JPS6265214A - 磁気ヘツド用コアのギヤツプ部接合方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、オーディオやハードディスク用磁気ヘッド或
いはフロッピーディスク用のディジタル磁気ヘッド等の
製造方法に関し、１＃に１ｇｉ気ヘッドの製造段階の中
で、フェライトよりなる１対のコアを所定のギャップ長
？有して接合する方法に関する。

〔従来の技術及び発明が 解決しようとする問題点〕

近来、ｖＩｉ気記録の高密度化に伴い、磁気ヘッドの狭
トラツク狭ギャップ化が進んでいる。特に、フロッピー
ディスク用のディジタル磁気ヘッドにおいては、　９（
ＳＴＰＩ　（）ラック／インチ）。

１３５７ＰＩと高密度化することによって、そのギャッ
プ長公差も±０．２〜±０．５μの高精度のギャップを
有する磁気ヘッドを製造することが必要となってきてい
る。

この高精度のギャップを形成する場合、ガラス流し込み
方式では、ギャップ形成面にギャップ制御膜がない。そ
のため、ガラスポンディングの際、加圧と加熱によるフ
ェライトの熱変形及びフェライト素材の平面度平坦度が
制御できず、ギャップ長のバラツキが大となる欠点を有
している。

これに対して、フェライトからなる１対のコアのギャッ
プ形成面に、それぞれスパッタリングによりＳ工０２の
薄膜を、さらにその上にけい酸を主成分とするガラス膜
を形成し、アペックス部に補強用のガラスをおいて加圧
、加熱接着する方法、いわゆるスパッタリング方式が提
案されている（例えば、特公昭５９−１０７４１４号公
報、特公昭５９−１０７４１５号公報、特公昭５９−１
０７４１６号公報参照）。この方式は、スパッタ膜がギ
ャップ制御？かねるため、また加熱及び加圧下でフェラ
イトからなるコア同士を接合する際、コアがこのスパッ
タ膜に沿って矯正されるという効果があるため、高精度
のギャップ長が得られるという利点がある。

しかしながら、このような従来のスパッタリング方式で
は、コアの材料であるフェライトの平坦度があまりよく
ないために、アペックス部にのみ補強用のガラスをおく
と、アペックス部の反対側の方より２つのコアがそりか
えるという現象が発生する。そのため、ギャップディブ
スが長くなると、ひずみやちいさなヒビが接合部にはい
りやすくなり、不要部分の切断、ボンディングパーの幅
方向のスライス、ボリンング（鏡面仕上げ加工）と、加
工の段階が進むにつれて、そのヒビがアペックス側へと
成長し、最終的な強度試験で不合格となってしまう。

また、特公昭５９−１０７４１６号公報では、補強用の
ガラスとして軟化温度の高いものを使用している。この
場合、できあがりのギャップ長が減少するおそれがでて
くるが接着力が増すので、はじめから減少分を見こんで
スパッタ膜の厚みを決定すれば、ギャップ長の精度の点
てはさほど問題はないと思われる。しかし、高温になる
と、フェライトとガラスの反応が進むために、アペック
ス部にくわれ等が生じて好ましくない。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明による磁気ヘッド用コアのギヤツブ部接合方法は
、フェライトよりなる１対の直方体プロコクの少なくと
も一方に長手方向にコイル窓用の第１の溝と９本来の磁
気記録再生に関係しない部分に前記第１の溝と平行に第
２の溝とが形成され、互いの接合面が鏡面仕上げしてあ
る１対の磁気ヘッド用コアを所定のギャップ長を保持し
て接合する方法であって、前記接合面上に、それぞれス
パッタ法により所定の厚さのＳ工０２膜を蒸着形成する
工程と、さらに前記５ｌｏ２膜上に、スパッタ法により
所定の厚さのガラス膜を形成する工程と９両コアのスパ
ッタ膜を互いに圧接し、アペックス部と前記第２の溝に
前記ガラス膜に使用したガラスよりも低い軟化点を有す
るガラス片を載置し、前記ガラス膜に使用したガラスの
軟化点以上に加熱する工程を含む。

〔実施例〕

以下９本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

先ず、第１図を参照して、フェライトよりなる直方体ブ
ロックなるコア１の鏡面仕上げしてある面に、軟化点が
１５００℃位のＳｉＯ２膜２を約１μｍの厚さにスパッ
タリングにより形成し、更にその５１ｏ２膜２上に＋　
５１０２　＋　Ｂ２Ｏ５＋　”２ｏ３＋に２０．　Ｚｏ
Ｏ，Ｍ、Ｏ等よりなる軟化点（１０−７６Ｐ）が７００
℃のガラス＠３を約０．０５μｍの厚さにスパッタリン
グにより形成する。第２図を参照して、同様に、フェラ
イトよりなる直方体ブロックの長手方向にコイル窓用溝
４ａと９本来の磁気記録再生に関係せず、後で切断され
る不要部分にコイル窓用溝４ａと平行に補強用溝４ｂが
形成されたコア４の鏡面仕上げしてある面に。

