JPH02101608A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH02101608A JPH02101608A JP25317988A JP25317988A JPH02101608A JP H02101608 A JPH02101608 A JP H02101608A JP 25317988 A JP25317988 A JP 25317988A JP 25317988 A JP25317988 A JP 25317988A JP H02101608 A JPH02101608 A JP H02101608A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、分割された磁性体ブロックをガラスによって
溶着することにより磁気ヘッドチップを形成する磁気ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
溶着することにより磁気ヘッドチップを形成する磁気ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
従来のフェライトヘッドの製造方法を第3図に基づいて
説明する。
説明する。
まず、第3図(a)に示すように、高透磁率を有する酸
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック21aに外
部巻線溝22a、内部巻線溝23及び補強溝24a並び
に複数のトラック溝25a・・・を形成する。補強溝2
4aは、後の工程でガラス27aを充填するための溝で
ある。複数のトラック溝25a・・・は、それぞれの間
に所定のトラック幅を得るための溝である。次に、第3
図(b)に示すように、この磁性体ブロック21aのギ
ャップ対向面26a側にガラス27aをモールドする。
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック21aに外
部巻線溝22a、内部巻線溝23及び補強溝24a並び
に複数のトラック溝25a・・・を形成する。補強溝2
4aは、後の工程でガラス27aを充填するための溝で
ある。複数のトラック溝25a・・・は、それぞれの間
に所定のトラック幅を得るための溝である。次に、第3
図(b)に示すように、この磁性体ブロック21aのギ
ャップ対向面26a側にガラス27aをモールドする。
そして、第3図(C)に示すように、このギャップ対向
面26aを鏡面状に研磨して、さらに内部巻線溝23内
に充填されたガラス27aの一部を切削削除する。また
、この後、ギャップ対向面26a上には、図示しないS
in、等の非磁性体薄膜をスパッタリング法等により約
0.15μmの厚さに形成する。この非磁性体薄膜は、
磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成することになる
。
面26aを鏡面状に研磨して、さらに内部巻線溝23内
に充填されたガラス27aの一部を切削削除する。また
、この後、ギャップ対向面26a上には、図示しないS
in、等の非磁性体薄膜をスパッタリング法等により約
0.15μmの厚さに形成する。この非磁性体薄膜は、
磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成することになる
。
このようにして加工された磁性体ブロック21aは、第
3図(d)に示すように、他方の磁性体ブロック21b
とギャップ対向面26a・26b同士を当接させた状態
で加熱する。他方の磁性体ブロック21bは、一方の磁
性体ブロック21aと同じ素材に同様の加工が施されガ
ラス27bをモールドされたものであるが、内部巻線溝
23は形成されず、また鏡面状に研磨したギャップ対向
面26b上にも非磁性体薄膜が形成されない。このよう
な磁性体ブロック21bを磁性体ブロック21aと当接
させて加熱すると、ガラス27(27a・27b)が溶
着して互いに接合される。そして、テープ摺動面28を
所定の曲率に加工して、第3図(d)に示す1点鎖線線
に沿って切断分割すると、第3図(e)に示すような磁
気ヘッドチップを複数個得ることができる。
3図(d)に示すように、他方の磁性体ブロック21b
とギャップ対向面26a・26b同士を当接させた状態
で加熱する。他方の磁性体ブロック21bは、一方の磁
性体ブロック21aと同じ素材に同様の加工が施されガ
