JPH02102207A - ポリアセチレンフィルムの製造方法 - Google Patents
ポリアセチレンフィルムの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、高導電性を示すポリアセチレンの製造方法に
関するものである。本発明の製造方法によって得られる
ポリアセチレンは、電池材料、電気部品その他の電子材
料の用途に広く用いられる。
関するものである。本発明の製造方法によって得られる
ポリアセチレンは、電池材料、電気部品その他の電子材
料の用途に広く用いられる。
[従来の技術]
ポリアセチレンの合成法は古くから検討されているが、
白州らによるチーグラー・ナツタ系触媒を用いた方法が
最も一般的な方法として知られている。[例えばJ、
Polym、 Sc i、 Polym、 Ed、 、
12.11 (1974)、1 、特公昭59−51
904号公報においては.チーグラー・ナッタ系触媒を
有機溶媒中、20℃〜100℃で熱処理(以下「エージ
ング」と呼ぶ〉し、その触媒を用いて重合した後、ヨウ
素ドープすることにより、2 x 103 s/cmの
電導度を有するポリアセチレンを合成する方法が示され
ている。
白州らによるチーグラー・ナツタ系触媒を用いた方法が
最も一般的な方法として知られている。[例えばJ、
Polym、 Sc i、 Polym、 Ed、 、
12.11 (1974)、1 、特公昭59−51
904号公報においては.チーグラー・ナッタ系触媒を
有機溶媒中、20℃〜100℃で熱処理(以下「エージ
ング」と呼ぶ〉し、その触媒を用いて重合した後、ヨウ
素ドープすることにより、2 x 103 s/cmの
電導度を有するポリアセチレンを合成する方法が示され
ている。
また[5ynthetic Metals、17,24
1(1987) ]において、液晶溶媒中でチーグラー
・ナツタ系触媒を用いて重合し、ヨウ素ドープすること
により、4゜8 x 103 s/cmの電導度をもつ
ポリアセチレンを得る方法も知られている。
1(1987) ]において、液晶溶媒中でチーグラー
・ナツタ系触媒を用いて重合し、ヨウ素ドープすること
により、4゜8 x 103 s/cmの電導度をもつ
ポリアセチレンを得る方法も知られている。
さらに、シリコーン溶媒中でチーグラー・ナツタ系触媒
を120℃で熱処理し、この触媒溶液を用いて重合した
後、ヨウ素ドープすることによって2 X 104 s
/cmの電導度を有するポリアセチレンを合成する方法
も報告されている[5ynthet 1cHetalS
、22.1(1987)、] 。この方法において、重
合直前に、さらにBuLiなどの還元剤を添加すると、
ヨウ素ドープ後、1 x 105 S/cmという高導
電性が得られる。
を120℃で熱処理し、この触媒溶液を用いて重合した
後、ヨウ素ドープすることによって2 X 104 s
/cmの電導度を有するポリアセチレンを合成する方法
も報告されている[5ynthet 1cHetalS
、22.1(1987)、] 。この方法において、重
合直前に、さらにBuLiなどの還元剤を添加すると、
ヨウ素ドープ後、1 x 105 S/cmという高導
電性が得られる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、有機溶媒中、液晶溶媒中あるいはシリコ
ーンオイル中で、チーグラーナツタ系触媒を用いたかか
る従来技術においては、高、いもので2 X 104
S/cmとその導電性は満足できるものではなかっな。
ーンオイル中で、チーグラーナツタ系触媒を用いたかか
る従来技術においては、高、いもので2 X 104
S/cmとその導電性は満足できるものではなかっな。
またシリコーン溶媒を用いて、さらに重合直前に、Bu
Liなどの還元剤を添加するかかる従来技術においては
、導電性はI X 105 S/cmと高いものではあ
るが、BULiなどの還元剤を添加するプロセスが必要
であった。
Liなどの還元剤を添加するかかる従来技術においては
、導電性はI X 105 S/cmと高いものではあ
るが、BULiなどの還元剤を添加するプロセスが必要
であった。
本発明は、BuLiなどの還元剤を用いることなく、金
属並の導電性を発現することができるポリアセチレンフ
ィルムの製造方法を提供することを目的とする。
属並の導電性を発現することができるポリアセチレンフ
ィルムの製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するなめに、本発明は下記の構成を有す
る。
る。
「 ポリアセチレンフィルムの製造方法において、イ.
