JPH02149904A - 複合型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
複合型磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH02149904A JPH02149904A JP30446188A JP30446188A JPH02149904A JP H02149904 A JPH02149904 A JP H02149904A JP 30446188 A JP30446188 A JP 30446188A JP 30446188 A JP30446188 A JP 30446188A JP H02149904 A JPH02149904 A JP H02149904A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、一対のコアブロックを接合したときに、均一
な磁気ギャップを形成するようにした複合型磁気ヘッド
の製造方法に関する。
な磁気ギャップを形成するようにした複合型磁気ヘッド
の製造方法に関する。
磁気ヘッドは、従来、フェライトからなるコアチップで
形成していた。フェライトは、強磁性体であり、固有抵
抗が大きく渦電流損が少ないこと等の利点がある。
形成していた。フェライトは、強磁性体であり、固有抵
抗が大きく渦電流損が少ないこと等の利点がある。
しかし、フェライトは、飽和磁束密度が小さく、抗磁力
の大きな記録媒体に対しては、磁気飽和により、高密度
記録ができないという欠点があった。
の大きな記録媒体に対しては、磁気飽和により、高密度
記録ができないという欠点があった。
高密度記録が可能な飽和磁束密度の大きい鉄合金に、セ
ンダストやパーマロイがあるが、これらは、固有抵抗が
小さく渦電流損が大きいという欠点がある。固有抵抗を
大きくするためには、ラミネート状の多数層にしなけれ
ばならない。
ンダストやパーマロイがあるが、これらは、固有抵抗が
小さく渦電流損が大きいという欠点がある。固有抵抗を
大きくするためには、ラミネート状の多数層にしなけれ
ばならない。
そこで、コアチップ自体は、フェライトで形成し、磁気
飽和しないように、磁気ギャップ間にセンダストやパー
マt」イ等庖−・面にのみ被着したヘッド(以下片M
I G−ソドと呼ぶ)が開発されている。この片MIG
−\ン1′を第3図Gこ示して説明する。
飽和しないように、磁気ギャップ間にセンダストやパー
マt」イ等庖−・面にのみ被着したヘッド(以下片M
I G−ソドと呼ぶ)が開発されている。この片MIG
−\ン1′を第3図Gこ示して説明する。
同図において、(1)は、金属酸化物強磁性体であるフ
ェライトからなる6ニスアチソフ′で、−・対の第1、
第2コアC2)(3)を低融点のガラス(4)(4)で
接合一体化したものである。この3コアチツプ(1)の
頂端面く5)には、磁気ギヤノブ(g)が形成され、磁
気ギャップ(g)の両側は、ガラス(4)(4)で保護
される。(6)は、センダスト又はパーマt’lイ等の
高飽和磁束密度強磁性体からなる金属薄膜で、前記磁気
ギヤツブ(g)に位置する第1′:1ア(2)のエツジ
部に被着形成される。(7)(7)は、絶1!被覆処理
された線材で、第1、第2コア(2)(3)の各脚部(
2a) (3a)に所定ターン数巻回される。(8)
は、フy、ライト製のバックコアで、第1、第2コア(
2)(3)の各脚部(2a) (3a)の末端部に貼
着固定され、閉磁路を形成すイ1゜更乙、−1’J ’
y ”f−ツブ(1)の両側に、非磁性体であるセラミ
ックや結晶ガラスがスライダ〔図示せず〕として貼着固
定される3゜ この上・うな磁気−、フドのコアチップ(1)の製造り
法を第4図乃至第6図に示して説明する。
ェライトからなる6ニスアチソフ′で、−・対の第1、
第2コアC2)(3)を低融点のガラス(4)(4)で
接合一体化したものである。この3コアチツプ(1)の
頂端面く5)には、磁気ギヤノブ(g)が形成され、磁
気ギャップ(g)の両側は、ガラス(4)(4)で保護
される。(6)は、センダスト又はパーマt’lイ等の