ラス27bをモールドされたものであるが、内部巻線溝
23は形成されず、また鏡面状に研磨したギャップ対向
面26b上にも非磁性体薄膜が形成されない。このよう
な磁性体ブロック21bを磁性体ブロック21aと当接
させて加熱すると、ガラス27(27a・27b)が溶
着して互いに接合される。そして、テープ摺動面28を
所定の曲率に加工して、第3図(d)に示す1点鎖線線
に沿って切断分割すると、第3図(e)に示すような磁
気ヘッドチップを複数個得ることができる。
また、従来のMIGヘッドの製造方法を第4図に基づい
て説明する。なお、MIGヘッドは、高透磁率を有する
酸化物磁性材料ブロックの両ギャップ対向面に高透磁率
及び高飽和磁束密度を有するセンダスト等の合金磁性薄
膜を平行に配置した磁気ヘッドである。
て説明する。なお、MIGヘッドは、高透磁率を有する
酸化物磁性材料ブロックの両ギャップ対向面に高透磁率
及び高飽和磁束密度を有するセンダスト等の合金磁性薄
膜を平行に配置した磁気ヘッドである。
まず、第4図(a)に示すように、高透磁率を有する酸
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック31aに外
部巻線溝32a、内部巻線溝33及び補強溝34aを形
成する。また、同じ酸化物磁性材料からなる他方の磁性
体ブロック31bには、第4図(b)に示すように、外
部巻線溝32b及び補強溝34bを形成する。
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック31aに外
部巻線溝32a、内部巻線溝33及び補強溝34aを形
成する。また、同じ酸化物磁性材料からなる他方の磁性
体ブロック31bには、第4図(b)に示すように、外
部巻線溝32b及び補強溝34bを形成する。
次に、第4図(c)(d)に示すように、両方の磁性体
ブロック31a・31bのギャップ対向面36a・36
b上を鏡面状に研磨し、それぞれ複数のトラック溝35
a・・・35b・・・を形成する。
ブロック31a・31bのギャップ対向面36a・36
b上を鏡面状に研磨し、それぞれ複数のトラック溝35
a・・・35b・・・を形成する。
そして、トラック溝35a・35bが形成されると、ギ
ャップ対向面36a・36b上の加工変質層をエツチン
グ除去した後に、第4図(e) (f)に示すように
、このギャップ対向面36a・36b上に高透磁率及び
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料からなる磁性体薄
膜39a・39bを形成する。また、一方の磁性体ブロ
ック31aにおける磁性体薄膜39a上には、図示しな
い非磁性体薄膜を約0.3μm形成する。
ャップ対向面36a・36b上の加工変質層をエツチン
グ除去した後に、第4図(e) (f)に示すように
、このギャップ対向面36a・36b上に高透磁率及び
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料からなる磁性体薄
膜39a・39bを形成する。また、一方の磁性体ブロ
ック31aにおける磁性体薄膜39a上には、図示しな
い非磁性体薄膜を約0.3μm形成する。
このようにして加工された磁性体ブロック31a・31
bは、第4図(g)に示すように、ギャップ対向面36
a・36b上の磁性体薄膜39a・39b同士を当接さ
せた状態で、内部巻線溝33内と補強溝34 (34a
・34b)内にそれぞれ1本ずつ棒状のガラス37・3
7を挿入する。
bは、第4図(g)に示すように、ギャップ対向面36
a・36b上の磁性体薄膜39a・39b同士を当接さ
せた状態で、内部巻線溝33内と補強溝34 (34a
・34b)内にそれぞれ1本ずつ棒状のガラス37・3
7を挿入する。
内部巻線溝33内に挿入するガラス37は、この内部巻
線溝33の溝幅よりも約1割程度径の小さなものを用い
る。そして、この状態で加熱を行うことにより、ガラス
37・37を溶融させ、磁性体ブロック3La・31b
を接合する。
線溝33の溝幅よりも約1割程度径の小さなものを用い
る。そして、この状態で加熱を行うことにより、ガラス
37・37を溶融させ、磁性体ブロック3La・31b
を接合する。
磁性体ブロック31a・31bが接合されると、第4図
(h)に示すように、テープ摺動面38を所定の曲率に
加工し、図示1点鎖線線に沿って切断分割することによ