チーグラー・ナッタ系触媒を、有機溶媒中、150℃以
上で加熱した後、冷却処理を行い、口0次いで、該触媒
の中で1μmを越える粒径を有するものを除去すること
により、精製された触媒媒体とし、 ハ、該触媒媒体にアセチレンを導入することにより重合
し、 ニ.さらに、延伸、ドープ処理を施す ことを特徴とするポリアセチレンフィルムの製造方法。
チーグラー・ナッタ系触媒を、有機溶媒中、150℃以
上で加熱した後、冷却処理を行い、口0次いで、該触媒
の中で1μmを越える粒径を有するものを除去すること
により、精製された触媒媒体とし、 ハ、該触媒媒体にアセチレンを導入することにより重合
し、 ニ.さらに、延伸、ドープ処理を施す ことを特徴とするポリアセチレンフィルムの製造方法。
」
本発明で言う有機溶媒とは.チーグラー・ナッタ系触媒
を溶解する、飽和炭化水素、芳香族炭化水素あるいは有
機ケイ素化合物であって、かつその沸点が150〜30
0℃の範囲にある化合物を言う。このような溶媒の具体
例として、飽和炭化水素としては流動パラフィン、ヘキ
サデカン、デカリン、デカン、テトラデカン、テトラリ
ン、インデン、アイソファーM(飽和脂肪族炭化水素、
エクソンケミカル社製)などが、また、芳香族炭化水素
としては、シクロヘキシルベンゼン、1,1−フェニル
エタン、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、ジ
ペンテン、1,2−ジメチルナフタレン、1,6−ジメ
チルナフタレン、1,4−ジメチルナフタレン、3,3
°−ジメチルビフェニル、ジメトオキシベンゼン、1,
2,3.4−テトラメチルベンゼン、1゜2、3.5−
テトラメチルベンゼン、1−メチルナフタレンなどが挙
げられ、さらにまた、本発明においては、−78℃〜5
0℃の範囲内にネマチック相を示す液晶が好ましく用い
られる。具体的にはp−アルコキシベンジリデン−p−
アルキルアニリン系、叶アルコキシフェニルシクロヘキ
サン系が、触媒活性を損わない液晶溶媒として好ましく
用いられる。また、有機ケイ素化合物としては、ジメチ
ルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル
などが挙げられる。これらは通常単独で用いられるが、
2種以上混合して用いることもできる。
を溶解する、飽和炭化水素、芳香族炭化水素あるいは有
機ケイ素化合物であって、かつその沸点が150〜30
0℃の範囲にある化合物を言う。このような溶媒の具体
例として、飽和炭化水素としては流動パラフィン、ヘキ
サデカン、デカリン、デカン、テトラデカン、テトラリ
ン、インデン、アイソファーM(飽和脂肪族炭化水素、
エクソンケミカル社製)などが、また、芳香族炭化水素
としては、シクロヘキシルベンゼン、1,1−フェニル
エタン、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、ジ
ペンテン、1,2−ジメチルナフタレン、1,6−ジメ
チルナフタレン、1,4−ジメチルナフタレン、3,3
°−ジメチルビフェニル、ジメトオキシベンゼン、1,
2,3.4−テトラメチルベンゼン、1゜2、3.5−
テトラメチルベンゼン、1−メチルナフタレンなどが挙
げられ、さらにまた、本発明においては、−78℃〜5
0℃の範囲内にネマチック相を示す液晶が好ましく用い
られる。具体的にはp−アルコキシベンジリデン−p−
アルキルアニリン系、叶アルコキシフェニルシクロヘキ
サン系が、触媒活性を損わない液晶溶媒として好ましく
用いられる。また、有機ケイ素化合物としては、ジメチ
ルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル
などが挙げられる。これらは通常単独で用いられるが、
2種以上混合して用いることもできる。
本発明に用いられるチーグラー・ナツタ系触媒は、二元
系触媒であり、有機金属化合物と遷移金属化合物とが組
み合わされたものである。有機金属化合物の具体例とし
ては、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロライド、エチルアルミニウムジクロライド、トリメ
チルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、
メチルアルミニウムジクロライド、トリブチルアルミニ
ウム、ジブチルアルミニウムクロライド、ブチルアルミ
ニウムジクロライド、トリエチルホウ素、ジエチルホウ