高飽和磁束密度強磁性体からなる金属薄膜で、前記磁気
ギヤツブ(g)に位置する第1′:1ア(2)のエツジ
部に被着形成される。(7)(7)は、絶1!被覆処理
された線材で、第1、第2コア(2)(3)の各脚部(
2a) (3a)に所定ターン数巻回される。(8)
は、フy、ライト製のバックコアで、第1、第2コア(
2)(3)の各脚部(2a) (3a)の末端部に貼
着固定され、閉磁路を形成すイ1゜更乙、−1’J ’
y ”f−ツブ(1)の両側に、非磁性体であるセラミ
ックや結晶ガラスがスライダ〔図示せず〕として貼着固
定される3゜ この上・うな磁気−、フドのコアチップ(1)の製造り
法を第4図乃至第6図に示して説明する。
先ず、第4図に示すようにフェライトからなる直ツノ体
形状の第1、第2コアブロック(12)(13)を用意
する。
形状の第1、第2コアブロック(12)(13)を用意
する。
次に、第5図に示すよ・うに、両コ了ブロック(12)
(13)の接合面に、トラック溝(14)(15)
と@線係止溝(16) (17)を切削加工する。ト
ラック溝(14) (15)は、両コアブロック(1
2) (13)の接合面上側短手方向に、トランク@
(T)を残しC1複数箇所切削除去し、形成する。巻線
係止i (16) (17)は、両−1アブロツク(
12) (13)の接合面中央部長手方向に1本ずつ
切削加工し、前記トラック溝(14)(15)を形成し
た側をフロントギセソブ部(12a)(13a)とし、
反対側をリアギヤツブ部(12b)(13b)とする。
(13)の接合面に、トラック溝(14)(15)
と@線係止溝(16) (17)を切削加工する。ト
ラック溝(14) (15)は、両コアブロック(1
2) (13)の接合面上側短手方向に、トランク@
(T)を残しC1複数箇所切削除去し、形成する。巻線
係止i (16) (17)は、両−1アブロツク(
12) (13)の接合面中央部長手方向に1本ずつ
切削加工し、前記トラック溝(14)(15)を形成し
た側をフロントギセソブ部(12a)(13a)とし、
反対側をリアギヤツブ部(12b)(13b)とする。
第1のコアブロック(12)に形成したフl:jントギ
ャップ部(12a)、リアギャップ部(12b) 、!
−ラック溝(13)及び巻線係止溝(16)の全面に、
金属薄膜(18)をスパッタリングにより、加熱し7な
がら被着形成する。
ャップ部(12a)、リアギャップ部(12b) 、!
−ラック溝(13)及び巻線係止溝(16)の全面に、
金属薄膜(18)をスパッタリングにより、加熱し7な
がら被着形成する。
次に、第1コアブ1.Jツク(12)に、ギ4ソゲスペ
ーサとなるSi02等の非磁性体薄膜〔図示上ず〕を被
着形成した後、第6図に示すよ・つ(、:、第1、第2
コアブlニオツク(12) (13)を衝合して天地
逆転させ、両巻縁係止溝(16) (17)で形成さ
れる空間内に、ガラス棒(20)を収納配置する。ガラ
ス棒(20)を加熱して、熔融すると、トラック溝(1
4) (15)内にガラス(4)が充填され、第1、
第2コアブロック(12)(13)が接合一体化される
。そして、頂端面が研磨された後、点線に示すように、
第1、第2コアブロックの列側及び内偵jを切1折除去
し、点鎖線に示す箇所で、所定の厚さにスライスして、
コアチップ (1)を得る。
ーサとなるSi02等の非磁性体薄膜〔図示上ず〕を被
着形成した後、第6図に示すよ・つ(、:、第1、第2
コアブlニオツク(12) (13)を衝合して天地
逆転させ、両巻縁係止溝(16) (17)で形成さ
れる空間内に、ガラス棒(20)を収納配置する。ガラ
ス棒(20)を加熱して、熔融すると、トラック溝(1
4) (15)内にガラス(4)が充填され、第1、
第2コアブロック(12)(13)が接合一体化される
。そして、頂端面が研磨された後、点線に示すように、
第1、第2コアブロックの列側及び内偵jを切1折除去
し、点鎖線に示す箇所で、所定の厚さにスライスして、
コアチップ (1)を得る。
金屈薄方史(18)を第にllアフロック(12)に被
着形成する際には、第1コアブロック(12)が加g4
されCいる。
着形成する際には、第1コアブロック(12)が加g4
