JPH02110144A - エラストマー用充填剤 - Google Patents
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- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000945 filler Substances 0.000 title claims abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 144
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 71
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 10
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 10
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 54
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract description 32
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 5
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 abstract 3
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 abstract 1
- -1 hydrolysable groups Chemical group 0.000 description 24
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 7
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 4
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 2
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010494 opalescence Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000063973 Mattia Species 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002535 acidifier Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011276 addition treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 239000010692 aromatic oil Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N cetyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C RLGQACBPNDBWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 125000004772 dichloromethyl group Chemical group [H]C(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 229920005645 diorganopolysiloxane polymer Polymers 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N methyl red Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1C(O)=O CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N 0.000 description 1
- 210000002500 microbody Anatomy 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- WOFLNHIWMZYCJH-UHFFFAOYSA-N n-[bis(diethylaminooxy)-methylsilyl]oxy-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)O[Si](C)(ON(CC)CC)ON(CC)CC WOFLNHIWMZYCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005474 octanoate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011044 quartzite Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K sodium nitrilotriacetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硬化し得る有機ポリシロキサン組成物及びエラ
ストマーにおける補強光てん剤として特に有用な親水性
沈降シリカに関する。
ストマーにおける補強光てん剤として特に有用な親水性
沈降シリカに関する。
古くから、酸性化剤の作用とアルカリ性ケイ酸塩水溶液
とによる沈降シリカの製造は知られていたけれど、該シ
リカの製造方法の見かけの単純さにもかかわらず、その
ようにして製造されたシリカは、ニジストマーに関して
十分に魅力のある性質を有しないことが、直ちにわかっ
た。
とによる沈降シリカの製造は知られていたけれど、該シ
リカの製造方法の見かけの単純さにもかかわらず、その
ようにして製造されたシリカは、ニジストマーに関して
十分に魅力のある性質を有しないことが、直ちにわかっ
た。
しかも、決定(determining )ファクター
BET比賢面積、肌荒れ(roughne8θ)ファク
ターまたは融着(coalescence )ファクタ
ー 油調整(○il set、l、ing )及び構造
インデックスを見出すことに努力したにも拘らず、得ら
れた充てん剤の性質は、燃焼シリカにより得られるもの
よりも大いに劣ったままであった。この燃焼シリカは残
念ながら余シにも高価であることがわかっている。
BET比賢面積、肌荒れ(roughne8θ)ファク
ターまたは融着(coalescence )ファクタ
ー 油調整(○il set、l、ing )及び構造
インデックスを見出すことに努力したにも拘らず、得ら
れた充てん剤の性質は、燃焼シリカにより得られるもの
よりも大いに劣ったままであった。この燃焼シリカは残
念ながら余シにも高価であることがわかっている。
何年も以前に、エラストマーの補強に対するシリカの能
力を強化するために、沈降シリカの製造に対する種々の
方法が開発されたが、この方法においては、製造工程中
に、温度、反応物(ケイ酸塩、酸)の濃度水準、反応物
の流速、連続的な反応物添加操作の順序、…値などが正
確に制御され、複雑微妙性を増加させるものであった(
フランス特許第1.552.554号、米国特許第6.
954.944号、同第4.127,641芳容明細書
参照)。
力を強化するために、沈降シリカの製造に対する種々の
方法が開発されたが、この方法においては、製造工程中
に、温度、反応物(ケイ酸塩、酸)の濃度水準、反応物
の流速、連続的な反応物添加操作の順序、…値などが正
確に制御され、複雑微妙性を増加させるものであった(
フランス特許第1.552.554号、米国特許第6.
954.944号、同第4.127,641芳容明細書
参照)。
更に、適当な表面処理(例えばシラン、シラザン等を使
用する)によシシリカを疎水性とするこトニよシ、シリ
コーン用の沈降シリカの補強剤としての品質を更に改良
する試みもなされた。このような処理によって疎水性と
され、しかもシリコーン用に使用することのできる親水
性シリカが例えばフランス特許第2,656.596号
明細書に記載されている。
用する)によシシリカを疎水性とするこトニよシ、シリ
コーン用の沈降シリカの補強剤としての品質を更に改良
する試みもなされた。このような処理によって疎水性と
され、しかもシリコーン用に使用することのできる親水
性シリカが例えばフランス特許第2,656.596号
明細書に記載されている。
最近、大いに改良された沈降シリカが開示された。しか
しこれは有機ポリシロキサンのエラストマーに対し、燃
焼シリカによって与えられる補強性よシも劣る補強性を
与える( 1978年10月10〜14日、ソ連邦キエ
