JPH0325431A - ハロゲン化銀感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〉
本発明は写真製版の分野で用いられる、超硬調な画像を
安定性の高い処理液をもって迅速に形戊せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(特にネガ型)に関するものである
. (従来の技術) あの種のハロゲン化銀を用いて極めてコントラストの高
い写真画像を形戊できることは公知であり、そのような
写真画像の形成方法は、写真製版の分野で用いられてい
る。
安定性の高い処理液をもって迅速に形戊せしめるハロゲ
ン化銀写真感光材料(特にネガ型)に関するものである
. (従来の技術) あの種のハロゲン化銀を用いて極めてコントラストの高
い写真画像を形戊できることは公知であり、そのような
写真画像の形成方法は、写真製版の分野で用いられてい
る。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特殊な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く (通常Olモル/e以下)してある。そのためリス
現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保存
に耐えられないという重大な欠点を持っている。
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く (通常Olモル/e以下)してある。そのためリス
現像液は極めて空気酸化を受けやすく3日を越える保存
に耐えられないという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第4. 224. 4ol号
、同第4.168,977号、同第4,166,742
号、同第4,311,781号、同第4,272、60
6号、同第4, 211. 857号、同第4,2
43,739号等に記載されているヒドラジン誘導体を
用いる方法がある。この方法によれば、超硬調で感度の
高い写真特性が得られ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸
塩を加えることが許容されるので、現像液の空気酸化に
対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的に向上する.
しかしながら、これらヒドラジン化合物を用いた、超硬
調な画像形戒法は、伝染現像を強く促進するために、コ
ントラストの低い文字原稿(特に明朝体の細線)の撮影
時に、細い白地となるべき部分まで黒化してしまい、文
字が黒《つぶれて、判読できなくなってしまう問題があ
った.そのため、明朝体の細線に合せて露光を少なめに
すると、逆にゴチソク文字のつぶれが悪化するという、
露光のラチチュードが狭いという問題があった。同様の
問題は、綱点画撮影においても生し、網点の白地として
抜ける部分まで、黒化しやすく、網階調が、非常に短く
なる画質上の欠点をもっている.この原因は、ヒドラジ
ン化合物による硬調化現像の伝染現像性が強いため、露
光された部分に隣接する低露光又は未露光部分が現像さ
れてしまうことによるもので、これを防止するため、伝
染現像による画像拡大を抑制する方法、及び、画像部の
隣接部の現像を抑制する現像効果をおこす方法(以下ミ
クロな現像抑制)の開発が望まれていた。
方法としては米国特許第4. 224. 4ol号
、同第4.168,977号、同第4,166,742
号、同第4,311,781号、同第4,272、60
6号、同第4, 211. 857号、同第4,2
43,739号等に記載されているヒドラジン誘導体を
用いる方法がある。この方法によれば、超硬調で感度の
高い写真特性が得られ、更に現像液中に高濃度の亜硫酸
塩を加えることが許容されるので、現像液の空気酸化に
対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的に向上する.
しかしながら、これらヒドラジン化合物を用いた、超硬
調な画像形戒法は、伝染現像を強く促進するために、コ
ントラストの低い文字原稿(特に明朝体の細線)の撮影
時に、細い白地となるべき部分まで黒化してしまい、文
字が黒《つぶれて、判読できなくなってしまう問題があ
った.そのため、明朝体の細線に合せて露光を少なめに
すると、逆にゴチソク文字のつぶれが悪化するという、
露光のラチチュードが狭いという問題があった。同様の
問題は、綱点画撮影においても生し、網点の白地として
抜ける部分まで、黒化しやすく、網階調が、非常に短く
なる画質上の欠点をもっている.この原因は、ヒドラジ
ン化合物による硬調化現像の伝染現像性が強いため、露
光された部分に隣接する低露光又は未露光部分が現像さ
れてしまうことによるもので、これを防止するため、伝
染現像による画像拡大を抑制する方法、及び、画像部の
隣接部の現像を抑制する現像効果をおこす方法(以下ミ
クロな現像抑制)の開発が望まれていた。
伝染現像性の抑制する方法は、造核剤の添加量を下げた
り、現像液のpHを下げたりすればよいが、これでは階
調が軟調になり、画線の鮮鋭度がなくなり、実用的に問
題がある。又、造核現像系において、ミクロな現像抑制
を付与することが種々検討されたが、また、満足する方
法は見出されていない。
り、現像液のpHを下げたりすればよいが、これでは階
調が軟調になり、画線の鮮鋭度がなくなり、実用的に問
題がある。又、造核現像系において、ミクロな現像抑制
を付与することが種々検討されたが、また、満足する方
法は見出されていない。
本発明は、現像液のp Hを11,2以下にすることに
よって、造核現像のコントロールを行っている。通常P
Hをl1.2以下にすると、硬調化が充分おこらないが
、造核促進剤を併用することによって、階調を充分硬調
にすることができる。
よって、造核現像のコントロールを行っている。通常P
Hをl1.2以下にすると、硬調化が充分おこらないが
、造核促進剤を併用することによって、階調を充分硬調
にすることができる。
このpHでの現像では、より高pHな現像に比べ、伝染
現像性が弱く、画像拡大が小さいことが新たにわかった
. 又、画像部での現像反応は、必ずH゛イオン、ハロゲン
イオンの放出をともなう.画像隣接部へのH9イオンの
拡敗によるp H低下と、ハロゲンイオンの拡散により
、隣接部のミクロな現像抑制がおこるが、この現像は、
pH1.1.2以下の造核現像で発現しやすいことがわ
かった.しかし、pH11.2以下の現像では、このよ
うなξクロな現像抑制が発現されやすいが、一方pH1
1.2以上の造核現像系に比べ、感度が低く、又階調も
低いため、実技上のDmaxが低いという問題があった
。
現像性が弱く、画像拡大が小さいことが新たにわかった
. 又、画像部での現像反応は、必ずH゛イオン、ハロゲン
イオンの放出をともなう.画像隣接部へのH9イオンの
拡敗によるp H低下と、ハロゲンイオンの拡散により
、隣接部のミクロな現像抑制がおこるが、この現像は、
pH1.1.2以下の造核現像で発現しやすいことがわ
かった.しかし、pH11.2以下の現像では、このよ
うなξクロな現像抑制が発現されやすいが、一方pH1
1.2以上の造核現像系に比べ、感度が低く、又階調も
低いため、実技上のDmaxが低いという問題があった
。
また、特開昭59−152438号には、1r塩を粒子
のシェル側に存在させるき記述がある。
のシェル側に存在させるき記述がある。
しかしながらここで使われている乳剤は、粒子サイズが
実施例からわかる様に0.55μ以上であり、ヨード分
布も粒子のコアとシェルで異っている。またヒドラジン
誘導体の使用については記載されていない。
実施例からわかる様に0.55μ以上であり、ヨード分
布も粒子のコアとシェルで異っている。またヒドラジン
誘導体の使用については記載されていない。
この様な粒子では、階調CG)を高くすることができず
、実技上のDmaxも低いという問題があった。
、実技上のDmaxも低いという問題があった。
(発明の目的)
本発明の第1の目的は、画線、網点の再現性が良好(露
光ラチチュードが広い)で、高感度、高D+maxで、
硬調のハロゲン化銀写真感光材料を提供することである
。第2の目的は、ヒドラジン化合物を用いた系において
、安定な現像液で、性能を安定に維持できる画像形成法
を提供することである。
光ラチチュードが広い)で、高感度、高D+maxで、
硬調のハロゲン化銀写真感光材料を提供することである
。第2の目的は、ヒドラジン化合物を用いた系において
、安定な現像液で、性能を安定に維持できる画像形成法
を提供することである。
(発明の開示)
本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも一層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の観水
性コロイド層にヒドラジン誘導体を有するネガ型化銀感
光材料において、該ハロゲン化銀が、最終到達平均粒径
の少なくとも80%が形成された後に水溶性イリジウム
塩を全ハロゲン化銀1モル当り、10−1〜10−5モ
ル存在させ゛C粒子を威長させたハロゲン化銀粒子から
なることを特徴とするハロゲン化銀感光材料によって達
戊された. 本発明のハロゲン化恨感光材料は、9 11 1 12
以下の現像液を使用してG8以上の硬調な写真特性を高
Dmaxを達成する能力を持つ。
ゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または、その他の観水
性コロイド層にヒドラジン誘導体を有するネガ型化銀感
光材料において、該ハロゲン化銀が、最終到達平均粒径
の少なくとも80%が形成された後に水溶性イリジウム
塩を全ハロゲン化銀1モル当り、10−1〜10−5モ
ル存在させ゛C粒子を威長させたハロゲン化銀粒子から
なることを特徴とするハロゲン化銀感光材料によって達
戊された. 本発明のハロゲン化恨感光材料は、9 11 1 12
以下の現像液を使用してG8以上の硬調な写真特性を高
Dmaxを達成する能力を持つ。
ここでGとは下弐で定義される数値である。
3. 0−0. 3
濃度3.0と0.3の感度点の差(Δ6ogE)本発明
に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一C式(1)に
よって表わされる化合物が好ましい。
に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一C式(1)に
よって表わされる化合物が好ましい。
一般式(+)
A I A!
