JPH0211562A - ４―メチル―３―チオセミカルバジドの製造法 - Google Patents
４―メチル―３―チオセミカルバジドの製造法Info
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- JPH0211562A JPH0211562A JP1107117A JP10711789A JPH0211562A JP H0211562 A JPH0211562 A JP H0211562A JP 1107117 A JP1107117 A JP 1107117A JP 10711789 A JP10711789 A JP 10711789A JP H0211562 A JPH0211562 A JP H0211562A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C337/00—Derivatives of thiocarbonic acids containing functional groups covered by groups C07C333/00 or C07C335/00 in which at least one nitrogen atom of these functional groups is further bound to another nitrogen atom not being part of a nitro or nitroso group
- C07C337/06—Compounds containing any of the groups, e.g. thiosemicarbazides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は４−メチル−３−チオセミカルバジド（ＭＴＳ
Ｃ）の改良された合成法およびその合成に有用な新規な
メチルジチオカルバメート・４級塩に関するものである
。ＭＴＳＣは除草剤の製造に有用な中間体である。
Ｃ）の改良された合成法およびその合成に有用な新規な
メチルジチオカルバメート・４級塩に関するものである
。ＭＴＳＣは除草剤の製造に有用な中間体である。
（従来の技術および発明が解決しようとする課題）米国
特許第４，１３２，７３６号および第４，２３７．０６
６号の各明細書にはＭＴＳＣの製造法が開示されている
が、本発明は、反応生成物の収率および回収の容易さの
両見地から優れている製造法を提供するものである。
特許第４，１３２，７３６号および第４，２３７．０６
６号の各明細書にはＭＴＳＣの製造法が開示されている
が、本発明は、反応生成物の収率および回収の容易さの
両見地から優れている製造法を提供するものである。
（課題を解決するための手段）
本発明は、式（■）：
（式中、ＲはＣ８〜Ｃ４アルキルである）で示されるメ
チルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩と、ヒド
ラジンとを反応させることを特徴とする、４−メチル−
３−チオセミカル／ ＸＩシト： ＣＨ，ＮＨ−Ｃ−ＮＨＮＨ。
チルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩と、ヒド
ラジンとを反応させることを特徴とする、４−メチル−
３−チオセミカル／ ＸＩシト： ＣＨ，ＮＨ−Ｃ−ＮＨＮＨ。
の製造法を提供するものである。
本発明の反応は、例えば、唯一の溶媒として水を用いる
、水性媒質系で行うのが好ましい。しかし、水ト、エタ
ノールのような低級アルカノールとの混合物を使用して
もよい。好適な反応温度は、５０−１３０°Ｃの範囲内
であり、約１００’Ｃの温度がより好ましい。なぜなら
ば、この温度は、最も好ましい溶媒、水の沸点であるか
らである。また、窒素のような不活性ガス雰囲気下での
反応が好ましい。
、水性媒質系で行うのが好ましい。しかし、水ト、エタ
ノールのような低級アルカノールとの混合物を使用して
もよい。好適な反応温度は、５０−１３０°Ｃの範囲内
であり、約１００’Ｃの温度がより好ましい。なぜなら
ば、この温度は、最も好ましい溶媒、水の沸点であるか
らである。また、窒素のような不活性ガス雰囲気下での
反応が好ましい。