フ市において開催されたインターナショナル ラバー会
議)。
しこれは有機ポリシロキサンのエラストマーに対し、燃
焼シリカによって与えられる補強性よシも劣る補強性を
与える( 1978年10月10〜14日、ソ連邦キエ
フ市において開催されたインターナショナル ラバー会
議)。
今回下記の特色を有することを特徴とする新規なシリカ
を発見した。そしてこれが本発明の主題である。該特色
は二 BET表面積 CTAB表面積 残留ナトリウム含量 一= 比容 190〜640nL2/g 180〜280nL2/g <500ppm 6.5〜6.O VQ>4.2 45μのふるいにおける不通 過によシ算定した粒度 < 0.05%本発明
のシリカは、それぞれの形状にょシ下記の性質を有する
シリカである。
を発見した。そしてこれが本発明の主題である。該特色
は二 BET表面積 CTAB表面積 残留ナトリウム含量 一= 比容 190〜640nL2/g 180〜280nL2/g <500ppm 6.5〜6.O VQ>4.2 45μのふるいにおける不通 過によシ算定した粒度 < 0.05%本発明
のシリカは、それぞれの形状にょシ下記の性質を有する
シリカである。
BET表面積 200〜250 m”/gC
TAB表面積 190〜240rIL2/g残
留ナトリウム含量 比容V。
TAB表面積 190〜240rIL2/g残
留ナトリウム含量 比容V。
45μふるいにおける不通
過によシ評価した粒度
<500ppm
4.5〜5.5
〉4.2
<0.05%
沈降シリカを定義するための種々の特性値は下記の方法
によシ定める。
によシ定める。
BET比表面積はジャーナル オデ ジ アメリカン
ケミカル ソサエティー(Journal ofhhe
American Chemi cal 5ocie
ty )、第60巻1.509ページ(1951:)に
記載されているデルナラエル(Brunauer )、
エメット(Emme FJ)及びテラー(Te1ler
)の方法によって定める。
ケミカル ソサエティー(Journal ofhhe
American Chemi cal 5ocie
ty )、第60巻1.509ページ(1951:)に
記載されているデルナラエル(Brunauer )、
エメット(Emme FJ)及びテラー(Te1ler
)の方法によって定める。
CTAB比表面積はジエイ(Jay)、ヤンツェン(J
anzen )及びクラウス(Kraua )の方法〔
ラバー ケミストリー アンド テクノロジー(Rub
ber ChemlsFJry and Techno
logy )、44(1971)、1287〜1296
ページ参照〕を使用し、−9を有するセチル−トリメチ
ルアンモニウムゾロミドの吸着によって定める。
anzen )及びクラウス(Kraua )の方法〔
ラバー ケミストリー アンド テクノロジー(Rub
ber ChemlsFJry and Techno
logy )、44(1971)、1287〜1296
ページ参照〕を使用し、−9を有するセチル−トリメチ
ルアンモニウムゾロミドの吸着によって定める。
c!113/gで表わされる比容V。は下記の方法にょ
シ定められる。
シ定められる。
シリカ6gを、内径251m、高さ、8011+を有す
る型またはダイに入れ、次いできストンをその上に置く
。該ピストン上に特定重量を加えて、シリカに対して4
に9/7m2の圧力を加えるようにする。次いで該シリ
カの比容を測定する。これがσ3/gで表わされる容積
V。(初容積)である。
る型またはダイに入れ、次いできストンをその上に置く
。該ピストン上に特定重量を加えて、シリカに対して4
に9/7m2の圧力を加えるようにする。次いで該シリ
カの比容を測定する。これがσ3/gで表わされる容積
V。(初容積)である。
vaooは600に9/α2の圧力を加えることによシ
、同様な方法で表わす。この方法に代る形態においては
測定前に190℃の温度において11/2時間にわたっ
て乾燥する。
、同様な方法で表わす。この方法に代る形態においては
測定前に190℃の温度において11/2時間にわたっ
て乾燥する。
残留ナトリウム含量は全ナトリウムに相当する。
この残留ナトリウム含量は、シリカをフッ化水素酸と共
に溶解させてから炎光分光放射(flameapect
roemission )によシ測定する。
に溶解させてから炎光分光放射(flameapect
roemission )によシ測定する。
−は水中における5%シリカ懸濁液について測定する。
加硫後に上記のシリカによって補強することのできる、
本発明の有機ケイ素組成物の性質は臨界的ではない。一
般的に該有機ケイ素組成物は、固体、イム状、ペースト
状または液体であることができる。
本発明の有機ケイ素組成物の性質は臨界的ではない。一
般的に該有機ケイ素組成物は、固体、イム状、ペースト
状または液体であることができる。
これらの組成物において、使用される加硫し得る有機ケ
イ素重合体は、ラジカルR(Rはケイ素原子に結合する
炭化水素性のラジカルを賢わす)の総数とケイ素原子の
総数との比が0.5と6との間であるようなものである
。有機ケイ素重合体を生成するに当り、ケイ素の他の有
効原子価は酸素または窒素のようなヘテロ原子と結合す
るか、さもなければ多価炭化水素ラジカルと結合する。
イ素重合体は、ラジカルR(Rはケイ素原子に結合する
炭化水素性のラジカルを賢わす)の総数とケイ素原子の
総数との比が0.5と6との間であるようなものである
。有機ケイ素重合体を生成するに当り、ケイ素の他の有
効原子価は酸素または窒素のようなヘテロ原子と結合す
るか、さもなければ多価炭化水素ラジカルと結合する。
好ましくは、本発明の充てんされた有機ケイ素組成物は
有機ポリシロキサン組成物であシ、ここに該有機ポリシ
ロキサンは直鎖、枝分れしたもの、または交差結合した
ものであることができ、しかも恐らくは、更に例えば水
酸基、加水分解し得る基、アルケニル基、水素原子など
のような反応性基の炭化水素ラジカルを包含することが
できる。
有機ポリシロキサン組成物であシ、ここに該有機ポリシ
ロキサンは直鎖、枝分れしたもの、または交差結合した
ものであることができ、しかも恐らくは、更に例えば水
酸基、加水分解し得る基、アルケニル基、水素原子など
のような反応性基の炭化水素ラジカルを包含することが
できる。
更に詳しくは、本発明の組成物の主要成分である該有機
ポリシロキサンは下記−形成:%式% (【) 全有し、 ZXRySxo、 −X−y (U)を有
する結合したシロキサン単位よシ成ることができる。
ポリシロキサンは下記−形成:%式% (【) 全有し、 ZXRySxo、 −X−y (U)を有
する結合したシロキサン単位よシ成ることができる。
上記に示した式における種々の記号は次の意味を有する
。
。
Rは、加水分解し得ない炭化水素性の基であシ、このラ
ジカルは下記: 炭素原子1個から5個までと、塩素原子及び(または)
フッ素原子1個から6個までとを有するアルキルまたは
ハロアルキルラジカル、炭素原子6個から8個までと、
塩素原子及び(または)フッ素原子1個から4個までと
を有するシクロアルキル及びハロシクロアルキルラジカ
ル、 炭素原子6個から8個までと、塩素原子及び(または)
フッ素原子1個から4個までとを有するアリール、アル
キルアリール及びハロアリールの各ラジカル、炭素原子
6個から4個までと有するシアノアルキル ラジカル であることができ、 2は水素原子、アルケニル基、水酸基、加水分解するこ
とのできる原子または加水分解することのできる基であ
り、 nは0.1.2または6の整数であシ、XはOll、2
または6の整数であセ、yは2以下または2に等しい整
数、 である。
ジカルは下記: 炭素原子1個から5個までと、塩素原子及び(または)
フッ素原子1個から6個までとを有するアルキルまたは
ハロアルキルラジカル、炭素原子6個から8個までと、
塩素原子及び(または)フッ素原子1個から4個までと
を有するシクロアルキル及びハロシクロアルキルラジカ
ル、 炭素原子6個から8個までと、塩素原子及び(または)
フッ素原子1個から4個までとを有するアリール、アル
キルアリール及びハロアリールの各ラジカル、炭素原子
6個から4個までと有するシアノアルキル ラジカル であることができ、 2は水素原子、アルケニル基、水酸基、加水分解するこ
とのできる原子または加水分解することのできる基であ
り、 nは0.1.2または6の整数であシ、XはOll、2
または6の整数であセ、yは2以下または2に等しい整
数、 である。
説明のため、ケイ素原子に直接に結合する有機ラジカル
只の例を下記に示す: メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ンエチル、α−ペンチル、L−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、α−クロロエチル、α、β−ジクロロ
エチル、フルオロメチル、シフ# オo エチル、α、
β−ゾフルオ口エチル、6゜6、6− ) IJフルオ