り、第4図(i)に示すような磁気ヘッドチップを複数
個得ることができる。
(h)に示すように、テープ摺動面38を所定の曲率に
加工し、図示1点鎖線線に沿って切断分割することによ
り、第4図(i)に示すような磁気ヘッドチップを複数
個得ることができる。
ところが、上記フェライトヘッドの場合、ガラス27を
磁性体ブロック21a・21bにモールドする際と磁性
体ブロック21a・21b同士を溶着させる際とで、最
低2回の加熱工程を行うことになる。このため、従来の
フェライトヘッドの製造方法では、加熱によって磁性体
の特性が劣化すると共に、ガラス27の継ぎ目に気泡が
発生するという問題点が生じていた。しかも、溶着の際
の再加熱により、ガラス27の劣化や失透率の低下を生
じるという問題点も生じていた。
磁性体ブロック21a・21bにモールドする際と磁性
体ブロック21a・21b同士を溶着させる際とで、最
低2回の加熱工程を行うことになる。このため、従来の
フェライトヘッドの製造方法では、加熱によって磁性体
の特性が劣化すると共に、ガラス27の継ぎ目に気泡が
発生するという問題点が生じていた。しかも、溶着の際
の再加熱により、ガラス27の劣化や失透率の低下を生
じるという問題点も生じていた。
また、上記MIGヘッドの場合には、内部巻線溝33の
溝幅よりも1割程度径の小さい1本の棒状のガラス37
を加熱溶融させることにより、磁性体ブロック31a・
31bを接合することになる。ところが、合金磁性材料
からなる磁性体薄膜39a・39bの磁気特性を劣化さ
せないようにしようとすると、この加熱工程の温度が5
00°C付近までに制限される。しかし、500°C付
近の温度で溶着できるような低融点ガラスは、硬度が低
く耐摩耗性に劣っている。また、このため、可能な限り
融点の高いガラス37を用いることになるので、500
℃付近の温度では、溶融が不十分となって接合不良を生
じる場合が多くなる。従って、従来のMIGヘッドの製
造方法では、ガラス37部分の耐摩耗性が低くなり、ま
たこのガラス37による接合不良のために歩留まりが悪
化するという問題点を生じていた。
溝幅よりも1割程度径の小さい1本の棒状のガラス37
を加熱溶融させることにより、磁性体ブロック31a・
31bを接合することになる。ところが、合金磁性材料
からなる磁性体薄膜39a・39bの磁気特性を劣化さ
せないようにしようとすると、この加熱工程の温度が5
00°C付近までに制限される。しかし、500°C付
近の温度で溶着できるような低融点ガラスは、硬度が低
く耐摩耗性に劣っている。また、このため、可能な限り
融点の高いガラス37を用いることになるので、500
℃付近の温度では、溶融が不十分となって接合不良を生
じる場合が多くなる。従って、従来のMIGヘッドの製
造方法では、ガラス37部分の耐摩耗性が低くなり、ま
たこのガラス37による接合不良のために歩留まりが悪
化するという問題点を生じていた。
〔課題を解決するための手段]
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記課題を解決
するために、磁性体ブロックのギャップ対向面側同士を
当接させ、この間の溝内にガラスを配置して加熱するこ
とにより磁気ヘッドチップの接合を行う磁気ヘッドの製
造方法において、磁性体ブロックの間の溝内に棒状のガ
ラスを複数本配置して加熱溶融させることを特徴として
いる。
するために、磁性体ブロックのギャップ対向面側同士を
当接させ、この間の溝内にガラスを配置して加熱するこ
とにより磁気ヘッドチップの接合を行う磁気ヘッドの製
造方法において、磁性体ブロックの間の溝内に棒状のガ
ラスを複数本配置して加熱溶融させることを特徴として
いる。
所定の加工を終えた磁性体ブロックは、ギャップ対向面
同士を当接された状態で固定する。この際、ギャップ対
向面上に形成された溝が両磁性体ブロック間で間隙を構
成する。そして、この間隙を構成する溝内に棒状のガラ
スを複数本配置する。このガラスは、例えば内部巻線溝
の溝幅の3分の1〜5分の1程度の径のものが適当であ
る。また、本数は、内部巻線溝に空間が4分の1〜5分
の1程度残るような数が適当である。ただし、補強溝の
ように内部に巻線のための間隙を形成する必要のない部
分には、空間を残さないように詰め込む。
同士を当接された状態で固定する。この際、ギャップ対
向面上に形成された溝が両磁性体ブロック間で間隙を構
成する。そして、この間隙を構成する溝内に棒状のガラ