式中、R,は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アよノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、Glはカルボニル基、スルホニ
ル基、スルホキシ基、O 11 −P一基、又はイξノメチレン基を表わし、AR! A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が
Wl換もしくは無i!!tAのアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす. 一a式(1)において、R+で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である.ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形戒するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアξド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アよノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、Glはカルボニル基、スルホニ
ル基、スルホキシ基、O 11 −P一基、又はイξノメチレン基を表わし、AR! A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が
Wl換もしくは無i!!tAのアルキルスルホニル基、
又は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は
置換もしくは無置換のアシル基を表わす. 一a式(1)において、R+で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である.ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形戒するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアξド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(!〉においてR,で表される芳香族基は単環ま
たは2環の了りール基または不飽和へテロ環基である。
たは2環の了りール基または不飽和へテロ環基である。
ここで不飽和へテロ環基は11環または2環のアリール
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい. 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ビリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ペンズイミダゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい. 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ビリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ペンズイミダゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R+ として特に好ましいものはアリール基である。
R1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的なyl換基としては例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルア旦ノ基
、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリ
ールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルポニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基や
カルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシル7ミノ基、
イミド基、などが挙げられ、好ましい置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数I
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコ
キシ基(好まし《は炭素数l〜20のもの)、置換アξ
ノ基(IjTましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアξノ基(好ましくは炭素
数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アξド基(好ま
しくは炭素数1〜30のもの)などである。
いてもよく、代表的なyl換基としては例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルア旦ノ基
、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリ
ールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルポニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基や
カルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシル7ミノ基、
イミド基、などが挙げられ、好ましい置換基としては直
鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数I
〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部
分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコ
キシ基(好まし《は炭素数l〜20のもの)、置換アξ
ノ基(IjTましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアξノ基(好ましくは炭素
数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アξド基(好ま
しくは炭素数1〜30のもの)などである。
一般式(+)においてR!で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数l〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルポキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
ては、好ましくは炭素数l〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルポキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
アリール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置換され
ていてもよい。
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、カ
ルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置換され
ていてもよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
ア果ノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1−10
のアルキルアミノ基、アリールアξノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい. カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアξノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい. カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数l〜10のアルコ
キシ力ルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシ力ルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R,で表わされる基のうち好ましいものは、Gがカルポ
ニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メ
チル基、1・リフルオ口メチル基、3−ヒドロキシプ口
ビル基、3−メタンスルホンアミドプ口ビル基、フ五ニ
ルスルホニルメチル基など〉、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フエニルL3.5−ジクロロフェニル基、o−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい. またG.がスルホニル基の場合には、R!はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、了りール基(例
えば、フ玉ニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアくノ基など)などが好ましい。
ニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、メ
チル基、1・リフルオ口メチル基、3−ヒドロキシプ口
ビル基、3−メタンスルホンアミドプ口ビル基、フ五ニ
ルスルホニルメチル基など〉、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フエニルL3.5−ジクロロフェニル基、o−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい. またG.がスルホニル基の場合には、R!はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、了りール基(例
えば、フ玉ニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアくノ基など)などが好ましい。
G,がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などかあO はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基
、フェニル基が好ましく、特に、フエノキシ基が好適で
ある。
ジル基、メチルチオベンジル基などかあO はメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基
、フェニル基が好ましく、特に、フエノキシ基が好適で
ある。
G+ がN−置喚または無置換イミノメチレン基の場合
、好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置
換のフェニル基である。
、好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置
換のフェニル基である。
R2の置換基としては、R,に関して列挙した置FIA
基が適用できる。
基が適用できる。
一般式(!〉のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
。
。
又、R2はGl−R!の部分を残余分子から分裂させ、
G + − R t部分の原子を含む環式構造を生成
させる環化反応を生起するようなものであってもよく、
具体的には一般式(alで表わすことができるようなも
のである。
G + − R t部分の原子を含む環式構造を生成
させる環化反応を生起するようなものであってもよく、
具体的には一般式(alで表わすことができるようなも
のである。
一般式fa)
R3 Z+
式中、Z,はG,に対し求核的に攻撃し、GI R3
21部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R
3はR2から水素原子1個除いたもので、Zlが61に
対し求核攻窄し、G + 、R 3、ZIで環式構造が
生成可能なものである。
21部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R
3はR2から水素原子1個除いたもので、Zlが61に
対し求核攻窄し、G + 、R 3、ZIで環式構造が
生成可能なものである。
さらに詳細には、Zlは一般式(1)ヒドラジン化合物
が酸化等により次の反応中間体を生戒したときに容易に
Glと求核反応し R,一N=N G+ R* Z+Rl−N=N基
を61から分裂させうる基であり、具体的にはOH,S
HまたはN H R *(R aは水素原子、アルキル
基、アリール基、−COR.、またはーS O z R
sであり、Rsは水素原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環基などを表す)、COORなどのように01
と直接反応する官能基であってもよく (ここで、○H
..SH,NHR4、−COOHはアルカリ等の加水分
解によりこれらの基を生威するように一時的に保護され
ていてもよい)、あるいは、 C Rh− C
RhCR& 、R?は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水
酸イオンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応するこ
とで01と反応することが可能になる官能基であっても
よい. また、G+ 、R:I 、Z+で形威される環としては
5員または6員のものが好ましい。
が酸化等により次の反応中間体を生戒したときに容易に
Glと求核反応し R,一N=N G+ R* Z+Rl−N=N基
を61から分裂させうる基であり、具体的にはOH,S
HまたはN H R *(R aは水素原子、アルキル
基、アリール基、−COR.、またはーS O z R
sであり、Rsは水素原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環基などを表す)、COORなどのように01
と直接反応する官能基であってもよく (ここで、○H
..SH,NHR4、−COOHはアルカリ等の加水分
解によりこれらの基を生威するように一時的に保護され
ていてもよい)、あるいは、 C Rh− C
RhCR& 、R?は水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはへテロ環基を表す)のように水
酸イオンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応するこ
とで01と反応することが可能になる官能基であっても
よい. また、G+ 、R:I 、Z+で形威される環としては
5員または6員のものが好ましい。
一II式(Mlで表されるもののうち、好ましいものと
しては一般式(bl及びtc+で表されるものを挙げる
ことができる. 一般式(b> 式中、R. 4 , R 5は水素原子、アルキル基(
好ましくは炭素数1−12のもの)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜l2のもの)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜12のもの)なとを表し、同じでも異な
ってもよい.Bは置換基を有してもよい5員環または6
員環を完戒するのに必要な原子であり、m,nはOまた
はlであり、(n+m)は1または2である. Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘブテン環、ヘンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである. Z1は一般式fa)と同義である。
しては一般式(bl及びtc+で表されるものを挙げる
ことができる. 一般式(b> 式中、R. 4 , R 5は水素原子、アルキル基(
好ましくは炭素数1−12のもの)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜l2のもの)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜12のもの)なとを表し、同じでも異な
ってもよい.Bは置換基を有してもよい5員環または6
員環を完戒するのに必要な原子であり、m,nはOまた
はlであり、(n+m)は1または2である. Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘブテン環、ヘンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである. Z1は一般式fa)と同義である。
一般弐(C)
R2
{− N +−T−+C R ’ R乏÷qZl式中
、R ! 、R Mは水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し、同じ
でも異なってもよい. R2は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール基を表す。
、R ! 、R Mは水素原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し、同じ
でも異なってもよい. R2は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール基を表す。
pはOまたはlを表し、qは1〜4を表す。
Rシ、R乏およびR2はZ+A<c,へ分子内求核攻撃
し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形威して
もよい。
し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形威して
もよい。
R: 、Rjは好ましくは水素原子、ハロゲン原子、ま
たはアルキル基であり、R2は好ましくはアルキル基ま
たはアリール基である。
たはアルキル基であり、R2は好ましくはアルキル基ま
たはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpはOまた
はlを、qが2のときpは0またはlを、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2または3のときRc、R
cは同一でも異なってもよい.Z,は一般式talと同
義である. A1、Atは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフエ
ニルスルホニル基又はハメノトの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメントの置換基定数の和が−0.5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無W換及び置換脂肪族アシル基(置換基
としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンア
ξド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基が挙げられる。))A+、Axとしては水素
原子が最も好ましい。
はlを、qが2のときpは0またはlを、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2または3のときRc、R
cは同一でも異なってもよい.Z,は一般式talと同
義である. A1、Atは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフエ
ニルスルホニル基又はハメノトの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル
基、又はハメントの置換基定数の和が−0.5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無W換及び置換脂肪族アシル基(置換基
としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンア
ξド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基が挙げられる。))A+、Axとしては水素
原子が最も好ましい。
一M式(1)のR1またはR,はその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
バラス}Mは8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフエニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる. 一般式(1)のR1またはR8はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい.かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカブト復素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4.385.108号、同4,459
.347号、特開昭59−195,233号、同59−
200,231号、同59−201,045号、同59
−201.046号、同59−201.047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170.733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67,501号、同62−67,510号に記
載された基があげられる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフエニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる. 一般式(1)のR1またはR8はその中にハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい.かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカブト復素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4.385.108号、同4,459
.347号、特開昭59−195,233号、同59−
200,231号、同59−201,045号、同59
−201.046号、同59−201.047号、同5
9−201,048号、同59−201,049号、特
開昭61−170.733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67.508号、
同62−67,501号、同62−67,510号に記
載された基があげられる。
−M式(目で示される化合物の具体例を以下に示す.但
し本発明は以下の化合物に限定されるものではない. ]一l) !−2) 夏 − 3) ■−4) ■−6) CJs I−7) !−12) ■−8) S ■−9) 1−15) !−10) 1−16) !−11) f−17) 1−18) !−19) N豐=N 1−20) SFI N = N ■ 27) !−28) 1−30) O 1−22) 1−23) 1−26) 1−31) 1−32) 1−33) r−34) O 0 C X II S O O 0 1−35) !−36) !−37) 1−38) ! 4 3) ■ 44) 1−45) 1 −46) 1−40) 1−41) 1−42) r−47> !−48) [−49) 1−50> CN Cl 1−5 1) 52) 1−53) 1−54) nn 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCII DISCLOSUR
E Item23516 (1983年11月号、P.
346)およびそこに引用された文献の他、米国特許4
080.207号、同4,269.929号、同4,2
76,364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,560
,638号、同4, 478, 928号、英国特
許2,011,391B、特開昭60−179734号
、同62−270,948号、同63−29.751号
、特開昭61−170,733号、同61−270,7
44号、同62−948号、BP217.310号、特
願昭61−175.234号、同61−251,482
号、同61−268,249号、同61−276,28
3号、同62−67528号、同62−67,509号
、同62−67,510号、同62−58,513号、
同62−130.819号、同62−143.467号
、同62−166,117号、またはUS4、686,
167号、特開昭62−178,246号、同63−2
34,244号、同63−234,245号、同63−
234.246号、同63−294,552号、同63
−306,438号、特願昭62−166,117号、
同62−247,478号、同63−105,682号
、同63−114.118号、同63−110,051
号、同63−114.119号、同63−116,23
9号、同63−147.339号、同63−179,7
60号、同63−229,163号、特願平1−18.
377号、同1−18,378号、同1−18.379
号、同1−15,755号、同1−16,814号、同
1−40,792号、同1−42.615号、同1−4
2,616号に記載されたものを用いることができる。
し本発明は以下の化合物に限定されるものではない. ]一l) !−2) 夏 − 3) ■−4) ■−6) CJs I−7) !−12) ■−8) S ■−9) 1−15) !−10) 1−16) !−11) f−17) 1−18) !−19) N豐=N 1−20) SFI N = N ■ 27) !−28) 1−30) O 1−22) 1−23) 1−26) 1−31) 1−32) 1−33) r−34) O 0 C X II S O O 0 1−35) !−36) !−37) 1−38) ! 4 3) ■ 44) 1−45) 1 −46) 1−40) 1−41) 1−42) r−47> !−48) [−49) 1−50> CN Cl 1−5 1) 52) 1−53) 1−54) nn 本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCII DISCLOSUR
E Item23516 (1983年11月号、P.
346)およびそこに引用された文献の他、米国特許4
080.207号、同4,269.929号、同4,2
76,364号、同4,278,748号、同4,38
5,108号、同4,459,347号、同4,560
,638号、同4, 478, 928号、英国特
許2,011,391B、特開昭60−179734号
、同62−270,948号、同63−29.751号
、特開昭61−170,733号、同61−270,7
44号、同62−948号、BP217.310号、特
願昭61−175.234号、同61−251,482
号、同61−268,249号、同61−276,28
3号、同62−67528号、同62−67,509号
、同62−67,510号、同62−58,513号、
同62−130.819号、同62−143.467号
、同62−166,117号、またはUS4、686,
167号、特開昭62−178,246号、同63−2
34,244号、同63−234,245号、同63−
234.246号、同63−294,552号、同63
−306,438号、特願昭62−166,117号、
同62−247,478号、同63−105,682号
、同63−114.118号、同63−110,051
号、同63−114.119号、同63−116,23
9号、同63−147.339号、同63−179,7
60号、同63−229,163号、特願平1−18.
377号、同1−18,378号、同1−18.379
号、同1−15,755号、同1−16,814号、同
1−40,792号、同1−42.615号、同1−4
2,616号に記載されたものを用いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハロ
ゲン化銀1モルあたりI X 1 0−6モルないし5
X 1 0−”モル含有されるのが好ましく、特にI
XIO−’モルないし2 X 1 0−”モルの範囲が
好ましい添加量である. pH11.0以下でGを8以上にするには、般式(■)
又は/と([1)に示される化合物を、感材中に含有さ
せるのが好ましい。
ゲン化銀1モルあたりI X 1 0−6モルないし5
X 1 0−”モル含有されるのが好ましく、特にI
XIO−’モルないし2 X 1 0−”モルの範囲が
好ましい添加量である. pH11.0以下でGを8以上にするには、般式(■)
又は/と([1)に示される化合物を、感材中に含有さ
せるのが好ましい。
このG値の測定は、現像液のp Hが、pH11.2以
下であるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温
度、時間は38℃で30秒間で行なわれる.Gは、濃度
0、1と3.0を与える感光量の差(Δj!ogE)に
対する濃度差であらわす。
下であるB/W現像液であればいずれでもよく、現像温
度、時間は38℃で30秒間で行なわれる.Gは、濃度
0、1と3.0を与える感光量の差(Δj!ogE)に
対する濃度差であらわす。
一般式(■)
Y−t{−X−}−.A − [3].(式中、Yはハ
ロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは水素原子、炭素
原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれた原子
または原子群よりなる2価の連結基を表わす。Aは2価
の連結基を表わす。Bはアごノ基、アンモニウム基およ
び含窒素へテロ環を表わし、アミノ基は置換されていて
もよい。mはl、2又は3を表わし、nはO又は1を表
わす。) Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素複
素環化合物があげられる。
ロゲン化銀に吸着する基を表わす。Xは水素原子、炭素
原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれた原子
または原子群よりなる2価の連結基を表わす。Aは2価
の連結基を表わす。Bはアごノ基、アンモニウム基およ
び含窒素へテロ環を表わし、アミノ基は置換されていて
もよい。mはl、2又は3を表わし、nはO又は1を表
わす。) Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素複
素環化合物があげられる。
Yが含窒素複素環化合物を表わす場合は一般式(It)
の化合物は下記一般式(II−a)で表わされる。
の化合物は下記一般式(II−a)で表わされる。
一般式(II−a)
Q N−1)t
+(X−}−.A−Bl.