ロゾロビル、トリフルオロシクロプロピル、4,4.4
−トリフルオロブチル、5.5.4.4,5.5−ヘプ
タフルオロペンチル、β−シアノエチル、γ−シアノプ
ロピル、フェニル、p−/ロロフェニル、m−クロロメ
チル1.6.5−ジクロロフェニル、トリクロロフェニ
ル、テトラクロロフェニル、o−p−1*はm−トリル
、α、α、α−トリフルオロトリル、2.6−ジメチル
フェニルのようなキシリル類、6.4−ジメチルフェニ
ルの各基。
只の例を下記に示す: メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ンエチル、α−ペンチル、L−エチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、α−クロロエチル、α、β−ジクロロ
エチル、フルオロメチル、シフ# オo エチル、α、
β−ゾフルオ口エチル、6゜6、6− ) IJフルオ
ロゾロビル、トリフルオロシクロプロピル、4,4.4
−トリフルオロブチル、5.5.4.4,5.5−ヘプ
タフルオロペンチル、β−シアノエチル、γ−シアノプ
ロピル、フェニル、p−/ロロフェニル、m−クロロメ
チル1.6.5−ジクロロフェニル、トリクロロフェニ
ル、テトラクロロフェニル、o−p−1*はm−トリル
、α、α、α−トリフルオロトリル、2.6−ジメチル
フェニルのようなキシリル類、6.4−ジメチルフェニ
ルの各基。
好ましくは、該ケイ素原子に結合する有機ラジカルはメ
チル、フェニルまたはビニルの各ラジカルであり、これ
らラジカルは、ハロゲン化することができ、あるいはシ
アノアルキル ラジカルであることができる。
チル、フェニルまたはビニルの各ラジカルであり、これ
らラジカルは、ハロゲン化することができ、あるいはシ
アノアルキル ラジカルであることができる。
記号2は水素原子、塩素原子、ビニル基、水酸基である
か、またはアミノ、アミド、アミノキシ、オキシム、ア
ルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルケニルオキシ、
アシルオキシなどのような加水分解し得る基であること
ができる。
か、またはアミノ、アミド、アミノキシ、オキシム、ア
ルコキシ、アルコキシアルコキシ、アルケニルオキシ、
アシルオキシなどのような加水分解し得る基であること
ができる。
該有機ポリシロキサンの性質、シタがっテシロΦサン単
位(1)と(II)との間の比、及びその分布は公知の
ように、考えられる用途によシ、及び該組成に対して行
われるであろう加硫処理に関係して選択される。
位(1)と(II)との間の比、及びその分布は公知の
ように、考えられる用途によシ、及び該組成に対して行
われるであろう加硫処理に関係して選択される。
したがって、該組成物は昇温された温度において、2,
4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルペル
オキシ団、し−ジチルペルベンゾエート、クミルペルオ
キシド−ジーし一デチルペルオキシドのような有機ペル
オキシドの作用のもとに加硫し得る組成物であることが
できる。
4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルペル
オキシ団、し−ジチルペルベンゾエート、クミルペルオ
キシド−ジーし一デチルペルオキシドのような有機ペル
オキシドの作用のもとに加硫し得る組成物であることが
できる。
上記組成物中に包含される有機4?リシロキサンはシロ
キサン単位(I)によシ実質的に生成され、しかも、い
かなる加水分解し得る原子または基をも含有しない。
キサン単位(I)によシ実質的に生成され、しかも、い
かなる加水分解し得る原子または基をも含有しない。
トリメチルシリル基を末端とするポリメチルポリシロキ
サンは、工業的見地から、この部類の特に重要な代表例
である。
サンは、工業的見地から、この部類の特に重要な代表例
である。
加硫はビニルシリル化、またはヒドロデノシリル化した
基の間に交差結合を生じさせることによシ周囲温度また
は適度な温度においても行うことができる。該ヒドロシ
リル化反応は白金誘導体のような触媒の存在下に行うこ
とができる。したがって使用される該有機ポリシロキサ
ンは加水分解し得る基または原子を含有しない。
基の間に交差結合を生じさせることによシ周囲温度また
は適度な温度においても行うことができる。該ヒドロシ
リル化反応は白金誘導体のような触媒の存在下に行うこ
とができる。したがって使用される該有機ポリシロキサ
ンは加水分解し得る基または原子を含有しない。
加硫は水分の作用下に行うことができる。この種の組成
物中に含有される有機ポリシロキサンは上記に定義され
たような、加水分解し得る基または原子を含有する。こ
のような基を含有するシロキサン単位(fJ)は、使用
される有機ポリシロキサンの全量の、多くとも15重童
チを占める。この種の有機ポリシロキサン組成物は一般
的に、スズ塩のような触媒を含有する。
物中に含有される有機ポリシロキサンは上記に定義され
たような、加水分解し得る基または原子を含有する。こ
のような基を含有するシロキサン単位(fJ)は、使用
される有機ポリシロキサンの全量の、多くとも15重童
チを占める。この種の有機ポリシロキサン組成物は一般
的に、スズ塩のような触媒を含有する。
加硫は交差結合剤の存在下に行うことができる。
このような組成物に使用する有機ポリシロキサンは一般
的に単位(1)及び(■)(この場合Zは水酸基であり
、Xは少くとも1に等しい)により形成される直鎖もし
くは枝分れ鎖の、または交差結合したポリシロキサンで
ある。該交差結合剤はメチルトリアセトキシシラン、イ
ンプロぎルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、メチルトリス(ジエチルアミノキシ)シラン
などのような多官能性シランであることができる。シリ
ケートのような種々のその他の化合物を交差結合剤とし
て使用することができる。
的に単位(1)及び(■)(この場合Zは水酸基であり
、Xは少くとも1に等しい)により形成される直鎖もし
くは枝分れ鎖の、または交差結合したポリシロキサンで
ある。該交差結合剤はメチルトリアセトキシシラン、イ
ンプロぎルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキ
シシラン、メチルトリス(ジエチルアミノキシ)シラン
などのような多官能性シランであることができる。シリ
ケートのような種々のその他の化合物を交差結合剤とし
て使用することができる。
本発明の沈殿シリカはそれらの物理化学的特性に対して
参考文献によシ上記に定義したように概して非微多孔性
であシ、大きな表面積と高度の微粒性とを有する。
参考文献によシ上記に定義したように概して非微多孔性
であシ、大きな表面積と高度の微粒性とを有する。
本発明のシリカは、1つのパラメータの変動が、他のパ
ラメータについて選択された値によシ補償されて、所望
の結果に到達するように、櫨々の相関パラメータの値を
適当に選択する条件下において、全ケイ酸塩を最初に添
加すること、ケイ酸塩と酸とを同時に添加すること、あ
るいは後添加処理すること、などによる公知の製造法を
使用して、種々の方法によ、!7M造することができる
。
ラメータについて選択された値によシ補償されて、所望
の結果に到達するように、櫨々の相関パラメータの値を
適当に選択する条件下において、全ケイ酸塩を最初に添
加すること、ケイ酸塩と酸とを同時に添加すること、あ
るいは後添加処理すること、などによる公知の製造法を
使用して、種々の方法によ、!7M造することができる
。
例えば、アルカリシリケートの水溶液中に二酸化炭素ま
たは強鉱酸水溶液を、ゲルの生成が生ずるまで攪拌下〈
漸次導入し、次いでシリカを沈殿させる。一般に酸溶液
の添加を複数段に行い、粘度の急上昇を示す乳光が生じ
ると同時に酸添加を中断し、デル破壊後に酸添加を再開
して…値を9から7までに調節するのが好ましい。この
最後の酸の流れの間に温度は速やかに上昇する。この混
合物を、少くとも20分間、好ましくは60分間100
℃付近に維持する。下記の説明に拘束されるものではな
いが、上記の…範囲における上記の加熱処理により、存
在する全ての微孔のブロッキング(blocking
)が起るものと考えられる。
たは強鉱酸水溶液を、ゲルの生成が生ずるまで攪拌下〈
漸次導入し、次いでシリカを沈殿させる。一般に酸溶液
の添加を複数段に行い、粘度の急上昇を示す乳光が生じ
ると同時に酸添加を中断し、デル破壊後に酸添加を再開
して…値を9から7までに調節するのが好ましい。この
最後の酸の流れの間に温度は速やかに上昇する。この混
合物を、少くとも20分間、好ましくは60分間100
℃付近に維持する。下記の説明に拘束されるものではな
いが、上記の…範囲における上記の加熱処理により、存
在する全ての微孔のブロッキング(blocking