スを複数本配置する。このガラスは、例えば内部巻線溝
の溝幅の3分の1〜5分の1程度の径のものが適当であ
る。また、本数は、内部巻線溝に空間が4分の1〜5分
の1程度残るような数が適当である。ただし、補強溝の
ように内部に巻線のための間隙を形成する必要のない部
分には、空間を残さないように詰め込む。
上記の状態で加熱を行うと、棒状の各ガラスが溶融して
溝内に充填される。すると、磁性体ブロック同士が接合
され、必要に応じてこれを分割することにより磁気ヘッ
ドチップとなる。
溝内に充填される。すると、磁性体ブロック同士が接合
され、必要に応じてこれを分割することにより磁気ヘッ
ドチップとなる。
従って、フェライトヘッドを製造する場合には、ガラス
の加熱工程が1度で済むので、加熱によって磁性体の特
性が劣化したり、ガラスの継ぎ目に気泡が発生するのを
防止することができる。そして、再加熱を行わずに済む
ので、ガラスの劣化や失透率の低下という問題も生じな
い。
の加熱工程が1度で済むので、加熱によって磁性体の特
性が劣化したり、ガラスの継ぎ目に気泡が発生するのを
防止することができる。そして、再加熱を行わずに済む
ので、ガラスの劣化や失透率の低下という問題も生じな
い。
また、上記のように棒状の複数本のガラスを用いると、
加熱の際の熱が各ガラスの内部まで十分に伝わり溶融が
容易になる。従って、MIGヘッドを製造する場合には
、溶融温度の高い低融点ガラスを用いても、合金磁性材
料からなる磁性体薄膜の磁気特性を劣化させることなく
、このガラスを完全に溶融させることができる。このた
め、ガラス部分の耐摩耗性を向上させると共に、溶融が
不十分になることによる接合不良も防止することができ
る。
加熱の際の熱が各ガラスの内部まで十分に伝わり溶融が
容易になる。従って、MIGヘッドを製造する場合には
、溶融温度の高い低融点ガラスを用いても、合金磁性材
料からなる磁性体薄膜の磁気特性を劣化させることなく
、このガラスを完全に溶融させることができる。このた
め、ガラス部分の耐摩耗性を向上させると共に、溶融が
不十分になることによる接合不良も防止することができ
る。
〔実施例1]
本発明の一実施例を第1図に基づいて説明すれば、以下
の通りである。
の通りである。
本実施例は、フェライトヘッドの製造方法について示す
。
。
まず、第1図(a)に示すように、高透磁率を有する酸
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック1aに外部
巻線溝2a1内部巻線溝3及び補強溝4aを形成する。
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロック1aに外部
巻線溝2a1内部巻線溝3及び補強溝4aを形成する。
外部巻線溝2aは、磁気ヘッドチップに巻線を巻回する
ための外側の溝であり、磁性体ブロックlaにおけるギ
ャップ対向面6aの反対側の面に形成される。内部巻線
溝3も、磁気ヘッドチップに巻線を巻回するための溝で
あるが、この磁性体ブロック1aに巻回する巻線と後に
説明する磁性体ブロック1bに巻回する巻線とが共に使
用する内側の溝となるものであり、磁性体ブロック1a
におけるギャップ対向面6aに形成される。補強溝4a
は、後の工程でガラス7を充填し、磁性体ブロックla
・1bの接合を補強するための溝であり、内部巻線溝3
と同じギャップ対向面6aに形成される。これら外部巻
線溝2a、内部巻線溝3及び補強溝4aは、互いに平行
に形成される。
ための外側の溝であり、磁性体ブロックlaにおけるギ
ャップ対向面6aの反対側の面に形成される。内部巻線
溝3も、磁気ヘッドチップに巻線を巻回するための溝で
あるが、この磁性体ブロック1aに巻回する巻線と後に
説明する磁性体ブロック1bに巻回する巻線とが共に使
用する内側の溝となるものであり、磁性体ブロック1a
におけるギャップ対向面6aに形成される。補強溝4a
は、後の工程でガラス7を充填し、磁性体ブロックla
・1bの接合を補強するための溝であり、内部巻線溝3
と同じギャップ対向面6aに形成される。これら外部巻
線溝2a、内部巻線溝3及び補強溝4aは、互いに平行
に形成される。
次に、磁性体ブロック1aのギャップ対向面6a上を鏡
面状に研磨し、複数のトラック溝5a・・・を形成する
。複数のトラック溝5a・・・は、それぞれトラック溝
5a・5a間に所定のトラック幅を得るための溝であり