されCいる。
しかし、第1コアブロック(12)を構成するフェライ
トと金属薄1)j!! (18)を構成する一ヒンダス
ト又はパー・マロイとは熱膨張係数が異なるため、スパ
ッタリングが終了し、コアブロック(12) (13
)を冷却すると、金属薄膜(18)側を内1則にL7て
、コアブロック(12) (13)が、高さ方向にば
0゜5−0.6 〔μ謡〕程反って、全体として湾曲し
、てしまう。すると、第1S第2コアブロック(12)
(13)を衝合させたときに、両者間(12)
(13)に隙間が生15で、第7図に示すように、トラ
ンク溝(14) (15)内にガラスが充填される。
トと金属薄1)j!! (18)を構成する一ヒンダス
ト又はパー・マロイとは熱膨張係数が異なるため、スパ
ッタリングが終了し、コアブロック(12) (13
)を冷却すると、金属薄膜(18)側を内1則にL7て
、コアブロック(12) (13)が、高さ方向にば
0゜5−0.6 〔μ謡〕程反って、全体として湾曲し
、てしまう。すると、第1S第2コアブロック(12)
(13)を衝合させたときに、両者間(12)
(13)に隙間が生15で、第7図に示すように、トラ
ンク溝(14) (15)内にガラスが充填される。
この活用、均一な磁気ギトソブ(g)を形成することが
できなくなる。特に、第1コアブしドック(12)は、
高さ方向にも湾曲しているため、両コアブロフク(12
) t(il’F磨したときに、磁気ギトノブ(g)の
間隔が増々大きくなる。
できなくなる。特に、第1コアブしドック(12)は、
高さ方向にも湾曲しているため、両コアブロフク(12
) t(il’F磨したときに、磁気ギトノブ(g)の
間隔が増々大きくなる。
このため、従来、湾曲した第1)第2コアブロックの膨
出した両側から締付けていたが、0.15 Ckgf
)以下の締付は力であると、均一な磁気ギャップ(g)
の形成ができず、品質の低下をもたらし、逆に、押圧力
を強くすると、コアチップ(1)に歪が残り、出力特性
の劣下をもたらせていた。
出した両側から締付けていたが、0.15 Ckgf
)以下の締付は力であると、均一な磁気ギャップ(g)
の形成ができず、品質の低下をもたらし、逆に、押圧力
を強くすると、コアチップ(1)に歪が残り、出力特性
の劣下をもたらせていた。
また、最悪の場合は、コアチップ(1)に割れが生じ、
生産性の低下をもたらせていた。
生産性の低下をもたらせていた。
そこで、本発明は、均一な磁気ギャップを形成すること
ができる複合型磁気ヘッドの製造方法を提供することを
目的とする。
ができる複合型磁気ヘッドの製造方法を提供することを
目的とする。
本発明は、上記目的を達成するため、金属酸化物強磁性
体からなる直方体形状の第1、第2コアブロックに、接
合面上側短手方向のトラック溝と接合面中央部長手方向
の巻線係止溝とを切削加工する工程と、第1コアブロッ
クの接合面と、第2コアブロックの接合面とは反対側の
面に、高飽和磁束密度強磁性体からなる金属薄膜を被着
形成する工程と、第1、第2コアブロックを衝合し、ト
ラック溝内にガラスを充填して、両者を接合一体化する
工程と、接合一体化された第1、第2コアブロックをス
ライスしてコアチップを得る工程とを含むものである。
体からなる直方体形状の第1、第2コアブロックに、接
合面上側短手方向のトラック溝と接合面中央部長手方向
の巻線係止溝とを切削加工する工程と、第1コアブロッ
クの接合面と、第2コアブロックの接合面とは反対側の
面に、高飽和磁束密度強磁性体からなる金属薄膜を被着
形成する工程と、第1、第2コアブロックを衝合し、ト
ラック溝内にガラスを充填して、両者を接合一体化する
工程と、接合一体化された第1、第2コアブロックをス
ライスしてコアチップを得る工程とを含むものである。
第1、第2コアブロックは、金属薄膜を形成した面を内
側にして、同一の曲率半径で湾曲する。第1コアブロッ
クは接合面が凹部となり、第2コアブロックは接合面が
凸部となるから、両者は、密着して磁気ギャップが均一
に形成される。
側にして、同一の曲率半径で湾曲する。第1コアブロッ
クは接合面が凹部となり、第2コアブロックは接合面が