)が起るものと考えられる。
次いで媒質の一値が6.5から5.5までの値に調整さ
れるまで酸の流れを再開始し、沈澱したシリカを濾過し
、純水(例えば脱イオン水)で洗浄する。伝導率が5
x i Q−’ Q/ an27 cm以下の任意の水
を使用することができる。
れるまで酸の流れを再開始し、沈澱したシリカを濾過し
、純水(例えば脱イオン水)で洗浄する。伝導率が5
x i Q−’ Q/ an27 cm以下の任意の水
を使用することができる。
該洗浄操作は好ましくは、−値5〜4に僅かに酸性化し
た純水により、次いで純水によシ、順次に行う。該シリ
カは洗浄後に乾燥し、次いで常法を使用して微粉化する
。乾燥は、例えばフランス特許出願第2,257,52
6号明細書に記載されているような渦流装置において行
い、その装置内の通過時間は1分以内である。
た純水により、次いで純水によシ、順次に行う。該シリ
カは洗浄後に乾燥し、次いで常法を使用して微粉化する
。乾燥は、例えばフランス特許出願第2,257,52
6号明細書に記載されているような渦流装置において行
い、その装置内の通過時間は1分以内である。
微粉化はゾエイエイチ ベリー(JHFerry )の
ケミカル エンジニアズ ハンドブック、第5版874
6部に記載されているようなジェット 0−マイデー(
Jet、 0−Mlzer )型及びその他の装置によ
って行う。乾燥操作及び微粉化操作の条件は、当業者の
常法によるものであシ、かつパラメータv0、水分含量
などに関して適当な値が得られるように適応させる。
ケミカル エンジニアズ ハンドブック、第5版874
6部に記載されているようなジェット 0−マイデー(
Jet、 0−Mlzer )型及びその他の装置によ
って行う。乾燥操作及び微粉化操作の条件は、当業者の
常法によるものであシ、かつパラメータv0、水分含量
などに関して適当な値が得られるように適応させる。
一般的に上記に記載した方法においては、ケイ酸塩の水
溶液は二酸化ケイ素50〜’+20g7.13重量当量
を含有し、51027アルカリ性酸化物(Na2Oなど
)のモル比は2.5〜4であシ、かつ酸溶液は希釈形態
または濃厚形態で使用することができる。
溶液は二酸化ケイ素50〜’+20g7.13重量当量
を含有し、51027アルカリ性酸化物(Na2Oなど
)のモル比は2.5〜4であシ、かつ酸溶液は希釈形態
または濃厚形態で使用することができる。
該ケイ酸塩水層液の中和温度は、微孔のブロッキングの
だめの引続いての加熱操作前における初期において50
℃と95°Cとの間である。
だめの引続いての加熱操作前における初期において50
℃と95°Cとの間である。
中和温度は、ゲル、次いでシリカの沈殿が生成する媒質
の希釈が進むのに比例して、よシ高い値に選択されなけ
ればならない。希釈を同一程度として温度を上げること
によう、実際に沈殿シリカの表面積が減少することがあ
る。したがって媒質が、よシ譲厚であれば、操作は、よ
フ低い温度範囲(例えば50°C〜70 ’0 )で行
われるであろう。
の希釈が進むのに比例して、よシ高い値に選択されなけ
ればならない。希釈を同一程度として温度を上げること
によう、実際に沈殿シリカの表面積が減少することがあ
る。したがって媒質が、よシ譲厚であれば、操作は、よ
フ低い温度範囲(例えば50°C〜70 ’0 )で行
われるであろう。
更に、その代シの好ましい形態によれば、景初に該シリ
ケート水溶液に金属イオン封鎖剤を添加することができ
、それによシ実際上シリケート中に常に少量で常に存在
する痕跡の金属不純物(特にカルシウム及びマグネシウ
ムのようなアルカリ土類金M)の少くとも一部、好まし
くは全部を錯化することができる。使用することのでき
る錯化剤の例を下記に挙げる。エチレンシアミンテトラ
酸&(EDTA)%ナトリウム ニトリロトリアセテー
ト(NTA)、 ナトリウム ジエチレントリアミノ
ペンタアセテート(D’L”PA)及びトリポリリン酸
ナトリウム(STPP)。
ケート水溶液に金属イオン封鎖剤を添加することができ
、それによシ実際上シリケート中に常に少量で常に存在
する痕跡の金属不純物(特にカルシウム及びマグネシウ
ムのようなアルカリ土類金M)の少くとも一部、好まし
くは全部を錯化することができる。使用することのでき
る錯化剤の例を下記に挙げる。エチレンシアミンテトラ
酸&(EDTA)%ナトリウム ニトリロトリアセテー
ト(NTA)、 ナトリウム ジエチレントリアミノ
ペンタアセテート(D’L”PA)及びトリポリリン酸
ナトリウム(STPP)。
もう一つの、代シの好ましい形態によれば、ポリケイ酸
デルの破壊後において、シリカ形成のために媒質を水で
希釈することができる。この希釈操作は、それによシシ
リカ塊の洗浄可能性を改良することができるので有益で
ある。更にもう−りの、代シの形態によれば「再循環に
よる中和」と称される方法を使用することもできる。こ
の方法は、実質的大きさの容器内に、最初に導入されて
いるケイ酸ナトリウム水溶液を、小容量(ケイ酸塩水溶
液の全部を考慮して)の反応器内に規則的に、かつ閉回
路形態で循環させることによシ、酸を使用して該反応器
中のアルカリ性ケイ酸塩水溶液を中和し:中和後に該混
合物を該容器に戻すことより成る。上記方法は、例えば
フランス特許第1,160,762号明細書に記載され
ている。
デルの破壊後において、シリカ形成のために媒質を水で
希釈することができる。この希釈操作は、それによシシ
リカ塊の洗浄可能性を改良することができるので有益で
ある。更にもう−りの、代シの形態によれば「再循環に
よる中和」と称される方法を使用することもできる。こ
の方法は、実質的大きさの容器内に、最初に導入されて
いるケイ酸ナトリウム水溶液を、小容量(ケイ酸塩水溶
液の全部を考慮して)の反応器内に規則的に、かつ閉回
路形態で循環させることによシ、酸を使用して該反応器
中のアルカリ性ケイ酸塩水溶液を中和し:中和後に該混
合物を該容器に戻すことより成る。上記方法は、例えば
フランス特許第1,160,762号明細書に記載され
ている。
本発明の、別の形態によれば、上記に定義されたような
沈殿シリカを、引続いてそれらの表面の性質を改質す込
大めの通常の処理に供し、それらを特に疎水性としたも
のを、補強剤として該有機ケイ酸組成物に含有させるこ
とができる。このような改質されたシリカは有機ポリシ
ロキサン系ニジストマーの補強用に同様に好適である。
沈殿シリカを、引続いてそれらの表面の性質を改質す込
大めの通常の処理に供し、それらを特に疎水性としたも
のを、補強剤として該有機ケイ酸組成物に含有させるこ
とができる。このような改質されたシリカは有機ポリシ
ロキサン系ニジストマーの補強用に同様に好適である。
該表面の性質を改質するだめの種々の試薬の性質は臨界
的ではない。使用する該試薬は一般的に、シロキサン類
(ヘキサメチルジシラデンなど)、アルキルシラン類(
トリメチルシランなど)、アルキルアルコキシシラン類
(トリメチルエトキシシラyなど)、アルキルクロロシ
ラン類、アルケニルクロロシラン類、ジヒドロキジル有
機ポリシロキサン類、シクロシロキサン類などのような
有機ケイ酸性の種類のものであシ、かつ例えばフランス
特許第2.656.596号及び同第2,695,95
2芳容明細書に記載されている。
的ではない。使用する該試薬は一般的に、シロキサン類
(ヘキサメチルジシラデンなど)、アルキルシラン類(
トリメチルシランなど)、アルキルアルコキシシラン類
(トリメチルエトキシシラyなど)、アルキルクロロシ
ラン類、アルケニルクロロシラン類、ジヒドロキジル有
機ポリシロキサン類、シクロシロキサン類などのような
有機ケイ酸性の種類のものであシ、かつ例えばフランス
特許第2.656.596号及び同第2,695,95
2芳容明細書に記載されている。
本発明において使用するシリカは、すべての沈降シリカ
と同様に、製造条件及び(または)貯蔵条件によって変
動する関係水分含量を有することができる。該関係水分
含量は一般的に2%と6%との間である(温度105°
Cにおいて2時間加熱することによシ測定)。該有機ポ
リシロキサン組成物に組入れられるシリカの水分含量は
明らかに、所望の用途に関係する。押出し可能な組成物
に対しては、該水分含量は6%以下でなければならない
。
と同様に、製造条件及び(または)貯蔵条件によって変
動する関係水分含量を有することができる。該関係水分
含量は一般的に2%と6%との間である(温度105°
Cにおいて2時間加熱することによシ測定)。該有機ポ
リシロキサン組成物に組入れられるシリカの水分含量は
明らかに、所望の用途に関係する。押出し可能な組成物
に対しては、該水分含量は6%以下でなければならない
。
本発明の有機ケイ素組成物は5%から50チまで、好ま
しくは10%から40%までの沈殿シリカを含有し、該
シリカは好ましくは上記に説明したようにして処理する
。
しくは10%から40%までの沈殿シリカを含有し、該
シリカは好ましくは上記に説明したようにして処理する
。
