溶着固定され、ヘッドブロック（９）
が得られる。この際、前述の如く結晶化ガラス膜（４１
）が軟化することはない。

その後、ヘッドブロック（９）を図中Ｂ線に沿ってスラ
イスし、磁気テープとの対接面を研磨加工することによ
って、第１図の磁気ヘッドが得られる。尚、ヘッドブロ
ック（９）は、基板（１２）に沿ってスライスされ、溶
着ガラス（５４）は切断されないから、該溶着ガラス（
５４）が軟化することはなく、従ってギャップ長にズレ
が生じることはない。

第１図の磁気ヘッドに於いては、低融点ガラス部（５）
が、その表面のみを対接面（２０）から露出しているに
過ぎないから、空気との接触による低融点ガラス部（５
）の劣化が最小限に抑制される。

又、上記磁気ヘッドに於いては第２図に示す如く、磁気
ギャップ部（６〉の両側に、テープ対接面（２０）の幅
を規制する溝加工（１１）（２１）を施すことが可能で
あり、これによって、磁気テープと対接面（２０）との
相対速度の増大に対処出来る。

図面及び上記実施例の説明は、本発明を説明するための
ものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定し、
或は範囲を減縮する様に解すべきではない。

又、本発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求
の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である
ことは勿論である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの斜面図、第２図は他
の実施例を示す斜面図、第３図（ａ）乃至（ｇ）は第１
図の磁気ヘッドの製造工程を示す斜面図、第４図は従来
の磁気ヘッドの斜面図、第５図（ａ）及び（ｂ）は第４
図の磁気ヘッドの製造工程を示す斜面図である。 （１）（２）・・・非磁性基板 （４）・・・接合ガラス層 （６）−・・磁気ギャップ部 （３）・・・磁性層 （５）・・・低融点ガラス部 （１０ａ）（１０ｂ）−コア半体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ［１］一対のコア半体（１０ａ）（１０ｂ）の突合せ部
   に磁気ギャップ部（６）を介装して構成され、各コア半
   体は、第１の非磁性基板（１）の板面に金属磁性層（３
   ）を形成すると共に、該磁性層（３）の表面に接合ガラ
   ス層（４）を介して第２の非磁性基板（２）を配備した
   磁気ヘッドに於いて、両コア半体（１０ａ）（１０ｂ）
   は、接合ガラス層（４）の突合せ部に接合ガラス層（４
   ）よりも低い融点のガラス部（５）を介装することによ
   つて互いに溶着固定され、該低融点ガラス部（５）は、
   表面が両コア半体の磁気記録媒体との対接面（２０）の
   中央部に露出すると共に、磁性層（３）と接合ガラス層
   （４）と第２非磁性基板（２）によって包囲された領域
   を対接面（２０）からコイル窓（７）まで伸びているこ
   とを特徴とする磁気ヘッド。