、内部巻線溝3からテープ摺動面8となる側面にかけて
、内部巻線溝3に直交する方向に形成される。そして、
トラック溝5a・・・が形成されると、ギャップ対向面
6a上に図示しないSin、等の非磁性体薄膜をスパッ
タリング法等により約0.2μm形成する。この非磁性
体薄膜は、磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成する
ことになる。
面状に研磨し、複数のトラック溝5a・・・を形成する
。複数のトラック溝5a・・・は、それぞれトラック溝
5a・5a間に所定のトラック幅を得るための溝であり
、内部巻線溝3からテープ摺動面8となる側面にかけて
、内部巻線溝3に直交する方向に形成される。そして、
トラック溝5a・・・が形成されると、ギャップ対向面
6a上に図示しないSin、等の非磁性体薄膜をスパッ
タリング法等により約0.2μm形成する。この非磁性
体薄膜は、磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成する
ことになる。
このようにして加工された一方の磁性体ブロック1aは
、第1図(b)に示すように、他方の磁性体ブロック1
bとギャップ対向面6a・6b同士を当接させ、この状
態で内部巻線溝3内と補強溝4(4a・4b)内にそれ
ぞれ複数本のガラス7・・・7・・・を挿入する。他方
の磁性体ブロック1bは、一方の磁性体ブロック1aと
同じ素材に同様の加工が施されたものであるが、内部巻
線溝3は形成されず、またギャップ対向面6b上にも非
磁性体薄膜が形成されない。複数本のガラス7・・・は
、それぞれ径がO,02μm程度の棒状であり、内部巻
線溝3には空間を5分の1程度残して詰め込まれ、補強
溝4には空間を残さず詰め込まれる。そして、この状態
で加熱を行うことにより、ガラス7・・・7・・・を熔
融させ、磁性体ブロック1a・1bを接合する。この際
、径の細い多数のガラス7・・・7・・・を用いるので
、熱が各ガラス7の内部まで十分に伝わり溶融が容易に
なる。
、第1図(b)に示すように、他方の磁性体ブロック1
bとギャップ対向面6a・6b同士を当接させ、この状
態で内部巻線溝3内と補強溝4(4a・4b)内にそれ
ぞれ複数本のガラス7・・・7・・・を挿入する。他方
の磁性体ブロック1bは、一方の磁性体ブロック1aと
同じ素材に同様の加工が施されたものであるが、内部巻
線溝3は形成されず、またギャップ対向面6b上にも非
磁性体薄膜が形成されない。複数本のガラス7・・・は
、それぞれ径がO,02μm程度の棒状であり、内部巻
線溝3には空間を5分の1程度残して詰め込まれ、補強
溝4には空間を残さず詰め込まれる。そして、この状態
で加熱を行うことにより、ガラス7・・・7・・・を熔
融させ、磁性体ブロック1a・1bを接合する。この際
、径の細い多数のガラス7・・・7・・・を用いるので
、熱が各ガラス7の内部まで十分に伝わり溶融が容易に
なる。
磁性体ブロック1a・1bが接合されると、テープ摺動
面8を所定の曲率に加工し所定位置で切断分割すること
により、第1図(C)に示すような磁気ヘッドチップを
複数個得ることができる。
面8を所定の曲率に加工し所定位置で切断分割すること
により、第1図(C)に示すような磁気ヘッドチップを
複数個得ることができる。
従って、本実施例によりフェライトヘッドを製造する場
合には、ガラス7・7の加熱工程が1度で済むので、加
熱によって磁性体ブロック1a・1bの磁気特性が劣化
したり、ガラス7・7の継ぎ目に気泡が発生するのを防
止することができる。そして、再加熱を行わずに済むの
で、ガラス7・7の劣化や失透率の低下という問題も生
じない。
合には、ガラス7・7の加熱工程が1度で済むので、加
熱によって磁性体ブロック1a・1bの磁気特性が劣化
したり、ガラス7・7の継ぎ目に気泡が発生するのを防
止することができる。そして、再加熱を行わずに済むの
で、ガラス7・7の劣化や失透率の低下という問題も生
じない。
〔実施例2〕
本発明の他の実施例を第2図に基づいて説明すれば、以
下の通りである。
下の通りである。
本実施例は、MIGヘッドの製造方法について示す。
まず、第2図(a)に示すように、高透磁率を有する酸
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロックllaに外
部巻線溝12a、内部巻線溝13及び補強溝14aを形
成する。また、同じ酸化物磁性材料からなる他方の磁性