更に該組成物は、ポリシロキサン、処理された場合もあ
る沈殿シリカ、交差結合剤及び交差結合触媒のほかに、
粉末石英、ケインウ土、メルク、カーボンプラックなど
のような通常の充てん剤を含有することができる。また
該組成物はアンデストラクチュア(anlri−slr
ucbure )剤、熱安定剤、チキントロピー付与剤
顔料、腐食抑制剤などのような種々の通常の添加剤をも
含有することができる。
る沈殿シリカ、交差結合剤及び交差結合触媒のほかに、
粉末石英、ケインウ土、メルク、カーボンプラックなど
のような通常の充てん剤を含有することができる。また
該組成物はアンデストラクチュア(anlri−slr
ucbure )剤、熱安定剤、チキントロピー付与剤
顔料、腐食抑制剤などのような種々の通常の添加剤をも
含有することができる。
可塑剤の名称によっても知られている上記アンチストラ
クチュγ剤は一般的に有機ケイ素性のものであり、有機
ケイ素ゴム100部当シ、0部から20部までの割合で
導入する。それらは該組成物の貯蔵中における硬化を防
止することができる。
クチュγ剤は一般的に有機ケイ素性のものであり、有機
ケイ素ゴム100部当シ、0部から20部までの割合で
導入する。それらは該組成物の貯蔵中における硬化を防
止することができる。
該アンチストラクチュア剤は加水分解し得る基を有する
シラン類、または低分子量の、ヒドロキシル化もしくは
アルコキシル化したジ有機ポリシロキサン油を包含する
ことができる。このような組成物は、例えばフランス特
許第1,111,969号明細書に記載されている。
シラン類、または低分子量の、ヒドロキシル化もしくは
アルコキシル化したジ有機ポリシロキサン油を包含する
ことができる。このような組成物は、例えばフランス特
許第1,111,969号明細書に記載されている。
当業者に周知の熱安定剤の中で、鉄、セリウムまたはマ
ンガンの塩、酸化物及び水酸化物を挙げることができる
。これらの添加剤は単独か、または混合物として使用す
ることができ、一般的に、使用される有機ポリシロキサ
ンゴムの重量に対して0.01%から5%までの割合で
導入する。
ンガンの塩、酸化物及び水酸化物を挙げることができる
。これらの添加剤は単独か、または混合物として使用す
ることができ、一般的に、使用される有機ポリシロキサ
ンゴムの重量に対して0.01%から5%までの割合で
導入する。
該有機ポリシロキサン組成物は、前述したように該組成
物の種々の成分を混合することによシ製造する。混合は
、該組成物がその表面の性質の改質のだめの処理をした
シリカ、あるいはそれをしないシリカの、いずれを使用
するにしても、周囲温度条件または高温条件において行
うことができる。
物の種々の成分を混合することによシ製造する。混合は
、該組成物がその表面の性質の改質のだめの処理をした
シリカ、あるいはそれをしないシリカの、いずれを使用
するにしても、周囲温度条件または高温条件において行
うことができる。
本発明の有機ポリシロキサン組成物は、加硫後において
特にエラストマー状態にな9、その機械的性質及び熱的
性質は燃焼シリカによって補強された有機ポリシロキサ
ンエラストマーのそれらと同程度である。本発明の有機
ケイ素組成物の、硬化物の製造に対する用途もまた本発
明の特徴である。
特にエラストマー状態にな9、その機械的性質及び熱的
性質は燃焼シリカによって補強された有機ポリシロキサ
ンエラストマーのそれらと同程度である。本発明の有機
ケイ素組成物の、硬化物の製造に対する用途もまた本発
明の特徴である。
しかしながら既に述べたように、本発明のシリカはSB
Rゴムまたはその他のようなエラストマー材料の補強に
も使用することができる。
Rゴムまたはその他のようなエラストマー材料の補強に
も使用することができる。
下記の実施例によシ本発明を更に説明する。しかしなが
ら該実施例は説明のためであって限定するものではない
。
ら該実施例は説明のためであって限定するものではない
。
実施例1
本実施例に使用する沈降シリカは次の方法によシ製造し
た。
た。
76℃の温度に上げたケイ酸ナトリウム108諭の水溶
液(このケイ酸ナトリウム水溶液は、80g/13に等
しい初期8102濃度を有し、比γは6.5に等しかっ
た)を、激しくかくはんした容器に導入した。この溶液
にナトリウム ジエチレントリアミノ−ペンタアセテー
トの40%水溶液0.56に9に添加シ、次イテ小容量
(5−e)C)、かくはんされた反応器(便宜上、以後
、予備反応器という)中において、毎時2m3の流量の
該溶液の再循環を確立した。該溶液を76°Cの温度に
保ちながら、比重d=1.22を有する硫酸水溶液を該
予備反応器に、毎分160crn3の流量で50分間に
わたって圧加した。
液(このケイ酸ナトリウム水溶液は、80g/13に等
しい初期8102濃度を有し、比γは6.5に等しかっ
た)を、激しくかくはんした容器に導入した。この溶液
にナトリウム ジエチレントリアミノ−ペンタアセテー
トの40%水溶液0.56に9に添加シ、次イテ小容量
(5−e)C)、かくはんされた反応器(便宜上、以後
、予備反応器という)中において、毎時2m3の流量の
該溶液の再循環を確立した。該溶液を76°Cの温度に
保ちながら、比重d=1.22を有する硫酸水溶液を該
予備反応器に、毎分160crn3の流量で50分間に
わたって圧加した。
該硫酸水溶液の流れを、10分後に顕著な乳光が生じた
時、中断した。温度を保ちつつ、水62−eを15分間
にわたって添加し、次いで70分目以後に温度を約90
℃に上げた。この温度には88分目に到達した。この瞬
間から128分目まで、ケイ酸ナトリウム水溶液57k
Flを、625cm”7分の流量で該予備反応器に添加
し、この間、酸溶液を65071137分の流量で添加
することによシー値を7.5±0.1に保ち、しかも温
度を85°Cから90°Cまでに保った。ケイ酸塩の追
加の流れを128分目で中止し、酸の添加は、90°C
から100°Cまでの温度に加熱を続けながら、−値が
6.5に調整されるまで継続した。次いでシリカを濾過
し、洗浄し、フランス特許第2,257.526号明細
書に記載のタイプの装置においてシランシュドライング
することによシ乾燥し、次いでジェット O−マイデー
型の装置、及びケミカル エンジニアズ ハンドブック
第5版8−46または8−44に記載されているような
、その他の装置において微粉化した。
時、中断した。温度を保ちつつ、水62−eを15分間
にわたって添加し、次いで70分目以後に温度を約90
℃に上げた。この温度には88分目に到達した。この瞬
間から128分目まで、ケイ酸ナトリウム水溶液57k
Flを、625cm”7分の流量で該予備反応器に添加
し、この間、酸溶液を65071137分の流量で添加
することによシー値を7.5±0.1に保ち、しかも温
度を85°Cから90°Cまでに保った。ケイ酸塩の追
加の流れを128分目で中止し、酸の添加は、90°C
から100°Cまでの温度に加熱を続けながら、−値が
6.5に調整されるまで継続した。次いでシリカを濾過
し、洗浄し、フランス特許第2,257.526号明細
書に記載のタイプの装置においてシランシュドライング
することによシ乾燥し、次いでジェット O−マイデー
型の装置、及びケミカル エンジニアズ ハンドブック
第5版8−46または8−44に記載されているような
、その他の装置において微粉化した。
生成したシリカは下記の特性を有した二BFT表面積
242席2ZgcTABi面&
267vL”/7BET/CTAB表面積間
の比 LO21残留ナトリウム含量 425
ppm−値 5・1 比容V。4.8cm3/g 水分含量(105°C) 5.90%1200
°Cにおけるロス 9.22%このシリカを先ず
有機ポリシロキサン材料(EVC)の補強用に使用した
。
242席2ZgcTABi面&
267vL”/7BET/CTAB表面積間
の比 LO21残留ナトリウム含量 425
ppm−値 5・1 比容V。4.8cm3/g 水分含量(105°C) 5.90%1200
°Cにおけるロス 9.22%このシリカを先ず
有機ポリシロキサン材料(EVC)の補強用に使用した
。
ポリジメチルシロキサン ゴム(このゴムは1にg当、
9720′mqのビニル基を含有し、液化したこのゴム
はトリメチルシロキシ単位を末端とし、25°Cにおけ
る粘度20X10’センチポアズ、M−10XID5を
有する)を均質化し、ポリンメチルシロキサン ジム試
料中に、鉄オクトエート50%を含有するペースト0.
4部を添加し、アンチストラクチュア(ant、1−s
brucbure )剤(水酸基8.6%を含有するα
、ω−ジヒPロキシル化ポリジメチルシロキサン)6部
を導入し、・次いで沈降シリカ40部を導入した。
9720′mqのビニル基を含有し、液化したこのゴム
はトリメチルシロキシ単位を末端とし、25°Cにおけ
る粘度20X10’センチポアズ、M−10XID5を
有する)を均質化し、ポリンメチルシロキサン ジム試
料中に、鉄オクトエート50%を含有するペースト0.