通常、アミン基、−Ｎ（Ｒ）３の３つのＲ基は同一であ
り、本発明の好ましい具体例としては、Ｒはエチルであ
る。これに関連して、本発明の反応は、下式に示すこと
ができる。
り、本発明の好ましい具体例としては、Ｒはエチルであ
る。これに関連して、本発明の反応は、下式に示すこと
ができる。
＋１（−）（＋）
ＣＨ，ＮＨ−Ｃ−５ＮＨ（Ｅｔ）、＋ ＮＨ，−ＮＨ，
、Ｈ，○→ＣＨ３ＮＨＣ−ＮＨ，ＮＨ２＋ Ｎ（Ｅｔ）
３＋ ＨｔＳトリエチルアミンは室温で液体であり、受
器に捕獲して容易に回収することができる。このことは
、モノマたはジアルキルアミンである従来の反応による
アミン生成物と対照されることである。
、Ｈ，○→ＣＨ３ＮＨＣ−ＮＨ，ＮＨ２＋ Ｎ（Ｅｔ）
３＋ ＨｔＳトリエチルアミンは室温で液体であり、受
器に捕獲して容易に回収することができる。このことは
、モノマたはジアルキルアミンである従来の反応による
アミン生成物と対照されることである。
すなわち、該モノまたはジアルキルアミンは、低沸点で
あり、水性相に可溶であるので、非常に回収ＩＬＮ。ト
リエチルアミンは、Ｈ，Ｓの除去ヲ助け、かつ反応温度
の制御を助ける。
あり、水性相に可溶であるので、非常に回収ＩＬＮ。ト
リエチルアミンは、Ｈ，Ｓの除去ヲ助け、かつ反応温度
の制御を助ける。
ヒドラジンは、通常、水和物として使用するが、適切な
注意を払うならば、例えば、塩酸塩のような酸付加塩の
如き他の形で用いてもよい。
注意を払うならば、例えば、塩酸塩のような酸付加塩の
如き他の形で用いてもよい。
メチルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩は、は
ぼ等モル量の二硫化炭素、メチルアミンおよびトリアル
キルアミンの反応によって反応系中で好都合に製造する
ことができる。すなわち：Ｃ３，＋ ＣＨ，ＮＨ，＋
（Ｒ）、Ｎ＋＋（−Ｘ＋） −〉 ＣＨ，ＮＨ−Ｃ−３ＮＨ（Ｒ）。
ぼ等モル量の二硫化炭素、メチルアミンおよびトリアル
キルアミンの反応によって反応系中で好都合に製造する
ことができる。すなわち：Ｃ３，＋ ＣＨ，ＮＨ，＋
（Ｒ）、Ｎ＋＋（−Ｘ＋） −〉 ＣＨ，ＮＨ−Ｃ−３ＮＨ（Ｒ）。
好ましいＲはエチルである。
本発明の反応は、好ましくは、水のような極性溶媒中で
行われる。好ましい反応温度は、例えば、２５〜３５°
Ｃであり、この温度では、約３時間後に反応が実質的に
完了する。
行われる。好ましい反応温度は、例えば、２５〜３５°
Ｃであり、この温度では、約３時間後に反応が実質的に
完了する。
本発明はまた、新規な化合物であるメチルジチオカルバ
メート・４級アンモニウム塩を提供するものでもある。
メート・４級アンモニウム塩を提供するものでもある。
既述したとおり、ＭＴＳＣは除草剤分野の有用な中間体
である。すなわち、例えば、ポリリン酸の存在下、ＭＴ
ＳＣとピバリン酸とを反応させて、２−（Ｌ−ブチル）
−５−メチルアミン−１，３，４＝チアジアゾールを得
ることができる。ＨＣｌの存在下、この物質と、■、３
−ジメチル尿素とを反応させて、周知の除草剤テブチウ
ロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）を得ることができる。
である。すなわち、例えば、ポリリン酸の存在下、ＭＴ
ＳＣとピバリン酸とを反応させて、２−（Ｌ−ブチル）
−５−メチルアミン−１，３，４＝チアジアゾールを得
ることができる。ＨＣｌの存在下、この物質と、■、３
−ジメチル尿素とを反応させて、周知の除草剤テブチウ
ロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）を得ることができる。
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳述するが、本
発明は該実施例に限定されるものではない。
発明は該実施例に限定されるものではない。
実施例１
４−メチル−３−チオセミカルバジド
（Ａ）容ｆｆ１２５０ｉｃの３つロフラスコにメチルア
ミン（４１，５９）および脱イオン水（５０ｕ２）を入
れた。次いで、反応混合物を２５〜３０’Ｃの温度に維
持しながら、このフラスコにＣＳ 、（３８９）トリエ
チルアミン（５０，０９）との混合物を１時間かけて添
