JPH04182904A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH04182904A JPH04182904A JP31351090A JP31351090A JPH04182904A JP H04182904 A JPH04182904 A JP H04182904A JP 31351090 A JP31351090 A JP 31351090A JP 31351090 A JP31351090 A JP 31351090A JP H04182904 A JPH04182904 A JP H04182904A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- gap
- magnetic
- track
- thermal expansion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 9
- 238000004804 winding Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオテープレコーダ(VTR)等の磁気記
録再生装置に用いられる磁気ヘッドの製造方法に関する
。
録再生装置に用いられる磁気ヘッドの製造方法に関する
。
従来の技術
磁気記録技術の高密度記録化、高画質化の要求にともな
い、磁気ヘッドとしても、狭トラック化、狭ギヤツプ化
技術が重要となってきている。
い、磁気ヘッドとしても、狭トラック化、狭ギヤツプ化
技術が重要となってきている。
また磁気ヘッドの製造方法としても、製造工程が少なく
、歩留まりの良い製造方法が望まれている。
、歩留まりの良い製造方法が望まれている。
第5図は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す。
まず単結晶フェライトなどのコアブロック2のギャップ
形成面4にモールド溝3を形成する(a)。
形成面4にモールド溝3を形成する(a)。
(b)。次にそのモールド溝3の中に融着ガラス1を高
温熱処理によりモールドする(C)。但し、融着ガラス
lの熱膨張係数はコアブロック2の熱膨張係数より大き
くなければならない。そしてギャップ形成面4を平滑に
研磨し、巻線溝6の形成されたCコア21と、巻線溝の
ないIコア22の一対のコアブロックを作成する(d)
。その後、各コアブロックのギャップ形成面4上に5i
02のギヤッブ材をスパッタリングにより形成し、Cコ
ア21と■コア22とをギャップ形成面で突き合わせ、
加圧熱処理することにより、モールド溝3の中に形成さ
れた融着ガラス1が再溶融し、Cコア21と1コア22
がギャップ面で接合する。そして所定のコア幅7で切断
する(e)ことにより第7図に示す磁気ヘッドが完成す
る。この製造方法は、精度の良い磁気ギャップ5を得る
ことのできる製造方法として従来からよく用いられてい
る方法である。
温熱処理によりモールドする(C)。但し、融着ガラス
lの熱膨張係数はコアブロック2の熱膨張係数より大き
くなければならない。そしてギャップ形成面4を平滑に
研磨し、巻線溝6の形成されたCコア21と、巻線溝の
ないIコア22の一対のコアブロックを作成する(d)
。その後、各コアブロックのギャップ形成面4上に5i
02のギヤッブ材をスパッタリングにより形成し、Cコ
ア21と■コア22とをギャップ形成面で突き合わせ、
加圧熱処理することにより、モールド溝3の中に形成さ
れた融着ガラス1が再溶融し、Cコア21と1コア22
がギャップ面で接合する。そして所定のコア幅7で切断
する(e)ことにより第7図に示す磁気ヘッドが完成す
る。この製造方法は、精度の良い磁気ギャップ5を得る
ことのできる製造方法として従来からよく用いられてい
る方法である。
次に、この製造方法により、精度の良い磁気ギャップが
得られるメカニズムを第6図を用いて説明する。まずコ
アブロック2のギャップ形成面4にモールド溝3を形成
する。モールド溝3の形成方法はトラック形成部8の輻
10が非トラック部9の輻11よりも小さくなるように
する(a)。次にそのモールド溝3の中に融着ガラス1
を高温熱処理によりモールドする。この時、融着ガラス
の熱膨張係数がコアブロックの熱膨張係数より大きいの
で、冷却過程において融着ガラスの方が磁性体ブロック
より収縮率が大きい。その結果、力Fがトラック形成部
8および非トラック部9に加わるが、トラック形成部8
の断面積が非トラック部9の断面積より小さいので、モ
ールド後はトラック形成部の方が非トラック部よりδt