式中、lはOまたは1を表わし、mは1,2または3を
表わし、nはOまたはlを表わす。
表わし、nはOまたはlを表わす。
[(X+*A − Bl.は前記一般式(II)におけ
るそれと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子の少なくとも一種の原子から構威される5
または6員の複素環壱形成するのに必要な原子群を表わ
す。またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮
合していてもよい.Qによって形戊される複素環として
は例えばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、
ベンズイξグゾール類、ペンゾトリアゾール類、ベンズ
オキサゾール類、ペンズチアゾール類、イミダゾール類
、チアゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テ
トラゾール類、アザインデン類、ビラゾール類、インド
ール類、トリアジン類、ビリミジン類、ビリジン類、キ
ノリン類等があげられる。
るそれと同義であり、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子の少なくとも一種の原子から構威される5
または6員の複素環壱形成するのに必要な原子群を表わ
す。またこの複素環は炭素芳香環または複素芳香環と縮
合していてもよい.Qによって形戊される複素環として
は例えばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、
ベンズイξグゾール類、ペンゾトリアゾール類、ベンズ
オキサゾール類、ペンズチアゾール類、イミダゾール類
、チアゾール類、オキサゾール類、トリアゾール類、テ
トラゾール類、アザインデン類、ビラゾール類、インド
ール類、トリアジン類、ビリミジン類、ビリジン類、キ
ノリン類等があげられる。
Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウム原
子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウム
基、等)、アルカリ条件下でM − Hまたはアルカリ
金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエチ
ル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばトリ
メチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウム
基、等)、アルカリ条件下でM − Hまたはアルカリ
金属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエチ
ル基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
また、これらの複素環のニトロ基、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロビル基、(一ブチル基、シアノ
エチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、等
)、アリール基(例えばフエニル基、4−メタンスルホ
ンアミ1’7エニル基、4−メチルフヱニルL3,4−
ジクロルフエニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等〉、アラルキル基(例えばベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、フエネチル基、等〉、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−メトキシフ
ェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、了りール
チオ基(例えばフヱニルチオ基)、スルホニル基(例え
ばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p一トル
エンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えば無置
換カルバモイル基、メチル力ルバモイル基、フエニルカ
ルバモイルL 等)、スルファモイル基(例えば無W換
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えばア
セトアミド基、ペンズアミド基、等)、スルホンアミド
基(例えばメタンスルホンアξド基、ベンゼンスルホン
アミド基、p一トルエンスルホンアミド基、等)、アシ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ペンゾイルオキ
シ基、等)、スルホニルオキシ基(例えばメタンスルホ
ニルオキシ基、等〉、ウレイド基(例えば無置換のウレ
イド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フヱニ
ルウレイ+:基、等)、チオウレイド基(例えば無置換
のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、等〉、アシ
ル基(例えばアセチル基、ベンヅイル基、等)、ヘテロ
環基(例えばl−モルホリノ基、1−ビペリジノ基、2
−ビリジル基、4−ピリジル基、2一チェニル基、l−
ビラゾリル基、l−イミダゾリル基、2−テトラヒド口
フリル基、テトラヒド口チェニル基、等)、オキシカル
ボニル基(例えばメトキシカルボニル基、フエノキシヵ
ルボニル基、等)、オキシカルポニルアミノ基(例えば
メトキシカルボニルアミノ基、フエノキシヵルボニルア
ミノ基、2−エチルへキシルオキシ力ルポニルアミノ基
、等)、アミノ基(例えば無置換ア亀ノ基、ジメチルア
ξノ基、メトキシェチルアξノ基、アニリノ基、等)、
カルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩、ヒ
ドロキシ基などで置換されていてもよい。
ば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ基
、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロビル基、(一ブチル基、シアノ
エチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、等
)、アリール基(例えばフエニル基、4−メタンスルホ
ンアミ1’7エニル基、4−メチルフヱニルL3,4−
ジクロルフエニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等〉、アラルキル基(例えばベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、フエネチル基、等〉、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−メトキシフ
ェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、了りール
チオ基(例えばフヱニルチオ基)、スルホニル基(例え
ばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p一トル
エンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えば無置
換カルバモイル基、メチル力ルバモイル基、フエニルカ
ルバモイルL 等)、スルファモイル基(例えば無W換
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えばア
セトアミド基、ペンズアミド基、等)、スルホンアミド
基(例えばメタンスルホンアξド基、ベンゼンスルホン
アミド基、p一トルエンスルホンアミド基、等)、アシ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ペンゾイルオキ
シ基、等)、スルホニルオキシ基(例えばメタンスルホ
ニルオキシ基、等〉、ウレイド基(例えば無置換のウレ
イド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フヱニ
ルウレイ+:基、等)、チオウレイド基(例えば無置換
のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、等〉、アシ
ル基(例えばアセチル基、ベンヅイル基、等)、ヘテロ
環基(例えばl−モルホリノ基、1−ビペリジノ基、2
−ビリジル基、4−ピリジル基、2一チェニル基、l−
ビラゾリル基、l−イミダゾリル基、2−テトラヒド口
フリル基、テトラヒド口チェニル基、等)、オキシカル
ボニル基(例えばメトキシカルボニル基、フエノキシヵ
ルボニル基、等)、オキシカルポニルアミノ基(例えば
メトキシカルボニルアミノ基、フエノキシヵルボニルア
ミノ基、2−エチルへキシルオキシ力ルポニルアミノ基
、等)、アミノ基(例えば無置換ア亀ノ基、ジメチルア
ξノ基、メトキシェチルアξノ基、アニリノ基、等)、
カルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩、ヒ
ドロキシ基などで置換されていてもよい。
Xが表わす2価の連結基としては例えば、0
0 1111 S− −0− −N− −CO− −
OC−R+ Rt R3 R4 R, R h R v R * R *
R r。
0 1111 S− −0− −N− −CO− −
OC−R+ Rt R3 R4 R, R h R v R * R *
R r。
O O
あげられるが、これらの連結基はQとの間に直鎖または
分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、
プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、1−メチル
エチレン基、等〉を介して結合されていてもよい。R1
、Ri,R,、R4、Rs 、Ra 、Rt 、Ra
、RqおよびR1。は水素原子、それぞれ置換もしくは
無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ビル基、n −ブチル基、等)、置換もしくは無置換の
アリール基(例えばフエニル基、2−メチルフエニル基
、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例えばブ
ロベニル基、l−メチルビニル基、等)、または置換も
しくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、等)を表わす.Aは2価の連結基を表わし、
2価の連結基としては直鎖または分岐のアルキレン基(
例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基、ヘキシレン基、1−メチルエチレン基、等〉、直
鎖または分岐のアルケニレン基(例えばビニレン基、1
−メチルビニレン基、等)、直鎖または分岐のアラルキ
レン基(例えばペンジリデン基、等)、アリーレン基(
例えばフェニレン、ナフチレン、等)等が挙げられる.
Aで表わされる上記の基はXとAは任意の組合せで更に
置換されていてもよい. Bの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式(U−b)
で表わされるものである。
分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、
プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、1−メチル
エチレン基、等〉を介して結合されていてもよい。R1
、Ri,R,、R4、Rs 、Ra 、Rt 、Ra
、RqおよびR1。は水素原子、それぞれ置換もしくは
無置換のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ビル基、n −ブチル基、等)、置換もしくは無置換の
アリール基(例えばフエニル基、2−メチルフエニル基
、等)、置換もしくは無置換のアルケニル基(例えばブ
ロベニル基、l−メチルビニル基、等)、または置換も
しくは無置換のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、等)を表わす.Aは2価の連結基を表わし、
2価の連結基としては直鎖または分岐のアルキレン基(
例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレ
ン基、ヘキシレン基、1−メチルエチレン基、等〉、直
鎖または分岐のアルケニレン基(例えばビニレン基、1
−メチルビニレン基、等)、直鎖または分岐のアラルキ
レン基(例えばペンジリデン基、等)、アリーレン基(
例えばフェニレン、ナフチレン、等)等が挙げられる.
Aで表わされる上記の基はXとAは任意の組合せで更に
置換されていてもよい. Bの置換もしくは無置換のアミノ基は一般式(U−b)
で表わされるものである。
一般式(n − b)
(式中、R I l、R1zは同一であっても異なって
もよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1
〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基
を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル
基、n−プロビル基、n−ブチル基、n−オクチル基、
アリル基、3−ブテニル基、ベンジル基、1〜ナフチル
メチル基、等)、分岐(例えばisoプロビル基、t−
オクチル基、等〉、または環状(例えばシクロヘキシル
基、等)でもよい. 又、Rl1,:Rl!は連結して環を形成してもよく、
その中に1つまたはそれ以上のへテロ原子(例えば酸素
原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよく、例えばピロ
リジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙げるこ
とができる。又、RllR目の置換基としては例えば、
カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(
例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。)、ヒ
ドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシ力ルボニル基
(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基
、フェノキシ力ルボニル基、ペンジルオキシ力ルボニル
基など)、炭素数20以下のアルコキシ基(例えばメト
キシ基、エトキシ基、ヘンジルオキシ基、フェネチルオ
キシ基など)、炭素数20以下の単環式のアリールオキ
シ基(例えばフエノキシ基、I)−}リルオキシ基など
)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例えばアセチル
オキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭素数20以
下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベ
ンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、モ
ルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基など)
、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N,N
−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基
、ビベリジノスルホニル基など)、炭素数20以下のア
シルアξノ基(例えばアセチルアミノ基、プロビオニル
アξノ基、ペンゾイルアξノ基、メシルアξノ基など)
、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド基、p−}
ルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以下のカル
ボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基、フェニ
ルカルボンアξド基など)、炭素数20以下のウレイド
基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基など
)、ア柔ノ基などが挙げられる。
もよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1
〜30のアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基
を表わし、これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル
基、n−プロビル基、n−ブチル基、n−オクチル基、
アリル基、3−ブテニル基、ベンジル基、1〜ナフチル
メチル基、等)、分岐(例えばisoプロビル基、t−
オクチル基、等〉、または環状(例えばシクロヘキシル
基、等)でもよい. 又、Rl1,:Rl!は連結して環を形成してもよく、
その中に1つまたはそれ以上のへテロ原子(例えば酸素
原子、硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよく、例えばピロ
リジル基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙げるこ
とができる。又、RllR目の置換基としては例えば、
カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(
例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。)、ヒ
ドロキシ基、炭素数20以下のアルコキシ力ルボニル基
(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基
、フェノキシ力ルボニル基、ペンジルオキシ力ルボニル
基など)、炭素数20以下のアルコキシ基(例えばメト
キシ基、エトキシ基、ヘンジルオキシ基、フェネチルオ
キシ基など)、炭素数20以下の単環式のアリールオキ
シ基(例えばフエノキシ基、I)−}リルオキシ基など
)、炭素数20以下のアシルオキシ基(例えばアセチル
オキシ基、プロピオニルオキシ基など)、炭素数20以
下のアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベ
ンゾイル基、メシル基など)、カルバモイル基(例えば
カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、モ
ルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基など)
、スルファモイル基(例えばスルファモイル基、N,N
−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基
、ビベリジノスルホニル基など)、炭素数20以下のア
シルアξノ基(例えばアセチルアミノ基、プロビオニル
アξノ基、ペンゾイルアξノ基、メシルアξノ基など)
、スルホンアミド基(エチルスルホンアミド基、p−}
ルエンスルホンアミド基など)、炭素数20以下のカル
ボンアミド基(例えばメチルカルボンアミド基、フェニ
ルカルボンアξド基など)、炭素数20以下のウレイド
基(例えばメチルウレイド基、フェニルウレイド基など
)、ア柔ノ基などが挙げられる。
Bのアンモニウム基は一般式(II−c)で表わされる
ものである。
ものである。
一般式(■−C)
( Z ’).