4部を添加し、アンチストラクチュア(ant、1−s
brucbure )剤(水酸基8.6%を含有するα
、ω−ジヒPロキシル化ポリジメチルシロキサン)6部
を導入し、・次いで沈降シリカ40部を導入した。
最後に、ポリ有機シロキサン油中に2,4−ジクロロペ
ンジイルペルオキシド50%を含有するペースト1部を
包含する加硫剤を該有機ポリシロキサン組成物中に導入
した。
ンジイルペルオキシド50%を含有するペースト1部を
包含する加硫剤を該有機ポリシロキサン組成物中に導入
した。
次いで、厚さ2nの型で処理した該混合物をプレス(圧
力60に9/C1112)中で115°Cの温度におい
て8分間加熱することによシ加硫を行った。
力60に9/C1112)中で115°Cの温度におい
て8分間加熱することによシ加硫を行った。
このニジストマーは好ましくは200°Cの温度におい
て16時間アニーリング処理に供する。
て16時間アニーリング処理に供する。
もう一つの関係において、加硫剤を未だ添加しなかった
有機ポリシロキサン組成物を周囲温度または150℃に
おいて製造した。
有機ポリシロキサン組成物を周囲温度または150℃に
おいて製造した。
加硫後に、しかも場合によってはアニーリング後に得ら
れた有機ポリシロキサンのニジストマーの機械的性質と
、沈降シリカを実質的に同−茨面fit有−する燃焼シ
リカ(商標名Ce、b−0−8ll、BET表面積21
7 rn2/g; cTABfp面積206 rrL2
/11>に替えて製造したエラストマーの機械的性質と
を比較した。
れた有機ポリシロキサンのニジストマーの機械的性質と
、沈降シリカを実質的に同−茨面fit有−する燃焼シ
リカ(商標名Ce、b−0−8ll、BET表面積21
7 rn2/g; cTABfp面積206 rrL2
/11>に替えて製造したエラストマーの機械的性質と
を比較した。
結果を下記衣に示す。
200°CK′s?いて16時間アニーリングした加硫
混合物次いで該シリカを微粉化せずにエラストマーの補
強用に使用した。
混合物次いで該シリカを微粉化せずにエラストマーの補
強用に使用した。
該シリカのvaooは1.26に等しく、予め1908
Cの温度で加熱した場合は1.49に等しいことが実測
された。
Cの温度で加熱した場合は1.49に等しいことが実測
された。
本実施例においては下記の処方を採用した(重量部):
芳香族油(Duシrez Vl□) 2O−
DOステアリン酸 1.50 硫黄 2.80 CBS) シリカ 60.00 ポリエチレングリコール(pEG4000)操作は1リ
ツトルの内部バンバ’J −(Banbury)混合機
中で行い、次いでシリンダー形式の混合機中で再び耽け
た。
DOステアリン酸 1.50 硫黄 2.80 CBS) シリカ 60.00 ポリエチレングリコール(pEG4000)操作は1リ
ツトルの内部バンバ’J −(Banbury)混合機
中で行い、次いでシリンダー形式の混合機中で再び耽け
た。
下記の試験を行った
加硫中の混合物の流動学的性質の測定。
最小カップル(Cm ) 二試験温度における未加硫混
合物(なま混合物)の粘稠度。
合物(なま混合物)の粘稠度。
最大カップル(CM ) :交差結合後における混合物
の粘稠度。
の粘稠度。
カップルニCM −Cmは交差結合度に関係する。
早期加硫性(forwardne88 ) :試験温度
において交差結合を開始するに要する時間。
において交差結合を開始するに要する時間。
インデックス:加硫の速度に関係する。
(最適時間−早期加硫性)。
Y分=最適時間
これらの性質についてはエンサイクロペディアオデ ポ
リマー サイエンス アンド テクノロジー(Ency
clopaedia of Polymer 5cie
nce &Technology )、第12巻、26
5ページ〔インタルサイエンス パデリシャーズージョ
ン ウィリアンド サンズ(Inherscience
Publi8herE1−JohnW上ley &
5ons )社刊〕に詳しく記載されている。
リマー サイエンス アンド テクノロジー(Ency
clopaedia of Polymer 5cie
nce &Technology )、第12巻、26
5ページ〔インタルサイエンス パデリシャーズージョ
ン ウィリアンド サンズ(Inherscience
Publi8herE1−JohnW上ley &
5ons )社刊〕に詳しく記載されている。
2)静的性質
下記の基準にしたがって測定した性質は次のものである
。
。
a) ASTM D412−51T
破壊強さkg/cM2
伸び チ
モジュラス
カップルX−+’f分
(縦座標) (横座標)
ショアA硬度
c) DIN55516
摩耗(耐摩耗性)
6)動的性質
グツドリッチ(GOOdriCh )たわみ計この装置
は加硫に供して変形応力を変え、かつ疲れ強さを測定す
るためのものである。
は加硫に供して変形応力を変え、かつ疲れ強さを測定す
るためのものである。
a)静的圧縮(80%)ニ一定荷重下における偏差。
b)永久変形(FD%):試験後における残留変形の1
00分率。
00分率。
C)動的圧縮(DC%):試験中における変形のパーセ
ント。
ント。
DCO二試験開始時における動的圧縮。
DCF :試験終了時における動的圧縮。
ΔDC= DCF−DCO動的圧縮の発生は疲れの強さ
に関係する。
に関係する。
d)ΔT、基体(baae ) :試験片の表面(その
基体における)の温度と室温との温度差。
基体における)の温度と室温との温度差。
e)Δ丁、心部(core):試験片の6部または心臓
部の温度と室温との温度差。
部の温度と室温との温度差。
f)試験条件:
負荷24ポンド、偏差22.2%
周波数21.4ヘルツ。
室の温度= 5000
結果を下記の表に総括する。
シリカ
BET艮面槓
CTAB表面積
ミクロボシテイ
(Mlcropoai t、y)
PEC)4000
(シリカ上の%)
レオメータ(150’C)
カップル:最小〜最大
Δカップル
8・5〜8.45
12〜89
早期加硫性〜
インデックス
6分60秒〜10分 5分〜9分
静的性質
破壊強さに9/α2
ショアA硬度
191.6
8.2
100%伸びにおける
モジュラス
1.2
伸びチ
ロ4
25.5
引裂き跋/c!n
Trou日era
28.6 10
67.0
8.5
摩耗DIN (ロス)
ノツチなし
<ASTM:D815−57T)
グツドリッチ フレクンメトリー
C=24ポンド、D=22.2%
F=21.4ヘルツ θ= 50 ’0靜静的縮%
11.4 10.95 動的圧縮%初め 4.4 5.9動的圧縮
チ終り 5.4 4.8ΔDcF−DCO
1,00,9 ΔT 、、m本29.0 28.0ΔT、6
部 102 99.0永久変形
%(PD) 5.0 2.55ノ
ツチ(切欠き)なしの曲げ抵抗(MATTIA)におい
て、同一条件下に、本発明によるものでない、−値7程
度を有するシリカによ)得られる、それの6倍から4倍
までの程度の、めざましい改良が特に注目される。
11.4 10.95 動的圧縮%初め 4.4 5.9動的圧縮
チ終り 5.4 4.8ΔDcF−DCO
1,00,9 ΔT 、、m本29.0 28.0ΔT、6
部 102 99.0永久変形
%(PD) 5.0 2.55ノ
ツチ(切欠き)なしの曲げ抵抗(MATTIA)におい
て、同一条件下に、本発明によるものでない、−値7程
度を有するシリカによ)得られる、それの6倍から4倍
までの程度の、めざましい改良が特に注目される。
シリカを充てんした、二、三ミクロンの側面を有する加
硫切片を作製し、好ましくJ/′i該シリカシリカ顕微
鏡で見られるようにメチルレッドで染色した。該シリカ
は当初においてニジストマーと同じ屈折率を有した。
硫切片を作製し、好ましくJ/′i該シリカシリカ顕微
鏡で見られるようにメチルレッドで染色した。該シリカ
は当初においてニジストマーと同じ屈折率を有した。
分散百分率とは8ミクロン以下の集塊に分散したシリカ
の百分率である。
の百分率である。
分散百分率は:
分散%−100=
Sx
分散
(式中、Xはi o、o o o個の目の格子中におけ
る17ミクロンの目の総数であシ:Sは膨潤剤の作用に
よる表面膨潤系数であシ、 でID0Lはゴム全体に対するシリカの容量チである)
、 シリカの重量×シリカの比容積×100=混合物の重i
t×混合物の比容積、 のようにして計算される。
る17ミクロンの目の総数であシ:Sは膨潤剤の作用に
よる表面膨潤系数であシ、 でID0Lはゴム全体に対するシリカの容量チである)
、 シリカの重量×シリカの比容積×100=混合物の重i
t×混合物の比容積、 のようにして計算される。
同様な原理により、光学顕微鏡の倍率を変えることによ
シ、6ミクロン以下及び0.7ミクロン以下の集塊に分
散したシリカの百分率を得ることができる。この場合、
格子のそれぞれの目または十字線は異った倍率において
6ミクロン及び1.4ミクロンの線寸法を有する。
シ、6ミクロン以下及び0.7ミクロン以下の集塊に分
散したシリカの百分率を得ることができる。この場合、
格子のそれぞれの目または十字線は異った倍率において
6ミクロン及び1.4ミクロンの線寸法を有する。
上記百分率の増加〈つれて分散が増進する。
分散についての結果は次のとおりである:〈8μ
99.5 〈6μ 98 〈0.7μ 94 実施例2 前記実施例1によシ、該実施例の沈降シリカを、オクタ
メチルシクロテトラシロキサンで処理し、下記の特性を
有する沈降シリカに置き換えて、熱加硫し得る有機ポリ
シロキサン組成物を製造した。
99.5 〈6μ 98 〈0.7μ 94 実施例2 前記実施例1によシ、該実施例の沈降シリカを、オクタ
メチルシクロテトラシロキサンで処理し、下記の特性を
有する沈降シリカに置き換えて、熱加硫し得る有機ポリ
シロキサン組成物を製造した。
BET表面積 150WL2/j9
残留ナトリウム含債 400ppm比容
■。 4.2Cm3/g水分含
量(105℃)1.5% この沈降シリカは前記実施例1に記載のような親水性の
沈降シリカをオクタメチルシクロテトラシロキサンと共
に加熱することにより製造した。
残留ナトリウム含債 400ppm比容
■。 4.2Cm3/g水分含
量(105℃)1.5% この沈降シリカは前記実施例1に記載のような親水性の
沈降シリカをオクタメチルシクロテトラシロキサンと共
に加熱することにより製造した。
次いで該生成した組成物を前記実施例1に記載の操作態
様を使用して加硫し、かつアニーリングした。
様を使用して加硫し、かつアニーリングした。
結果を下記表に示す。
加硫し、
しかもアニーリングしない混合物
た有機ポリシロキサン組成物
ショアA硬度
モジュラスに9 / cm 2
破壊強さkg/z”
破壊までの伸び%
引裂き強さ鑓/−
ライツク反発弾性%
ける70時間)
200°Cの温度において16時間アニーリングした加
硫混合物 25℃の温度において混合し た有機ポリシロキサン組成物 本発明の 沈降シリカ シリカCab−0− 811(商標) ショアA硬度 モジュラスゆ/L:rn” 破壊強さkli’ / cm 2 破壊までの伸びチ 引裂き強さkg/c7n ライツク反発弾性 チ 残留圧縮変形 チ (150°/60% における70時間) 実施例6 製造 25°Cにおける粘度60000センチストークスを有
するゾヒドロキシル化ボリジメチルシロキサン油cMw
=1.6x105)100部を周囲温度において混合物
中で均質化し、水酸基5%を含有スルジヒドロキシポリ
(メチルフェニル)シロキサンによシ形成されるチキン
トロピー付与剤5部と、前記実施例2に記載の沈降シリ
カ15部とを添加し、次いで該混合物を減圧下に150
℃の温度において加熱した。冷却後、触媒(すなわちメ
チルトリアセトキシシラン5部)と;ジブチルスズジラ
ウレート2モルとブチルチタネート1モルとの間の反応
生成物である加硫促進剤(すなわち0.02部)とを添
加した。該混合物を減圧された窒累圧力下(400Pa
)に均質化し、次いでカートリッジ形状とした。該試
料の加硫を周囲温度において、空気中の水分の作用によ
シ行った。結果は次のと訃りであった。
硫混合物 25℃の温度において混合し た有機ポリシロキサン組成物 本発明の 沈降シリカ シリカCab−0− 811(商標) ショアA硬度 モジュラスゆ/L:rn” 破壊強さkli’ / cm 2 破壊までの伸びチ 引裂き強さkg/c7n ライツク反発弾性 チ 残留圧縮変形 チ (150°/60% における70時間) 実施例6 製造 25°Cにおける粘度60000センチストークスを有
するゾヒドロキシル化ボリジメチルシロキサン油cMw
=1.6x105)100部を周囲温度において混合物
中で均質化し、水酸基5%を含有スルジヒドロキシポリ
(メチルフェニル)シロキサンによシ形成されるチキン
トロピー付与剤5部と、前記実施例2に記載の沈降シリ
カ15部とを添加し、次いで該混合物を減圧下に150
℃の温度において加熱した。冷却後、触媒(すなわちメ
チルトリアセトキシシラン5部)と;ジブチルスズジラ
ウレート2モルとブチルチタネート1モルとの間の反応