だけより多く縮む(b)。次にギャップ形成面を平滑に
研磨する(C)。それから■コア、Cコアのキャップ形
成面を突き合わせて、加圧熱処理を施す。高温状態では
融着ガラスは溶融するのでトラック形成部および非トラ
ック部の応力は開放し、その結果、トラック形成部が非
トラック部に比べてδtだけ突出し、トラック形成部の
磁気ギャップ5が隙間な(突き合わされる(d)。冷却
過程では、トラック形成部の方が非トラック部に比べて
より多く縮むが、トラック形成部の磁気ギャップに隙間
ができることはなく精度の良い磁気ギャップが作成でき
る(e)。
得られるメカニズムを第6図を用いて説明する。まずコ
アブロック2のギャップ形成面4にモールド溝3を形成
する。モールド溝3の形成方法はトラック形成部8の輻
10が非トラック部9の輻11よりも小さくなるように
する(a)。次にそのモールド溝3の中に融着ガラス1
を高温熱処理によりモールドする。この時、融着ガラス
の熱膨張係数がコアブロックの熱膨張係数より大きいの
で、冷却過程において融着ガラスの方が磁性体ブロック
より収縮率が大きい。その結果、力Fがトラック形成部
8および非トラック部9に加わるが、トラック形成部8
の断面積が非トラック部9の断面積より小さいので、モ
ールド後はトラック形成部の方が非トラック部よりδt
だけより多く縮む(b)。次にギャップ形成面を平滑に
研磨する(C)。それから■コア、Cコアのキャップ形
成面を突き合わせて、加圧熱処理を施す。高温状態では
融着ガラスは溶融するのでトラック形成部および非トラ
ック部の応力は開放し、その結果、トラック形成部が非
トラック部に比べてδtだけ突出し、トラック形成部の
磁気ギャップ5が隙間な(突き合わされる(d)。冷却
過程では、トラック形成部の方が非トラック部に比べて
より多く縮むが、トラック形成部の磁気ギャップに隙間
ができることはなく精度の良い磁気ギャップが作成でき
る(e)。
発明が解決しようとする課題
しかし、この従来の製造方法は熱処理工程が2回あり、
製造工程が多いという課題があった。
製造工程が多いという課題があった。
本発明はこのような課題を解決し、かつ精度のよい磁気
ギャップを作成できる磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とする。
ギャップを作成できる磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とする。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために本発明の磁気ヘッドの製造方
法では、融着ガラスは熱膨張係数がコアブロックの熱膨
張係数より小さいものを使用している。
法では、融着ガラスは熱膨張係数がコアブロックの熱膨
張係数より小さいものを使用している。
作用
本発明の製造方法におけるギャップ形成のメカニズムを
第4図を用いて説明する。
第4図を用いて説明する。
まず磁性体ブロック2のギャップ形成面4にモールド溝
3を形成する。モールド溝の形成方法はトラック形成部
8の輻1oが非トラック部9の輻11よりも小さくなる
ようにする(a)。次にギャップ形成面を平滑に研磨し
、■コア、Cコアのギャップ形成面を突き合わせて、加
圧熱処理を施す。
3を形成する。モールド溝の形成方法はトラック形成部
8の輻1oが非トラック部9の輻11よりも小さくなる
ようにする(a)。次にギャップ形成面を平滑に研磨し
、■コア、Cコアのギャップ形成面を突き合わせて、加
圧熱処理を施す。
熱処理前はトラック形成部および非トラック部の磁気ギ
ャップ形成面は隙間なく突き合わされている(b)。高
温状態において、融着ガラスをモールド溝3に流し込む
。しかし、冷却過程では融着ガラスとコアブロックの熱
膨張係数の大小により、磁気ギャップ形成の様子が異な
る。
ャップ形成面は隙間なく突き合わされている(b)。高
温状態において、融着ガラスをモールド溝3に流し込む
。しかし、冷却過程では融着ガラスとコアブロックの熱
膨張係数の大小により、磁気ギャップ形成の様子が異な
る。
すなわち、融着ガラスの熱膨張係数がコアブロックの熱
膨張係数よりも大きい場合は、冷却過程において融着ガ
ラスの方がコアブロックより収縮率が大きい。またトラ
ック形成部は外力に対して変形しやすいので、ガラスと
同じように収縮すると考えられる。したがって、冷却過
程では(c)に示すような力Fがトラック部8に加わり
、トラック形成部8の磁気ギャップを広げようとする。
膨張係数よりも大きい場合は、冷却過程において融着ガ
ラスの方がコアブロックより収縮率が大きい。またトラ