(式中、Rl3、RI4、RIsは上述の一般式〈■b
)におけるRl+およびR1″と同様の基であり、ze
はアニオンを表わし、例えばハライドイオン(例えばC
ee, B r”’ , l” ナト) 、スルホ
ナートイオン(例えば1・リフルオロメタンスルホナー
ト、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート
、バラクロロベンゼンスルホナートなど)、スルファト
イオン(例えばエチルスルファート、メチルスルファー
トなど)、パークロラート、テトラフルオ口ポラートな
どが挙げられる。pは0または1を表わし、化合物が分
子内塩を形成する場合は0である。) Bは含窒素ステ口環は、少なくとも1つ以上の窒素原子
を含んだ5または6員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい,
含窒素へテロ環としては例えばイξダゾリル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。
)におけるRl+およびR1″と同様の基であり、ze
はアニオンを表わし、例えばハライドイオン(例えばC
ee, B r”’ , l” ナト) 、スルホ
ナートイオン(例えば1・リフルオロメタンスルホナー
ト、パラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート
、バラクロロベンゼンスルホナートなど)、スルファト
イオン(例えばエチルスルファート、メチルスルファー
トなど)、パークロラート、テトラフルオ口ポラートな
どが挙げられる。pは0または1を表わし、化合物が分
子内塩を形成する場合は0である。) Bは含窒素ステ口環は、少なくとも1つ以上の窒素原子
を含んだ5または6員環であり、それらの環は置換基を
有していてもよく、また他の環と縮合していてもよい,
含窒素へテロ環としては例えばイξダゾリル基、ピリジ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。
一般式(n)のうち好まし゛いものとしては、下記一般
式(It−m)、(TI−n)、(II−o)または(
■一p)で表わされる化合物が挙げられる。
式(It−m)、(TI−n)、(II−o)または(
■一p)で表わされる化合物が挙げられる。
一般式(II−m)
H
一般式(II−n)
H
0
一般式(■−o)
(X+.A−B.
(式中、+X+.A−B..M,mは前記一般式(II
−a)のそれと同義である.2.,22およびZ3は前
記一般式(n−a)における{−X−)−.A−Bと同
義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以下のアル
コキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、ヒドロ
キシアよノ基、置換および未置換のア旦ノ基を表わし、
その置換基としては前記一般式(III−b)における
RIR1の置Fe4mの中から選ぶことができる。但し
Z1、Zt及びZ,の内の少なくとも1つは+X−}.
A−Bと同義である。
−a)のそれと同義である.2.,22およびZ3は前
記一般式(n−a)における{−X−)−.A−Bと同
義であるか、又はハロゲン原子、炭素数20以下のアル
コキシ基(例えばメトキシ基)、ヒドロキシ基、ヒドロ
キシアよノ基、置換および未置換のア旦ノ基を表わし、
その置換基としては前記一般式(III−b)における
RIR1の置Fe4mの中から選ぶことができる。但し
Z1、Zt及びZ,の内の少なくとも1つは+X−}.
A−Bと同義である。
またこれら復素環は一般式(n)の複素環に適用される
置換基で置換されてもよい。
置換基で置換されてもよい。
次に一般式(II)で表わされる化合物例を示すが本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
一般式(If−p)
I1−2
H
n−4
Cl
■−5
■
1
0
4I
■−1 1
■
■−1 3
O
!1
■
1
4
0
n−6
I1−7
I[−15
■
n−16
■
■−1 8
1]
■−1 9
一般式(II!)
式中、Rl , R2は各々水素原子又は脂肪族残基を
表わす。
表わす。
1?I とRlは互に結合して環を形成してもよい。
Rエは二価の脂肪族基を表わす。
Xは窒素、酸素若しくは硫黄原子を含む二価のへテロ環
を表わす。
を表わす。
nは0またはlを表わす。Mは水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土頻金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアξジノ基を表わす.[?!’,R”の脂
肪族残基としては、各々炭素l〜l2のアルキル基、ア
ルケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当
な基で置換されていてもよい.アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソブロビル基、se
c−ブチル基、シクロヘキシル基などである。
、アルカリ土頻金属、四級アンモニウム塩、四級ホスホ
ニウム塩又はアξジノ基を表わす.[?!’,R”の脂
肪族残基としては、各々炭素l〜l2のアルキル基、ア
ルケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当
な基で置換されていてもよい.アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソブロビル基、se
c−ブチル基、シクロヘキシル基などである。
アルケニル基としては例えばアリル基、2−プテニル基
、2−へキセニル基、2−オクテニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロバルギル基、2−ベンチニ
ル基などがある.置換基としては、フェニル基、置換フ
エニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホ基、アルキルアξノ基、ア
ミド基等である。
、2−へキセニル基、2−オクテニル基などである。ア
ルキル基としては例えばプロバルギル基、2−ベンチニ
ル基などがある.置換基としては、フェニル基、置換フ
エニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、カルボキシル基、スルホ基、アルキルアξノ基、ア
ミド基等である。
R1とRR とで環を形成する場合としては、炭素又は
窒素・酸素の組合せからなる5員又は6員の炭素環又は
へテロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあげられる。
窒素・酸素の組合せからなる5員又は6員の炭素環又は
へテロ環で、特に飽和の環が好ましなどがあげられる。
R1とR2として特に好ましいものは炭素原子数1〜3
のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
のアルキル基で更に好ましくはエチル基である。
R3の二価の脂肪族基としてはーR4一又は?’S−が
好ましい。ここでR4は二価の脂肪族残基で、好ましく
は炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもので、例えばーC
H t C H■C H z−(cHz)+−
−(CHZ)4− −(CHi)*−−CH2C
H=まCHCHi−−C}IzCミccトizC H
t C H C H z−などである.C H. R4の好ましい炭素数としては2〜4のもので、R4と
してさらに好ましくは−CH■CH2一及びCl1!C
HZC}12である。なお(X)llのnが0のときの
R3は−R4−だけを表わす。
好ましい。ここでR4は二価の脂肪族残基で、好ましく
は炭素数1〜6の飽和及び不飽和のもので、例えばーC
H t C H■C H z−(cHz)+−
−(CHZ)4− −(CHi)*−−CH2C
H=まCHCHi−−C}IzCミccトizC H
t C H C H z−などである.C H. R4の好ましい炭素数としては2〜4のもので、R4と
してさらに好ましくは−CH■CH2一及びCl1!C
HZC}12である。なお(X)llのnが0のときの
R3は−R4−だけを表わす。
Xのへテロ環としては、窒素、酸素又は硫黄を含む5又
は6員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい,
ヘテロ環とし゛C好ましくは芳香族のもので例えば、テ
トラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、イξダゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイξダゾール、ペンゾチアゾール、ヘンズオキサ
ゾールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジ
アヅールが好ましい。
は6員のへテロ環でベンゼン環に縮合していてもよい,
ヘテロ環とし゛C好ましくは芳香族のもので例えば、テ
トラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、イξダゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイξダゾール、ペンゾチアゾール、ヘンズオキサ
ゾールなどである。このうち特にテトラゾールとチアジ
アヅールが好ましい。
Mのアルカリ金属としては、Na’、K”Li”などが
ある。
ある。
アルカリ土頻金属としては、Ca”、Mg”などがある
。
。
Mの四級アンモニウム塩としては、炭素数4〜30から
なるもので、例えばCCHs>sN*、(1:zHs)
aN*、(C*HJ4No、CaHsCHzN.(CH
s)t 、C+6H3sNe(CHa)sなどである。
なるもので、例えばCCHs>sN*、(1:zHs)
aN*、(C*HJ4No、CaHsCHzN.(CH
s)t 、C+6H3sNe(CHa)sなどである。
四級ホスホニウム塩としては、(CJH9)4P* 、
C+6HzP*(CI4Js、C 6 H s C H
z Pゆ(C}h)などである。
C+6HzP*(CI4Js、C 6 H s C H
z Pゆ(C}h)などである。
−M式(In)で表わされる化合物の無機酸塩としては
例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり、有機酸塩
としては酢酸塩、プロビオン酸塩、メタンスルホン酸塩
、ベンゼンスルホン酸塩、pトルエンスルホン酸塩など
がある。
例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり、有機酸塩
としては酢酸塩、プロビオン酸塩、メタンスルホン酸塩
、ベンゼンスルホン酸塩、pトルエンスルホン酸塩など
がある。
以下に一般式(I[)で表わされる化合物の具体例を挙
げる. m−t 111−2 DI−3 ■ 4 1I1−5 N=N N=N 1II−6 1[[−7 ■ 8 (H O C f{zc Hz:hN C HzC H
zS H111−9 m−10 ■−1 6 f[[−18 ■−1 9 I[1−20 ■−2 1 ■−2 2 これらの一般式〔■〕及び([[I)で表わされる促進
剤は、化合物のl!Ii類によって最適添加量が異なる
が1.OX10−3〜0.5g/ポ、好ましくは5.O
XIO−”〜0.3g/rtfの範囲で用いるのが望ま
しい.これらの促進剤は適当な溶媒(H20、メタノー
ルやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に熔解して塗
布液に添加される。
げる. m−t 111−2 DI−3 ■ 4 1I1−5 N=N N=N 1II−6 1[[−7 ■ 8 (H O C f{zc Hz:hN C HzC H
zS H111−9 m−10 ■−1 6 f[[−18 ■−1 9 I[1−20 ■−2 1 ■−2 2 これらの一般式〔■〕及び([[I)で表わされる促進
剤は、化合物のl!Ii類によって最適添加量が異なる
が1.OX10−3〜0.5g/ポ、好ましくは5.O
XIO−”〜0.3g/rtfの範囲で用いるのが望ま
しい.これらの促進剤は適当な溶媒(H20、メタノー
ルやエタノールなどのアルコール類、アセトン、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に熔解して塗
布液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
本発明のハロゲン化銀のハロゲン組或としては、臭化銀
、沃臭化銀、塩奥化銀、塩沃臭化銀のいずれでもよいが
、臭素含量が70モル%以一ヒのハロゲン化銀が好まし
い。沃素含量は通常IOモル%以下で、好ましくは5モ
ル%以下である。本発明のハロゲン化銀は粒子の内部と
外部とのハロゲン紐或が同一でも異なっていてもよい。
、沃臭化銀、塩奥化銀、塩沃臭化銀のいずれでもよいが
、臭素含量が70モル%以一ヒのハロゲン化銀が好まし
い。沃素含量は通常IOモル%以下で、好ましくは5モ
ル%以下である。本発明のハロゲン化銀は粒子の内部と
外部とのハロゲン紐或が同一でも異なっていてもよい。
粒子内部より表面の沃素含量が多いハロゲン化銀粒子は
増感色素による分光増感をする場合に好ましい。
増感色素による分光増感をする場合に好ましい。
本発明のハロゲン化銀の晶癖や形態(正常品、双晶など
)には特別な制限はないが、ヒドラジン誘導体による造
核現像を受けやすい点で立方体が好ましい。
)には特別な制限はないが、ヒドラジン誘導体による造
核現像を受けやすい点で立方体が好ましい。
また、粒子サイズ分布は単分散であるのが好ましい,こ
こで、単分散であるとは、95%の粒子が敗平均粒径の
±60%以内にあることをいい、特に±40%以内のサ
イズに入る分散系であるのが好ましい。
こで、単分散であるとは、95%の粒子が敗平均粒径の
±60%以内にあることをいい、特に±40%以内のサ
イズに入る分散系であるのが好ましい。
ハロゲン化銀の平均粒径は特に制限はないが、0.05
〜0.5μであることが好ましい。ここで平均粒径とは
、球状または球に近い粒子の場合は粒子直径を、立方体
粒子の場合は稜長をそれぞれ粒子サイズとし、投影面積
に基づく平均で表した数値である。
〜0.5μであることが好ましい。ここで平均粒径とは
、球状または球に近い粒子の場合は粒子直径を、立方体
粒子の場合は稜長をそれぞれ粒子サイズとし、投影面積
に基づく平均で表した数値である。
本発明においては、ハロゲン化銀粒子製造工程において
、ハロゲン化根粒子の大きさが最終到達平均粒径の少な
くとも80%に相当する大きさになった後の粒子ra長
工程を最終的なハロゲン化銀1モルに対して10”@〜
10−Sモルの量の水溶性イリジウム塩の存在下で行っ
て形威したハロゲン化銀乳剤を用いる。
、ハロゲン化根粒子の大きさが最終到達平均粒径の少な
くとも80%に相当する大きさになった後の粒子ra長
工程を最終的なハロゲン化銀1モルに対して10”@〜
10−Sモルの量の水溶性イリジウム塩の存在下で行っ
て形威したハロゲン化銀乳剤を用いる。
かかるハロゲン化恨の調製は、従来公知の種々の方法を
用いて実施することができる。例えば、T.II.J+
1mes 著 rThe Tlteory of
t.he PhotographicProce
ss J第4版、Macmillan社刊(1 9 7
7年)88〜104Nに記載されている中性法、酸性
法、アンモニア法、順混合法、逆混合法、ダブルジエソ
ト法(コントロールダブルジエソ!・法を含む〉などの
方法が使用できる。また、特開昭59−152438号
に記載されている方法を利用することもできる, 必要に応じて、チオエーテル類、千オ尿素類などのハロ
ゲン化銀溶剤を用いることにより粒子サイズ、粒子の形
状、分布などをコントロールすることができる。
用いて実施することができる。例えば、T.II.J+
1mes 著 rThe Tlteory of
t.he PhotographicProce
ss J第4版、Macmillan社刊(1 9 7
7年)88〜104Nに記載されている中性法、酸性
法、アンモニア法、順混合法、逆混合法、ダブルジエソ
ト法(コントロールダブルジエソ!・法を含む〉などの
方法が使用できる。また、特開昭59−152438号
に記載されている方法を利用することもできる, 必要に応じて、チオエーテル類、千オ尿素類などのハロ
ゲン化銀溶剤を用いることにより粒子サイズ、粒子の形
状、分布などをコントロールすることができる。
本発明の乳剤を調製するのに特に適した方法はダブルジ