素クロライド、エチルホウ素ジクロライドなとであり、
これらの有機金属化合物を単独で、あるいは2種以上混
合して用いることもできる。また、遷移金属とは、チタ
ニウム、ジルコニウム、バナジウム、セリウム、ネオジ
ウム、ニオブ、タンタルなどであり、遷移金属化合物の
具体側としては、テトラアルキルオキサイドチタニウム
、テトラアルキルオキサイドチタニウム、トリアルキル
オキサイドネオジウム、ジアセチルアセトネートバナジ
ウム、トリアセチルアセトネトチタニウム、トリアセチ
ルアセ1〜ネート鉄、トリアセチルアセトネートクロム
、三塩化チタン、四塩化チタン、三塩化ニッケル、三塩
化鉄、五塩化ニオブ、五塩化モリブデン、五塩化タンタ
ルなどが挙げられる。これらの触媒系の中でアルキルア
ルミニウム化合物とチタン化合物との組合せが好ましく
、その中て゛もトリエチルアルミニウムーテトラブトキ
サイドチタニウム系がより好ましい。
系触媒であり、有機金属化合物と遷移金属化合物とが組
み合わされたものである。有機金属化合物の具体例とし
ては、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロライド、エチルアルミニウムジクロライド、トリメ
チルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、
メチルアルミニウムジクロライド、トリブチルアルミニ
ウム、ジブチルアルミニウムクロライド、ブチルアルミ
ニウムジクロライド、トリエチルホウ素、ジエチルホウ
素クロライド、エチルホウ素ジクロライドなとであり、
これらの有機金属化合物を単独で、あるいは2種以上混
合して用いることもできる。また、遷移金属とは、チタ
ニウム、ジルコニウム、バナジウム、セリウム、ネオジ
ウム、ニオブ、タンタルなどであり、遷移金属化合物の
具体側としては、テトラアルキルオキサイドチタニウム
、テトラアルキルオキサイドチタニウム、トリアルキル
オキサイドネオジウム、ジアセチルアセトネートバナジ
ウム、トリアセチルアセトネトチタニウム、トリアセチ
ルアセ1〜ネート鉄、トリアセチルアセトネートクロム
、三塩化チタン、四塩化チタン、三塩化ニッケル、三塩
化鉄、五塩化ニオブ、五塩化モリブデン、五塩化タンタ
ルなどが挙げられる。これらの触媒系の中でアルキルア
ルミニウム化合物とチタン化合物との組合せが好ましく
、その中て゛もトリエチルアルミニウムーテトラブトキ
サイドチタニウム系がより好ましい。
触媒濃度については、遷移金属濃度が0.05〜1.4
モル/aであることが良質のフィルムとするなめには好
ましく、また、遷移金属化合物に対する有機金属化合物
のモル比が1〜5の範囲になるよう調整することが好ま
しい。
モル/aであることが良質のフィルムとするなめには好
ましく、また、遷移金属化合物に対する有機金属化合物
のモル比が1〜5の範囲になるよう調整することが好ま
しい。
前記の重合溶媒に、前記触媒を溶解させることにより触
媒溶液とし、該触媒溶液をアルゴンガス中、あるいは減
圧下にて150℃以上で熱処理する。150℃未満にお
いては、本発明の目的とする高導電性のポリアセチレン
フィルムを得ることはできない。また、熱処理温度が高
すぎると、触媒が分解する場合があり、加熱処理の上限
は、260℃以下であることが好ましい。また、反応時
間は、20〜120分の範囲が好ましく、反応後、少な
くとも50℃以下、好ましくは室温まで冷却する。
媒溶液とし、該触媒溶液をアルゴンガス中、あるいは減
圧下にて150℃以上で熱処理する。150℃未満にお
いては、本発明の目的とする高導電性のポリアセチレン
フィルムを得ることはできない。また、熱処理温度が高
すぎると、触媒が分解する場合があり、加熱処理の上限
は、260℃以下であることが好ましい。また、反応時
間は、20〜120分の範囲が好ましく、反応後、少な
くとも50℃以下、好ましくは室温まで冷却する。
上記加熱・冷却処理のエージングは、2回以上繰り返し
行うことが、導電性向上の点で好ましく、特に2〜4回
繰り返すことが好ましい。
行うことが、導電性向上の点で好ましく、特に2〜4回
繰り返すことが好ましい。
上記触媒を重合溶媒に溶解した際には、触媒はほぼ均一
に溶解した状態にあるが、上述の加熱処理を行った後は
、触媒が会合するため懸濁液あるいは粗粒子分散液とな
ることが認められる。これらの粒子状分散体は、ポリア
セチレンの重合時、重合体中に包含されて配向性を低下