加した。次いで、反応混合物をさらに１時間撹拌し、メ
チルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩４ を得た。
ミン（４１，５９）および脱イオン水（５０ｕ２）を入
れた。次いで、反応混合物を２５〜３０’Ｃの温度に維
持しながら、このフラスコにＣＳ 、（３８９）トリエ
チルアミン（５０，０９）との混合物を１時間かけて添
加した。次いで、反応混合物をさらに１時間撹拌し、メ
チルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩４ を得た。
この物質を単離せずにそのまま次工程に用いた。
（Ｂ） 容１１５００ｘｃのフラスコにヒドラジン水
和物（１００％、３３ｇ）および脱イオン水（１００ｍ
Ｑ＞を入れ、次いで、この水性混合物を１０２°Ｃに加
熱した。次いで、前記（Ａ）で得た反応混合物（１７０
ｉ＆）を、等量の水を留去しながら１時間かけて添加し
た。次いで、さらに水１３０ｘｆｆを、等量の水を留去
しながら添加した。次いで、反応混合物を６５°Ｃに冷
却し、ＭＴＳＣの結晶種を加えた。結晶種の添加後、反
応混合物をゆっくりと０℃に冷却し、十時間撹拌し、濾
過した。濾過ケーキを脱イオン水５０１Ｑで洗浄し、−
晩、減圧乾燥した。
和物（１００％、３３ｇ）および脱イオン水（１００ｍ
Ｑ＞を入れ、次いで、この水性混合物を１０２°Ｃに加
熱した。次いで、前記（Ａ）で得た反応混合物（１７０
ｉ＆）を、等量の水を留去しながら１時間かけて添加し
た。次いで、さらに水１３０ｘｆｆを、等量の水を留去
しながら添加した。次いで、反応混合物を６５°Ｃに冷
却し、ＭＴＳＣの結晶種を加えた。結晶種の添加後、反
応混合物をゆっくりと０℃に冷却し、十時間撹拌し、濾
過した。濾過ケーキを脱イオン水５０１Ｑで洗浄し、−
晩、減圧乾燥した。
標記化合物の収量：４２ｙ（融点；１３１〜１３５°Ｃ
）。
）。
実施例２
特性化を目的としてメチルジチオカルバメート・４級塩
を分離した以外は実施例１の製造法に従って製造した。
を分離した以外は実施例１の製造法に従って製造した。
ＮＭＲ，ＭＳおよびＩＲによって、構造を確認した。
ＩＨＮＭＲ（Ｄ、−ＤＭＳＯ）：δ６．７５（ｍ、 Ｉ
Ｈ）、３゜２（ｑ、ａｎ）、２．９（ｄ、３Ｈ）、１．
２５（ｔ、９Ｈ）。
Ｈ）、３゜２（ｑ、ａｎ）、２．９（ｄ、３Ｈ）、１．
２５（ｔ、９Ｈ）。
陰イオンピークが同定され、陽イオンスキャンにた。
実施例３
（Ａ） 容量５００１ｆ２の３つロフラスコに４０％
メチルアミン（９３，８９）、脱イオン水（１０８ｘＣ
）およびトリエチルアミン（１０９，１９）を入れた。
メチルアミン（９３，８９）、脱イオン水（１０８ｘＣ
）およびトリエチルアミン（１０９，１９）を入れた。
次いで、フラスコの内容物をよく混合した。次いで、撹
拌した反応物を３０〜３５°Ｃの温度に維持しながら、
この反応混合物に二硫化炭素（８２，１９）を１時間か
けて添加した。次いで、３０°Ｃで反応混合物をさらに
１時間撹拌した。
拌した反応物を３０〜３５°Ｃの温度に維持しながら、
この反応混合物に二硫化炭素（８２，１９）を１時間か
けて添加した。次いで、３０°Ｃで反応混合物をさらに
１時間撹拌した。
（Ｂ） 別の容ｆｆ１５００ｚ（！の３つロフラスコ
にヒドラジン水和物（１００％、７１．３９）および脱
イオン水（１６２ｆｆｉρ）を入れた。不活性ガス雰囲
気下、この水性混合物を９５〜１００’ｃに加熱した。
にヒドラジン水和物（１００％、７１．３９）および脱
イオン水（１６２ｆｆｉρ）を入れた。不活性ガス雰囲
気下、この水性混合物を９５〜１００’ｃに加熱した。
（Ｃ）次いで、反応温度を９５〜１００°Ｃの範囲に維
持しながら、上記（Ｂ）で得たヒドラジン水和物水溶液
に、上記（Ａ）で得た反応混合物を３時間かけて添加し
た。
持しながら、上記（Ｂ）で得たヒドラジン水和物水溶液
に、上記（Ａ）で得た反応混合物を３時間かけて添加し
た。
次いで、１．５時間蒸留することによって、反応容器内
の容量を減少させた。
の容量を減少させた。
苛性ソーダ水溶液（５０％ＮａＯＨ１１７２，８９；脱
イオン水１０８肩のを含有している装着したスクラバー
を介してトリエチルアミンを回収した。