ック形成部は外力に対して変形しやすいので、ガラスと
同じように収縮すると考えられる。したがって、冷却過
程では(c)に示すような力Fがトラック部8に加わり
、トラック形成部8の磁気ギャップを広げようとする。
その結果、トラック形成部8の磁気ギャップに隙間が生
じ、精度のよい磁気ギャップが形成されない。
じ、精度のよい磁気ギャップが形成されない。
しかし、逆にm着ガラスの熱膨張係数がコアブロックの
熱膨張係数よりも小さい場合は、冷却過程においてコア
ブロックの方が融着ガラスより収縮率が大きい。その結
果、冷却過程では(d)に示すような力Fがトラック部
8に加わり、トラック形成部の磁気ギャップを狭めよう
とする。したがって、トラック形成部の磁気ギャップに
隙間が生じず、精度のよい磁気ギャップが形成されるの
である。
熱膨張係数よりも小さい場合は、冷却過程においてコア
ブロックの方が融着ガラスより収縮率が大きい。その結
果、冷却過程では(d)に示すような力Fがトラック部
8に加わり、トラック形成部の磁気ギャップを狭めよう
とする。したがって、トラック形成部の磁気ギャップに
隙間が生じず、精度のよい磁気ギャップが形成されるの
である。
実施例
以下本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法について
図面を参照しながら説明する。まず第1図に示すように
、単結晶フェライトからなるコアブロック2のギャップ
形成面4に、トラ・ツク形成部8とトラック形成部8よ
りも広い輻の非トラ・ツク部9を交互に形成するように
モールド溝3を形成する。そして巻線溝6とバック溝6
゛を形成したCコア21と、■コア22の一対のコアプ
ロ・ツクを作成する(a) 、 (b)。次に各コアブ
ロックのギャップ形成面4を平滑に研磨し、ギャップ形
成面上にSighのギャップ材をスパッタリングにより
形成し、Cコア21と1コア22とをギャップ形成面で
突き合わせ、巻線溝6とバック溝゛に融着ガラスブロッ
ク1を配し、加圧熱処理を行う(C)。
図面を参照しながら説明する。まず第1図に示すように
、単結晶フェライトからなるコアブロック2のギャップ
形成面4に、トラ・ツク形成部8とトラック形成部8よ
りも広い輻の非トラ・ツク部9を交互に形成するように
モールド溝3を形成する。そして巻線溝6とバック溝6
゛を形成したCコア21と、■コア22の一対のコアプ
ロ・ツクを作成する(a) 、 (b)。次に各コアブ
ロックのギャップ形成面4を平滑に研磨し、ギャップ形
成面上にSighのギャップ材をスパッタリングにより
形成し、Cコア21と1コア22とをギャップ形成面で
突き合わせ、巻線溝6とバック溝゛に融着ガラスブロッ
ク1を配し、加圧熱処理を行う(C)。
高温時では、各溝中の融着ガラス1は溶融してモールド
溝3中に流れ込み充填され、Cコア21とIコア22が
ギャップ面で接合される。そして所定のコア輻7で切断
することによりω)、第7図に示す磁気ヘッドが完成す
る。本実施例では融着ガラスとして、軟化点が650℃
で熱膨張係数αが100xlO−7/℃のものを用いた
。またコアブロック材の単結晶フェライトとしては飽和
磁束密度Bs〜5600G、α〜120×10″″7/
℃のものを用いた。このようにして作成した磁気ヘッド
は、従来に比べ精度よい磁気ギャップが形成され、また
加工歩留まりも向上した結果が得られた。
溝3中に流れ込み充填され、Cコア21とIコア22が
ギャップ面で接合される。そして所定のコア輻7で切断
することによりω)、第7図に示す磁気ヘッドが完成す
る。本実施例では融着ガラスとして、軟化点が650℃
で熱膨張係数αが100xlO−7/℃のものを用いた
。またコアブロック材の単結晶フェライトとしては飽和
磁束密度Bs〜5600G、α〜120×10″″7/
℃のものを用いた。このようにして作成した磁気ヘッド
は、従来に比べ精度よい磁気ギャップが形成され、また
加工歩留まりも向上した結果が得られた。
本実施例では、第2図(a)に示すようなコアブロック
として単結晶フェライトを用いた例を示したが、他の実
施例として、第2図(b)に示すような磁気ギャップ面
にアモルファス合金などの金属磁性体12をスパッタリ
ングなどで形成したMIGタイプヘッドもある。
として単結晶フェライトを用いた例を示したが、他の実
施例として、第2図(b)に示すような磁気ギャップ面
にアモルファス合金などの金属磁性体12をスパッタリ
ングなどで形成したMIGタイプヘッドもある。
第2図(C)は本発明のさらに他の実施例で、12は金
属磁性体、13は非磁性物質で両者はほぼ等しい熱膨張