させ、かつ重合体中に欠陥を生じさせる原因となる。そ
こで、本発明では、上述の触媒微粒子の中で、1.0μ
mを越える粒径を有するものを除去する工程を必須要件
とする。さらに、0.5μmを越えるものを除去すると
より効果的である。またここで、粒径とは、触媒微粒子
の最高径を意味する。
に溶解した状態にあるが、上述の加熱処理を行った後は
、触媒が会合するため懸濁液あるいは粗粒子分散液とな
ることが認められる。これらの粒子状分散体は、ポリア
セチレンの重合時、重合体中に包含されて配向性を低下
させ、かつ重合体中に欠陥を生じさせる原因となる。そ
こで、本発明では、上述の触媒微粒子の中で、1.0μ
mを越える粒径を有するものを除去する工程を必須要件
とする。さらに、0.5μmを越えるものを除去すると
より効果的である。またここで、粒径とは、触媒微粒子
の最高径を意味する。
精製は、アセチレン重合活性を保持するために、アルゴ
ンあるいは窒素などの不活性ガス雰囲気中にて行う。精
製方法としては、−過あるいは遠心分離などが挙げられ
る。具体的な濾過方法の一例としては、メンブレンフィ
ルター(P紙)を、ポリエチレン、ナイロン、ポリプロ
ピレン、変性アクリル樹脂またはテフロンなどで被覆し
たもの(シリンジフィルター)を、シリンジ(注射器)
に取付け、シリンジの加圧を利用し、触媒媒体を押し出
して濾過する方法が挙げられる。加圧は、数ko/−〜
10ko/CXKが好ましい。
ンあるいは窒素などの不活性ガス雰囲気中にて行う。精
製方法としては、−過あるいは遠心分離などが挙げられ
る。具体的な濾過方法の一例としては、メンブレンフィ
ルター(P紙)を、ポリエチレン、ナイロン、ポリプロ
ピレン、変性アクリル樹脂またはテフロンなどで被覆し
たもの(シリンジフィルター)を、シリンジ(注射器)
に取付け、シリンジの加圧を利用し、触媒媒体を押し出
して濾過する方法が挙げられる。加圧は、数ko/−〜
10ko/CXKが好ましい。
メンブレンフィルターの細孔径は、1.0μm以下であ
るが、また0、2μm以上であることが好ましい。0.
2μm未満では、濾過速度が遅くなる傾向にあり、さら
に濾過圧が高くなり、濾過が困難になる場合がある。
るが、また0、2μm以上であることが好ましい。0.
2μm未満では、濾過速度が遅くなる傾向にあり、さら
に濾過圧が高くなり、濾過が困難になる場合がある。
メンブレンフィルターの材質としては、セルロースアセ
テート、ナイロンおよびテフロンなどが挙げられるが、
触媒媒体に全く溶解しない点からテフロンが最も好まし
い。
テート、ナイロンおよびテフロンなどが挙げられるが、
触媒媒体に全く溶解しない点からテフロンが最も好まし
い。
本発明の導電性ポリアセチレンフィルムの製造手順の一
例としては、まず、有機溶媒にチーグラー・ナツタ触媒
を溶解し、これを加熱・冷却処理することにより熟成し
、さらに1μmを越える該触媒を除去した後、精製され
た触媒媒体を重合容器の壁面あるいは触媒と反応しない
固体(例えばガラス、フィルム、金属、織物、皮革など
が挙げられ、特に基板によって保持されているものが好
ましい)の表面に塗布し、触媒媒体の液膜を作り、アセ
チレンを導入する方法が挙げられる。このようにして触
媒媒体の表面、器壁、基板上にポリアセチレンフィルム
が得られる。また、該触媒媒体を激しく撹拌しながら重
合した場合は、黒褐色粉末状のポリアセチレン重合体が
得られる。
例としては、まず、有機溶媒にチーグラー・ナツタ触媒
を溶解し、これを加熱・冷却処理することにより熟成し
、さらに1μmを越える該触媒を除去した後、精製され
た触媒媒体を重合容器の壁面あるいは触媒と反応しない
固体(例えばガラス、フィルム、金属、織物、皮革など
が挙げられ、特に基板によって保持されているものが好
ましい)の表面に塗布し、触媒媒体の液膜を作り、アセ
チレンを導入する方法が挙げられる。このようにして触
媒媒体の表面、器壁、基板上にポリアセチレンフィルム
が得られる。また、該触媒媒体を激しく撹拌しながら重
合した場合は、黒褐色粉末状のポリアセチレン重合体が
得られる。
上記アセチレンの重合は、−78〜50℃の任意の温度
で重合可能である。−78℃付近の低温ではやや反応速
度が遅くなるが、弾性に富み、延伸可能なシス型ポリア
セチレンが生成し、高温側ではトランス型を含むポリア
セチレンが生成する。
で重合可能である。−78℃付近の低温ではやや反応速
度が遅くなるが、弾性に富み、延伸可能なシス型ポリア