ェソト法である。この方法は水}容性鐵塩溶}&(蛸酸
銀溶液が代表的な例である〉と水溶性ハロゲン塩溶液と
をゼラチン水溶液中に注入してゼラチン水溶液中でハロ
ゲン化銀粒子を形成する方法である。この方法において
は、水溶性根塩溶液の全量の半分を加えた時点でのハロ
ゲン化銀粒子の大きさが最終到達平均粒径のほぼ80%
の大きさになることが確認されている。
ェソト法である。この方法は水}容性鐵塩溶}&(蛸酸
銀溶液が代表的な例である〉と水溶性ハロゲン塩溶液と
をゼラチン水溶液中に注入してゼラチン水溶液中でハロ
ゲン化銀粒子を形成する方法である。この方法において
は、水溶性根塩溶液の全量の半分を加えた時点でのハロ
ゲン化銀粒子の大きさが最終到達平均粒径のほぼ80%
の大きさになることが確認されている。
本発明に用いられる水溶性イリジウム塩は、ハロゲン化
イリジウム(III)化合物、ハロゲン化イリジウム(
IV)化合物、イリジウム錯塩で配位子としてハロゲン
、アミン類、アキザラト等を持つもの、例えば、ヘキサ
クロロイリジウム(III)あるいは(IV)錯塩、ト
リアキザラトイリジウム(nl)あるいは(IV)錯塩
などが挙げられる。本発明ではこれらのものを任意に用
いてよい。これらのイリジウム化合物は、水または適当
な溶媒に溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶
液を安定化させるために、ハロゲン化水素水溶液(例え
ば、塩酸、臭酸、フッ酸等〉あるいはハロゲン化アルカ
リ (例えばKCj!,NaCj!、KBr、NaBr
等)を添加する方法を用いることができる。
イリジウム(III)化合物、ハロゲン化イリジウム(
IV)化合物、イリジウム錯塩で配位子としてハロゲン
、アミン類、アキザラト等を持つもの、例えば、ヘキサ
クロロイリジウム(III)あるいは(IV)錯塩、ト
リアキザラトイリジウム(nl)あるいは(IV)錯塩
などが挙げられる。本発明ではこれらのものを任意に用
いてよい。これらのイリジウム化合物は、水または適当
な溶媒に溶解して用いられるが、イリジウム化合物の溶
液を安定化させるために、ハロゲン化水素水溶液(例え
ば、塩酸、臭酸、フッ酸等〉あるいはハロゲン化アルカ
リ (例えばKCj!,NaCj!、KBr、NaBr
等)を添加する方法を用いることができる。
イリジウム塩の添加は、平均粒径の80%が形成された
後の任意の時点で全量添加してもよく、分υ1して添加
してもよく、連続的に添加してもよい。連続的に添加す
る方法としては、例えば平均粒径の80%が形成された
後の粒子を成長させるために添加するハライド塩液中に
存在させることができる。
後の任意の時点で全量添加してもよく、分υ1して添加
してもよく、連続的に添加してもよい。連続的に添加す
る方法としては、例えば平均粒径の80%が形成された
後の粒子を成長させるために添加するハライド塩液中に
存在させることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤において、イリジウム化乃至
化合物は、平均粒径の80%が形威される以前には実質
的に存在させないことを特徴としている。実質的に存在
しないとは、共存するイリジウム塩が形威される全ハロ
ゲン化銀乳剤lモルに対してI X t O−”モル未
満であることを意味する。
化合物は、平均粒径の80%が形威される以前には実質
的に存在させないことを特徴としている。実質的に存在
しないとは、共存するイリジウム塩が形威される全ハロ
ゲン化銀乳剤lモルに対してI X t O−”モル未
満であることを意味する。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子
の形戒または物理熟戒の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩などを共存させてもよい。
の形戒または物理熟戒の過程においてカドミウム塩、亜
硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその錯
塩などを共存させてもよい。
oジ’yム塩は1 0−’ 〜1 0−4モル/Ag/
モル添加するのが好ましい. これら、ハロゲン化銀は、粒子形威して脱塩エ程をへた
後、化学増感してもよいし、未化学増感のまま使用して
もよい。
モル添加するのが好ましい. これら、ハロゲン化銀は、粒子形威して脱塩エ程をへた
後、化学増感してもよいし、未化学増感のまま使用して
もよい。
化学増感剤としては、硫黄増感剤例えばチオ硫酸ナトリ
ウム、チオ尿素等;貴金属増感剤例えば金増感剤具体的
には、塩化金酸塩、三塩化金等、パラジウム増感剤具体
的には、塩化パラジウム、塩化パラジウム酸塩等、プラ
チナ化合物、イリジウム化合物等;セレン増感剤例えば
亜セレン酸、セレノ尿素等;還元増感剤例えば塩化第一
スズ、ジエチレントリアξンのようなポリアくン、亜硫
酸塩、蛸酸銀等の化学増感剤で単独又は併用によって化
学的に増感されることができる。
ウム、チオ尿素等;貴金属増感剤例えば金増感剤具体的
には、塩化金酸塩、三塩化金等、パラジウム増感剤具体
的には、塩化パラジウム、塩化パラジウム酸塩等、プラ
チナ化合物、イリジウム化合物等;セレン増感剤例えば
亜セレン酸、セレノ尿素等;還元増感剤例えば塩化第一
スズ、ジエチレントリアξンのようなポリアくン、亜硫
酸塩、蛸酸銀等の化学増感剤で単独又は併用によって化
学的に増感されることができる。
本発明に用いることができる増感色素は写真感光材料の
分野で公知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メ
ロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン
色素、ホロボーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、
スチリル色素およびヘミオキソノール色素が包含される
。特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素
、および複合メロシアニン色素に属する色素である。こ
れらの色素類には、塩基性異節環核としてシアニン色素
類に通常利用される核のいずれをも適用できる。すなわ
ち、ピロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロ
ール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール
核、イξダゾール核、テトラゾール核、ビリジン核など
;これらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこ
れらの核に芳香族炭化水素が融合した核、即ち、インド
レニン核、ペンズインドレニン核、インドール核、ヘン
ズオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトチアゾール核、ペンゾセレナゾール核
、ベンズイくダゾール核、キノリン核などが適用できる
。これらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。
分野で公知の種々の増感色素、例えばシアニン色素、メ
ロシアニン色素、複合シアニン色素、複合メロシアニン
色素、ホロボーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、
スチリル色素およびヘミオキソノール色素が包含される
。特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素
、および複合メロシアニン色素に属する色素である。こ
れらの色素類には、塩基性異節環核としてシアニン色素
類に通常利用される核のいずれをも適用できる。すなわ
ち、ピロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロ
ール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール
核、イξダゾール核、テトラゾール核、ビリジン核など
;これらの核に脂環式炭化水素環が融合した核;及びこ
れらの核に芳香族炭化水素が融合した核、即ち、インド
レニン核、ペンズインドレニン核、インドール核、ヘン
ズオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトチアゾール核、ペンゾセレナゾール核
、ベンズイくダゾール核、キノリン核などが適用できる
。これらの核は炭素原子上に置換されていてもよい。
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核として、ビラゾロンー5−オン
核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
.4−ジオン核、チアゾリジン−2.4−ジオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール酸核などの5〜6員異節
環核を適用することができる。
メチレン構造を有する核として、ビラゾロンー5−オン
核、チオヒダントイン核、2−チオオキサゾリジン−2
.4−ジオン核、チアゾリジン−2.4−ジオン核、ロ
ーダニン核、チオバルビッール酸核などの5〜6員異節
環核を適用することができる。
有用な増感色素は例えばドイツ特許929.080号、
米国特許2,231.658号、同2493.748号
、同2,503.776一号、同2,519,001号
、同2,912.329号、同3,656,959号、
同3,672.897号、同3,694,217号、英
国特許l.242,588号、特公昭44−140’3
0号、特開昭53−137133号、特開昭55−45
015、特願昭61−79533に記載されたものであ
る。
米国特許2,231.658号、同2493.748号
、同2,503.776一号、同2,519,001号
、同2,912.329号、同3,656,959号、
同3,672.897号、同3,694,217号、英
国特許l.242,588号、特公昭44−140’3
0号、特開昭53−137133号、特開昭55−45
015、特願昭61−79533に記載されたものであ
る。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示すvA質を乳剤中に含んでもよい. 有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色
増感を示す物質は前述の他にリサーチ・ディスクロージ
ャー (Research Disclosure)
1 76巻17643 (1978年12月発行)第2
3頁■のA−J項に記載されている。
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示すvA質を乳剤中に含んでもよい. 有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色
増感を示す物質は前述の他にリサーチ・ディスクロージ
ャー (Research Disclosure)
1 76巻17643 (1978年12月発行)第2
3頁■のA−J項に記載されている。
ここで、増感色素等は、写真乳剤の製造工程のいかなる
工程に添加させて用いることもできるし、乳剤の製造後
塗布直前までのいかなる段階に添加することもできる。
工程に添加させて用いることもできるし、乳剤の製造後
塗布直前までのいかなる段階に添加することもできる。
前者の例としては、粒子形威等、物理熟戒時、化学熟成
時がある。
時がある。
本発明に用いられる増感色素は水溶液や水に混合可能(
niscible)の有機溶剤、たとえば、メタノール
、エタノール、プロビルアルコール、メチルセロソルブ
、ビリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀乳剤
に加える。
niscible)の有機溶剤、たとえば、メタノール
、エタノール、プロビルアルコール、メチルセロソルブ
、ビリジンなどにとかした溶液としてハロゲン化銀乳剤
に加える。
本発明に用いられる堆感色素を乳剤に添加する時期は、
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が一.M的だが、
化学熟戒工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であっ
てもよい. 本発明において増感色素の好ましい添加量は、恨1モル
あたり1 0 −h− 1 0”’モル添加するのが適
当であり、好ましくはlO−4〜10−”モル添加する
ことである, これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもちよく、増感色素の組合は特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
乳剤を適当な支持体上に塗布される前が一.M的だが、
化学熟戒工程あるいはハロゲン化銀粒子形成工程であっ
てもよい. 本発明において増感色素の好ましい添加量は、恨1モル
あたり1 0 −h− 1 0”’モル添加するのが適
当であり、好ましくはlO−4〜10−”モル添加する
ことである, これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもちよく、増感色素の組合は特に強色増感
の目的でもしばしば用いられる。
ハロゲン化銀乳剤層またはその他の親木性コロイド層に
は染料化合物を添加することができる。
は染料化合物を添加することができる。
本発明に好ましく用いられる染料は300〜420nm
にピークを゜有する染料(紫外線吸収剤を含む)である
。具体例としては、特開昭62−210458号、同6
3−104046号、同63−103235号、特願昭
62−43704号、同62−218648号、特開昭
63 306436号、同63−314535号など
に記載されている。これらの染料は感度をあまり下げず
、露光ラチチュード画質(明/ゴ画質)を良化させる。
にピークを゜有する染料(紫外線吸収剤を含む)である
。具体例としては、特開昭62−210458号、同6
3−104046号、同63−103235号、特願昭
62−43704号、同62−218648号、特開昭
63 306436号、同63−314535号など
に記載されている。これらの染料は感度をあまり下げず
、露光ラチチュード画質(明/ゴ画質)を良化させる。
本発明に好ましく用いられる300〜420nmに吸収
ピークを有する化合物としては、例えば、了りール基で
置換されたペンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリド
ン化合物、ペンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合
物、ブタジエン化合物、ペンゾオキサゾール化合物さら
に紫外8ii!吸収ボリ゛マーを用いることができる。
ピークを有する化合物としては、例えば、了りール基で
置換されたペンゾトリアゾール化合物、4−チアゾリド
ン化合物、ペンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合
物、ブタジエン化合物、ペンゾオキサゾール化合物さら
に紫外8ii!吸収ボリ゛マーを用いることができる。
これらの染料は、特にオルソ増感されたBr70モル%
以上の塩臭化恨、沃塩臭化銀、沃臭化根、臭化銀との併
用が望ましい。
以上の塩臭化恨、沃塩臭化銀、沃臭化根、臭化銀との併
用が望ましい。
これらの染料化合物の添加量は5〜400■/d、好ま
しくは1 0〜3 0 0mg/mである。
しくは1 0〜3 0 0mg/mである。
さらに特に好ましく用いられる染料としては下記一般式
CD−1)、(D−2)、(D−3)又は(D−4)で
表わされる化合物で吸収極大が3OO〜4200mであ
る化合物である。
CD−1)、(D−2)、(D−3)又は(D−4)で
表わされる化合物で吸収極大が3OO〜4200mであ
る化合物である。
一般式(D−1)
(Cut),I
Q
ナトリウム・カリウム基で置換されたフエニル基または
スルホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スル
ホアルキルチオアルキル基を、またLは置換されてもよ
いメチン基を表す.R4#はアルキル基、カルボキシ基
、アルキルオキシ力ルボニル基或はアシル置換、非置換
のアミノ基を表す.mは整数1または2を、nは整数0
またはlをそれぞれ示す。
スルホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スル
ホアルキルチオアルキル基を、またLは置換されてもよ