イオン水１０８肩のを含有している装着したスクラバー
を介してトリエチルアミンを回収した。
スクラバー中の混合物を１１０℃に加熱することによっ
て、トリエチルアミンを留去した。
て、トリエチルアミンを留去した。
次いで、反応フラスコの内容物を６５°Ｃに冷却し、Ｍ
ＴＳＣの結晶種を加えた。生成物の結晶化後、スラリー
をＯ′Ｃに冷却し、１時間半撹拌した。
ＴＳＣの結晶種を加えた。生成物の結晶化後、スラリー
をＯ′Ｃに冷却し、１時間半撹拌した。
濾過後、濾過ケーキを冷たい脱イオン水で洗浄し、次い
で、６０’Ｃで、−晩、減圧乾燥した。
で、６０’Ｃで、−晩、減圧乾燥した。
ＭＴＳＣの収量は９２．Ｌ７（８１，４％）であった。
実施例４
実施例３の工程（Ａ）において、脱イオン水の使用ｆｆ
１１０８ｉ１２を１００１に代えた以外は実施例３の製
造法に従って製造した。さらに、工程（Ｂ）において、
ヒドラジン水和物と一緒に用いる脱イオン水は６ＯＮ（
たけ用いた。
１１０８ｉ１２を１００１に代えた以外は実施例３の製
造法に従って製造した。さらに、工程（Ｂ）において、
ヒドラジン水和物と一緒に用いる脱イオン水は６ＯＮ（
たけ用いた。
ＭＴＳＣの収量は９８．８９（８６
１％）であっ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿４アルキルである）で示され
るメチルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩と、
ヒドラジンとを反応させることを特徴とする、４−メチ
ル−３−チオセミカルバジド： ▲数式、化学式、表等があります▼ の製造法。 ２、水性媒質系で行うことを特徴とする請求項１に記載
の製造法。 ３、Ｒがエチルである請求項１または２に記載の製造法
。 ４、メチルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩が
メチルアミン、二硫化炭素および式：（Ｒ）＿３Ｎで示
されるアミンの反応により反応系中で製造される請求項
１〜３のいずれかに記載の製造法。 ５、ヒドラジンがヒドラジン水和物である請求項１〜４
のいずれかに記載の製造法。 ６、水性媒質系で行い、Ｒがエチルであり、メチルジチ
オカルバメート・４級アンモニウム塩がメチルアミン、
二硫化炭素およびトリエチルアミンの反応により反応系
中で製造され、そしてヒドラジンがヒドラジン水和物で
ある、請求項１に記載の製造法。 ７、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿４アルキルである）で示され
るメチルジチオカルバメート・４級アンモニウム塩。 ８、Ｒがエチルである請求項７に記載の式（ I ）で示
される塩。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US18563288A | 1988-04-27 | 1988-04-27 | |
| US185632 | 1988-04-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211562A true JPH0211562A (ja) | 1990-01-16 |
Family
ID=22681799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1107117A Pending JPH0211562A (ja) | 1988-04-27 | 1989-04-26 | ４―メチル―３―チオセミカルバジドの製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0339964B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0211562A (ja) |
| AT (1) | ATE115561T1 (ja) |
| BR (1) | BR8901957A (ja) |
| DE (1) | DE68919894T2 (ja) |
| ES (1) | ES2065375T3 (ja) |
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