軟化点＃”−１５００℃位のＳ工０２膜５を約１μｍの
厚さにスパッタリングにより形成し、更にそのＳＩＯ２
膜５上に、　Ｓ、０２．　Ｂ２Ｏ３，Ａｔ２０５．　Ｋ
２Ｏ，Ｚ、Ｏ。

ＭｇＯ等よりなる軟化点（１Ｏ−７６Ｆ）が７００℃の
ガラス膜６を約０．０５μｍの厚さにスパッタリングに
より形成する。

次に、第３図に示されるように、５００２膜とガラス膜
からなるスパッタ膜の形成されたコア１゜４を、そのス
パッタ膜側の面が互いに接触された状態で、アペックス
部７と補強用溝４ｂｌＣ。

ＰｂＯ１Ｓ、０２．Ｎａ２ＣＯ３，Ｂ２Ｏ３，Ａｔ２０
Ｓ、Ｆ６２０５゜ＺｎＯよりなる軟化点（１Ｏ−１６Ｆ
）が５４０℃のガラスパー８，８を設置する。

次に、コア１．４を、互いに密着される方向へ約３００
Ｋｒ／−の圧力で加圧しながら、７８０℃の温度で約２
時間加熱して、ボンディングする。

これＫよシ、第４図に示されるように、ガラス＠６，６
が軟化するだけでコア１．４の両側から加圧されるので
、ギャップ長Ｇｔの減少がほとんどなく、補強用のガラ
スパー８のみが半溶融して、コア１．４がしっかりと固
着するようになるので、所望の強度を保って正確なギャ
ップ長Ｇ１が形成できる。

このとき、従来のように、アペックス部７と反対側の所
９よりそりかえってヒビがはいるのを防止できる。従っ
て、ヒビがアペックス部７よりギャップディツプスＧ６
の位＠１０で切断等。

加工が進んだときにギャップディツプスＧ６へ達すると
いうこともない。

本発明者らは１本実施例により接着したコアと従来法で
接着したコアの強度試験をテンンヨンゲージを使用して
測定したところ、従来法のものは１．２５に９／Ｉｍ”
であるのに対し９本実施例のものでは１．７２Ｋｇ／ｌ
ｌ３１２であり１本発明の方が従来のものより強固に接
合されていることを確認した。

なお、上記実施例では１片方のコアのみにコイル窓用溝
及び補強用溝を形成しているが１両方のコアにその対向
する部分にコイル窓用溝及び補強用溝を形成しても良い
のは勿論である。

又、加圧の圧力や加熱の温度も、上記の値に限定せず、
加圧圧力は１００〜５００に９／ｉの範囲。

加熱温度はガラス膜の軟化点と同じかそれよりいく分高
めの６５０〜８００℃の範囲であれば良い。又、補強用
溝に設置されるガラスパーも。

その軟化点（１０−１’Ｐ）が、スパッタしたガラス膜
の軟化点と同じかもしくは低い４００〜７００℃の範囲
にあるものに選ばれる。

〔発明の効果〕

以上の説明で明らかなように９本発明によれば、コイル
窓用溝と平行に補強用溝を切って。

その補強用溝にアペックス部に載置したがラスパーと同
様のがラスパーを置き、加圧加熱することにより、ギャ
ップディツプスの両端を補強しているので、ギヤツブ部
スパッタ膜接合面の剥離を防止した高精度のギャップ長
を形成できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明の方法を工程順に示した図で
ある。 １・・・コア、２・・・Ｓ工０２膜、３・・・ガラス膜
。 ４・・・コア、　４ａ・・・コイル窓用溝、　４ｂ・・
・補強用溝。 ５・・・５１０２膜、６・・・ガラス膜、７・・・アペ
ックス部。 ８・・・ガラスパー。 ご゛パ 第２図　　　　第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、フェライトよりなる１対の直方体ブロックの少なく
   とも一方に長手方向にコイル窓用の第１の溝と、本来の
   磁気記録再生に関係しない部分に前記第１の溝と平行に
   第２の溝とが形成され、互いの接合面が鏡面仕上げして
   ある１対の磁気ヘッド用コアを所定のギャップ長を保持
   して接合する方法であって、前記接合面上に、それぞれ
   スパッタ法により所定の厚さのＳｉＯ＿２膜を蒸着形成
   する工程と、さらに前記ＳｉＯ＿２膜上に、スパッタ法
   により所定の厚さのガラス膜を形成する工程と、両コア
   のスパッタ膜を互いに圧接し、アペックス部と前記第２
   の溝に前記ガラス膜に使用したガラスよりも低い軟化点
   を有するガラス片を載置し、前記ガラス膜に使用したガ
   ラスの軟化点以上に加熱する工程を含む磁気ヘッド用コ
   アのギャップ部接合方法。