係数を持っており、融着ガラス1の熱膨張係数は先に説
明した実施例と同じく、それより小さい。当実施例に使
用するコアブロックを第3図に示す。この図は第1図(
C)に対応する図でそれと異なる所はコアブロックの構
成のみである。
属磁性体、13は非磁性物質で両者はほぼ等しい熱膨張
係数を持っており、融着ガラス1の熱膨張係数は先に説
明した実施例と同じく、それより小さい。当実施例に使
用するコアブロックを第3図に示す。この図は第1図(
C)に対応する図でそれと異なる所はコアブロックの構
成のみである。
すなわち金属磁性体12と非磁性物質13が積層されて
コアブロックを構成している。この構成のコアブロック
を使用して、製造法は第1図の場合と全(同じにして、
第2図(C)の磁気ヘッドが得られる。
コアブロックを構成している。この構成のコアブロック
を使用して、製造法は第1図の場合と全(同じにして、
第2図(C)の磁気ヘッドが得られる。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の磁気ヘッドの
製造方法においては、工程が少なく、かつ磁気ギャップ
精度が優れた磁気ヘッドの製造を可能とする。また本発
明により作成した磁気ヘッドは、ギャップ強度も強く、
磁気ヘッド加工時に生じていたギャップ割れ等の不良が
減少し、磁気ヘッド製造の歩留まりが飛躍的に向上する
ほか、ヘッドチップとしての信頼性を高めることができ
た。このことにより大幅なコストの削減が可能となった
。
製造方法においては、工程が少なく、かつ磁気ギャップ
精度が優れた磁気ヘッドの製造を可能とする。また本発
明により作成した磁気ヘッドは、ギャップ強度も強く、
磁気ヘッド加工時に生じていたギャップ割れ等の不良が
減少し、磁気ヘッド製造の歩留まりが飛躍的に向上する
ほか、ヘッドチップとしての信頼性を高めることができ
た。このことにより大幅なコストの削減が可能となった
。
第1図(a)〜(d)は本発明の実施例における磁気ヘ
ッドの製造方法を示す工程図、第2図(a) 、 (b
) 。 (C)は本実施例および他の実施例で製造された磁気ヘ
ッドの正面図、第3図は第2図(C)に示される磁気ヘ
ッドを製作する時に使用するコアブロックの斜視図、第
4図(a)〜(d)は本発明の製造方法におけるギャッ
プ形成メカニズムを説明する図、第5図(a)〜(e)
は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、第6図(
a)〜(e)は従来の製造方法におけるギャップ形成メ
カニズムを説明する図、第7図は磁気ヘッドの斜視図で
ある。 1・・・・・・融着ガラス、3・・・・・・モールド溝
(溝)、4・・・・・・磁気ギャップ形成面、5・・・
・・・磁気ギャップ、8・・・・・・トラック形成部、
9・・・・・・非トラック部、12・・・・・・金属磁
性体、13・・・・・・非磁性物質、代理人の氏名 弁
理士小蝦治明 ほか2名/−−一鯉@y55ス l2−−一 i a 署性悴 13−−−非al性鎧潰 第 2 図 / /″ ρ、−富 a aI 瞥 浄 第 3 図 /3 /2 / /
ッドの製造方法を示す工程図、第2図(a) 、 (b
) 。 (C)は本実施例および他の実施例で製造された磁気ヘ
ッドの正面図、第3図は第2図(C)に示される磁気ヘ
ッドを製作する時に使用するコアブロックの斜視図、第
4図(a)〜(d)は本発明の製造方法におけるギャッ
プ形成メカニズムを説明する図、第5図(a)〜(e)
は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図、第6図(
a)〜(e)は従来の製造方法におけるギャップ形成メ
カニズムを説明する図、第7図は磁気ヘッドの斜視図で
ある。 1・・・・・・融着ガラス、3・・・・・・モールド溝
(溝)、4・・・・・・磁気ギャップ形成面、5・・・
・・・磁気ギャップ、8・・・・・・トラック形成部、
9・・・・・・非トラック部、12・・・・・・金属磁
性体、13・・・・・・非磁性物質、代理人の氏名 弁
理士小蝦治明 ほか2名/−−一鯉@y55ス l2−−一 i a 署性悴 13−−−非al性鎧潰 第 2 図 / /″ ρ、−富 a aI 瞥 浄 第 3 図 /3 /2 / /
Claims (2)
- (1)一対のコアブロックの少なくとも一方の磁気ギャ
ップ形成面に、トラック形成部とそのトラック形成部よ
りも広い幅の非トラック部を交互に形成するように溝を
施し、前記一対のコアブロックを磁気ギャップ面でギャ
ップ材を介して、突き合わせ、コアブロックより熱膨張