生成物である加硫促進剤(すなわち0.02部)とを添
加した。該混合物を減圧された窒累圧力下(400Pa
)に均質化し、次いでカートリッジ形状とした。該試
料の加硫を周囲温度において、空気中の水分の作用によ
シ行った。結果は次のと訃りであった。
チキントロピー付与剤を含有し、前記実施例2の沈降シ
リカまたはシリカCab−0−8il (商標)t−元
てんした有機ポリシロキサン組成物組成物中に導入した
沈降 シリカの性質 本発明の シリカ Cab−0−8il (商標) ショアA硬度 100チにおけるモジ ュラス kg7cm2 10.5 11.0 破壊強さ kg/cIn2 破壊までの伸びチ
リカまたはシリカCab−0−8il (商標)t−元
てんした有機ポリシロキサン組成物組成物中に導入した
沈降 シリカの性質 本発明の シリカ Cab−0−8il (商標) ショアA硬度 100チにおけるモジ ュラス kg7cm2 10.5 11.0 破壊強さ kg/cIn2 破壊までの伸びチ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記の特性を有するシリカを主成分とするエラストマー
用充填剤。 BET表面積 190m^2/g〜340m^2/g CTAB表面積 180m^2/g〜280m^2/g 比(BET表面積/CTAB表面積)=0.9〜1.2 残留ナトリウム含量 <500ppm V_0 >4.2 pH 3.5〜6 粒度(45μのふるいにおける不通過により算定) <
0.05%
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7931217 | 1979-12-20 | ||
FR7931217A FR2471947A1 (fr) | 1979-12-20 | 1979-12-20 | Silice de precipitation, notamment utilisable comme charge renforcante |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17963280A Division JPS5696718A (en) | 1979-12-20 | 1980-12-18 | Precipitated silica especially useful as reinforcement filler |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02110144A true JPH02110144A (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=9232992
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17963280A Granted JPS5696718A (en) | 1979-12-20 | 1980-12-18 | Precipitated silica especially useful as reinforcement filler |
JP1206587A Pending JPH02110144A (ja) | 1979-12-20 | 1989-08-09 | エラストマー用充填剤 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17963280A Granted JPS5696718A (en) | 1979-12-20 | 1980-12-18 | Precipitated silica especially useful as reinforcement filler |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4704425A (ja) |
EP (1) | EP0031271B1 (ja) |
JP (2) | JPS5696718A (ja) |
BR (1) | BR8008344A (ja) |
CA (1) | CA1132774A (ja) |
DE (1) | DE3070630D1 (ja) |
ES (1) | ES497951A0 (ja) |
FR (1) | FR2471947A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05202297A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-08-10 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム補強充填剤 |
JPH08109302A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-04-30 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマー組成物 |
JP2005206697A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーンゴム組成物 |
JP2006241253A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2006342327A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-12-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2012106912A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-06-07 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | シリカの製造方法及びタイヤ用ゴム組成物 |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2562534B1 (fr) * | 1984-04-06 | 1986-06-27 | Rhone Poulenc Chim Base | Nouvelle silice precipitee a caracteres morphologiques ameliores, procede pour son obtention et application, notamment comme charge |
JPS63130376U (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | ||
US5614177A (en) * | 1987-11-04 | 1997-03-25 | Rhone-Poulenc Chimie | Dentifrice-compatible silica particulates |
US5286478A (en) * | 1987-11-04 | 1994-02-15 | Rhone-Poulenc Chimie | Dentifrice-compatible silica particulates |
FR2631620B1 (fr) * | 1988-05-19 | 1990-07-27 | Rhone Poulenc Chimie | Nouvelle silice precipitee absorbante et composition a base de cette s ilice |
FR2632185B1 (fr) * | 1988-06-01 | 1992-05-22 | Rhone Poulenc Chimie | Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec le zinc |
FR2649089B1 (fr) * | 1989-07-03 | 1991-12-13 | Rhone Poulenc Chimie | Silice a porosite controlee et son procede d'obtention |
US5077133A (en) * | 1990-06-21 | 1991-12-31 | Libbey-Owens-Ford Co. | Infrared and ultraviolet radiation absorbing green glass composition |
US5094829A (en) * | 1990-06-21 | 1992-03-10 | Ppg Industries, Inc. | Reinforced precipitated silica |
JPH04189857A (ja) * | 1990-11-22 | 1992-07-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | エチレン・α―オレフィン共重合系加硫ゴム組成物 |
JP2624027B2 (ja) * | 1991-05-14 | 1997-06-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 表面処理無機微粉末を用いた電子写真現像剤 |
FR2678259B1 (fr) * | 1991-06-26 | 1993-11-05 | Rhone Poulenc Chimie | Nouvelles silices precipitees sous forme de granules ou de poudres, procedes de synthese et utilisation au renforcement des elastomeres. |
US5244028A (en) * | 1992-05-20 | 1993-09-14 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Tire sidewall composition containing silica having low pH |
US5817160A (en) * | 1992-12-16 | 1998-10-06 | The Center For Innovative Technology | UV absorbing glass |
JP2799773B2 (ja) | 1993-09-29 | 1998-09-21 | ローヌ−プーラン シミ | 沈降シリカ |
FR2710630B1 (fr) * | 1993-09-29 | 1995-12-29 | Rhone Poulenc Chimie | Nouvelles silices précipitées, leur procédé de préparation et leur utilisation au renforcement des élastomères. |
US6001322A (en) | 1993-09-29 | 1999-12-14 | Rhone-Poulenc Chimie | Precipitated silicas |
US6169135B1 (en) | 1993-09-29 | 2001-01-02 | Rhone Poulenc Chimie | Precipitated silica |
DE4427137B4 (de) * | 1993-10-07 | 2007-08-23 | Degussa Gmbh | Fällungskieselsäure |
US6977065B1 (en) * | 1993-10-07 | 2005-12-20 | Degussa Ag | Precipitated silicas |
US5493376A (en) * | 1993-12-15 | 1996-02-20 | Xerox Corporation | Thermally stabilized polyorganosiloxane oil |
US5846506A (en) * | 1994-10-07 | 1998-12-08 | Degussa Aktiengesellschaft | Precipitated silicas |
US6022923A (en) * | 1995-01-13 | 2000-02-08 | Bridgestone Corporation | Pneumatic tires |
US5911963A (en) * | 1995-05-12 | 1999-06-15 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Amorphous precipitated silica having a low proportion of small pores |
IN188702B (ja) * | 1995-06-01 | 2002-10-26 | Degussa | |
JP3445707B2 (ja) * | 1996-09-18 | 2003-09-08 | 電気化学工業株式会社 | シリカ質フィラー及びその製法 |
