JPH02103536A - 画像形成方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真製版の分野で用いられる、超硬調な画像を
安定性の高い処理液をもって迅速に形成せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(%にネガ型)に関するものである
。
安定性の高い処理液をもって迅速に形成せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(%にネガ型)に関するものである
。
(従来の技術)
ある種のハロゲン化銀を用いて極めてコントラストの高
い写真画像を形成できることは公知であり、そのような
写真画像の形成方法は、写真製版の分野で用いられてい
る。
い写真画像を形成できることは公知であり、そのような
写真画像の形成方法は、写真製版の分野で用いられてい
る。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特殊な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常θ。
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常θ。
1モル/l以下ンしである。そのためリス現像液は極め
て空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐えられな
いという重大な欠点を持っている。
て空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐えられな
いという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許筒グ、λ、24t、&θ/号、同
第グ、14!、り22号、同第グ、/ga、’4tコ号
、同第11t、3//、7t/号、同第& 、 +27
+2,4に#号、同第41.+2//、7.97号、同
第グ、2’13.739号等に記載されているヒドラジ
ン誘導体を用いる方法がある。この方法によれば、超硬
調で感度の高い写真特性が得られ、更に現像液中に高濃
度の亜硫酸塩を加えることが許容されるので、現像液の
空気酸化に対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的に
向上する。
方法としては米国特許筒グ、λ、24t、&θ/号、同
第グ、14!、り22号、同第グ、/ga、’4tコ号
、同第11t、3//、7t/号、同第& 、 +27
+2,4に#号、同第41.+2//、7.97号、同
第グ、2’13.739号等に記載されているヒドラジ
ン誘導体を用いる方法がある。この方法によれば、超硬
調で感度の高い写真特性が得られ、更に現像液中に高濃
度の亜硫酸塩を加えることが許容されるので、現像液の
空気酸化に対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的に
向上する。
しかしながら、これらヒドラジン化合物を用いた、超硬
調な画像形成法は、伝染現像を強く促進するために、コ
ントラストの低い文字原稿(特に明朝体の#1線)の撮
影時に、細い白地となるべき部分まで黒化してしまい、
文字が黒くつぶれて、判読できなくなってしまう問題が
あった。そのため、明朝体の細線に合せて露光を少なめ
にすると、逆にゴチック文字のつぶれが悪化するという
、露光のラチチュードが狭いという問題があった。同様
の問題は、網点画撮影においても生じ、網点の白地とし
て抜ける部分まで、黒化しやすく、網階調が、非常に短
くなる画質上の欠点をもっている。
調な画像形成法は、伝染現像を強く促進するために、コ
ントラストの低い文字原稿(特に明朝体の#1線)の撮
影時に、細い白地となるべき部分まで黒化してしまい、
文字が黒くつぶれて、判読できなくなってしまう問題が
あった。そのため、明朝体の細線に合せて露光を少なめ
にすると、逆にゴチック文字のつぶれが悪化するという
、露光のラチチュードが狭いという問題があった。同様
の問題は、網点画撮影においても生じ、網点の白地とし
て抜ける部分まで、黒化しやすく、網階調が、非常に短
くなる画質上の欠点をもっている。
この原因は、ヒドラジン化合物による硬調化現像の伝染
現像性が強い丸め、露光された部分に隣接する低露光又
は未露光部分が現像されてしまうことによるもので、こ
れを防止するため、伝染現像による画像拡大を抑制する
方法、及び、画像部の隣接部の現像を抑制する現像効果
をおこす方法C以下ミクロな現像抑制)の開発が望まれ
ていた。
現像性が強い丸め、露光された部分に隣接する低露光又
は未露光部分が現像されてしまうことによるもので、こ
れを防止するため、伝染現像による画像拡大を抑制する
方法、及び、画像部の隣接部の現像を抑制する現像効果
をおこす方法C以下ミクロな現像抑制)の開発が望まれ
ていた。
伝染現像性を抑制する方法は、造核剤の添加量を下げた
り、現像液のpHを下げたりすればよいが、これでは階
調が軟調になり、画線の鮮鋭度がなくなり、実用的に問
題がある。又、造核現像系において、ミクロな現像抑制
を付与することが種々検討されたが、また、満足する方
法は見出されていない。
り、現像液のpHを下げたりすればよいが、これでは階
調が軟調になり、画線の鮮鋭度がなくなり、実用的に問
題がある。又、造核現像系において、ミクロな現像抑制
を付与することが種々検討されたが、また、満足する方
法は見出されていない。
本発明は、現像液のpHを//、コ以下にすることによ
って、造核現像のコントロールを行っている。通常pH
を//、−以下にすると、硬調化が充分おこらないが、
造核促進剤を併用することによって、階調を充分硬調に
することができる。
って、造核現像のコントロールを行っている。通常pH
を//、−以下にすると、硬調化が充分おこらないが、
造核促進剤を併用することによって、階調を充分硬調に
することができる。
このpHでの現像では、より高pHな現像に比べ、伝染
現像性が弱く、画像拡大が小さいことが新たにわかった
。又、ハロゲン組成をBryoモルチ以上にすることに
より、画像部の隣接部の未露光部又は低露光部の現像を
抑制すること、さらに、この効果はpH//、2以下の
現像で顕著になることも新たにわかった。これは、主に
、現像反応によって生じたBrイオンの画像隣接部への
拡散による現像抑制と考えられ、pH//、J以上の造
核現像では、この抑制はあまり観測されないものだった
。
現像性が弱く、画像拡大が小さいことが新たにわかった
。又、ハロゲン組成をBryoモルチ以上にすることに
より、画像部の隣接部の未露光部又は低露光部の現像を
抑制すること、さらに、この効果はpH//、2以下の
現像で顕著になることも新たにわかった。これは、主に
、現像反応によって生じたBrイオンの画像隣接部への
拡散による現像抑制と考えられ、pH//、J以上の造
核現像では、この抑制はあまり観測されないものだった
。
特開昭43−/、!′3’13rには、塩化銀糸乳剤に
おいて硬調化を促進する化合物が述べられているが、臭
化銀系乳剤で、p H/’ / −J以下の現像で、上
記の様な強い硬調化と現1象効果は見出されておらず、
本発明における組合せで初めて実現するものであった。
おいて硬調化を促進する化合物が述べられているが、臭
化銀系乳剤で、p H/’ / −J以下の現像で、上
記の様な強い硬調化と現1象効果は見出されておらず、
本発明における組合せで初めて実現するものであった。
(発明の目的)
本発明の第1の目的は、画線、網点の再現性の良好な(
露光ラチチュードが広い)ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
露光ラチチュードが広い)ハロゲン化銀写真感光材料を
提供することである。
第コの目的は、ヒドラジン化合物を用いた系において、
安定な現像液で、性能を安定に維持できる超硬調な画像
形成法を提供することである。
安定な現像液で、性能を安定に維持できる超硬調な画像
形成法を提供することである。
(発明の開示)
本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水
性コロイド層に一般式(I)のヒドラジン誘導体を有す
るネガ型感光材料をpH//。
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の親水
性コロイド層に一般式(I)のヒドラジン誘導体を有す
るネガ型感光材料をpH//。
2以下の現像液で処理してG♂以上の硬調なり/W両画
像形成する方法において、該ハロゲン化銀のハロゲン組
成が、Br70モル係以上であることを特徴とする画像
形成方法によって達成された。
像形成する方法において、該ハロゲン化銀のハロゲン組
成が、Br70モル係以上であることを特徴とする画像
形成方法によって達成された。
−綴代(+)
式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルネボニル基を表わし、G。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルネボニル基を表わし、G。
はカルボニル基、スルホニル基、スルホキシ基、−P−
基、又はイミノメチレン基を表わし、A5、A、はとも
に水素原子あるいは一方が水素原子で他方がyl換もし
くは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは
N置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアシル基を表ねす。
基、又はイミノメチレン基を表わし、A5、A、はとも
に水素原子あるいは一方が水素原子で他方がyl換もし
くは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは
N置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアシル基を表ねす。
一般式(I)において、R,で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであつて、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の21を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであつて、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の21を有していてもよい。
−綴代(+)においてR+で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基
と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R,として特に好ましいものは了り−ル基である。
R5のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的なWIA基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つ
もの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30
を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30
を持つもの)などがある。
いてもよく、代表的なWIA基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ま
しくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つ
もの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30
を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30
を持つもの)などがある。
−綴代(I)においてRzで表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
R7で表されるアリール基は単環または2環のアリール
基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。こ
のアリール基は、例えばノ10ゲン原子、アルキル基、
シアノ基、カルボキシル基、スルホ基などで1換されて
いてもよい。
基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。こ
のアリール基は、例えばノ10ゲン原子、アルキル基、
シアノ基、カルボキシル基、スルホ基などで1換されて
いてもよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アシルオキシ基としては単環のものが好ましく、また置
換基としてはハロゲン原子などがある。
換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていテモヨい、カルバモイル基と
しては無置換カルバモイル基、及び炭素数1〜10のア
ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキ
シ基なとで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていテモヨい、カルバモイル基と
しては無置換カルバモイル基、及び炭素数1〜10のア
ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキ
シ基なとで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜10のアルコ
キシカルボニル基、了り−ルオキシ力ルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などでHAされていてもよい。
キシカルボニル基、了り−ルオキシ力ルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などでHAされていてもよい。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、G1がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、
アラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベンジル基など
)、了り−ル基(例えば、フェニルL 3.5−ジクロ
ロフェニル基、O−メタンスルホンアミドフェニル基、
4−メタンスルホニルフェニル基など)などであり、特
に水素原子が好ましい。
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、
アラルキル基(例えば、0−ヒドロキシベンジル基など
)、了り−ル基(例えば、フェニルL 3.5−ジクロ
ロフェニル基、O−メタンスルホンアミドフェニル基、
4−メタンスルホニルフェニル基など)などであり、特
に水素原子が好ましい。
またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例工ば、O
−ヒドロキシフェニルメチル基なと)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基なと)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例工ば、O
−ヒドロキシフェニルメチル基なと)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基なと)などが好ましい。
G がスルホキシ基の場合、好ましいRtはシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基なとであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
ジル基、メチルチオベンジル基なとであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が
好ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
G1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいRoはメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
好ましいRoはメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
R8の置換基としては、R9に関して列挙した置換基が
適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、アル
キルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニル
基、アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、アル
キルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニル
基、アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
一般式(I)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
。
。
又、R3はG、−R,部分を残余分子から分裂させ、−
G−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反
応を生起するようなものであってもよく、具体的には一
般式(a)で表わすことができるようなものである。
G−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反
応を生起するようなものであってもよく、具体的には一
般式(a)で表わすことができるようなものである。
一般式fa)
−Rs Z
式中、ZlはGIに対し求核的に攻撃し、G1R5L部
分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR8か
ら水素原子1細隙いたもので、Z、がG1に対し求槙攻
撃し、G、 、R,、Zlで環式tM造が生成可能なも
のである。
分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR8か
ら水素原子1細隙いたもので、Z、がG1に対し求槙攻
撃し、G、 、R,、Zlで環式tM造が生成可能なも
のである。
さらに詳細には、Z、は−綴代(I)のヒドラジン化合
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
にG、と求核反応し R,−N−N−G、−R,−Z。
物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易
にG、と求核反応し R,−N−N−G、−R,−Z。
R,−N−N基を61から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまたはN HR−(Rsは水f[を子
、アルキル基、アリール基、−COR5、または−3O
,R,であり、R5は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表わす)COORなどのようにG
lと直接反応する官能基であってもよく、(ここで、O
H1SHSNHR4−COOHはアルカリ等の加水分解
によりこれらの基を生成するように一時的に保1Wされ
ていてもよい)あるいは、 CR& CR& CR
h、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基またはへテロ環基を表わす)のように水酸イオン
や亜硫酸イオン等のような求核剤と反応することでG、
と反応することが可能になる官能基であってもよい。
的にはOH,SHまたはN HR−(Rsは水f[を子
、アルキル基、アリール基、−COR5、または−3O
,R,であり、R5は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表わす)COORなどのようにG
lと直接反応する官能基であってもよく、(ここで、O
H1SHSNHR4−COOHはアルカリ等の加水分解
によりこれらの基を生成するように一時的に保1Wされ
ていてもよい)あるいは、 CR& CR& CR
h、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基またはへテロ環基を表わす)のように水酸イオン
や亜硫酸イオン等のような求核剤と反応することでG、
と反応することが可能になる官能基であってもよい。
また、Gl 、Rs 、Lで形成される環としては5員
または6Rのものが好ましい、−綴代(a)で表わされ
るもののうち、好ましいものとしては一般式(b)及び
(C)で表わされるものを挙げることができる。
または6Rのものが好ましい、−綴代(a)で表わされ
るもののうち、好ましいものとしては一般式(b)及び
(C)で表わされるものを挙げることができる。
一般式(b)
式中、R> ’ −Rh ’は水素原子、アルキル基、
(好ましくは炭素数1〜12のもの)アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜12のもの)アリール基(好ましく
は炭素数6〜12のもの)などを表わし、同じでも異っ
てもよい、Bは置換基を有してもよい5貝環または6員
環を完成するのに必要な原子であり、m、nは0または
1であり、(n +m)は1または2である。
(好ましくは炭素数1〜12のもの)アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜12のもの)アリール基(好ましく
は炭素数6〜12のもの)などを表わし、同じでも異っ
てもよい、Bは置換基を有してもよい5貝環または6員
環を完成するのに必要な原子であり、m、nは0または
1であり、(n +m)は1または2である。
Bで形成される5員または6貝環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ンゼン環、ナフタ
レン環、ピリジン環、キノリ環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ンゼン環、ナフタ
レン環、ピリジン環、キノリ環などである。
Z、は−綴代(a)と同義である。
−綴代(C)
ン
Rc
←N−h−+CRc 1 Rc′→=「21式中、Rc
’ s Re ”は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わし、同
じでも異なってもよい。
’ s Re ”は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わし、同
じでも異なってもよい。
Rcツは水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表わす。
アリール基を表わす。
pは0または1を表わし、qは1〜4を表わす。
Rc ’ 、Rc ”およびRcりはZlが61へ分子
内水抜攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
内水抜攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環
を形成してもよい。
Rc ’ % Rc ”は好ましくは水素原子、ハロゲ
ン原子、またはアルキル基でありR%は好ましくはアル
キル基またはアリール基である。
ン原子、またはアルキル基でありR%は好ましくはアル
キル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表わし、9が1のときpは!ま
たは2を、9が2のときpはOまたはlを、9が3のと
きPは0またはIを表わし、9が2または3のときCR
c’ Rc’は同じでも異なってもよい。
たは2を、9が2のときpはOまたはlを、9が3のと
きPは0またはIを表わし、9が2または3のときCR
c’ Rc’は同じでも異なってもよい。
Zlは一般式(a)と同義である。
A + 、 A 2は水素原子、炭素数20以下のアル
キルスルホニル基およびアリールスルホニル!(好まし
くはフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の
和が−0,5以上となるように置換されたフェニルスル
ホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベ
ンゾイル基、又はハメットの置fA基定数の和が−0,
5以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは
直鎖又は分岐状又は環状のm置換及び置換脂肪族アシル
基(置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、
スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボ
キシ基、スルホン酸基が挙げられる。))A+、Atと
しては水素原子が最も好ましい。
キルスルホニル基およびアリールスルホニル!(好まし
くはフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の
和が−0,5以上となるように置換されたフェニルスル
ホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベ
ンゾイル基、又はハメットの置fA基定数の和が−0,
5以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは
直鎖又は分岐状又は環状のm置換及び置換脂肪族アシル
基(置換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、
スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボ
キシ基、スルホン酸基が挙げられる。))A+、Atと
しては水素原子が最も好ましい。
−IG式(I)のR1またはRよはその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト
基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を存する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般式(+)のR+ またはR3はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものが′分まい\、かかる吸着基としては、チオ尿素基
、複素環チオアミド基、メルカプト?ffi素環基、ト
リアゾール基などの米国特許筒4゜305.108号、
同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200゜231号、同59−201,04
5号、同59−201.046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、特開昭61−170,733号、同61−2
70,744号、同62−948号、特願昭62−67
.508号、同62−67.501号、同62−67.
510号に記載された基があげられる。
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものが′分まい\、かかる吸着基としては、チオ尿素基
、複素環チオアミド基、メルカプト?ffi素環基、ト
リアゾール基などの米国特許筒4゜305.108号、
同4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200゜231号、同59−201,04
5号、同59−201.046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、特開昭61−170,733号、同61−2
70,744号、同62−948号、特願昭62−67
.508号、同62−67.501号、同62−67.