体ブロックllbには、第2図(b)に示すように、外
部巻線溝12b及び補強溝14bを形成する。これらの
外部巻線溝12a・12bは、磁気ヘッドチップに巻線
を巻回するための外側の溝であり、磁性体ブロック11
a・llbにおけるギャップ対向面16a・16bの反
対側の面にそれぞれ形成される。磁性体ブロックlla
における内部巻線溝13も、磁気ヘッドチップに巻線を
巻回するための溝であるが、この磁性体ブロックlla
に巻回する巻線と他方の磁性体ブロックllbに巻回す
る巻線とが共に使用する内側の溝となるものであり、磁
性体ブロックllaにおけるギャップ対向面16aに形
成される。補強溝14a・14bは、後の工程でガラス
17を充填し、磁性体ブロックlla・11bの接合を
補強するための溝であり、内部巻線溝13と同じギャッ
プ対向面16aに形成される。これら外部巻線溝12a
・12b、内部巻線溝13及び補強溝14a・14bは
、それぞれ互いに平行に形成される。
化物磁性材料からなる一方の磁性体ブロックllaに外
部巻線溝12a、内部巻線溝13及び補強溝14aを形
成する。また、同じ酸化物磁性材料からなる他方の磁性
体ブロックllbには、第2図(b)に示すように、外
部巻線溝12b及び補強溝14bを形成する。これらの
外部巻線溝12a・12bは、磁気ヘッドチップに巻線
を巻回するための外側の溝であり、磁性体ブロック11
a・llbにおけるギャップ対向面16a・16bの反
対側の面にそれぞれ形成される。磁性体ブロックlla
における内部巻線溝13も、磁気ヘッドチップに巻線を
巻回するための溝であるが、この磁性体ブロックlla
に巻回する巻線と他方の磁性体ブロックllbに巻回す
る巻線とが共に使用する内側の溝となるものであり、磁
性体ブロックllaにおけるギャップ対向面16aに形
成される。補強溝14a・14bは、後の工程でガラス
17を充填し、磁性体ブロックlla・11bの接合を
補強するための溝であり、内部巻線溝13と同じギャッ
プ対向面16aに形成される。これら外部巻線溝12a
・12b、内部巻線溝13及び補強溝14a・14bは
、それぞれ互いに平行に形成される。
次に、第2図(c)(d)に示すように、両方の磁性体
ブロックlla・llbのギャップ対向面16a・16
b上を鏡面状に研磨し、それぞれ複数のトラック溝15
a・・・15b・・・を形成する。
ブロックlla・llbのギャップ対向面16a・16
b上を鏡面状に研磨し、それぞれ複数のトラック溝15
a・・・15b・・・を形成する。
複数のトラック溝15a・・・は、それぞれトラック溝
15a・15a間に所定のトラック幅を得るための溝で
あり、内部巻線溝13からテープ摺動面18となる側面
にかけて、内部巻線溝13に直交する方向に形成される
。また、トラック溝15b・・・も、それぞれトラック
溝15b・15b間に所定のトラック幅を得るための溝
であり、テープ摺動面18となる側面にかけて、磁性体
ブロック11aにおけるトラック溝15a・・・に対応
する位置に形成される。
15a・15a間に所定のトラック幅を得るための溝で
あり、内部巻線溝13からテープ摺動面18となる側面
にかけて、内部巻線溝13に直交する方向に形成される
。また、トラック溝15b・・・も、それぞれトラック
溝15b・15b間に所定のトラック幅を得るための溝
であり、テープ摺動面18となる側面にかけて、磁性体
ブロック11aにおけるトラック溝15a・・・に対応
する位置に形成される。
トラック溝15a・15bが形成されると、ギャップ対
向面16a・16b上の加工変質層をエツチング除去し
た後に、第2図(e)(f)に示すように、このギャッ
プ対向面16a・16b上に高透磁率及び高飽和磁束密
度を有する合金磁性材料からなる磁性体薄膜19a・1
9bをスパッタリング法等により形成する。また、一方
の磁性体ブロックllaにおける磁性体薄膜19a上に
は、図示しないSiO□等の非磁性体薄膜をスパッタリ
ング法等により約0.3μm形成する。この非磁性体薄
膜は、磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成すること
になる。
向面16a・16b上の加工変質層をエツチング除去し
た後に、第2図(e)(f)に示すように、このギャッ
プ対向面16a・16b上に高透磁率及び高飽和磁束密
度を有する合金磁性材料からなる磁性体薄膜19a・1