いメチン基を表す.R4#はアルキル基、カルボキシ基
、アルキルオキシ力ルボニル基或はアシル置換、非置換
のアミノ基を表す.mは整数1または2を、nは整数0
またはlをそれぞれ示す。
一般式CD−2)
れる原子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基
、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル
基または置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウ
ム・カリウム塩を表し、R2#とR,′は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、または前記の一〇X基と同様の基を
表し、Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ
基、スルホ基、またはスルホアルキル基或はその式中R
s ,R& 、Re 、R9’及びR,。
、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル
基または置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウ
ム・カリウム塩を表し、R2#とR,′は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基
、アルキルチオ基、または前記の一〇X基と同様の基を
表し、Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ
基、スルホ基、またはスルホアルキル基或はその式中R
s ,R& 、Re 、R9’及びR,。
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアξノ基、カルボ
キシル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩を表し、R,はアルキル基またはカルボキシル基を
表す。
基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアξノ基、カルボ
キシル基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウ
ム塩を表し、R,はアルキル基またはカルボキシル基を
表す。
一般式CD−3)
R目 R14
式中R11#及びR.″はアルキル基、置換アルキル基
、了りール基、アルコキシカルボニル基またはカルポキ
シル基を表し、R1,#及びRl4’はスルホン酸もし
くはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはスル
ホン酸基もしくはカルポキシル基またはスルホン酸基で
置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム塩
を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。M
はナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、lはO
またはlを表す。
、了りール基、アルコキシカルボニル基またはカルポキ
シル基を表し、R1,#及びRl4’はスルホン酸もし
くはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはスル
ホン酸基もしくはカルポキシル基またはスルホン酸基で
置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム塩
を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。M
はナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、lはO
またはlを表す。
一般式CD−4)
0
式中R1#、R2′、R3′、R4#、はアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキル “シアノ
基、アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。RS#
及びRth#はスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を
表す。
ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキル “シアノ
基、アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。RS#
及びRth#はスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を
表す。
以下に本発明で好ましく用いられる染料の具体的化合物
例を示すが本発明がこれに限定れるものではない。
例を示すが本発明がこれに限定れるものではない。
D−1
D−2
RS” R6−
D
3
D−4
D
5
(CH!) ssOsK
D− 1 0
D− 1 1
D−1
2
S○,K
D−6
D−7
D−9
O
D−14
○
(CL) 4sO3K
D−1 5
D−16
S 03N a
D−17
D−21
O
(C Hz)<S 03K
D−22
8
D−1 9
り
(C Hz)*−3 03K
D−2 3
O
D−20
D−2 4
C z If s
D−2 5
D−2 7
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばヘンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、プロモベンズイξダゾール類、メルカプ1・チア
ゾール頻、メルカブトベンゾチアゾール類、メルカブト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ペンゾチア
ゾール類、ニトロヘンゾトリアゾール類、など;メルカ
ブトビリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン頚(特に4−ヒドロキシ置換(1.3.3a,7)
テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベ
ンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフイン酸、ヘン
ゼンスルフォン酸アミド、ハイドロキノン誘導体等のよ
うなカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化
合物を加えることができる。これらのものの中で、好ま
しいのはニトロインダゾール類(例えば5−ニトロイン
ダゾール)、ハイドロキノン誘導体(例えばハイドロキ
ノン、メチルハイドロキノン)である。また、これらの
化合物の中でペンゾトリアゾール類以外は処理液に含有
させてもよい。ペンゾトリアゾール類は、感材中に存在
するときと処理液中に存在するときの画質に辱える影響
が異なる。処理液中に存在すると画質を悪化させるが、
感材中にあると画質にはほとんど影響なく、むしろカブ
リを抑制する。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばヘンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、プロモベンズイξダゾール類、メルカプ1・チア
ゾール頻、メルカブトベンゾチアゾール類、メルカブト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ペンゾチア
ゾール類、ニトロヘンゾトリアゾール類、など;メルカ
ブトビリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン頚(特に4−ヒドロキシ置換(1.3.3a,7)
テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類など;ベ
ンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフイン酸、ヘン
ゼンスルフォン酸アミド、ハイドロキノン誘導体等のよ
うなカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化
合物を加えることができる。これらのものの中で、好ま
しいのはニトロインダゾール類(例えば5−ニトロイン
ダゾール)、ハイドロキノン誘導体(例えばハイドロキ
ノン、メチルハイドロキノン)である。また、これらの
化合物の中でペンゾトリアゾール類以外は処理液に含有
させてもよい。ペンゾトリアゾール類は、感材中に存在
するときと処理液中に存在するときの画質に辱える影響
が異なる。処理液中に存在すると画質を悪化させるが、
感材中にあると画質にはほとんど影響なく、むしろカブ
リを抑制する。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば活性ビ二ル化合物<1.3.5−トリアクリ口イ
ルーへキサヒドロ−3−トリアジン、1,3−ビニルス
ルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハロゲン化合
物(2,4−ジクロルー6−ヒドロキシ−3−トリアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸頻などを単独または組み合わ
せて用いることができる。なかでも、特開昭53−41
221、同53−57257、同59−162546、
同60−80846に記載の活性ビニル化合物および米
国特許3,325.287号に記載の活性ハロゲン化物
が好ましい. 本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散,接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
ルーへキサヒドロ−3−トリアジン、1,3−ビニルス
ルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハロゲン化合
物(2,4−ジクロルー6−ヒドロキシ−3−トリアジ
ンなど)、ムコハロゲン酸頻などを単独または組み合わ
せて用いることができる。なかでも、特開昭53−41
221、同53−57257、同59−162546、
同60−80846に記載の活性ビニル化合物および米
国特許3,325.287号に記載の活性ハロゲン化物
が好ましい. 本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散,接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤を含んでもよい。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭5B−9,112号公報に記載された分子3!6
0 0以上のポリアルキレンオキサイド類である。
公昭5B−9,112号公報に記載された分子3!6
0 0以上のポリアルキレンオキサイド類である。
ここで帯電防止剤として用いる場合には、フソ素を含有
した界面活性剤(例えば米国特許4,201.586号
、特開昭60−80849号)が特に好ましい. 本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の改良など
の目的で、水溶性または難溶性合威ポリマーの分散物を
含むことができる。たとえば、アルキル(メタ)アクリ
レート、アルコキシアルキル(メタ〉アクリレート、グ
リシジル(メタ)アクリレートなどの単独もしくは組合
せや、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸など
の組合せを単量体戒分とするボリマーを用いることがで
きる。
した界面活性剤(例えば米国特許4,201.586号
、特開昭60−80849号)が特に好ましい. 本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の改良など
の目的で、水溶性または難溶性合威ポリマーの分散物を
含むことができる。たとえば、アルキル(メタ)アクリ
レート、アルコキシアルキル(メタ〉アクリレート、グ
リシジル(メタ)アクリレートなどの単独もしくは組合
せや、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸など
の組合せを単量体戒分とするボリマーを用いることがで
きる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤
を放出するハイドロキノン誘導体くいわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤
を放出するハイドロキノン誘導体くいわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。M,Wを有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ボリマー又はコボリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−228437号、同6
2−25745号、同62−55642号の記載を参考
にすることができる。これらの化合物の中でも特に好ま
しいのは、低分子化合物としてはアスコルビン酸であり
、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマーと
ジビニルベンゼンの如き2個以上の不飽和基を有する架
橋性七ノマーからなるコポリマーの水分散性ラテノクス
である。
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。M,Wを有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ボリマー又はコボリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−228437号、同6
2−25745号、同62−55642号の記載を参考
にすることができる。これらの化合物の中でも特に好ま
しいのは、低分子化合物としてはアスコルビン酸であり
、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマーと
ジビニルベンゼンの如き2個以上の不飽和基を有する架
橋性七ノマーからなるコポリマーの水分散性ラテノクス
である。
感光材料に用いる結合剤または保護コロイドとしては、
ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外に親木性
合威高分子なども用いることができる。ゼラチンとして
は、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、誘導体ゼラチ
ンなどを用いることもできる.具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー(RES[!ARC}I DISC
LOSURE)第176巻、隘17643 (1978
年12月)の■項に記載されている. 本発明において用いられる感光材料には、ハロゲン化銀
乳剤層の他に、表面保護層、中間層、フィルター層、ハ
レーシジン防止層などのBillコロイド層を設けるこ
とができる。
ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外に親木性
合威高分子なども用いることができる。ゼラチンとして
は、石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、誘導体ゼラチ
ンなどを用いることもできる.具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー(RES[!ARC}I DISC
LOSURE)第176巻、隘17643 (1978
年12月)の■項に記載されている. 本発明において用いられる感光材料には、ハロゲン化銀
乳剤層の他に、表面保護層、中間層、フィルター層、ハ
レーシジン防止層などのBillコロイド層を設けるこ
とができる。
また、本発明に用いられる感光材料には、表裏判別性、
カーリング特性、ハレーション防止等の目的で裏面層(
以下バンク層と記す。)を設けることができる.本発明
に用いられるバノク層には、特に耐接着性の点で比較的
平均粒子サイズの大きいマソ1・剤を含有することが好