セチレンが生成し、高温側ではトランス型を含むポリア
セチレンが生成する。
まな、導入するアセチレンモノマーについては高導電性
ポリアセチレンを得るなめに、超高純度アセチレンガス
(99,9999VOI%以−F、高圧ガス工業■)を
用い、これを30%1〜リエチルアルミニウム流動パラ
フイン溶液に通気して、不純物である酸素、水分などを
極力除去し精製することが好ましい。導入するアセチレ
ンの圧力については100〜1 ]−40mm1−1g
の範囲が好ましい。
ポリアセチレンを得るなめに、超高純度アセチレンガス
(99,9999VOI%以−F、高圧ガス工業■)を
用い、これを30%1〜リエチルアルミニウム流動パラ
フイン溶液に通気して、不純物である酸素、水分などを
極力除去し精製することが好ましい。導入するアセチレ
ンの圧力については100〜1 ]−40mm1−1g
の範囲が好ましい。
重合時間については、目的とするポリアセチレンフィル
ムの膜厚、触媒濃度あるいはアセチレンモノマーの圧力
などにより異なるなめ、特に限定されないが通常2〜2
4時間である。
ムの膜厚、触媒濃度あるいはアセチレンモノマーの圧力
などにより異なるなめ、特に限定されないが通常2〜2
4時間である。
本発明においては、以上により得られたポリアセチレン
フィルムを、さらに延伸し、次いでヨウ素あるいは塩化
アルミニウムなどによりドープ処理を施すことにより、
目的とする高い導電性を有するフィルムとすることがで
きる。
フィルムを、さらに延伸し、次いでヨウ素あるいは塩化
アルミニウムなどによりドープ処理を施すことにより、
目的とする高い導電性を有するフィルムとすることがで
きる。
[実施例]
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例1
アルゴン雰囲気下で内容積600 mlのガラス製反応
容器にデカリン(C1o ■1B) 13mlをとり、
攪拌しながら9mlのトリエチルアルミニウム((02
H5) 3AQ)と11m1のテトラブ■〜キサイドチ
タニウム(n−C4t(g O) 4 T+を加える。
容器にデカリン(C1o ■1B) 13mlをとり、
攪拌しながら9mlのトリエチルアルミニウム((02
H5) 3AQ)と11m1のテトラブ■〜キサイドチ
タニウム(n−C4t(g O) 4 T+を加える。
室温にて30分間放置した後、該触媒溶液を真空ポンプ
で吸引排気しながら、オイルバスで約120℃まで徐々
に加熱する。次に反応容器をアルゴン雰囲気にもどし、
500 ml/minのアルゴンを通気しながら常圧下
で200℃まで触媒媒体を加熱・還流する。200℃で
2時間加熱熟成(エージング)したのち、冷水浴を用い
て室温まで急冷する。
で吸引排気しながら、オイルバスで約120℃まで徐々
に加熱する。次に反応容器をアルゴン雰囲気にもどし、
500 ml/minのアルゴンを通気しながら常圧下
で200℃まで触媒媒体を加熱・還流する。200℃で
2時間加熱熟成(エージング)したのち、冷水浴を用い
て室温まで急冷する。
この触媒媒体を、アルゴン雰囲気中で細孔径02μmの
シリンジフィルター(Nalge Co、製、PT「E
、 No、 199−2020)を用いて、50m;の
シリンジにて触媒媒体を一過精製し、この炉液をアセチ
レン重合用触媒媒体とした。反応器を回転させながら該
触媒媒体を器壁に塗布し、これに30wt%トリエチル
アルミニウムー流動パラフィン溶液に通気してあらかじ
め精製しであるアセチレンモノマーを圧カフ60…mH
gで供給し、室温にて5時間重合を行った。重合開始後
、徐々に触媒媒体表面および容器内壁で重合が起り赤褐
色状の金属光沢のあるポリアセチレンフィルムが生成し
な。重合終了後、アルゴンガスに切替、器内をアルゴン
ガス雰囲気にしな。アルゴンガス雰囲気下で触媒媒体を
除いた後、あらかじめアルゴンガスで脱気しである50
0m1のトルエンを用いて数回洗浄をくり返した。
シリンジフィルター(Nalge Co、製、PT「E
、 No、 199−2020)を用いて、50m;の
シリンジにて触媒媒体を一過精製し、この炉液をアセチ
レン重合用触媒媒体とした。反応器を回転させながら該
触媒媒体を器壁に塗布し、これに30wt%トリエチル
アルミニウムー流動パラフィン溶液に通気してあらかじ
め精製しであるアセチレンモノマーを圧カフ60…mH
gで供給し、室温にて5時間重合を行った。重合開始後
、徐々に触媒媒体表面および容器内壁で重合が起り赤褐