9bをスパッタリング法等により形成する。また、一方
の磁性体ブロックllaにおける磁性体薄膜19a上に
は、図示しないSiO□等の非磁性体薄膜をスパッタリ
ング法等により約0.3μm形成する。この非磁性体薄
膜は、磁気ヘッドチップの磁気ギャップを形成すること
になる。
このようにして加工された磁性体ブロック11a・ll
bは、第2図(g)に示すように、ギャップ対向面16
a・16b上の磁性体薄膜19a・19b同士を当接さ
せ、この状態で内部巻線溝13内と補強溝14 (14
a・14b)内にそれぞれ複数本のガラス17・・・・
17・・・を挿入する。
bは、第2図(g)に示すように、ギャップ対向面16
a・16b上の磁性体薄膜19a・19b同士を当接さ
せ、この状態で内部巻線溝13内と補強溝14 (14
a・14b)内にそれぞれ複数本のガラス17・・・・
17・・・を挿入する。
複数本のガラス17・・・は、それぞれ径が0.02μ
m程度の棒状であり、内部巻線溝13には空間を5分の
工程度残して詰め込まれ、補強溝14には空間を残さず
詰め込まれる。そして、この状態で加熱を行うことによ
り、ガラス17・・・17・・・を溶融させ、磁性体ブ
ロックlla・11bを接合する。この際、径の細い多
数のガラス17・・・17・・・を用いるので、熱が各
ガラス17の内部まで十分に伝わり溶融が容易になる。
m程度の棒状であり、内部巻線溝13には空間を5分の
工程度残して詰め込まれ、補強溝14には空間を残さず
詰め込まれる。そして、この状態で加熱を行うことによ
り、ガラス17・・・17・・・を溶融させ、磁性体ブ
ロックlla・11bを接合する。この際、径の細い多
数のガラス17・・・17・・・を用いるので、熱が各
ガラス17の内部まで十分に伝わり溶融が容易になる。
磁性体ブロックlla・llbが接合されると、第2図
(h)に示すように、テープ摺動面1日を所定の曲率に
加工し、図示1点鎖線線に沿って切断分割することによ
り、第2図(1)に示すような磁気ヘッドチップを複数
個得ることができる。
(h)に示すように、テープ摺動面1日を所定の曲率に
加工し、図示1点鎖線線に沿って切断分割することによ
り、第2図(1)に示すような磁気ヘッドチップを複数
個得ることができる。
従って、本実施例によってMl(1,ヘッドを製造すれ
ば、硬度は高いが溶融温度も高すぎるために従来使用す
ることができなかったガラス17を用いることができ、
合金磁性材料からなる磁性体薄膜19a・19bの磁気
特性を劣化させない程度の温度で、このガラス17を完
全に溶融させることができる。このため、磁気ヘッドチ
ップにおけるガラス17の耐摩耗性を向上させると共に
、溶融が不十分になることによる磁性体ブロック11a
・llbの接合不良も防止することができる。
ば、硬度は高いが溶融温度も高すぎるために従来使用す
ることができなかったガラス17を用いることができ、
合金磁性材料からなる磁性体薄膜19a・19bの磁気
特性を劣化させない程度の温度で、このガラス17を完
全に溶融させることができる。このため、磁気ヘッドチ
ップにおけるガラス17の耐摩耗性を向上させると共に
、溶融が不十分になることによる磁性体ブロック11a
・llbの接合不良も防止することができる。
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
磁性体ブロックのギャップ対向面側同士を当接させ、こ
の間の溝内にガラスを配置して加熱することにより磁気
ヘッドチップの接合を行う磁気ヘッドの製造方法におい
て、磁性体ブロックの間の溝内に棒状のガラスを複数本
配置して加熱溶融させる構成をなしている。
磁性体ブロックのギャップ対向面側同士を当接させ、こ
の間の溝内にガラスを配置して加熱することにより磁気
ヘッドチップの接合を行う磁気ヘッドの製造方法におい
て、磁性体ブロックの間の溝内に棒状のガラスを複数本
配置して加熱溶融させる構成をなしている。
これにより、フェライトヘッドを製造する場合には、ガ
ラスの加熱工程が1度で済むので、加熱によって磁性体
の特性が劣化したり、ガラスの継ぎ目に気泡が発生する
のを防止することができる。そして、再加熱を行わずに
済むので、ガラスの劣化や失透等の問題も生じなくなる
。
ラスの加熱工程が1度で済むので、加熱によって磁性体
の特性が劣化したり、ガラスの継ぎ目に気泡が発生する
のを防止することができる。そして、再加熱を行わずに
済むので、ガラスの劣化や失透等の問題も生じなくなる