凸部となるから、両者は、密着して磁気ギャップが均一
に形成される。
本発明に係る一実施例を第1図及び第2図を参照して説
明する。但し、従来と同一部品は、同一符号を付して、
その説明は省略する。
明する。但し、従来と同一部品は、同一符号を付して、
その説明は省略する。
本実施例においても、先ず、従来と同様、直方体形状の
第1)第2コアブロック(12) (13)の接合面
に、トラック溝(14) (15)と巻線係止溝(1
6) (17)を切削加工し、第1コアブロック(1
2)の接合面側全面にセンダスト等の高飽和磁束密度強
磁性体からなる金属薄膜(1日)をスパッタリングによ
り、加熱しながら被着形成する。
第1)第2コアブロック(12) (13)の接合面
に、トラック溝(14) (15)と巻線係止溝(1
6) (17)を切削加工し、第1コアブロック(1
2)の接合面側全面にセンダスト等の高飽和磁束密度強
磁性体からなる金属薄膜(1日)をスパッタリングによ
り、加熱しながら被着形成する。
そして、本実施例においては、第2コアブロック(13
)の接合面とは反対側の面に、金R薄l*(19)をス
パッタリングにより、加熱しながら被着形成する。第2
コアブロック(13)に被着形成する金属I!膜(19
)の量は、第1コアブロック(12)に被着形成する金
属薄膜(18)の量とほぼ同一にする。第1コアブロッ
ク(12)の被着面には、トラック1) (14)や巻
線係止溝(16)等が形成されているための表面積が、
第2コアブロック(13)の被着よりも大きい。従って
、第2コアブロック(13)に被着形成する金属薄li
t (19)は、第1コアブロックに被着形成される金
属薄I1) (1B)より厚くする。
)の接合面とは反対側の面に、金R薄l*(19)をス
パッタリングにより、加熱しながら被着形成する。第2
コアブロック(13)に被着形成する金属I!膜(19
)の量は、第1コアブロック(12)に被着形成する金
属薄膜(18)の量とほぼ同一にする。第1コアブロッ
ク(12)の被着面には、トラック1) (14)や巻
線係止溝(16)等が形成されているための表面積が、
第2コアブロック(13)の被着よりも大きい。従って
、第2コアブロック(13)に被着形成する金属薄li
t (19)は、第1コアブロックに被着形成される金
属薄I1) (1B)より厚くする。
このようにして金属薄II! (1B) (19)が
被着形成された第1)第2コアブロック(12) (
13)は、スパッタリング後、第1図に示すように、第
1コアブロック(12)は接合面が凹部となって湾曲し
、第2コアブロック(13)は接合面が凸部となって湾
曲する。但し、湾曲の原因となる金属薄膜(18)
(19)の量が、第1コアブロック(12)と第2コア
ブロック(13)とでほぼ同一であるから、湾曲した両
者(12) (13)の曲率半径は同程度となる。即
ち、第1)第2のコアブロック(12) (13)は
密着し、所望の磁気ギャップ(g)が形成される。
被着形成された第1)第2コアブロック(12) (
13)は、スパッタリング後、第1図に示すように、第
1コアブロック(12)は接合面が凹部となって湾曲し
、第2コアブロック(13)は接合面が凸部となって湾
曲する。但し、湾曲の原因となる金属薄膜(18)
(19)の量が、第1コアブロック(12)と第2コア
ブロック(13)とでほぼ同一であるから、湾曲した両
者(12) (13)の曲率半径は同程度となる。即
ち、第1)第2のコアブロック(12) (13)は
密着し、所望の磁気ギャップ(g)が形成される。
磁気ギャップ(g)は、従来と同様、第1、第2コアブ
ロック(12) (13)を衝合密着し、ガラス(4
)によって接合一体化することにより、形成することが
できる。さらに、第2図に示すように、第1、第2コア
ブロックの外側及び内側を切断除去し、同図−点鎖線に
示す箇所で、所定の厚さにスライスすると、コアチップ
(1)を得る。第1、第2コアブロック(12)(13
)は湾曲したものであるが、その曲率半径は僅かである
から、得られたコアチップ(1)は、湾曲していた状態
を無視することができる。
ロック(12) (13)を衝合密着し、ガラス(4