510号に記載された基があげられる。
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す、
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
I−5)
I−6)
■
■−8)
l−9)
CHzC)IzClhSH
!−10)
SH
S)1
! −36)
1−41>
N
Nil・
本発明に用いられるヒドラジンHz体としては、上記の
もツノ他に、RESEARCHDISCLOSURE
rte+m23516 (I983年11月号、P、3
46)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜
080.207号、同4,269,929号、同4.2
76.364号、同4,278..748号、同4,3
85.108号、同4,459,347号、同4,56
0.638号、同4,478,928号、英国特許2,
011,391B、特開昭60−179734号、特開
昭61−170,733号、同61−270,744号
、同62−948号、EP217,310号、特願昭6
1−175.234号、同61−251,482号、同
61−268.249号、同61−276.283号、
同62−67.508号、同62−67゜529号、同
62−67.510号、同62−58.513号、同6
2−130,819号、同62−143,469号、同
62−166.117号に記載されたものを用いること
ができる。
もツノ他に、RESEARCHDISCLOSURE
rte+m23516 (I983年11月号、P、3
46)およびそこに引用された文献の他、米国特許4゜
080.207号、同4,269,929号、同4.2
76.364号、同4,278..748号、同4,3
85.108号、同4,459,347号、同4,56
0.638号、同4,478,928号、英国特許2,
011,391B、特開昭60−179734号、特開
昭61−170,733号、同61−270,744号
、同62−948号、EP217,310号、特願昭6
1−175.234号、同61−251,482号、同
61−268.249号、同61−276.283号、
同62−67.508号、同62−67゜529号、同
62−67.510号、同62−58.513号、同6
2−130,819号、同62−143,469号、同
62−166.117号に記載されたものを用いること
ができる。
本発明におけるヒドラジン銹導体の添加量としではハロ
ゲン化銀7モルあたり/×10−6モルないしよ×/θ
−2モル含有されるのが好ましく、特に/×10−5モ
ルないしコ×/θ−2モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
ゲン化銀7モルあたり/×10−6モルないしよ×/θ
−2モル含有されるのが好ましく、特に/×10−5モ
ルないしコ×/θ−2モルの範囲が好ましい添加量であ
る。
pH//、o以下でGを2以上にするには、綴代(II
)又は/と(III)に示される化合物を、感材中に含
有させるのが好ましい。
)又は/と(III)に示される化合物を、感材中に含
有させるのが好ましい。
このG値の測定は、現像液のpHが、pH/八コへ下で
あるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温度、
時間は3♂0Cで3θ秒間で行なわれる。Gは、濃度θ
、/と3.0を与える露光量の差(Δ10gE)に対す
る濃度差であられす。
あるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温度、
時間は3♂0Cで3θ秒間で行なわれる。Gは、濃度θ
、/と3.0を与える露光量の差(Δ10gE)に対す
る濃度差であられす。
−綴代(■)
Y−(−+XヤA−B、l□
(式中、Yは・・ロゲン化銀に吸着する基を表わす。X
は水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子
から選ばれた原子または原子群よりなるコ価の連結基を
表わす。AFiλ価の連結基を表わす。Bはアミノ基、
アンモニウム基およヒ含窒素へテロ環を表わし、アミノ
基は置換されていてもよい。mは/、2又は3を表わし
、nはθ又は/を表わす。) Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素複
素環化合物があげられる。
は水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子
から選ばれた原子または原子群よりなるコ価の連結基を
表わす。AFiλ価の連結基を表わす。Bはアミノ基、
アンモニウム基およヒ含窒素へテロ環を表わし、アミノ
基は置換されていてもよい。mは/、2又は3を表わし
、nはθ又は/を表わす。) Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素複
素環化合物があげられる。
Yが含窒素複素環化合物を表わす場合は一般式(丁)の
化合物は下記−綴代(II−a )で表わされる。
化合物は下記−綴代(II−a )で表わされる。
一般式(n−a)
式中、lは0または/を表わし、mは/、2または3を
辰わし、nFi、0またはlを表わす。
辰わし、nFi、0またはlを表わす。
C(X+−A−B) は前記−綴代(II)における
そn m 扛と同義でろシ、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される!また
はt員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
そn m 扛と同義でろシ、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成される!また
はt員の複素環を形成するのに必要な原子群を表わす。
またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合し
ていてもよい。
ていてもよい。
Qによって形成゛される複素環としては例えばそれぞれ
@換または無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、
ベンズチアゾール類、イミダゾ−ルウ(4,チアゾール
類、オキサゾール頌、トリアゾール頌、テトラゾール類
、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類、トリ
ア)7類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ/類等が
あげられる。
@換または無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、
ベンズチアゾール類、イミダゾ−ルウ(4,チアゾール
類、オキサゾール頌、トリアゾール頌、テトラゾール類
、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類、トリ
ア)7類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリ/類等が
あげられる。
Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウム原
子、カリウム原子、等)、ア/モニクム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルに7ノルアンモニクム
基、等)、アルカリ条件下でhi = Hまたはアルカ
リ金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエ
チル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
子、カリウム原子、等)、ア/モニクム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルに7ノルアンモニクム
基、等)、アルカリ条件下でhi = Hまたはアルカ
リ金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエ
チル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子、等〕、メルカプト基、シアン基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、1−、+チル基、シア
ノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール暴(例えばフェニル基、弘−メタンスル
ホンアミドフェニル基、l−メチルフェニルg、3.≠
−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル
基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えhイン
ジル基、グーメチルベンジル基、フェネチル基、等〕、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、
了り−ルオキシ基(例えばフェノキシ基、グーメトキシ
フェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、アリー
ルチオ基(例えばフェニルチオ基〕、スルホニル基(f
atばメタンスルホニル基、エタンスルホニルiJ、p
−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例え
ば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェ
ニルカルバモイル基、等)、スルファモイル基(愕えげ
無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フ
ェニルスルファモイルl?=、等) 、カルボンアミド
基(例えばアセトアミド基、ベンズアミドi、等)、ス
ルホンアミド基(VIJえはメタンスルホンアミド基、
ベンゼンスルホ/アミドi、p−トルエンスルホンアミ
ド基、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基
、ベンゾイルオキ7基、等)、スルホニルオキシ基(例
えばメタンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例
えば無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウ
レイド暴、フェニルウレイド基、等)、チオウレイド基
(例えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド
基、等)、アンル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基
、等)、ヘテロ環基(例えば/−モルホリノ基、7〜ピ
ペリジノ基、2−ピリジル基、≠−ピリジル基、−一チ
ェニル基、/−ピラゾリル基、/−イミダゾjル基、−
一テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、り
、オキシカルボニル基(例えばメタンスルホニル基、フ
ェノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ
基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フエノキゾカ
ルメニルアミノ蟇、2−エチルへキンルオキシ力ルiニ
ルアミノ基、等)、アミン基(例えば無置換アミン基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニIJ
)基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン版また
はその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
ば塩素原子、臭素原子、等〕、メルカプト基、シアン基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、1−、+チル基、シア
ノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール暴(例えばフェニル基、弘−メタンスル
ホンアミドフェニル基、l−メチルフェニルg、3.≠
−ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル
基(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えhイン
ジル基、グーメチルベンジル基、フェネチル基、等〕、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、
了り−ルオキシ基(例えばフェノキシ基、グーメトキシ
フェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、アリー
ルチオ基(例えばフェニルチオ基〕、スルホニル基(f
atばメタンスルホニル基、エタンスルホニルiJ、p
−トルエンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例え
ば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェ
ニルカルバモイル基、等)、スルファモイル基(愕えげ
無置換スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フ
ェニルスルファモイルl?=、等) 、カルボンアミド
基(例えばアセトアミド基、ベンズアミドi、等)、ス
ルホンアミド基(VIJえはメタンスルホンアミド基、
ベンゼンスルホ/アミドi、p−トルエンスルホンアミ
ド基、等)、アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基
、ベンゾイルオキ7基、等)、スルホニルオキシ基(例
えばメタンスルホニルオキシ基、等)、ウレイド基(例
えば無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウ
レイド暴、フェニルウレイド基、等)、チオウレイド基
(例えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド
基、等)、アンル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基
、等)、ヘテロ環基(例えば/−モルホリノ基、7〜ピ
ペリジノ基、2−ピリジル基、≠−ピリジル基、−一チ
ェニル基、/−ピラゾリル基、/−イミダゾjル基、−
一テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、り
、オキシカルボニル基(例えばメタンスルホニル基、フ
ェノキシカルボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ
基(例えばメトキシカルボニルアミノ基、フエノキゾカ
ルメニルアミノ蟇、2−エチルへキンルオキシ力ルiニ
ルアミノ基、等)、アミン基(例えば無置換アミン基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニIJ
)基、等)、カルボン酸またはその塩、スルホン版また
はその塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。
Xが衣ゎす一価の運結苓としてはylえば、結基はQと
の間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキ/レ
ン基、l−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R1、R2・ 几3・ R4・ R5・
几6・ R7・ R8・it t−よび1(,1oは
水素原子、それぞれ置換もしくVi無置換のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル
基、等)、置換もしくは無置換のアリール基(例えばフ
ェニル基、コーメチルフェニル基、等)、置換もしくは
無置換のアルケニル基(例えばプロペニル基、/−メチ
ルビニル傷、等)、または置換もしくは無置換のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、等)を表わ
す。
の間に直鎖または分岐のアルキレン基(例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキ/レ
ン基、l−メチルエチレン基、等)を介して結合されて
いてもよい。R1、R2・ 几3・ R4・ R5・
几6・ R7・ R8・it t−よび1(,1oは
水素原子、それぞれ置換もしくVi無置換のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル
基、等)、置換もしくは無置換のアリール基(例えばフ
ェニル基、コーメチルフェニル基、等)、置換もしくは
無置換のアルケニル基(例えばプロペニル基、/−メチ
ルビニル傷、等)、または置換もしくは無置換のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、等)を表わ
す。
Aは2価の連結基を表わし、2価の連結基としては直鎖
または分岐のアルキレン基(例えばメチレン暴、エチレ
ン基、プロピレン基% 7”チレン基、ヘキ/レン基
、/−メチルエチレン基、l、i超重たは分岐のアルケ
ニレン基(例えばビニレン基、/−メチルビニレン基、
等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例えばべ/ジ
リデン基、等入アリーレン基(例えばフェニン/、ナフ
チレン、等)等が挙げられる。Aで表わされる上記の基
はXとAは任意の組合せで更に置換されていてもよい。
または分岐のアルキレン基(例えばメチレン暴、エチレ
ン基、プロピレン基% 7”チレン基、ヘキ/レン基
、/−メチルエチレン基、l、i超重たは分岐のアルケ
ニレン基(例えばビニレン基、/−メチルビニレン基、
等)、直鎖または分岐のアラルキレン基(例えばべ/ジ
リデン基、等入アリーレン基(例えばフェニン/、ナフ
チレン、等)等が挙げられる。Aで表わされる上記の基
はXとAは任意の組合せで更に置換されていてもよい。
Bの置換もしくは無置換のアミン基は一般式%式%
([)
(式中、几11.R12は同一であっても異なってもよ
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数/〜3
0のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表
わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、
n−プロピルi、+1−ブチル5、”−オクチル基、ア
リル基、3−ブテニル基、ベンジルlk、’−ナフチル
メチル基、等)、分岐(例えばisoプロピル基、t−
オクチル基等)、または環状(例えばシクロヘキンル基
、等)、でもよい。
く、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数/〜3
0のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表
わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、
n−プロピルi、+1−ブチル5、”−オクチル基、ア
リル基、3−ブテニル基、ベンジルlk、’−ナフチル
メチル基、等)、分岐(例えばisoプロピル基、t−
オクチル基等)、または環状(例えばシクロヘキンル基
、等)、でもよい。
又、Bllと1(I2は連結して環を形成してもよく、
その中に7つまたはそれ以上のへテロ原子(別えは酸素
原子、硫黄原子、室累原子など〕を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよく、例えばピロ
リジル基、ビイリジル基、モルホリノ基などを挙けるこ
とができる。又、R11R+2の置換!Sとしては例え
ば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原
子(例えばフッ素原子、塩素原子、芙素原子である。)
、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシカルボニ
ル基(例えばメトキシ力ルゼニル基、エトキンカルlニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキ7カルボ
ニル基など)、炭素数、20以下のアルコキシ基(例え
ばメトキン基、エトキシ基、べ/ジルオキ7基、フェネ
チルオキシ基など)、炭素敬−θ以下の嚇環式のアリー
ルオキシ基(例、tばフェノキシi、p−)リルオキシ
基など)、炭素a−〇以下のアシルオキシ基(例えばア
シルオキン基、グロピオニルオキシ基など)、炭素数2
0以下のアシル基(例えばアセチル層、プロピオニル基
、ベンゾイル基、メフル基など八 カルバモイル基(例
えばカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基
、モルホリノスルホニル基、ピペリジノカルボニル基な
ど)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N
、N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニ
ル基、ピペリジノカルボニル基々ど)、炭素数、20以
下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミノ基
など)、スルホンアミド卆(エチルスルホンアミドLp
−)ルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以下の
カルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基、フ
ェニルカルボンアミド基など)、夫素数コO以下のウレ
イド基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基
など)、アミン基などが挙げられる。
その中に7つまたはそれ以上のへテロ原子(別えは酸素
原子、硫黄原子、室累原子など〕を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよく、例えばピロ
リジル基、ビイリジル基、モルホリノ基などを挙けるこ
とができる。又、R11R+2の置換!Sとしては例え
ば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原
子(例えばフッ素原子、塩素原子、芙素原子である。)
、ヒドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシカルボニ
ル基(例えばメトキシ力ルゼニル基、エトキンカルlニ
ル基、フェノキシカルボニル基、ベンジルオキ7カルボ
ニル基など)、炭素数、20以下のアルコキシ基(例え
ばメトキン基、エトキシ基、べ/ジルオキ7基、フェネ
チルオキシ基など)、炭素敬−θ以下の嚇環式のアリー
ルオキシ基(例、tばフェノキシi、p−)リルオキシ
基など)、炭素a−〇以下のアシルオキシ基(例えばア
シルオキン基、グロピオニルオキシ基など)、炭素数2
0以下のアシル基(例えばアセチル層、プロピオニル基
、ベンゾイル基、メフル基など八 カルバモイル基(例
えばカルバモイル基、N、N−ジメチルカルバモイル基
、モルホリノスルホニル基、ピペリジノカルボニル基な
ど)、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N
、N−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニ
ル基、ピペリジノカルボニル基々ど)、炭素数、20以
下のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミノ基
など)、スルホンアミド卆(エチルスルホンアミドLp
−)ルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以下の
カルボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基、フ
ェニルカルボンアミド基など)、夫素数コO以下のウレ
イド基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基
など)、アミン基などが挙げられる。
Bのアンモニウム基は一綴代C,’fJ−C)で衣わさ
れるものである。
れるものである。
一般式([−C)
7・1”。
−N −R”
■\H,l5
(zo)。
(式中、几 、H,、Rけ上述の一般式(I[7b)に
おけるR およびRと同様の基であり、Zeはアニオン
を表わし、例えば・・ライドイオン(列えばαe、B、
e Heなど)、スルホナートイオン(fllえばト
リフルオロメタンスルホナート、パラトルエンスルホナ
ート、ベンゼンスルホf−)、パラクロロベンゼンスル
ホナートなど)、スルファトイオン(例えばエチルスル
フアート、メチルスルフアートなど)、/l−クロラー
ト、テトラフルオロボラートなどが挙げられる6 pI
′i0または7を表わし、化合物が分子内塩を形成する
場合は0である。) Bの含窒素へテロ環は、少なくとも7つ以上の窒素原子
を含んだJまたは6員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい。
おけるR およびRと同様の基であり、Zeはアニオン
を表わし、例えば・・ライドイオン(列えばαe、B、
e Heなど)、スルホナートイオン(fllえばト
リフルオロメタンスルホナート、パラトルエンスルホナ
ート、ベンゼンスルホf−)、パラクロロベンゼンスル
ホナートなど)、スルファトイオン(例えばエチルスル
フアート、メチルスルフアートなど)、/l−クロラー
ト、テトラフルオロボラートなどが挙げられる6 pI
′i0または7を表わし、化合物が分子内塩を形成する
場合は0である。) Bの含窒素へテロ環は、少なくとも7つ以上の窒素原子
を含んだJまたは6員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい。
含窒素へテロ環としては例えばイミダゾリル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基などが挙げらnる。
ル基、チアゾリル基などが挙げらnる。
一般式(II)のうち好ましいものとしては、下記−綴
代(II−m)、(II−n)、(II−0)まだは(
II−p)で表わされる化合物が挙げられる。
代(II−m)、(II−n)、(II−0)まだは(
II−p)で表わされる化合物が挙げられる。
−投式(
%式%)
一般式く
II−n
ン
一般式(
%式%
−IC式(
l−p
ン
(式中、(X)−A −B、 M、 mは前記−綴代(
II−c)のそれと同義である。Zl、z2およびZ3
は前記−綴代(■−α)における4:X−)−A−Bと
同義でろるか、又は・・ロゲン原子、炭素数、20以下
のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、
ヒドロキンアミノ基、置換および未置換のアミノ基を茨
わし、その置換基としては前記−綴代(−b)における
R11、几12の置換基の中から選ぶことができる。但
しZl、Z2及びZ3の内の少なくとも1つは−(X←
A−B と同義である。
II−c)のそれと同義である。Zl、z2およびZ3
は前記−綴代(■−α)における4:X−)−A−Bと
同義でろるか、又は・・ロゲン原子、炭素数、20以下
のアルコキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、
ヒドロキンアミノ基、置換および未置換のアミノ基を茨
わし、その置換基としては前記−綴代(−b)における
R11、几12の置換基の中から選ぶことができる。但
しZl、Z2及びZ3の内の少なくとも1つは−(X←
A−B と同義である。
またこれら+l素環は一般式(■)の?j!素環に適用
される置換基でll換されてもよい。
される置換基でll換されてもよい。
次に一般式(II)で宍わされる化会物例を示すが本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
II−/
■−λ
圧−μ
、ll−5
α
し2”5
’fl−t
fl−7
■−2
■
/ 0
1」
I[−/
■−/J
■−i<t
[−is
江−/を
口
■−/11′
fl−/
?
一般式(M)
式中、凡1、
ft2は各々水素原子又は脂肪族残
基を表わす。
RとRは互に結合して環を形成してもよい。
Rは二価の脂肪族基を表わす。
Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のへテロ環
を茨わす。
を茨わす。
nはθまたけlを表わす。Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
R1、比2の脂肪族残基としては、各々炭素l〜/λの
アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が好まし
くそれぞれ適当な基で置換されていてもよい。アルキル
基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキンル基、デンル基、ドデンル基、イソプ
ロピル基、5ec−ブチル基、シクロヘキンル基などで
ある。
アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基が好まし
くそれぞれ適当な基で置換されていてもよい。アルキル
基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキンル基、デンル基、ドデンル基、イソプ
ロピル基、5ec−ブチル基、シクロヘキンル基などで
ある。
アルケニル基としては例えばアリル基、!−ブテニル基
、l−へキセニル基、−一オクチニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロパルギル基、−一はンチニ
ル基などがある。置換基としてハ、フェニル基、置換フ
ェニル基、アルコキン基、アルキルチオ基、ヒドロキン
基、カルポキンル基、スルホ蟇、アルキルアミノ基、ア
ミド基等である。
、l−へキセニル基、−一オクチニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロパルギル基、−一はンチニ
ル基などがある。置換基としてハ、フェニル基、置換フ
ェニル基、アルコキン基、アルキルチオ基、ヒドロキン
基、カルポキンル基、スルホ蟇、アルキルアミノ基、ア
ミド基等である。
)tlとル2とで環を形成する場合としては、炭素又は
窒素・酸素の組合せからなる!員又はtAの炭素環又は
ヘテロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあけられる。
窒素・酸素の組合せからなる!員又はtAの炭素環又は
ヘテロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあけられる。
1t1と凡2として待に好ましいものは炭素原子数7〜
3のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
3のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
ル3の二価の脂肪族基としては−R4−又は−H,’S
−が好ましい。ここでR’は二価の脂肪族残基で、好1
しぐは炭素数/〜tの飽和及び不飽和のもので、例えば
−CH2−−CH2C)12−(CH2)3− −(C
1−1□)4− −(CH2)6CH2CH=C)iC
H2−−CH2CミCCH2−It4の好ましい炭素数
としては一〜μのもので、It ’としてさらに好まし
くは−CH2C1]2−及び−C1(2C1(2C)1
2である。なお(X)。のnがOのときのR3は−R4
−だけを表わす。
−が好ましい。ここでR’は二価の脂肪族残基で、好1
しぐは炭素数/〜tの飽和及び不飽和のもので、例えば
−CH2−−CH2C)12−(CH2)3− −(C
1−1□)4− −(CH2)6CH2CH=C)iC
H2−−CH2CミCCH2−It4の好ましい炭素数
としては一〜μのもので、It ’としてさらに好まし
くは−CH2C1]2−及び−C1(2C1(2C)1
2である。なお(X)。のnがOのときのR3は−R4
−だけを表わす。
Xのへテロ環としては、窒素、酸素又は硫黄を含む!及
びt員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい。
びt員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい。
ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので1刊えば、テ
トラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサン
アゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、
べ/ズイミダゾールSゝ/ゾチアゾール、ベンズオキサ
ゾールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジ
アゾールが好ましい。
トラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサン
アゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、
べ/ズイミダゾールSゝ/ゾチアゾール、ベンズオキサ
ゾールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジ
アゾールが好ましい。
Mのアルカリ金属としては、Na 、KLi+などが
ある。
ある。
アルカリ土類金属としては、Ca++、Mg + +な
どがある。
どがある。
Mの四級アンモニウム塩としては、炭素数弘〜30から
なるもので、例えば(C)i3)4Nの、(C2)−1
5)4NΦ、 (C4H0)4NO1C6H5C1」2
Nの(CH3)3 、C15H33Nの(CH3)3な
どである。四級ホスホニウム塩としては、(04H9)
4P■・ C16H3P■(CH3)3、C6H3CH
2Pの(CH3)などである。
なるもので、例えば(C)i3)4Nの、(C2)−1
5)4NΦ、 (C4H0)4NO1C6H5C1」2
Nの(CH3)3 、C15H33Nの(CH3)3な
どである。四級ホスホニウム塩としては、(04H9)
4P■・ C16H3P■(CH3)3、C6H3CH
2Pの(CH3)などである。
−綴代(II)で表わされる化合物の無m&塩としてF
i例えば塩酸塩、硫虐塩、す/酸塩などがろり、有機酸
塩としては酢酸塩、ゾロピオン酸塩、メタ/スルホン酸
塩、ベンゼンスルホンmu、p−トルエンスルホン酸塩
などがある。
i例えば塩酸塩、硫虐塩、す/酸塩などがろり、有機酸
塩としては酢酸塩、ゾロピオン酸塩、メタ/スルホン酸
塩、ベンゼンスルホンmu、p−トルエンスルホン酸塩
などがある。
以下に一般式(■〕で表わされる化合物の具体例を挙げ
る。
る。
匪−/
■−2
し2 Fl s
■−J
■−グ
fff、−s
ll−4
@−7
T[−r
(H(JCH2CH2) 2NCH□CH25H■−2
■−1
■
/ 3
皿
7 μ
Tf(−ts
■−/
1[[−77
1−/r
[−/
?
1)−,20
■−λコ
これらの−綴代(If)及びCI[l)で表わされる促
進剤は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが/
、OX/θ−3〜θ、jg/ m2、好ましくは!、θ
×/θ−3〜o、3g/m2の範囲で用いるのが望まし
い。これらの促進剤は適当な溶媒(H201メタノール
やエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチル
ホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布
液に添加される。
進剤は、化合物の種類によって最適添加量が異なるが/
、OX/θ−3〜θ、jg/ m2、好ましくは!、θ
×/θ−3〜o、3g/m2の範囲で用いるのが望まし
い。これらの促進剤は適当な溶媒(H201メタノール
やエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチル
ホルムアミド、メチルセルソルブなど)に溶解して塗布
液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用し゛〔もよい。
本発明に用いられる)・ロゲン化銀は、例えば、T、
H,James著@The Theory of th
ePhotographic Process ’第り
版、Macmillan社刊(/り27年)?r〜/
041頁等の文献に記載されている中性法、酸性法、ア
ンモニア法、順混法、逆浪法、ダブルジェット法、コン
ドロールド−ダブルジェット法、コアーシェル法などの
方法により製造される。
H,James著@The Theory of th
ePhotographic Process ’第り
版、Macmillan社刊(/り27年)?r〜/
041頁等の文献に記載されている中性法、酸性法、ア
ンモニア法、順混法、逆浪法、ダブルジェット法、コン
ドロールド−ダブルジェット法、コアーシェル法などの
方法により製造される。
必要に応じて、チオエーテル、チオ尿素類などのハロゲ
ン化銀溶剤を用いることにより、粒子サイズ、粒子の形
状、分布などをコントロールすることができる。
ン化銀溶剤を用いることにより、粒子サイズ、粒子の形
状、分布などをコントロールすることができる。
ハロゲン化銀粒子の粒子サイズ、粒度分布、晶癖、形態
(正常晶、双晶など)等に特に制限は無いが、比較的粒
子サイズの揃ったθ、O!〜θ。
(正常晶、双晶など)等に特に制限は無いが、比較的粒
子サイズの揃ったθ、O!〜θ。
♂μのものが好ましい。
又粒子サイズ分布は、単分散であるのが好ましく、単分
散であるということは、?!チの粒子が、数平均粒子サ
イズの十乙0チ以内、好ましくは±qo%以内のサイズ
に入る分散系であるのが好ましい。
散であるということは、?!チの粒子が、数平均粒子サ
イズの十乙0チ以内、好ましくは±qo%以内のサイズ
に入る分散系であるのが好ましい。
ハロゲン化銀の晶癖、形態などは上述の通り特に制限は
ないが、立方体や八面体、十四面体あるいはその混合物
が好ましく、特に八面体や十四面体が好ましい。
ないが、立方体や八面体、十四面体あるいはその混合物
が好ましく、特に八面体や十四面体が好ましい。
ハロゲン組成としては、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、
塩沃臭化銀が好ましく、臭素含量が、70モル係以上で
ある必要がある。好捷しくはBr/θモルチ以上、特に
Br?oモルチ以上が好ましい。沃化銀含有量は、通常
/θモルチ以下で、好ましくはtモルチ以下である。
塩沃臭化銀が好ましく、臭素含量が、70モル係以上で
ある必要がある。好捷しくはBr/θモルチ以上、特に
Br?oモルチ以上が好ましい。沃化銀含有量は、通常
/θモルチ以下で、好ましくはtモルチ以下である。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤には・・ロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
特にイリジウム塩は/θ−8〜10−5モル/Ag1モ
ル又、ロジウム塩は/θ−8〜10−4モー8〜10−
4モルするのが好ましい。
ル又、ロジウム塩は/θ−8〜10−4モー8〜10−
4モルするのが好ましい。
これら、ハロゲン化銀は、粒子形成して脱塩工程をへた
後、化学増感してもよいし、未化学増感のiま使用して
もよい。
後、化学増感してもよいし、未化学増感のiま使用して
もよい。
化学増感剤としては、硫黄増感剤例えばチオ硫酸す一ト
リウム、チオ尿素等;貴金属増感剤例えば金増感剤具体
的には、塩化金酸塩、三塩化金等、パラジウム増感剤具
体的には、塩化・ぐラジウム、塩化パラジウム酸塩等、
プラチナ化合物、イリジウム化合物等;セレン増感剤例
えば亜セレン酸、セレノ尿素等:還元増感剤例えば塩化
第一スズ、ジエチレントリアミンのようなポリアミン、
亜硫酸塩、硝酸銀等の化学増感剤で単独又は併用によっ
て化学的に増感されることができる。
リウム、チオ尿素等;貴金属増感剤例えば金増感剤具体
的には、塩化金酸塩、三塩化金等、パラジウム増感剤具
体的には、塩化・ぐラジウム、塩化パラジウム酸塩等、
プラチナ化合物、イリジウム化合物等;セレン増感剤例
えば亜セレン酸、セレノ尿素等:還元増感剤例えば塩化
第一スズ、ジエチレントリアミンのようなポリアミン、
亜硫酸塩、硝酸銀等の化学増感剤で単独又は併用によっ
て化学的に増感されることができる。
本発明に用いられる増感色素は写真感光材料の分野で公
知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メロシアニ
ン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホ
ロポーラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル
色素およびヘミオキソノール色素が包含される。特に有
用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および
複合メロシアニン色素に属する色素である。これらの色
素類には、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常
利用される核のいずれをも適用できる。すナワチ、ピロ
リン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、
オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミ
ダゾール核、テトラゾール核、ピリジン績など;これら
の槙に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこれらの核
に芳香族炭化水素が融合した核、即ち、インドレニン核
、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサ
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ペンズ
イミグゾール核、キノリン核などが適用できる。これら
の核は炭素原子上に置換されていてもよい。
知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メロシアニ
ン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホ
ロポーラ−シアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル
色素およびヘミオキソノール色素が包含される。特に有
用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、および
複合メロシアニン色素に属する色素である。これらの色
素類には、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常
利用される核のいずれをも適用できる。すナワチ、ピロ
リン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、
オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミ
ダゾール核、テトラゾール核、ピリジン績など;これら
の槙に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこれらの核
に芳香族炭化水素が融合した核、即ち、インドレニン核
、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサ
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ペンズ
イミグゾール核、キノリン核などが適用できる。これら
の核は炭素原子上に置換されていてもよい。
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核として、ピラゾリン−5−オン
措、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール酸液などの5〜6貴異節
環核を適用することができる。
メチレン構造を有する核として、ピラゾリン−5−オン
措、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール酸液などの5〜6貴異節
環核を適用することができる。
有用な増感色素は例えばドイツ特許929.080号、
米国特許2,231,658号、同2゜493.748
号、同2,503,776号、同2.519,001号
、同2,912,329号、同3.656,959号、
同3,672,897号、同3,694,217号、英
国特許1,242.588号、特公昭44−14030
号、特開昭53−137133号、特開昭55−450
15、特願昭61−79533に記載されたものである
。
米国特許2,231,658号、同2゜493.748
号、同2,503,776号、同2.519,001号
、同2,912,329号、同3.656,959号、
同3,672,897号、同3,694,217号、英
国特許1,242.588号、特公昭44−14030
号、特開昭53−137133号、特開昭55−450
15、特願昭61−79533に記載されたものである
。
これらの増悪色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色
増感を示す物πは前述の他にリサーチ・ディスクロージ
+ −(Research Disclosure)
176117643 (I978年12月発行)第23
頁■のA−J項に記載されている。
増感を示す物πは前述の他にリサーチ・ディスクロージ
+ −(Research Disclosure)
176117643 (I978年12月発行)第23
頁■のA−J項に記載されている。
ここで、増感色素等は、写真乳剤の製造工程のいかなる
工程に添加させて用いることもできるし、乳剤の製造後
塗布直前までのいかなる段階に添加することもできる。
工程に添加させて用いることもできるし、乳剤の製造後
塗布直前までのいかなる段階に添加することもできる。
前者の例としては、粒子形成等、物理熟成時、化学熟成
時がある。
時がある。
本発明に用いられる増感色素は水溶液や水に混合可能(
+wiscible)の有機溶剤、たとえば、メタノー
ル、エタノール、プロピルアルコール、メチルセロソル
ブ、ピリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀乳
剤に加える。
+wiscible)の有機溶剤、たとえば、メタノー
ル、エタノール、プロピルアルコール、メチルセロソル
ブ、ピリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀乳
剤に加える。
本発明に用いられる増感色素を乳剤に添加する時期は、
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が−a的だが、化
学熟成工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であって
もよい。
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が−a的だが、化
学熟成工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であって
もよい。
本発明において増悪色素の好ましい添加量は、IW1モ
ルあたり10−6〜l0−1モル添加するのが適当であ
り、好ましくは10−4〜10−tモル添加することで
ある。
ルあたり10−6〜l0−1モル添加するのが適当であ
り、好ましくは10−4〜10−tモル添加することで
ある。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
本発明で用いられる感光材料にはフィルター染t4とし
て、あるいはイラジェーシッン防止その他種々の目的で
、水溶性染料を含有してよい、このような染料にはオキ
ソノール染料、ベンジリデン染t4、メロシアニン染料
、シアニン染料及びアゾ染料が包含される。中でもオキ
ソノール染料、ヘミオキソノール染料及びベンジリデン
染料が有用である。用い得る染料の具体例は、英国特許
584.609号、同1,177.429号、特開昭4
8−85130号、同49−99620号、同49−1
14420号、同52−20822、同59−1544
39、同59−208548、米国特許2,274,7
82号、同2,533,472号、同2,956,87
9号、同3,148゜187号、同3,177.078
号、同3,247.127号、同3,540.887号
、同3゜575.704号、同3,653,905号、
同3.718,427号に記載されたものである。
て、あるいはイラジェーシッン防止その他種々の目的で
、水溶性染料を含有してよい、このような染料にはオキ
ソノール染料、ベンジリデン染t4、メロシアニン染料
、シアニン染料及びアゾ染料が包含される。中でもオキ
ソノール染料、ヘミオキソノール染料及びベンジリデン
染料が有用である。用い得る染料の具体例は、英国特許
584.609号、同1,177.429号、特開昭4
8−85130号、同49−99620号、同49−1
14420号、同52−20822、同59−1544
39、同59−208548、米国特許2,274,7
82号、同2,533,472号、同2,956,87
9号、同3,148゜187号、同3,177.078
号、同3,247.127号、同3,540.887号
、同3゜575.704号、同3,653,905号、
同3.718,427号に記載されたものである。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカプリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾデアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置ta(I,3,3a、?)
テトラザインデン類)、ペンクアザインデン類など;ベ
ンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベン
ゼンスルフオン酸アミド、ハイドロキノン誘導体等のよ
うなカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化
合物を加えることができる。これらのものの中で、好ま
しいのはベンゾトリアゾール顯(例えば、5−メチル−
ベンゾトリアゾール)及びニトロインダゾールti (
例えば5−ニトロインダゾール)、ハイドロキノン誘導
体(例えばハイドロキノン、メチルハイドロキノン)で
ある、また、これらの化合物を処理液に含有させてもよ
い。
るいは写真処理中のカプリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾデアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置ta(I,3,3a、?)
テトラザインデン類)、ペンクアザインデン類など;ベ
ンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベン
ゼンスルフオン酸アミド、ハイドロキノン誘導体等のよ
うなカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化
合物を加えることができる。これらのものの中で、好ま
しいのはベンゾトリアゾール顯(例えば、5−メチル−
ベンゾトリアゾール)及びニトロインダゾールti (
例えば5−ニトロインダゾール)、ハイドロキノン誘導
体(例えばハイドロキノン、メチルハイドロキノン)で
ある、また、これらの化合物を処理液に含有させてもよ
い。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい0
例えば活性ビニル化合物(I,3゜5−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−s −ト’)アジン、l、3−ビニ
ルスルホニル−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン
化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−5−1−
リアジンなど)、ムコハロゲン#頚などを単独または組
み合わせて用いることができる。なかでも、特開昭53
−41221、同53−57257、同59−1625
46、同60−80846に記載の活性ビニル化合物お
よび米国特許3,325.287号に記載の活性ハロゲ
ン化物が好ましい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい0
例えば活性ビニル化合物(I,3゜5−トリアクリロイ
ル−へキサヒドロ−s −ト’)アジン、l、3−ビニ
ルスルホニル−2−プロパツールなど)、活性ハロゲン
化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−5−1−
リアジンなど)、ムコハロゲン#頚などを単独または組
み合わせて用いることができる。なかでも、特開昭53
−41221、同53−57257、同59−1625
46、同60−80846に記載の活性ビニル化合物お
よび米国特許3,325.287号に記載の活性ハロゲ
ン化物が好ましい。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
公昭58−9412号公報に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
ここで帯電防止剤として用いる場合には、フッ素を含有
した界面活性剤(例えば米国特許4.201.586号
、特開昭60−80849号)が特に好ましい。
した界面活性剤(例えば米国特許4.201.586号
、特開昭60−80849号)が特に好ましい。
本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の改良など
の目的で、水溶性または難溶性合成ポリマーの分子it
物を含むことができる。たとえば、アルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート
、グリシジル(メタ)アクリレートなどの単独もしくは
組合せや、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸
などの組合せを単量体成分とするポリマーを用いること
ができる。
の目的で、水溶性または難溶性合成ポリマーの分子it
物を含むことができる。たとえば、アルキル(メタ)ア
クリレート、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート
、グリシジル(メタ)アクリレートなどの単独もしくは
組合せや、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸
などの組合せを単量体成分とするポリマーを用いること
ができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤
を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤
を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭40−16779号、同1O−
4t177号、同ぶθ−/に3rjt号、及び同6θ−
/9j4!j号明細書の記載を参考にすることができる
。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化
合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物とし
てはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの
如き2個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーからな
るコポリマーの水分散性ラテックスである。
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭40−16779号、同1O−
4t177号、同ぶθ−/に3rjt号、及び同6θ−
/9j4!j号明細書の記載を参考にすることができる
。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化
合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物とし
てはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの
如き2個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーからな
るコポリマーの水分散性ラテックスである。
感光材料に用いる結合剤または保護コロイドとしては、
ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外に親水性
合成高分子なども用いることができる。ゼラチンとして
は、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、誘導体ゼラチ
ンなどを用いることもできる。具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー(RESEARCHDISCLO8
URE)第17乙巻、屋/764tJ (/り2♂年/
2月)の■項に記載されている。
ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外に親水性
合成高分子なども用いることができる。ゼラチンとして
は、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、誘導体ゼラチ
ンなどを用いることもできる。具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー(RESEARCHDISCLO8
URE)第17乙巻、屋/764tJ (/り2♂年/
2月)の■項に記載されている。
本発明において用いられる感光材料には、ハロゲン化銀
乳剤層の他に、表面保護層、中間層、フィルター層、・
・レーション防止層などの親水性コロイド層を設けるこ
とができる。
乳剤層の他に、表面保護層、中間層、フィルター層、・
・レーション防止層などの親水性コロイド層を設けるこ
とができる。
また、本発明に用いられる感光材料には、表裏判別性、
カーリング特性、ハレーション防止等の目的で裏面層(
以下パック層と記す。)を設けることができる。本発明
に用いられるパック層には、特に耐接着性の点で比較的
平均粒子サイズの大きいマット剤を含有することが好ま
しい。好ましい平均粒子サイズは7.0μm〜/θμm
1 特に好ましくFi2.0μm−1,0μmである。
カーリング特性、ハレーション防止等の目的で裏面層(
以下パック層と記す。)を設けることができる。本発明
に用いられるパック層には、特に耐接着性の点で比較的
平均粒子サイズの大きいマット剤を含有することが好ま
しい。好ましい平均粒子サイズは7.0μm〜/θμm
1 特に好ましくFi2.0μm−1,0μmである。
また表面保護層には、マット剤としてポリメチルメタク
リレートのホモポリマー、メチルメタクリレートとメタ
クリル酸のコポリマー、酸化マグネシウム、滑り剤とし
て米国特許J 、 4t/? 、 j77乙、同ダ、θ
4t7 、9!t!”号に記載のシリコーン化合物、特
公昭41−23739号に記載のコロイダルシリカの他
にパラフィンワックス、高級脂肪酸エステル、デン粉な
どを用いることができる。
リレートのホモポリマー、メチルメタクリレートとメタ
クリル酸のコポリマー、酸化マグネシウム、滑り剤とし
て米国特許J 、 4t/? 、 j77乙、同ダ、θ
4t7 、9!t!”号に記載のシリコーン化合物、特
公昭41−23739号に記載のコロイダルシリカの他
にパラフィンワックス、高級脂肪酸エステル、デン粉な
どを用いることができる。
また、親水性コロイド層には、可塑剤としてトリメチロ
ールプロパン、ベンタンジオール、ブタンジオール、エ
チレングリコール、グリセリン等のポリオール類を用い
ることができる。
ールプロパン、ベンタンジオール、ブタンジオール、エ
チレングリコール、グリセリン等のポリオール類を用い
ることができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許筒
コ、り/り、92!号に記載されたPH73に近い高ア
ルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用い
ることができる。
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許筒
コ、り/り、92!号に記載されたPH73に近い高ア
ルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用い
ることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンをO6/!モル/1以上含み、現像
液のp Hは//、2以下であることが好ましい。さら
には好ましくは//、O−?。
しての亜硫酸イオンをO6/!モル/1以上含み、現像
液のp Hは//、2以下であることが好ましい。さら
には好ましくは//、O−?。
!であるのがよい。
現像液のI)H/ 7.2以上だと空気中のC02によ
ってpHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着
色しやすくなる。pH?、j以下であると硬調になりに
〈<、鮮明な画質かえられない。
ってpHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着
色しやすくなる。pH?、j以下であると硬調になりに
〈<、鮮明な画質かえられない。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点でジヒドロキ
シベンゼン類を含むことが好ましく、更に現像能力の点
でジヒドロキシベンゼン類と/−フェニル−3−ピラゾ
リドン類の組合せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−
アミンフェノール類の組合せが好ましい。
限はないが、良好な網点品質を得やすい点でジヒドロキ
シベンゼン類を含むことが好ましく、更に現像能力の点
でジヒドロキシベンゼン類と/−フェニル−3−ピラゾ
リドン類の組合せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−
アミンフェノール類の組合せが好ましい。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロピル
ハイドロキノン、メチルハイドロキノンなどがあるが、
特にハイドロキノンが好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロピル
ハイドロキノン、メチルハイドロキノンなどがあるが、
特にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いるl−フェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−44−ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドンなどがある。
の誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−44−ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるP−アミノフェノール系現像主薬として
はN−メチル−P−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン等
があるが、なかでもN−メチル−2−アミノフェノール
が好ましい。
はN−メチル−P−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシン等
があるが、なかでもN−メチル−2−アミノフェノール
が好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/I!〜0.8モル/2の
量でmいられるのが好ましい、またジヒドロキシベンゼ
ン類と1−フェニル−3−ビラプリトン類もしくはp−
アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前者を0
.05モル/l−0.5モル/l。
量でmいられるのが好ましい、またジヒドロキシベンゼ
ン類と1−フェニル−3−ビラプリトン類もしくはp−
アミノフェノール類の組合せを用いる場合には前者を0
.05モル/l−0.5モル/l。
後者を0.06モル/l以下の量で用いるのが好ましい
。
。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.255モル/以上、特に0.3モル/I!以
上用いられるが、余りに多量添加すると現像液中で沈澱
して液汚染を引き起こすので、上限は1.2モル/lと
するのが望ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.255モル/以上、特に0.3モル/I!以
上用いられるが、余りに多量添加すると現像液中で沈澱
して液汚染を引き起こすので、上限は1.2モル/lと
するのが望ましい。
PHの設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性
無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム等ンを用いることができる。
無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム等ンを用いることができる。
本発明に用いられる現像液には、緩衝剤として特願昭6
1−28708に記載のホウ酸、特開昭60−9343
3に記載の糖類(例えばサッカロース)、オキシムti
<例えばアセトオキシム)、フェノール類(例えば5
−スルホサリチル酸)、第3リン酸J、!(例えばナト
リウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくはホ
ウ酸が用いられる。
1−28708に記載のホウ酸、特開昭60−9343
3に記載の糖類(例えばサッカロース)、オキシムti
<例えばアセトオキシム)、フェノール類(例えば5
−スルホサリチル酸)、第3リン酸J、!(例えばナト
リウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくはホ
ウ酸が用いられる。
現像液に対して(好ましくはlXl0−”〜3×10−
13の酸解な定数を持つ)uJ、ひj剤を0.1モル/
ρ以上、特に0.2モル/2〜1モル/E添加すること
ができる。これらの化合物の添加により、現像処理され
る感光材料の銀量や黒化率に係わりなく、ヒドラジン類
による超硬調化及び怒度増加の効果を自動現像機を用い
る場合にも安定に得ることが可能になる。なお、ここで
いう酸解離定数は第1のもの第2のもの第3のもの等い
づれのものでも1.X10−”〜3X10−13にある
化合物であることを意味する。
13の酸解な定数を持つ)uJ、ひj剤を0.1モル/
ρ以上、特に0.2モル/2〜1モル/E添加すること
ができる。これらの化合物の添加により、現像処理され
る感光材料の銀量や黒化率に係わりなく、ヒドラジン類
による超硬調化及び怒度増加の効果を自動現像機を用い
る場合にも安定に得ることが可能になる。なお、ここで
いう酸解離定数は第1のもの第2のもの第3のもの等い
づれのものでも1.X10−”〜3X10−13にある
化合物であることを意味する。
上記の成分以外に用いられる添加剤としては、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウムの如きpHzIi!節剤:臭化
ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジェタ
ノールアミン、トリエタノールアミン梓のアルカノール
アミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤;
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール等のメルカ
プト系化合物、5−二トロインダゾール等のインダゾー
ル系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のペンツ
トリアゾール系化合物をカブリ防止剤又は塩ボッ(bl
ackρepper)防止剤として含みさらに必要に応
じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤
等を含んでもよい。
リウム、炭酸ナトリウムの如きpHzIi!節剤:臭化
ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジェタ
ノールアミン、トリエタノールアミン梓のアルカノール
アミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤;
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール等のメルカ
プト系化合物、5−二トロインダゾール等のインダゾー
ル系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のペンツ
トリアゾール系化合物をカブリ防止剤又は塩ボッ(bl
ackρepper)防止剤として含みさらに必要に応
じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤
等を含んでもよい。
定着剤はチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムな
どのチオ硫酸塩を必須成分とするものであり、定着速度
の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい、定着剤
の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜
約5モル/j!である。
どのチオ硫酸塩を必須成分とするものであり、定着速度
の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい、定着剤
の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1〜
約5モル/j!である。
本発明における定着液中の酸性硬膜剤としては、水溶性
アルミニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
アルミニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどがある。
好ましい添加量は0.O1モル〜0.2モル/2、さら
に好ましくは0.03〜0.08モル/lである。
に好ましくは0.03〜0.08モル/lである。
前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはその誘導体、ク
エン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上
を併用することができる。これらの化合物は定着IIβ
につき0.(I05モル以上含むのが有効で、特に0,
01モル/ f S−0,03モル/lが特に有効であ
る。
エン酸あるいはその誘導体が単独で、あるいは二種以上
を併用することができる。これらの化合物は定着IIβ
につき0.(I05モル以上含むのが有効で、特に0,
01モル/ f S−0,03モル/lが特に有効であ
る。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナトリウム、酒石
酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸ア
ンモニウムカリウム、酒石酸アルミニウムカリウム、酒
石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナトリ
ウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸水
素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチウ
ムカリウムなどがある。
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナトリウム、酒石
酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸ア
ンモニウムカリウム、酒石酸アルミニウムカリウム、酒
石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナトリ
ウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸水
素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチウ
ムカリウムなどがある。
本発明において有効なりエン酸あるいはその誘導体の例
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムなどがあ
る。
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムなどがあ
る。
定着液には所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、Tf
1亜硫酸塩)、p)l緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、
pH調整剤(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含
むことができる。ここでpHJ、l新剤は、現像液のP
I(が高いので10〜40g/I!、より好ましくは
18〜25 ts / 1程度用いる。
1亜硫酸塩)、p)l緩衝剤(例えば、酢酸、硼酸)、
pH調整剤(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含
むことができる。ここでpHJ、l新剤は、現像液のP
I(が高いので10〜40g/I!、より好ましくは
18〜25 ts / 1程度用いる。
定性温度及び時間は現像の場合と同様であり、約20’
C〜約50″Cで10秒〜1分が好ましい。
C〜約50″Cで10秒〜1分が好ましい。
次に本発明について、実施例にもとずいて説明する。
又、現像液は下記処方を調製して用いた。
処理液処方(])
ハイドロキノン so、o gN
メチル−pアミノフェノール 0.3g各硫酸塩 水酸化ナトリウム 18.0 g5
−スルホサルチル酸 55.0 g亜硫
酸カリウム J、10.0 gエ
チレンジアミン四酢酸二すFリ 1.Ogウム 臭化カリウム 5−メチルベンゾトリアゾール 2メルカプトベンツイミダゾール 5−スルホン酸 3−(5−メルカプトテトラゾ− ル)ベンゼンスルホン酸ナトリ ウム N−n−ブチルジェタノールアミ ン トルエンスルホン酸ナトリウム 水を加えて 10.0 0.4 g 0.3g 15.0 pH 11,6 処理液処方(I1 ハイドロキノン 4−メチル−4−ヒドロキシメチ ル−1−フェニル−3−ピラゾ リドン 亜硫酸カリウム エチレンジアミン四酢酸二ナトリ ウム 25.0 90.0 臭化カリウム !、θg!−メ
チルベンゾトリアゾール 0.2gコーメルカブト
ベンツイミダゾー ルー!〜スルホン酸 0.3g炭酸ナトリ
ウム !θ、Og(水酸化す) I
JウウムえてpH=10.tに合せる)水を加えて
/1p11 10.2 比較例 5o0cに保ったゼラチン水溶液にアンモニアの存在下
で、コントロールダブルジェット法ニより、AgNO3
溶液とKBr溶液を同時に6a分間で加え、その間の電
位を+ttmVに保つことによって平均粒径0.27μ
の立方体単分散乳剤を調製し、粒子形成後、水洗し、分
散させた。(乳剤a) 乳剤aに、増感色素として、/−ヒドロキシエトキシエ
チル−3−(コーピリジル)−r−(J−(クースルホ
ブチル)−!−クロロペンゾオキサゾリデンエチリデ/
〕−チオヒダントインカリウム塩をAg1モル当り!×
10−4モル添加し、その他クーヒドロキシ−6−メチ
ル/、3,3a。
メチル−pアミノフェノール 0.3g各硫酸塩 水酸化ナトリウム 18.0 g5
−スルホサルチル酸 55.0 g亜硫
酸カリウム J、10.0 gエ
チレンジアミン四酢酸二すFリ 1.Ogウム 臭化カリウム 5−メチルベンゾトリアゾール 2メルカプトベンツイミダゾール 5−スルホン酸 3−(5−メルカプトテトラゾ− ル)ベンゼンスルホン酸ナトリ ウム N−n−ブチルジェタノールアミ ン トルエンスルホン酸ナトリウム 水を加えて 10.0 0.4 g 0.3g 15.0 pH 11,6 処理液処方(I1 ハイドロキノン 4−メチル−4−ヒドロキシメチ ル−1−フェニル−3−ピラゾ リドン 亜硫酸カリウム エチレンジアミン四酢酸二ナトリ ウム 25.0 90.0 臭化カリウム !、θg!−メ
チルベンゾトリアゾール 0.2gコーメルカブト
ベンツイミダゾー ルー!〜スルホン酸 0.3g炭酸ナトリ
ウム !θ、Og(水酸化す) I
JウウムえてpH=10.tに合せる)水を加えて
/1p11 10.2 比較例 5o0cに保ったゼラチン水溶液にアンモニアの存在下
で、コントロールダブルジェット法ニより、AgNO3
溶液とKBr溶液を同時に6a分間で加え、その間の電
位を+ttmVに保つことによって平均粒径0.27μ
の立方体単分散乳剤を調製し、粒子形成後、水洗し、分
散させた。(乳剤a) 乳剤aに、増感色素として、/−ヒドロキシエトキシエ
チル−3−(コーピリジル)−r−(J−(クースルホ
ブチル)−!−クロロペンゾオキサゾリデンエチリデ/
〕−チオヒダントインカリウム塩をAg1モル当り!×
10−4モル添加し、その他クーヒドロキシ−6−メチ
ル/、3,3a。
7−チトラザインデン、ポリエチルアクリレ−トノ分散
物、硬膜剤として/、3−ジビニルスルホ= /L−−
,3−フロパノールを添加した。さらに本発明のヒドラ
ジン化合物1−741を/mg/m2をi加り、、、
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布銀量3.
t!”g/m2になる様にし、その上にゼラチン保護層
を塗布した。
物、硬膜剤として/、3−ジビニルスルホ= /L−−
,3−フロパノールを添加した。さらに本発明のヒドラ
ジン化合物1−741を/mg/m2をi加り、、、
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布銀量3.
t!”g/m2になる様にし、その上にゼラチン保護層
を塗布した。
保護層としては、ゼラチン、ドデシルインゼンスルホン
酸ソーダ、F系界面活性剤 (C8F17SO2N(C3H7)CH2COOK)、
コロイダルシリカ、ポリエチルアクリレートの分散物、
ポリメチルメタクリレートのマット剤および、ポリスチ
レンスルホン酸ソーダの増粘剤からなるゼラチン水溶液
を、ゼラチン塗布量として/、にg/m2になるように
した。
酸ソーダ、F系界面活性剤 (C8F17SO2N(C3H7)CH2COOK)、
コロイダルシリカ、ポリエチルアクリレートの分散物、
ポリメチルメタクリレートのマット剤および、ポリスチ
レンスルホン酸ソーダの増粘剤からなるゼラチン水溶液
を、ゼラチン塗布量として/、にg/m2になるように
した。
各試料の文字原稿の露左ラチチュードを調べるために、
7級の明朝体(司)、ゴチック体(N)のみ植文字原稿
を、大日本スクリーン製カメラ(DSC3!1)で撮影
後、前記の現像液処方(I)で、3<t 0c、io秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。撮影の条件は、明朝
体のある一定の場所の細線が9θμになる様露光し、そ
の時のゴチック体の品質(文字の鮮明さ)を評価した。
7級の明朝体(司)、ゴチック体(N)のみ植文字原稿
を、大日本スクリーン製カメラ(DSC3!1)で撮影
後、前記の現像液処方(I)で、3<t 0c、io秒
間現像し、定着、水洗、乾燥した。撮影の条件は、明朝
体のある一定の場所の細線が9θμになる様露光し、そ
の時のゴチック体の品質(文字の鮮明さ)を評価した。
評価はに段階で行ない、「≦」が最もよく、「/」が最
も悪い品質を表わす。l’−J、rjJ、「り」は実用
可能で、「3」は粗悪だが、ぎりぎり実用でき「λ」、
「/Jは実用不可である。
も悪い品質を表わす。l’−J、rjJ、「り」は実用
可能で、「3」は粗悪だが、ぎりぎり実用でき「λ」、
「/Jは実用不可である。
試料Aの品質評価は/であった。
実施例/
比較例で調製した感材の乳剤層に、さらに本発明の化合
物17−?を/、!Orng/m2になる様に添加して
、試料Bを作製した。
物17−?を/、!Orng/m2になる様に添加して
、試料Bを作製した。
試料Bとは、ハロゲン組成のみをかえた試料C〜Hを表
−/の様に作製した。
−/の様に作製した。
比較例/と同様にして、露光ラチチュードを調べるため
に撮影し、前記のpH/θ、2の現像液処方(2)で3
.r0c3o秒間現像し、定着、水洗、乾燥し、同様の
評価を行った。又センシトメトリBr含荒70モルチ以
上の/’tロゲン化銀が、良好な画質を示していること
、pH10,7の現像液では■−タの化合物を存在させ
Gを高くしないと、Br含含量7七 えられないことがわかる。又Gが高くてもBr含量が少
ないと画質がよくないことがわかる。
に撮影し、前記のpH/θ、2の現像液処方(2)で3
.r0c3o秒間現像し、定着、水洗、乾燥し、同様の
評価を行った。又センシトメトリBr含荒70モルチ以
上の/’tロゲン化銀が、良好な画質を示していること
、pH10,7の現像液では■−タの化合物を存在させ
Gを高くしないと、Br含含量7七 えられないことがわかる。又Gが高くてもBr含量が少
ないと画質がよくないことがわかる。
実施例コ
試料Bのヒドラジン化合物I−/!の代すニ、■−//
、!ー79、l−1 /、■ーゲタを各々2omg/m
2及び1−30,(−Elを各/θ5mg/m2になる
様に添加し、試料I, J, M。
、!ー79、l−1 /、■ーゲタを各々2omg/m
2及び1−30,(−Elを各/θ5mg/m2になる
様に添加し、試料I, J, M。
N1及びに、Lを作製し、実施例/と同様に撮影、現像
し、評価を行った。
し、評価を行った。
本発明の化合物により、実用上許容できる画質をえるこ
とができる。
とができる。
実施例3
試料Bの■−2の代りに、II J、II 7、I
I−♂、■−/3、l[l / / 、I[l ”
、III ”を各々/!θmg/m2になる様に添
加し試料M1N,O1P,Q,R,Sを作製し、実施例
/と同様に撮影、現像し評価を行った。
I−♂、■−/3、l[l / / 、I[l ”
、III ”を各々/!θmg/m2になる様に添
加し試料M1N,O1P,Q,R,Sを作製し、実施例
/と同様に撮影、現像し評価を行った。
本発明の化合物で、
実用上許容できる画質をえ
ることかできる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有し、該乳剤層またはその他の親水性コロイド層に、一
般式( I )のヒドラジン誘導体を有するネガ型感光材
料をpH11.2以下の現像液で処理して@G@8以上
の硬調なB/W画像を形成する方法において、該ハロゲ
ン化銀乳剤のハロゲン組成が、Br70モル%以上であ
ることを特徴とする画像形成方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R_
2は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオ
キシカルネボニル基を表わし、G_1はカルボニル基、
スルホニル基、スルホキシ基、▲数式、化学式、表等が
あります▼基、又はイミノメチレン基を表わし、A_1
、A_2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他
方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換
もしくは無置換のアシル基を表わす。 2)ハロゲン化銀乳剤層又はその他の親水性コロイド層
中に、下記一般式( I )及び(II)で表わされる化合
物から選ばれる少なくとも1つの化合物を含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の画像形成方
法。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは
水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子か
ら選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
わす。Aは2価の連結基を表わす。Bはアミノ基、アン
モニウム基および含窒素ヘテロ環を表わし、アミノ基は
置換されていてもよい。mは1、2又は3を表わし、n
は0又は1を表わす。) 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1、R^2は各々水素原子又は脂肪族残基を
表わす。 R^1とR^2は互に結合して環を形成してもよい。 R^3は二価の脂肪族基を表わす。 Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のヘテロ環
を表わす。 nは0または1を表わす。Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアミジノ基を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25765888A JPH0816777B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25765888A JPH0816777B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02103536A true JPH02103536A (ja) | 1990-04-16 |
JPH0816777B2 JPH0816777B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=17309310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25765888A Expired - Fee Related JPH0816777B2 (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0816777B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03140642A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-14 | Fujita Corp | 免震アイソレータ |
JPH04114150A (ja) * | 1990-09-04 | 1992-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料、およびその処理方法 |
JPH04122926A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
EP0703494A1 (en) | 1994-09-22 | 1996-03-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material containing infrared absorbing colorant |
US5698385A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material |
WO2008038764A1 (en) | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
WO2020202968A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 東レ株式会社 | 導電パターンの製造方法 |
-
1988
- 1988-10-13 JP JP25765888A patent/JPH0816777B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03140642A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-14 | Fujita Corp | 免震アイソレータ |
JPH04114150A (ja) * | 1990-09-04 | 1992-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料、およびその処理方法 |
JPH04122926A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
US5698385A (en) * | 1994-02-21 | 1997-12-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Silver halide photosensitive material |
EP0703494A1 (en) | 1994-09-22 | 1996-03-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material containing infrared absorbing colorant |
WO2008038764A1 (en) | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
WO2020202968A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 東レ株式会社 | 導電パターンの製造方法 |
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JPH0816777B2 (ja) | 1996-02-21 |
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