色状の金属光沢のあるポリアセチレンフィルムが生成し
な。重合終了後、アルゴンガスに切替、器内をアルゴン
ガス雰囲気にしな。アルゴンガス雰囲気下で触媒媒体を
除いた後、あらかじめアルゴンガスで脱気しである50
0m1のトルエンを用いて数回洗浄をくり返した。
次いで10%HC[メタノール溶液500m1で数回洗
浄後、更にメタノールでフィルムの洗浄液のPHがほぼ
中性になるまで洗浄をくり返した。トルエン、1−0%
HCαメタノール、メタノールの順でフィルムを洗浄後
、アルゴン中室温にて乾燥した。得られたポリアセチレ
ンフィルムは厚さ0゜05mmの銀色金属光沢があり、
このフィルムは室温、空気中にて約6倍程度延伸可能で
あった。次いで、この6倍延伸したフィルムを0.05
mol/の塩化アルミニウム(A、CeO2)のニトロ
メタン溶液に浸漬させ、塩化アルミニウムをドーピング
した。このときの電導度を四端子法、室温にて測定しな
ところ、1.1x105S/cmであった。
浄後、更にメタノールでフィルムの洗浄液のPHがほぼ
中性になるまで洗浄をくり返した。トルエン、1−0%
HCαメタノール、メタノールの順でフィルムを洗浄後
、アルゴン中室温にて乾燥した。得られたポリアセチレ
ンフィルムは厚さ0゜05mmの銀色金属光沢があり、
このフィルムは室温、空気中にて約6倍程度延伸可能で
あった。次いで、この6倍延伸したフィルムを0.05
mol/の塩化アルミニウム(A、CeO2)のニトロ
メタン溶液に浸漬させ、塩化アルミニウムをドーピング
した。このときの電導度を四端子法、室温にて測定しな
ところ、1.1x105S/cmであった。
延伸倍率および塩化アルミニウムドーピング後の電導度
の測定結果を第1表に示す。
の測定結果を第1表に示す。
実施例2
実施例1において、エージング時間を30分にし、1度
エージングした後室温まで冷却し、これを再度200℃
まで加熱し、200℃で30分間エージングを行い、す
なわち、200℃、30分間加温した後、室温急冷する
処理を2回繰り返して重合用触媒を調製した。また、実
施例1の触媒媒体の)濾過精製のなめに用いたシリンジ
フィルターの細孔径を0.2μmから0.45μm(G
elman 5ciences Inc、製、 Nyl
on Acrodisc、No。
エージングした後室温まで冷却し、これを再度200℃
まで加熱し、200℃で30分間エージングを行い、す
なわち、200℃、30分間加温した後、室温急冷する
処理を2回繰り返して重合用触媒を調製した。また、実
施例1の触媒媒体の)濾過精製のなめに用いたシリンジ
フィルターの細孔径を0.2μmから0.45μm(G
elman 5ciences Inc、製、 Nyl
on Acrodisc、No。
25904FIT−NY)に変えた。その他は、実施例
1と同様の方法で重合および洗浄を行った。
1と同様の方法で重合および洗浄を行った。
得られたポリアセチレンフィルムは約6.2倍に延伸可
能であった。更にこの延伸したポリアセチレンを室温で
、ヨウ素蒸気と接触させ、ヨウ素をドーピングして、四
端子法により電導度を測定した。延伸器及びヨウ素ドー
ピング後の電導度の測定結果を第1表に示した。
能であった。更にこの延伸したポリアセチレンを室温で
、ヨウ素蒸気と接触させ、ヨウ素をドーピングして、四
端子法により電導度を測定した。延伸器及びヨウ素ドー
ピング後の電導度の測定結果を第1表に示した。
実施例3
実施例2の触媒エージング繰り返し回数を3回(ずなわ
ち、200°C130分間エージングした後急冷する処
理を3回)とした以外は、実施例2と全く同様の方法で
重合および洗浄を行った。得られたフィルムの延伸器お
よびヨウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に
示す。
ち、200°C130分間エージングした後急冷する処
理を3回)とした以外は、実施例2と全く同様の方法で
重合および洗浄を行った。得られたフィルムの延伸器お
よびヨウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に
示す。
実施例4
実施例2の触媒溶液のシ濾過精製のために用いたシリン
ジフィルターの細孔径を0.45μmから0 、2 μ
m (Nalge Co、製、 PTFE、No、19
9−2020)に変えた以外は実施例2と全く同様の方
法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行った。