EP1324947A2 (en) | 2000-10-13 | 2003-07-09 | University of Cincinnati | Methods for synthesizing precipitated silica and use thereof |
DE10138490A1 (de) * | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Hydrophobe Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme |
DE10138492A1 (de) * | 2001-08-04 | 2003-02-13 | Degussa | Hydrophobe, nicht getemperte Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad |
JP5046450B2 (ja) * | 2001-09-05 | 2012-10-10 | 藤倉ゴム工業株式会社 | ハイブリッド化合物およびその製造方法、並びにゴムの表面処理方法 |
JP2005521991A (ja) * | 2002-02-07 | 2005-07-21 | ケイヴィージー テクノロジーズ インコーポレイテッド | 吸収性セパレータの濾過作用により形成されたゲル化電解質を有する鉛酸電池、その電解質、及びその吸収性セパレータ |
JP4722482B2 (ja) * | 2002-07-09 | 2011-07-13 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | 硬度の向上したシリカ−ゴム混合物 |
DE10356042A1 (de) * | 2003-12-01 | 2005-07-07 | Degussa Ag | Kleb-und Dichtstoffsysteme |
DE102006024590A1 (de) * | 2006-05-26 | 2007-11-29 | Degussa Gmbh | Hydrophile Kieselsäure für Dichtungsmassen |
JP4664247B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | ガラス繊維製品処理剤組成物 |
US8202502B2 (en) * | 2006-09-15 | 2012-06-19 | Cabot Corporation | Method of preparing hydrophobic silica |
US7803343B2 (en) * | 2007-06-27 | 2010-09-28 | J.M. Huber Corporation | Silica gel manufacturing method and gels made thereby |
US8596468B2 (en) * | 2007-06-27 | 2013-12-03 | J.M. Huber Corporation | Composite caustic silica gel manufacturing method and gels made thereby |
CN103958592B (zh) | 2011-10-24 | 2015-08-26 | 普利司通美国轮胎运营有限责任公司 | 二氧化硅填充的橡胶组合物及其制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5125235A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-03-01 | Ichikoh Industries Ltd |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2732360A (en) * | 1956-01-24 | Rubber compositions containing a silica | ||
US2865882A (en) * | 1955-12-22 | 1958-12-23 | Goodrich Co B F | Elastomeric compositions having silicacontaining reinforcing pigment |
GB883863A (en) * | 1957-09-03 | 1961-12-06 | Pittsburgh Plate Glass Co | Stabilization of silica |
FR1453198A (fr) * | 1964-11-12 | 1966-04-15 | Degussa | Procédé et installation pour la précipitation continue de produits formant gel, notamment de pigments, ainsi que les produits conformes à ceux obtenus par le présent procédé ou procédé similaire |
NL6502791A (ja) * | 1965-03-05 | 1966-09-06 | ||
FR1530836A (fr) * | 1966-07-08 | 1968-06-28 | Bayer Ag | Charges contenant de l'acide silicique utiles comme diluants et leur procédé de préparation |
FR2159580A5 (ja) * | 1971-11-04 | 1973-06-22 | Sifrance | |
US3951907A (en) * | 1972-07-28 | 1976-04-20 | The Regents Of The University Of California | Elastomeric and plastomeric materials containing amorphous carbonaceous silica |
DE2406672A1 (de) * | 1973-02-16 | 1974-08-22 | Cabot Corp | Verfahren zur herstellung von siliciumdioxyd |
US3954944A (en) * | 1973-03-08 | 1976-05-04 | Joseph Crosfield & Sons, Ltd. | Fine silicas |
US3915924A (en) * | 1974-12-18 | 1975-10-28 | Gen Electric | Optically clear void filling compound |
US4127641A (en) * | 1975-12-10 | 1978-11-28 | Joseph Crosfield And Sons Limited | Process for the preparation of precipitated silicas having morphology similar to pyrogenic silicas |
FR2353486A1 (fr) * | 1976-06-04 | 1977-12-30 | Rhone Poulenc Ind | Nouvelle silice de synthese amorphe, procede pour son obtention et application de ladite silice dans les vulcanisats |
DE2628975A1 (de) * | 1976-06-28 | 1977-12-29 | Degussa | Faellungskieselsaeure |
US4202813A (en) * | 1977-05-16 | 1980-05-13 | J. M. Huber Corporation | Rubber containing precipitated siliceous products |
US4463108A (en) * | 1981-07-01 | 1984-07-31 | Ppg Industries, Inc. | Precipitated silica pigment for silicone rubber |
-
1979
- 1979-12-20 FR FR7931217A patent/FR2471947A1/fr active Granted
-
1980
- 1980-12-08 EP EP80401750A patent/EP0031271B1/fr not_active Expired
- 1980-12-08 DE DE8080401750T patent/DE3070630D1/de not_active Expired
- 1980-12-18 JP JP17963280A patent/JPS5696718A/ja active Granted
- 1980-12-19 ES ES497951A patent/ES497951A0/es active Granted
- 1980-12-19 BR BR8008344A patent/BR8008344A/pt unknown
- 1980-12-19 CA CA367,277A patent/CA1132774A/fr not_active Expired
-
1984
- 1984-11-20 US US06/673,269 patent/US4704425A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-08-09 JP JP1206587A patent/JPH02110144A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5125235A (ja) * | 1974-08-23 | 1976-03-01 | Ichikoh Industries Ltd |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05202297A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-08-10 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム補強充填剤 |
JPH08109302A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-04-30 | Nippon Mektron Ltd | アクリル系エラストマー組成物 |
JP2005206697A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シリコーンゴム組成物 |
JP4524565B2 (ja) * | 2004-01-22 | 2010-08-18 | 信越化学工業株式会社 | 湿式シリカ含有シリコーンゴム硬化物の発泡を抑制する方法 |
JP2006241253A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2006342327A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-12-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
JP2012106912A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-06-07 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | シリカの製造方法及びタイヤ用ゴム組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6156165B2 (ja) | 1986-12-01 |
EP0031271B1 (fr) | 1985-05-08 |
DE3070630D1 (en) | 1985-06-13 |
ES8201100A1 (es) | 1981-11-01 |
FR2471947A1 (fr) | 1981-06-26 |
ES497951A0 (es) | 1981-11-01 |
JPS5696718A (en) | 1981-08-05 |
FR2471947B1 (ja) | 1982-09-17 |
CA1132774A (fr) | 1982-10-05 |
BR8008344A (pt) | 1981-07-07 |
EP0031271A1 (fr) | 1981-07-01 |
US4704425A (en) | 1987-11-03 |
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