)によって接合一体化することにより、形成することが
できる。さらに、第2図に示すように、第1、第2コア
ブロックの外側及び内側を切断除去し、同図−点鎖線に
示す箇所で、所定の厚さにスライスすると、コアチップ
(1)を得る。第1、第2コアブロック(12)(13
)は湾曲したものであるが、その曲率半径は僅かである
から、得られたコアチップ(1)は、湾曲していた状態
を無視することができる。
本発明によれば、第1.第2コアブロックが同一の曲率
半径で、接合面を凹状、凸状に汎曲するため、接合面が
完全に密着する。この結果両者を密着させるための押■
:力を加える必要がなく、所望の磁気ギヤツブを形成す
ることができる。従って、二1アチップ内に歪が残るこ
とがなく、出力特性の劣化を招くことがなくなる。
半径で、接合面を凹状、凸状に汎曲するため、接合面が
完全に密着する。この結果両者を密着させるための押■
:力を加える必要がなく、所望の磁気ギヤツブを形成す
ることができる。従って、二1アチップ内に歪が残るこ
とがなく、出力特性の劣化を招くことがなくなる。
また、割れ等に起因する生産性の低下も解消することが
できる。
できる。
第1図及び第2図は本発明に係る複合型磁気ヘッドの製
造方法を示す工程図である。 第3図は複合型磁気・1ノドの斜視図2.第4図乃至第
6図は同じく(ガニ来の製造方法を示す工程図、第7図
は課題を説明Jるための斜視図である。 (4)・・−ガラス、 (12)−・第1コアブロック、 (13)−・第2コアブロック、
造方法を示す工程図である。 第3図は複合型磁気・1ノドの斜視図2.第4図乃至第
6図は同じく(ガニ来の製造方法を示す工程図、第7図
は課題を説明Jるための斜視図である。 (4)・・−ガラス、 (12)−・第1コアブロック、 (13)−・第2コアブロック、
Claims (1)
- (1)金属酸化物強磁性体からなる直方体形状の第1、
第2コアブロックに、接合面上側短手方向のトラック溝
と接合面中央部長手方向の巻線係止溝とを切削加工する
工程と、 第1コアブロックの接合面と、第2コアブロックの接合
面とは反対側の面に、等分量の高飽和磁束密度強磁性体
からなる金属薄膜を被着形成する工程と、 第1、第2コアブロックを衝合し、トラック溝内にガラ
スを充填して、両者を接合一体化する工程と、 接合一体化された第1、第2コアブロックをスライスし
てコアチップを得る工程とを含むことを特徴とする複合
型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30446188A JPH02149904A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 複合型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30446188A JPH02149904A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 複合型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02149904A true JPH02149904A (ja) | 1990-06-08 |
Family
ID=17933298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30446188A Pending JPH02149904A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 複合型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02149904A (ja) |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP30446188A patent/JPH02149904A/ja active Pending
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