ジフィルターの細孔径を0.45μmから0 、2 μ
m (Nalge Co、製、 PTFE、No、19
9−2020)に変えた以外は実施例2と全く同様の方
法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行った。
得られたポリアセチレンフィルムの延伸器およびヨウ素
ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
実施例5
実施例1の重合溶媒をデカリンからシリコーンオイル(
ポリジメチルシロキサン、信越化学工業(株)製、KF
96.30C3)に変えた以外は、実施例1と全く同様
の方法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行っ
た。得られたポリアセチレンフィルムの延伸器およびヨ
ウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
ポリジメチルシロキサン、信越化学工業(株)製、KF
96.30C3)に変えた以外は、実施例1と全く同様
の方法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行っ
た。得られたポリアセチレンフィルムの延伸器およびヨ
ウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
比較例1
触媒として、Ti(0−n−CeH4Cf−h) 2
(0−n−C4■9〉2、トリエチルアルミニウムをA
Q/Ti(モル比〉=4で使用し、溶媒としては、ヘキ
サンを用いた。この触媒溶液を沸点温度(68℃)で還
流冷却器を供えたフラスコ中で10時間エージングを行
った。この溶液を室温まで冷却した後、重合反応管内に
充填し、反応管を回転させながら、真空ポンプにて、触
媒溶液のヘキサンをゆっくりと蒸発させた。ヘキサンが
留去し、触媒の流動性が無くなったところで、反応管内
にアセチレンガスを導入し、反応管壁面上でポリアセチ
レンの合成を行った。合成後、ポリアセチレンフィルム
を取り出し、ヘキサン溶媒にて、洗浄を行った。このフ
ィルムを窒素ガス中で乾燥した後、延伸器を用いて延伸
することにより、約6倍延伸のポリアセチレンフィルム
を得ることができな。この延伸したポリアセチレンフィ
ルムにヨウ素をドープした後の電導度は、最高で約20
0 OS/cmであった。
(0−n−C4■9〉2、トリエチルアルミニウムをA
Q/Ti(モル比〉=4で使用し、溶媒としては、ヘキ
サンを用いた。この触媒溶液を沸点温度(68℃)で還
流冷却器を供えたフラスコ中で10時間エージングを行
った。この溶液を室温まで冷却した後、重合反応管内に
充填し、反応管を回転させながら、真空ポンプにて、触
媒溶液のヘキサンをゆっくりと蒸発させた。ヘキサンが
留去し、触媒の流動性が無くなったところで、反応管内
にアセチレンガスを導入し、反応管壁面上でポリアセチ
レンの合成を行った。合成後、ポリアセチレンフィルム
を取り出し、ヘキサン溶媒にて、洗浄を行った。このフ
ィルムを窒素ガス中で乾燥した後、延伸器を用いて延伸
することにより、約6倍延伸のポリアセチレンフィルム
を得ることができな。この延伸したポリアセチレンフィ
ルムにヨウ素をドープした後の電導度は、最高で約20
0 OS/cmであった。
得られたフィルムの延伸器およびヨウ素ドーピング後の
電導度の測定結果を第1表に示す。
電導度の測定結果を第1表に示す。
参考例1.2.3
実施例1のシリンジフィルターによる触媒媒体のシ濾過
精製を、全く行わなかった以外は、実施例1と同様の方
法で重合および洗浄を行った。得られた結果を第1表に
示す。(参考例1)参考例2、参考例3としては、それ
ぞれ実施例2、実施例3において、シリンジフィルター
による触媒媒体のシ濾過精製を、全く行わなかった以外
は同様の方法で重合および洗浄を行った。得られた結果
を第1表に示す。
精製を、全く行わなかった以外は、実施例1と同様の方
法で重合および洗浄を行った。得られた結果を第1表に
示す。(参考例1)参考例2、参考例3としては、それ
ぞれ実施例2、実施例3において、シリンジフィルター
による触媒媒体のシ濾過精製を、全く行わなかった以外
は同様の方法で重合および洗浄を行った。得られた結果
を第1表に示す。
「発明の効果」
本発明は、有機溶媒の加熱温度を150℃以上とした点
、また、熟成した触媒を精製した点に特徴を有し、金属