。
また、MIGヘッドを製造する場合には、溶融温度の高
い低融点ガラスを用いても、加熱の際の熱が各ガラスの
内部まで十分に伝わるので、このガラスを完全に溶融さ
せることができる。
い低融点ガラスを用いても、加熱の際の熱が各ガラスの
内部まで十分に伝わるので、このガラスを完全に溶融さ
せることができる。
従って、本発明によれば、製造されるフェライトヘッド
の出力を高め、また、MIGヘッドの耐摩耗性向上と歩
留まり向上を図ることができるという効果を奏する。
の出力を高め、また、MIGヘッドの耐摩耗性向上と歩
留まり向上を図ることができるという効果を奏する。
第1図は本発明の一実施例を示すものであって、同図(
a)〜(C)はフェライトヘッドの各製造過程を示す斜
視図である。第2図は本発明の他の実施例を示すもので
あって、同図(a)〜(i)はMIGヘッドの各製造過
程を示す斜視図である。第3図は従来例を示すものであ
って、同図(a)〜(e)はフェライトヘッドの各製造
過程を示す斜視図である。第4図は他の従来例を示すも
のであって、同図(a)〜(i)はMIGヘッドの各製
造過程を示す斜視図である。 1a・1b・lla・llbは磁性体ブロック、3・1
3は内部巻線溝(溝)、4・14は補強溝(溝)、6a
−6b・16a16bはギャップ対向面、7・17はガ
ラスである。 特許出願人 シャープ 株式会社第 図(a) 第 図(c) 第2 図(b) 第 図(b) 第 図(a) 第 図(C) 第 図(9) 第 図(i) 第 図 (h) 第 図(a) 第 図(c) 第 図(e) 第 図(b) 宕 図(b) 、−26a 第 図(d) 第 図(a) 第 図(C) 第 図(9) 第4 図(i) 第 図(h)
a)〜(C)はフェライトヘッドの各製造過程を示す斜
視図である。第2図は本発明の他の実施例を示すもので
あって、同図(a)〜(i)はMIGヘッドの各製造過
程を示す斜視図である。第3図は従来例を示すものであ
って、同図(a)〜(e)はフェライトヘッドの各製造
過程を示す斜視図である。第4図は他の従来例を示すも
のであって、同図(a)〜(i)はMIGヘッドの各製
造過程を示す斜視図である。 1a・1b・lla・llbは磁性体ブロック、3・1
3は内部巻線溝(溝)、4・14は補強溝(溝)、6a
−6b・16a16bはギャップ対向面、7・17はガ
ラスである。 特許出願人 シャープ 株式会社第 図(a) 第 図(c) 第2 図(b) 第 図(b) 第 図(a) 第 図(C) 第 図(9) 第 図(i) 第 図 (h) 第 図(a) 第 図(c) 第 図(e) 第 図(b) 宕 図(b) 、−26a 第 図(d) 第 図(a) 第 図(C) 第 図(9) 第4 図(i) 第 図(h)
Claims (1)
- 1、磁性体ブロックのギャップ対向面側同士を当接させ
、この間の溝内にガラスを配置して加熱することにより
磁気ヘッドチップの接合を行う磁気ヘッドの製造方法に
おいて、磁性体ブロックの間の溝内に棒状のガラスを複
数本配置して加熱溶融させることを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25317988A JPH02101608A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25317988A JPH02101608A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02101608A true JPH02101608A (ja) | 1990-04-13 |
Family
ID=17247640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25317988A Pending JPH02101608A (ja) | 1988-10-07 | 1988-10-07 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02101608A (ja) |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP25317988A patent/JPH02101608A/ja active Pending
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