係数の小さい融着ガラスを前記溝の中に流し込み、前記
一対のコアブロックを磁気ギャップ形成面で接合させる
磁気ヘッドの製造方法。 - (2)トラック形成部が、金属磁性体を非磁性物質で挟
持した構成であり、上記金属磁性体と非磁性物質の熱膨
張係数はほぼ等しく、かつ融着ガラスの熱膨張係数はそ
れより小さい請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31351090A JPH04182904A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31351090A JPH04182904A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04182904A true JPH04182904A (ja) | 1992-06-30 |
Family
ID=18042183
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31351090A Pending JPH04182904A (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04182904A (ja) |
-
1990
- 1990-11-19 JP JP31351090A patent/JPH04182904A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04182904A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JP2645868B2 (ja) | 浮動磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0227370Y2 (ja) | ||
JP2547808B2 (ja) | 磁気ヘッドチップの製造方法 | |
JPS60202506A (ja) | Vtr用磁気ヘツドの製造方法 | |
JPS62287406A (ja) | 複合磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
JP2550670B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH03222109A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS6095706A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPS60125909A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS62144305A (ja) | 複合磁性材料 | |
JPH03105708A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPS62185211A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH0258712A (ja) | 磁気ヘッドおよびこの磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH01204206A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH01317211A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH0191311A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS6214881B2 (ja) | ||
JPH05143923A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH1091910A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS6243249B2 (ja) | ||
JPH064815A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH06231440A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS58158022A (ja) | 磁気ヘツドコアの製造方法 | |
JPH067406B2 (ja) | 磁気ヘツド |