並の導電性を存するポリアセチレンフィルムを提供する
ことが可能となった。また、本発明においては、エージ
ングを複数回繰り返すことによって、エージング回数が
1度のものに比べ、より導電性の高いポリアセチレンフ
ィルムとすることができる。
、また、熟成した触媒を精製した点に特徴を有し、金属
並の導電性を存するポリアセチレンフィルムを提供する
ことが可能となった。また、本発明においては、エージ
ングを複数回繰り返すことによって、エージング回数が
1度のものに比べ、より導電性の高いポリアセチレンフ
ィルムとすることができる。
これらの重合体は半導体として、光センサ−、ガスセン
サー材料、蓄電池電極材料、また導電体として電線、発
熱体、抵抗素子、電磁遮蔽板、制電材料、軽量導電材料
として利用される可能性が大きく、将来の有望な工業材
料となることが期待される。
サー材料、蓄電池電極材料、また導電体として電線、発
熱体、抵抗素子、電磁遮蔽板、制電材料、軽量導電材料
として利用される可能性が大きく、将来の有望な工業材
料となることが期待される。
本発明において提案される導電性ポリアセチレンは基板
上に直接フィルム状にするため、基質との密着性に優れ
、また、本発明は基材に触媒を塗布して合成するため、
繊維及び複雑な形態を有する基材などにも容易に均質な
導電性ポリアセチレ1つ ンフィルムを生成させることができる。
上に直接フィルム状にするため、基質との密着性に優れ
、また、本発明は基材に触媒を塗布して合成するため、
繊維及び複雑な形態を有する基材などにも容易に均質な
導電性ポリアセチレ1つ ンフィルムを生成させることができる。
Claims (3)
- (1)ポリアセチレンフィルムの製造方法において、 イ.チーグラー・ナッタ系触媒を、有機溶媒中、150
℃以上で加熱した後、冷却処理を行い、ロ.次いで、該
触媒の中で1μmを越える粒径を有するものを除去する
ことにより、精製された触媒媒体とし、 ハ.該触媒媒体にアセチレンを導入することにより重合
し、 ニ.さらに、延伸、ドープ処理を施す ことを特徴とするポリアセチレンフィルムの製造方法。 - (2)0.5μmを越える粒径を有する触媒を除去する
ことを特徴とする請求項(1)記載のポリアセチレンフ
ィルムの製造方法。 - (3)加熱した後、冷却する処理が、2〜4回繰り返し
なされることを特徴とする請求項(1)記載のポリアセ
チレンフィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25375288A JPH062782B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ポリアセチレンフィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25375288A JPH062782B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ポリアセチレンフィルムの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02102207A true JPH02102207A (ja) | 1990-04-13 |
JPH062782B2 JPH062782B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=17255650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25375288A Expired - Lifetime JPH062782B2 (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ポリアセチレンフィルムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH062782B2 (ja) |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP25375288A patent/JPH062782B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH062782B2 (ja) | 1994-01-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |