JPH02102207A - ポリアセチレンフィルムの製造方法 - Google Patents

ポリアセチレンフィルムの製造方法

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JPH02102207A
JPH02102207A JP25375288A JP25375288A JPH02102207A JP H02102207 A JPH02102207 A JP H02102207A JP 25375288 A JP25375288 A JP 25375288A JP 25375288 A JP25375288 A JP 25375288A JP H02102207 A JPH02102207 A JP H02102207A
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acetylene
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Akio Takahashi
昭夫 高橋
Jun Tsukamoto
遵 塚本
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、高導電性を示すポリアセチレンの製造方法に
関するものである。本発明の製造方法によって得られる
ポリアセチレンは、電池材料、電気部品その他の電子材
料の用途に広く用いられる。
[従来の技術] ポリアセチレンの合成法は古くから検討されているが、
白州らによるチーグラー・ナツタ系触媒を用いた方法が
最も一般的な方法として知られている。[例えばJ、 
Polym、 Sc i、 Polym、 Ed、 、
 12.11 (1974)、1 、特公昭59−51
904号公報においては.チーグラー・ナッタ系触媒を
有機溶媒中、20℃〜100℃で熱処理(以下「エージ
ング」と呼ぶ〉し、その触媒を用いて重合した後、ヨウ
素ドープすることにより、2 x 103 s/cmの
電導度を有するポリアセチレンを合成する方法が示され
ている。
また[5ynthetic Metals、17,24
1(1987) ]において、液晶溶媒中でチーグラー
・ナツタ系触媒を用いて重合し、ヨウ素ドープすること
により、4゜8 x 103 s/cmの電導度をもつ
ポリアセチレンを得る方法も知られている。
さらに、シリコーン溶媒中でチーグラー・ナツタ系触媒
を120℃で熱処理し、この触媒溶液を用いて重合した
後、ヨウ素ドープすることによって2 X 104 s
/cmの電導度を有するポリアセチレンを合成する方法
も報告されている[5ynthet 1cHetalS
、22.1(1987)、] 。この方法において、重
合直前に、さらにBuLiなどの還元剤を添加すると、
ヨウ素ドープ後、1 x 105 S/cmという高導
電性が得られる。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、有機溶媒中、液晶溶媒中あるいはシリコ
ーンオイル中で、チーグラーナツタ系触媒を用いたかか
る従来技術においては、高、いもので2 X 104 
S/cmとその導電性は満足できるものではなかっな。
またシリコーン溶媒を用いて、さらに重合直前に、Bu
Liなどの還元剤を添加するかかる従来技術においては
、導電性はI X 105 S/cmと高いものではあ
るが、BULiなどの還元剤を添加するプロセスが必要
であった。
本発明は、BuLiなどの還元剤を用いることなく、金
属並の導電性を発現することができるポリアセチレンフ
ィルムの製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するなめに、本発明は下記の構成を有す
る。
「 ポリアセチレンフィルムの製造方法において、イ.
チーグラー・ナッタ系触媒を、有機溶媒中、150℃以
上で加熱した後、冷却処理を行い、口0次いで、該触媒
の中で1μmを越える粒径を有するものを除去すること
により、精製された触媒媒体とし、 ハ、該触媒媒体にアセチレンを導入することにより重合
し、 ニ.さらに、延伸、ドープ処理を施す ことを特徴とするポリアセチレンフィルムの製造方法。
」 本発明で言う有機溶媒とは.チーグラー・ナッタ系触媒
を溶解する、飽和炭化水素、芳香族炭化水素あるいは有
機ケイ素化合物であって、かつその沸点が150〜30
0℃の範囲にある化合物を言う。このような溶媒の具体
例として、飽和炭化水素としては流動パラフィン、ヘキ
サデカン、デカリン、デカン、テトラデカン、テトラリ
ン、インデン、アイソファーM(飽和脂肪族炭化水素、
エクソンケミカル社製)などが、また、芳香族炭化水素
としては、シクロヘキシルベンゼン、1,1−フェニル
エタン、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、ジ
ペンテン、1,2−ジメチルナフタレン、1,6−ジメ
チルナフタレン、1,4−ジメチルナフタレン、3,3
°−ジメチルビフェニル、ジメトオキシベンゼン、1,
2,3.4−テトラメチルベンゼン、1゜2、3.5−
テトラメチルベンゼン、1−メチルナフタレンなどが挙
げられ、さらにまた、本発明においては、−78℃〜5
0℃の範囲内にネマチック相を示す液晶が好ましく用い
られる。具体的にはp−アルコキシベンジリデン−p−
アルキルアニリン系、叶アルコキシフェニルシクロヘキ
サン系が、触媒活性を損わない液晶溶媒として好ましく
用いられる。また、有機ケイ素化合物としては、ジメチ
ルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル
などが挙げられる。これらは通常単独で用いられるが、
2種以上混合して用いることもできる。
本発明に用いられるチーグラー・ナツタ系触媒は、二元
系触媒であり、有機金属化合物と遷移金属化合物とが組
み合わされたものである。有機金属化合物の具体例とし
ては、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロライド、エチルアルミニウムジクロライド、トリメ
チルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド、
メチルアルミニウムジクロライド、トリブチルアルミニ
ウム、ジブチルアルミニウムクロライド、ブチルアルミ
ニウムジクロライド、トリエチルホウ素、ジエチルホウ
素クロライド、エチルホウ素ジクロライドなとであり、
これらの有機金属化合物を単独で、あるいは2種以上混
合して用いることもできる。また、遷移金属とは、チタ
ニウム、ジルコニウム、バナジウム、セリウム、ネオジ
ウム、ニオブ、タンタルなどであり、遷移金属化合物の
具体側としては、テトラアルキルオキサイドチタニウム
、テトラアルキルオキサイドチタニウム、トリアルキル
オキサイドネオジウム、ジアセチルアセトネートバナジ
ウム、トリアセチルアセトネトチタニウム、トリアセチ
ルアセ1〜ネート鉄、トリアセチルアセトネートクロム
、三塩化チタン、四塩化チタン、三塩化ニッケル、三塩
化鉄、五塩化ニオブ、五塩化モリブデン、五塩化タンタ
ルなどが挙げられる。これらの触媒系の中でアルキルア
ルミニウム化合物とチタン化合物との組合せが好ましく
、その中て゛もトリエチルアルミニウムーテトラブトキ
サイドチタニウム系がより好ましい。
触媒濃度については、遷移金属濃度が0.05〜1.4
モル/aであることが良質のフィルムとするなめには好
ましく、また、遷移金属化合物に対する有機金属化合物
のモル比が1〜5の範囲になるよう調整することが好ま
しい。
前記の重合溶媒に、前記触媒を溶解させることにより触
媒溶液とし、該触媒溶液をアルゴンガス中、あるいは減
圧下にて150℃以上で熱処理する。150℃未満にお
いては、本発明の目的とする高導電性のポリアセチレン
フィルムを得ることはできない。また、熱処理温度が高
すぎると、触媒が分解する場合があり、加熱処理の上限
は、260℃以下であることが好ましい。また、反応時
間は、20〜120分の範囲が好ましく、反応後、少な
くとも50℃以下、好ましくは室温まで冷却する。
上記加熱・冷却処理のエージングは、2回以上繰り返し
行うことが、導電性向上の点で好ましく、特に2〜4回
繰り返すことが好ましい。
上記触媒を重合溶媒に溶解した際には、触媒はほぼ均一
に溶解した状態にあるが、上述の加熱処理を行った後は
、触媒が会合するため懸濁液あるいは粗粒子分散液とな
ることが認められる。これらの粒子状分散体は、ポリア
セチレンの重合時、重合体中に包含されて配向性を低下
させ、かつ重合体中に欠陥を生じさせる原因となる。そ
こで、本発明では、上述の触媒微粒子の中で、1.0μ
mを越える粒径を有するものを除去する工程を必須要件
とする。さらに、0.5μmを越えるものを除去すると
より効果的である。またここで、粒径とは、触媒微粒子
の最高径を意味する。
精製は、アセチレン重合活性を保持するために、アルゴ
ンあるいは窒素などの不活性ガス雰囲気中にて行う。精
製方法としては、−過あるいは遠心分離などが挙げられ
る。具体的な濾過方法の一例としては、メンブレンフィ
ルター(P紙)を、ポリエチレン、ナイロン、ポリプロ
ピレン、変性アクリル樹脂またはテフロンなどで被覆し
たもの(シリンジフィルター)を、シリンジ(注射器)
に取付け、シリンジの加圧を利用し、触媒媒体を押し出
して濾過する方法が挙げられる。加圧は、数ko/−〜
10ko/CXKが好ましい。
メンブレンフィルターの細孔径は、1.0μm以下であ
るが、また0、2μm以上であることが好ましい。0.
2μm未満では、濾過速度が遅くなる傾向にあり、さら
に濾過圧が高くなり、濾過が困難になる場合がある。
メンブレンフィルターの材質としては、セルロースアセ
テート、ナイロンおよびテフロンなどが挙げられるが、
触媒媒体に全く溶解しない点からテフロンが最も好まし
い。
本発明の導電性ポリアセチレンフィルムの製造手順の一
例としては、まず、有機溶媒にチーグラー・ナツタ触媒
を溶解し、これを加熱・冷却処理することにより熟成し
、さらに1μmを越える該触媒を除去した後、精製され
た触媒媒体を重合容器の壁面あるいは触媒と反応しない
固体(例えばガラス、フィルム、金属、織物、皮革など
が挙げられ、特に基板によって保持されているものが好
ましい)の表面に塗布し、触媒媒体の液膜を作り、アセ
チレンを導入する方法が挙げられる。このようにして触
媒媒体の表面、器壁、基板上にポリアセチレンフィルム
が得られる。また、該触媒媒体を激しく撹拌しながら重
合した場合は、黒褐色粉末状のポリアセチレン重合体が
得られる。
上記アセチレンの重合は、−78〜50℃の任意の温度
で重合可能である。−78℃付近の低温ではやや反応速
度が遅くなるが、弾性に富み、延伸可能なシス型ポリア
セチレンが生成し、高温側ではトランス型を含むポリア
セチレンが生成する。
まな、導入するアセチレンモノマーについては高導電性
ポリアセチレンを得るなめに、超高純度アセチレンガス
(99,9999VOI%以−F、高圧ガス工業■)を
用い、これを30%1〜リエチルアルミニウム流動パラ
フイン溶液に通気して、不純物である酸素、水分などを
極力除去し精製することが好ましい。導入するアセチレ
ンの圧力については100〜1 ]−40mm1−1g
の範囲が好ましい。
重合時間については、目的とするポリアセチレンフィル
ムの膜厚、触媒濃度あるいはアセチレンモノマーの圧力
などにより異なるなめ、特に限定されないが通常2〜2
4時間である。
本発明においては、以上により得られたポリアセチレン
フィルムを、さらに延伸し、次いでヨウ素あるいは塩化
アルミニウムなどによりドープ処理を施すことにより、
目的とする高い導電性を有するフィルムとすることがで
きる。
[実施例] 以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例1 アルゴン雰囲気下で内容積600 mlのガラス製反応
容器にデカリン(C1o ■1B) 13mlをとり、
攪拌しながら9mlのトリエチルアルミニウム((02
H5) 3AQ)と11m1のテトラブ■〜キサイドチ
タニウム(n−C4t(g O) 4 T+を加える。
室温にて30分間放置した後、該触媒溶液を真空ポンプ
で吸引排気しながら、オイルバスで約120℃まで徐々
に加熱する。次に反応容器をアルゴン雰囲気にもどし、
500 ml/minのアルゴンを通気しながら常圧下
で200℃まで触媒媒体を加熱・還流する。200℃で
2時間加熱熟成(エージング)したのち、冷水浴を用い
て室温まで急冷する。
この触媒媒体を、アルゴン雰囲気中で細孔径02μmの
シリンジフィルター(Nalge Co、製、PT「E
、 No、 199−2020)を用いて、50m;の
シリンジにて触媒媒体を一過精製し、この炉液をアセチ
レン重合用触媒媒体とした。反応器を回転させながら該
触媒媒体を器壁に塗布し、これに30wt%トリエチル
アルミニウムー流動パラフィン溶液に通気してあらかじ
め精製しであるアセチレンモノマーを圧カフ60…mH
gで供給し、室温にて5時間重合を行った。重合開始後
、徐々に触媒媒体表面および容器内壁で重合が起り赤褐
色状の金属光沢のあるポリアセチレンフィルムが生成し
な。重合終了後、アルゴンガスに切替、器内をアルゴン
ガス雰囲気にしな。アルゴンガス雰囲気下で触媒媒体を
除いた後、あらかじめアルゴンガスで脱気しである50
0m1のトルエンを用いて数回洗浄をくり返した。
次いで10%HC[メタノール溶液500m1で数回洗
浄後、更にメタノールでフィルムの洗浄液のPHがほぼ
中性になるまで洗浄をくり返した。トルエン、1−0%
HCαメタノール、メタノールの順でフィルムを洗浄後
、アルゴン中室温にて乾燥した。得られたポリアセチレ
ンフィルムは厚さ0゜05mmの銀色金属光沢があり、
このフィルムは室温、空気中にて約6倍程度延伸可能で
あった。次いで、この6倍延伸したフィルムを0.05
mol/の塩化アルミニウム(A、CeO2)のニトロ
メタン溶液に浸漬させ、塩化アルミニウムをドーピング
した。このときの電導度を四端子法、室温にて測定しな
ところ、1.1x105S/cmであった。
延伸倍率および塩化アルミニウムドーピング後の電導度
の測定結果を第1表に示す。
実施例2 実施例1において、エージング時間を30分にし、1度
エージングした後室温まで冷却し、これを再度200℃
まで加熱し、200℃で30分間エージングを行い、す
なわち、200℃、30分間加温した後、室温急冷する
処理を2回繰り返して重合用触媒を調製した。また、実
施例1の触媒媒体の)濾過精製のなめに用いたシリンジ
フィルターの細孔径を0.2μmから0.45μm(G
elman 5ciences Inc、製、 Nyl
on Acrodisc、No。
25904FIT−NY)に変えた。その他は、実施例
1と同様の方法で重合および洗浄を行った。
得られたポリアセチレンフィルムは約6.2倍に延伸可
能であった。更にこの延伸したポリアセチレンを室温で
、ヨウ素蒸気と接触させ、ヨウ素をドーピングして、四
端子法により電導度を測定した。延伸器及びヨウ素ドー
ピング後の電導度の測定結果を第1表に示した。
実施例3 実施例2の触媒エージング繰り返し回数を3回(ずなわ
ち、200°C130分間エージングした後急冷する処
理を3回)とした以外は、実施例2と全く同様の方法で
重合および洗浄を行った。得られたフィルムの延伸器お
よびヨウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に
示す。
実施例4 実施例2の触媒溶液のシ濾過精製のために用いたシリン
ジフィルターの細孔径を0.45μmから0 、2 μ
m (Nalge Co、製、 PTFE、No、19
9−2020)に変えた以外は実施例2と全く同様の方
法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行った。
得られたポリアセチレンフィルムの延伸器およびヨウ素
ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
実施例5 実施例1の重合溶媒をデカリンからシリコーンオイル(
ポリジメチルシロキサン、信越化学工業(株)製、KF
96.30C3)に変えた以外は、実施例1と全く同様
の方法でアセチレンの重合およびフィルムの洗浄を行っ
た。得られたポリアセチレンフィルムの延伸器およびヨ
ウ素ドーピング後の電導度の測定結果を第1表に示す。
比較例1 触媒として、Ti(0−n−CeH4Cf−h) 2 
(0−n−C4■9〉2、トリエチルアルミニウムをA
Q/Ti(モル比〉=4で使用し、溶媒としては、ヘキ
サンを用いた。この触媒溶液を沸点温度(68℃)で還
流冷却器を供えたフラスコ中で10時間エージングを行
った。この溶液を室温まで冷却した後、重合反応管内に
充填し、反応管を回転させながら、真空ポンプにて、触
媒溶液のヘキサンをゆっくりと蒸発させた。ヘキサンが
留去し、触媒の流動性が無くなったところで、反応管内
にアセチレンガスを導入し、反応管壁面上でポリアセチ
レンの合成を行った。合成後、ポリアセチレンフィルム
を取り出し、ヘキサン溶媒にて、洗浄を行った。このフ
ィルムを窒素ガス中で乾燥した後、延伸器を用いて延伸
することにより、約6倍延伸のポリアセチレンフィルム
を得ることができな。この延伸したポリアセチレンフィ
ルムにヨウ素をドープした後の電導度は、最高で約20
0 OS/cmであった。
得られたフィルムの延伸器およびヨウ素ドーピング後の
電導度の測定結果を第1表に示す。
参考例1.2.3 実施例1のシリンジフィルターによる触媒媒体のシ濾過
精製を、全く行わなかった以外は、実施例1と同様の方
法で重合および洗浄を行った。得られた結果を第1表に
示す。(参考例1)参考例2、参考例3としては、それ
ぞれ実施例2、実施例3において、シリンジフィルター
による触媒媒体のシ濾過精製を、全く行わなかった以外
は同様の方法で重合および洗浄を行った。得られた結果
を第1表に示す。
「発明の効果」 本発明は、有機溶媒の加熱温度を150℃以上とした点
、また、熟成した触媒を精製した点に特徴を有し、金属
並の導電性を存するポリアセチレンフィルムを提供する
ことが可能となった。また、本発明においては、エージ
ングを複数回繰り返すことによって、エージング回数が
1度のものに比べ、より導電性の高いポリアセチレンフ
ィルムとすることができる。
これらの重合体は半導体として、光センサ−、ガスセン
サー材料、蓄電池電極材料、また導電体として電線、発
熱体、抵抗素子、電磁遮蔽板、制電材料、軽量導電材料
として利用される可能性が大きく、将来の有望な工業材
料となることが期待される。
本発明において提案される導電性ポリアセチレンは基板
上に直接フィルム状にするため、基質との密着性に優れ
、また、本発明は基材に触媒を塗布して合成するため、
繊維及び複雑な形態を有する基材などにも容易に均質な
導電性ポリアセチレ1つ ンフィルムを生成させることができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ポリアセチレンフィルムの製造方法において、 イ.チーグラー・ナッタ系触媒を、有機溶媒中、150
    ℃以上で加熱した後、冷却処理を行い、ロ.次いで、該
    触媒の中で1μmを越える粒径を有するものを除去する
    ことにより、精製された触媒媒体とし、 ハ.該触媒媒体にアセチレンを導入することにより重合
    し、 ニ.さらに、延伸、ドープ処理を施す ことを特徴とするポリアセチレンフィルムの製造方法。
  2. (2)0.5μmを越える粒径を有する触媒を除去する
    ことを特徴とする請求項(1)記載のポリアセチレンフ
    ィルムの製造方法。
  3. (3)加熱した後、冷却する処理が、2〜4回繰り返し
    なされることを特徴とする請求項(1)記載のポリアセ
    チレンフィルムの製造方法。
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