ましい。好ましい平均粒子サイズは1.0μm.−10
μm1特に好ましくは2.0μm〜5,0μmである。
カーリング特性、ハレーション防止等の目的で裏面層(
以下バンク層と記す。)を設けることができる.本発明
に用いられるバノク層には、特に耐接着性の点で比較的
平均粒子サイズの大きいマソ1・剤を含有することが好
ましい。好ましい平均粒子サイズは1.0μm.−10
μm1特に好ましくは2.0μm〜5,0μmである。
また表面保護層には、マント剤としてポリメチルメタク
リレートのホモボリマー、メチルメタクリレートとメタ
クリル酸のコボリマー、酸化マグネシウム、滑り剤とし
て米国特許3,489,576号、同4,047,95
8号に記載のシリコーン化合物、特公昭56−2313
9号に記載のコロイダルシリカの他にバラフィンワック
ス、高級脂肪酸エステル、デン粉などを用いることがで
きる。
リレートのホモボリマー、メチルメタクリレートとメタ
クリル酸のコボリマー、酸化マグネシウム、滑り剤とし
て米国特許3,489,576号、同4,047,95
8号に記載のシリコーン化合物、特公昭56−2313
9号に記載のコロイダルシリカの他にバラフィンワック
ス、高級脂肪酸エステル、デン粉などを用いることがで
きる。
また、親水性コロイド層には、可塑剤としてトリメチロ
ールプロパン、ペンタンジオール、ブタンジオール、エ
チレングリコール、グリセリン等のボリオール類を用い
ることができる.本発明のハロゲン化銀感光材料を用い
て超硬調で高感度の写真特性を得るには、従来の伝染現
像液や米国特許第2.419,975号に記載されたp
H1 3に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、
安定な現像液を用いることができる。
ールプロパン、ペンタンジオール、ブタンジオール、エ
チレングリコール、グリセリン等のボリオール類を用い
ることができる.本発明のハロゲン化銀感光材料を用い
て超硬調で高感度の写真特性を得るには、従来の伝染現
像液や米国特許第2.419,975号に記載されたp
H1 3に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、
安定な現像液を用いることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0.20モル/1以上含み、現像
液のpHは11.2以下であることが好ましい。さらに
は好ましくは11.0〜9.5であるのがよい。
しての亜硫酸イオンを0.20モル/1以上含み、現像
液のpHは11.2以下であることが好ましい。さらに
は好ましくは11.0〜9.5であるのがよい。
現像液のpH11.2以上だと空気中のCO2によって
pHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着色し
やすくなる。pH9.5以下であると硬調になりに<<
、鮮明な画質かえられない。
pHが変動しやすくなり、又、現像液も酸化して着色し
やすくなる。pH9.5以下であると硬調になりに<<
、鮮明な画質かえられない。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点でジヒドロキ
シベンゼン類を含むことが好ましく、更に現像能力の点
でジヒドロキシヘンゼン類と1−フ鳳ニルー3−ビラゾ
リドン類の組合せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−
アミノフェノール類の組合せが好ましい. 本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロビル
ハイドロキノン、メチルハイドロキノンなどがあるが、
特にハイドロキノンが好ましい。
限はないが、良好な網点品質を得やすい点でジヒドロキ
シベンゼン類を含むことが好ましく、更に現像能力の点
でジヒドロキシヘンゼン類と1−フ鳳ニルー3−ビラゾ
リドン類の組合せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−
アミノフェノール類の組合せが好ましい. 本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロビル
ハイドロキノン、メチルハイドロキノンなどがあるが、
特にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いる1−フェニル−3−ビラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては1−フェニルー3−ビラゾ
リドン、l−フェニルー4,4ージメチル−3−ビラゾ
リドン、l−フエニルー4一メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラゾリドンなどがある. 本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
はN−メチルーp−7ミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N一(4−ヒドロキシフエニル)グリシン等
があるが、なかでもN−メチルーp−アξノフユノール
が好ましい.現像主薬は通常0.05モル/1〜0.8
モル/1の量で用いられるのが好ましい.またジヒドロ
キシベンゼン類と1−フェニル−3−ビラプリドン類も
しくはp−ア竃ノフェノール類の組合せを用いる場合に
は前者を0.05モル/1〜0.5モル/Il,後者を
0.06モル71以下の量で用いるのが好ましい。
の誘導体の現像主薬としては1−フェニルー3−ビラゾ
リドン、l−フェニルー4,4ージメチル−3−ビラゾ
リドン、l−フエニルー4一メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラゾリドンなどがある. 本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
はN−メチルーp−7ミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノフ
ェノール、N一(4−ヒドロキシフエニル)グリシン等
があるが、なかでもN−メチルーp−アξノフユノール
が好ましい.現像主薬は通常0.05モル/1〜0.8
モル/1の量で用いられるのが好ましい.またジヒドロ
キシベンゼン類と1−フェニル−3−ビラプリドン類も
しくはp−ア竃ノフェノール類の組合せを用いる場合に
は前者を0.05モル/1〜0.5モル/Il,後者を
0.06モル71以下の量で用いるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある.亜硫
酸塩は0.20モル/l以上、特に0.3モル/疋以上
用いられるが、余りに多量添加すると現像液中で沈澱し
て液汚染を引き起こすので、上限は1.2モル/1とす
るのが望ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある.亜硫
酸塩は0.20モル/l以上、特に0.3モル/疋以上
用いられるが、余りに多量添加すると現像液中で沈澱し
て液汚染を引き起こすので、上限は1.2モル/1とす
るのが望ましい。
pl{の設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶
性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム等)を用いることができる。
性無機アルカリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム等)を用いることができる。
本発明に用いられる現像液には、緩衝剤として特願昭6
1−28708に記載のホウ酸、特開昭6 0−9 3
4 3 3に記載の糖頻(例えばサッカロース)、オ
キシム類(例えばアセトオキシム)、フェノール頬(例
えば5−スルホサリチル酸〉、第3リン酸塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好まし《は
ホウ酸が用いられる。
1−28708に記載のホウ酸、特開昭6 0−9 3
4 3 3に記載の糖頻(例えばサッカロース)、オ
キシム類(例えばアセトオキシム)、フェノール頬(例
えば5−スルホサリチル酸〉、第3リン酸塩(例えばナ
トリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好まし《は
ホウ酸が用いられる。
現像液に対して(好ましくはt x i o” 〜3x
l Q−+aの酸解離定数を持つ)緩衝剤を0.
1モル/1以上、特に0.2−”e)L,/l−1モル
,#添加することができる。これらの化合物の添加によ
り、現像処理される感光材料の銀量や黒化率に係わりな
く、ヒドラジン類により超硬調化及び感度増加の効果を
自動現像機を用いる場合にも安定に得ることが可能にな
る。なお、ここでいう酸解離定数は第1のもの第2のも
の第3のもの等いづれのものでもI X I O−”〜
3 X 1 0−”にある化合物であることを意味する
。
l Q−+aの酸解離定数を持つ)緩衝剤を0.
1モル/1以上、特に0.2−”e)L,/l−1モル
,#添加することができる。これらの化合物の添加によ
り、現像処理される感光材料の銀量や黒化率に係わりな
く、ヒドラジン類により超硬調化及び感度増加の効果を
自動現像機を用いる場合にも安定に得ることが可能にな
る。なお、ここでいう酸解離定数は第1のもの第2のも
の第3のもの等いづれのものでもI X I O−”〜
3 X 1 0−”にある化合物であることを意味する
。
上記の戒分以外に用いられる添加剤としては、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウムの如きpH11節剤;臭化ナト
リウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジエタノー
ルアξン、トリエタノールア2ン等のアルカノールアく
ン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤;1−
フ工二ルー5−メルカブトテ1・ラゾール等のメルカブ
ト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、ペンゾトリアゾール系化合物をカブリ防止剤
又は黒ボツ(black pepper)防止剤として
含みさらに必要に応して色調剤、外面活性剤、消泡剤、
硬水軟化剤、硬膜剤等を含んでもよい。
リウム、炭酸ナトリウムの如きpH11節剤;臭化ナト
リウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤;エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤;ジエタノー
ルアξン、トリエタノールア2ン等のアルカノールアく
ン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤;1−
フ工二ルー5−メルカブトテ1・ラゾール等のメルカブ
ト系化合物、5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、ペンゾトリアゾール系化合物をカブリ防止剤
又は黒ボツ(black pepper)防止剤として
含みさらに必要に応して色調剤、外面活性剤、消泡剤、
硬水軟化剤、硬膜剤等を含んでもよい。
定着剤はチオ硫酸ナ1・リウム、チオ硫酸アンモニウム
などのチオ硫酸塩を必須戒分とするものであり、定着速
度の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい.定着
剤の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1
〜約5モル/!lである。
などのチオ硫酸塩を必須戒分とするものであり、定着速
度の点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい.定着
剤の使用量は適宜変えることができ、一般には約0.1
〜約5モル/!lである。
本発明における定着液中の酸性硬膜剤としては、水溶性
アルiニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ξニウム、硅酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。
アルiニウム塩、クロム塩さらに3価の鉄化合物を酸化
剤としてエチレンジアミン4酢酸錯体がある。好ましい
化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アル
ξニウム、硅酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。
好ましい添加量は0.Olモル〜0.2モル/1、さら
に好ましくは0. 0 3 〜0. 0 8モル/
ffテある.前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはそ
の誘導体、クエン酸あるいはその誘導体が単独で、ある
いは二種以上を併用することができる。これらの化合物
は定着液1eにつき0.005モル以上含むのが有効で
、特に0.01モル/l〜0.03モル/Iが特に有効
である。
に好ましくは0. 0 3 〜0. 0 8モル/
ffテある.前述の二塩基酸として、酒石酸あるいはそ
の誘導体、クエン酸あるいはその誘導体が単独で、ある
いは二種以上を併用することができる。これらの化合物
は定着液1eにつき0.005モル以上含むのが有効で
、特に0.01モル/l〜0.03モル/Iが特に有効
である。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナj・リウム、酒
石酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸
アンモニウムカリウム、酒石酸アルξニウムカリウム、
酒石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナト
リウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸
水素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチ
ウムカリウムなどがある。
ム、酒石酸水素カリウム、酒石酸水素ナj・リウム、酒
石酸カリウムナトリウム、酒石酸アンモニウム、酒石酸
アンモニウムカリウム、酒石酸アルξニウムカリウム、
酒石酸アンチモニルカリウム、酒石酸アンチモニルナト
リウム、酒石酸水素リチウム、酒石酸リチウム、酒石酸
水素マグネシウム、酒石酸ホウ素カリウム、酒石酸リチ
ウムカリウムなどがある。
本発明において有効なクエン酸あるいはその誘導体の例
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムをなどが
ある。
としてクエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カリウ
ム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムをなどが
ある。
定着液には所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜
硫酸塩)、pHI1街剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH
調整剤(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含むこ
とができる。ここでp H 11街剤は、現像液のp
Hが高いのでlO〜4 0 g/1,より好ましくは1
8〜2 5 (3 / 1程度用いる。
硫酸塩)、pHI1街剤(例えば、酢酸、硼酸)、pH
調整剤(例えば、硫酸)、キレート剤(前述)を含むこ
とができる。ここでp H 11街剤は、現像液のp
Hが高いのでlO〜4 0 g/1,より好ましくは1
8〜2 5 (3 / 1程度用いる。
定着温度及び時間は現像の場合と同様であり、約20℃
〜約50℃でlO秒〜1分が好ましい。
〜約50℃でlO秒〜1分が好ましい。
次に本発明について、実施例にもとすいて説明する。
実施例l
55℃に保ったゼラチン水溶液にアンモニアの存在下で
、コントロールダブルジェソト法により、硝酸銀とハロ
ゲン溶液を60分間添加し、粒子サイズ0.32μの立
方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数12%、沃化銀0.
5モル%、ヨード分布均一)を調製した。この乳剤の調
製時に、K=IrCj!,をハロゲン溶液に添加してお
き、粒子に均一に分布する様にして、5 X 1 0−
’モル/Agモル含有させた. この乳剤をフロキュレーション法により脱塩を行ない、
その後50℃に保ち増感色素として、下記化合物をtf
Q 1モル当り5X10−’モルと銀1モル当り101
モルのヨウ化カリ溶液を加え15分間経時させ、4−ヒ
ドロキシ−6メチル−1.3,33.7−テトラザイン
デンを添加した後降温した。この乳剤をaとする。
、コントロールダブルジェソト法により、硝酸銀とハロ
ゲン溶液を60分間添加し、粒子サイズ0.32μの立
方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数12%、沃化銀0.
5モル%、ヨード分布均一)を調製した。この乳剤の調
製時に、K=IrCj!,をハロゲン溶液に添加してお
き、粒子に均一に分布する様にして、5 X 1 0−
’モル/Agモル含有させた. この乳剤をフロキュレーション法により脱塩を行ない、
その後50℃に保ち増感色素として、下記化合物をtf
Q 1モル当り5X10−’モルと銀1モル当り101
モルのヨウ化カリ溶液を加え15分間経時させ、4−ヒ
ドロキシ−6メチル−1.3,33.7−テトラザイン
デンを添加した後降温した。この乳剤をaとする。
増感色素
(Cllz) s (CL) sSO
sNa So.eこの乳剤aにヒドラ
ジン化合物(1−15)と造核促進剤(II−8)と5
−メチルベンズトリアゾールを各々2 X 1 0−’
モル/Agモル、8.6×101モル/Agモル、にな
る様に添加しその他ポリエチルアクリレート、硬膜剤と
して1.3−ジビニルースルホニル−2−プロパノール
ヲ加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に銀4
.0g/nfになる様に塗布した。この上に保護層とし
てゼラチン1.2g/i,粒子サイズ約3μの不定型な
SiOzマット剤40■/rd,メタノールシリカ0.
1 g/td,及び、塗布助剤として下記構造式で示さ
れるフッ素界面活性剤C m R .S O X N
C H * C O O KI C!H. とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布した.この感材をAとする。
sNa So.eこの乳剤aにヒドラ
ジン化合物(1−15)と造核促進剤(II−8)と5
−メチルベンズトリアゾールを各々2 X 1 0−’
モル/Agモル、8.6×101モル/Agモル、にな
る様に添加しその他ポリエチルアクリレート、硬膜剤と
して1.3−ジビニルースルホニル−2−プロパノール
ヲ加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に銀4
.0g/nfになる様に塗布した。この上に保護層とし
てゼラチン1.2g/i,粒子サイズ約3μの不定型な
SiOzマット剤40■/rd,メタノールシリカ0.
1 g/td,及び、塗布助剤として下記構造式で示さ
れるフッ素界面活性剤C m R .S O X N
C H * C O O KI C!H. とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布した.この感材をAとする。
この感材Aを次に示す方法にて、コピードソトを評価し
た. またバック層は付きに示す処方にて塗布した。
た. またバック層は付きに示す処方にて塗布した。
(バック層処方)
ゼラチン 4 g / mマン
ト剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子径3.0〜4
.0μ) l O■/d ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/一 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム 40■/dフッ素系界面活性剤 C s R + q S O t N C H t C
O O KCズHフ 5 mg / rd ゼラチン硬化剤 染料(a) CH3 C C=CH C C
CII3l 1 1 [ SO,κ 303K 染料(b) Czlls00C C=CII−CB=CH
C C COOCzl{sl
1 l 染料 染料 染料 染料 染料 (al,[b) (a) (b) (C) 110■/d 、及び(e)の混合物 50■/rrl 100■/d 50aw/i S03K S03K 染料(c) CHz C C=CII−CB=CH−CH=
CH C C CII31I
II SO,κ SO,κ 乳剤aを調製する際、K.lrC6,溶液をハロゲン溶
液に添加せずに、コントロールダブルジ工’7トによる
添加が開始されてから、5分、20分、31分、40分
、50分、55分の時点で、ゼラチン溶液中に直接添加
して(lr塩は、aと同様5×lO−?モル/Agモル
になる様にした.また硝tII銀溶液の添加速度は一定
にした.〉、]r塩の粒子内の分布をかえた乳剤b,c
Sd、e、『、gを調製した.又1r塩を除去した乳剤
も調製しこれをhとした。
ト剤 ポリメチルメタアクリレート(粒子径3.0〜4
.0μ) l O■/d ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/一 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム 40■/dフッ素系界面活性剤 C s R + q S O t N C H t C
O O KCズHフ 5 mg / rd ゼラチン硬化剤 染料(a) CH3 C C=CH C C
CII3l 1 1 [ SO,κ 303K 染料(b) Czlls00C C=CII−CB=CH
C C COOCzl{sl
1 l 染料 染料 染料 染料 染料 (al,[b) (a) (b) (C) 110■/d 、及び(e)の混合物 50■/rrl 100■/d 50aw/i S03K S03K 染料(c) CHz C C=CII−CB=CH−CH=
CH C C CII31I
II SO,κ SO,κ 乳剤aを調製する際、K.lrC6,溶液をハロゲン溶
液に添加せずに、コントロールダブルジ工’7トによる
添加が開始されてから、5分、20分、31分、40分
、50分、55分の時点で、ゼラチン溶液中に直接添加
して(lr塩は、aと同様5×lO−?モル/Agモル
になる様にした.また硝tII銀溶液の添加速度は一定
にした.〉、]r塩の粒子内の分布をかえた乳剤b,c
Sd、e、『、gを調製した.又1r塩を除去した乳剤
も調製しこれをhとした。
これらの乳剤(b−h)を用い、感材Aを作製するのと
同様にして、感材B − Hを作製した.さらに、乳剤
aを11&!する際、ハロゲン溶液を均等に2つ(X−
1,とX−2)に分けX−2にK,Ir(1!,を加え
た. A g N Os溶液とハロゲン溶液を60分間
コントロールダブルジェット法で添加する際、ハロゲン
溶液は前半の30分間にX−1を用い、後半の30分間
はX−2を用いた.この様にして乳剤aと同様、粒子サ
イズ0.32μの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数
12%、沃化ffili0.5モル%、ヨード分布均一
〉で、lr塩が全A g N O s当り5X10−’
モルあり、粒子のシェル側に分布した乳剤を調製した。
同様にして、感材B − Hを作製した.さらに、乳剤
aを11&!する際、ハロゲン溶液を均等に2つ(X−
1,とX−2)に分けX−2にK,Ir(1!,を加え
た. A g N Os溶液とハロゲン溶液を60分間
コントロールダブルジェット法で添加する際、ハロゲン
溶液は前半の30分間にX−1を用い、後半の30分間
はX−2を用いた.この様にして乳剤aと同様、粒子サ
イズ0.32μの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数
12%、沃化ffili0.5モル%、ヨード分布均一
〉で、lr塩が全A g N O s当り5X10−’
モルあり、粒子のシェル側に分布した乳剤を調製した。
この乳剤をiとする.
この乳剤iを用いて、感材Aを作製するのと同様にして
感材■を作製した. (ステト方法) 2 コビードットの評価 fl) 原稿の作威 富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナーSCA
NART3 0及び専用ペーパーsp− i o Qw
pを使って網バーセントi段階的に変えたステップウエ
ッジを作戒した。
感材■を作製した. (ステト方法) 2 コビードットの評価 fl) 原稿の作威 富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナーSCA
NART3 0及び専用ペーパーsp− i o Qw
pを使って網バーセントi段階的に変えたステップウエ
ッジを作戒した。
露光時のスクリーンvA数は150線/インチで行なっ
た。
た。
(2)撮影
大日本スクリーン■社製、製版カメラC690 (オー
トコンパ二カ、キセノン光[)に上記原稿及び試料を所
定の位置に七ノトしXeランプを反射原稿に照射し撮影
したウこの時露光時間は、原稿上でステップウユッジの
80%の部分がサンプル上で10%となる様に調整した
。
トコンパ二カ、キセノン光[)に上記原稿及び試料を所
定の位置に七ノトしXeランプを反射原稿に照射し撮影
したウこの時露光時間は、原稿上でステップウユッジの
80%の部分がサンプル上で10%となる様に調整した
。
{3} 評価
(2)に記載のごとく、露光時間を調節して小点側の綱
バーセントが10%のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(lit点のつぶれにくさ)を5悪いものを1として
5段階の相対評価をおこなった. 3.感度の評価 コビードソト感度 コピードット原稿のステソブウエッジの80%の部分が
サンプル上で10%となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感度を100とした時の相対値で表わす. 尚、現像液としては下記に示す現像液を、定着液として
同GRF−1を用い、冨士写真フイルム株式会社製自動
現像機FG−660Fを用いて現像を38℃30″の条
件で処理した. 現像液 ハイドロキノン 54g4−メチ
ル−4−ヒドロキシ メチルーl−フユニル−3 −ビラゾリドン 0.42g亜硫酸カリ
ウム 90gエチレンジアミン四酢
酸二ナ トリウム 2.8g臭化カリウ
ム 5g2−メルカブトベン
ツイξダ ゾールー5−スルホン酸 0.5gホウ酸
Log( K O Hを加えてp
H10.6に合せる)!{!Oを加えて
11実施例2 乳剤iを調製する際、■『塩の量を、下表の様にかえ、
感材八と同様に感材J−Mを作製し、実施例lと同様に
評価した。感材H,Iは実施例1の結果をもちいた. 表−2 事件の表示 平成 年特願第/40/j/号 発明の名称 ハロゲン化銀患光材料 補正をする者 事件との関係
バーセントが10%のサンプルのシャドウ部の階調再現
性(lit点のつぶれにくさ)を5悪いものを1として
5段階の相対評価をおこなった. 3.感度の評価 コビードソト感度 コピードット原稿のステソブウエッジの80%の部分が
サンプル上で10%となる時の露光時間を求め、比較サ
ンプル■の感度を100とした時の相対値で表わす. 尚、現像液としては下記に示す現像液を、定着液として
同GRF−1を用い、冨士写真フイルム株式会社製自動
現像機FG−660Fを用いて現像を38℃30″の条
件で処理した. 現像液 ハイドロキノン 54g4−メチ
ル−4−ヒドロキシ メチルーl−フユニル−3 −ビラゾリドン 0.42g亜硫酸カリ
ウム 90gエチレンジアミン四酢
酸二ナ トリウム 2.8g臭化カリウ
ム 5g2−メルカブトベン
ツイξダ ゾールー5−スルホン酸 0.5gホウ酸
Log( K O Hを加えてp
H10.6に合せる)!{!Oを加えて
11実施例2 乳剤iを調製する際、■『塩の量を、下表の様にかえ、
感材八と同様に感材J−Mを作製し、実施例lと同様に
評価した。感材H,Iは実施例1の結果をもちいた. 表−2 事件の表示 平成 年特願第/40/j/号 発明の名称 ハロゲン化銀患光材料 補正をする者 事件との関係
Claims (1)
- 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有し
、該乳剤層または、その他の親水性コロイド層にヒドラ
ジン誘導体を有するネガ型ハロゲン化銀感光材料におい
て、該ハロゲン化銀が、最終到達平均粒径の少なくとも
80%が形成された後に水溶性イリジウム塩を全ハロゲ
ン化銀1モル当り、10^−^5〜10^−^3モルの
量存在させて、粒子を成長させたハロゲン化銀粒子から
なることを特徴とするハロゲン化銀感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16015189A JPH0325431A (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | ハロゲン化銀感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16015189A JPH0325431A (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | ハロゲン化銀感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0325431A true JPH0325431A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15708979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16015189A Pending JPH0325431A (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | ハロゲン化銀感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0325431A (ja) |
-
1989
- 1989-06-22 JP JP16015189A patent/JPH0325431A/ja active Pending
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