JPH0196641A - フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム - Google Patents
フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルムInfo
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- JPH0196641A JPH0196641A JP25396487A JP25396487A JPH0196641A JP H0196641 A JPH0196641 A JP H0196641A JP 25396487 A JP25396487 A JP 25396487A JP 25396487 A JP25396487 A JP 25396487A JP H0196641 A JPH0196641 A JP H0196641A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィル
ムに関するものでアシ、詳しくは、溶剤現像型フォトレ
ジストフィルムにおいてポリエステル層を現像前に感光
層から塩化メチレンで処理して除去する際、カールし難
い特性を有する二軸延伸ポリエステルフィルムに関する
ものである。
ムに関するものでアシ、詳しくは、溶剤現像型フォトレ
ジストフィルムにおいてポリエステル層を現像前に感光
層から塩化メチレンで処理して除去する際、カールし難
い特性を有する二軸延伸ポリエステルフィルムに関する
ものである。
ポリエステルニ軸延伸フィルムは耐熱性、機械的性質、
耐薬品性等に優れているためフォトレジスト用ベースフ
ィルムとして需要が急増している。
耐薬品性等に優れているためフォトレジスト用ベースフ
ィルムとして需要が急増している。
ところで、溶剤現像型フォトレジストフィルムでは、現
像前にポリエステル層を感光層から塩化メチレンで処理
して除去する工程があるが、この工程においてフィルム
は感光層側にカールしてくる。このカールの度合が著し
いときには、現像に支障をきたす場合があり、非常に重
大網題点となっている。このため、フィルムを塩化メチ
レンで処理してもカールし難い特性を有するポリエステ
ルフィルムの開発が強く要望されている。
像前にポリエステル層を感光層から塩化メチレンで処理
して除去する工程があるが、この工程においてフィルム
は感光層側にカールしてくる。このカールの度合が著し
いときには、現像に支障をきたす場合があり、非常に重
大網題点となっている。このため、フィルムを塩化メチ
レンで処理してもカールし難い特性を有するポリエステ
ルフィルムの開発が強く要望されている。
本発明者らは、上記問題点に鑑み、鋭意検討した結果、
ある特定の物性を有するフィルムがカールし難い特性を
有することを見い出し本発明に到達した。
ある特定の物性を有するフィルムがカールし難い特性を
有することを見い出し本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、下記式[1]〜[3]を同時に
満足することを特徴とするフォトレジスト用二軸延伸ポ
リエステルフィルムに存する。
満足することを特徴とするフォトレジスト用二軸延伸ポ
リエステルフィルムに存する。
0、/ l、 ?≦△P≦θ、/ざO・・・・・・■/
、4040≦云≦ハロ0ざS ・・・・・・■り0≦
0く6S ・・・・・・■(式中、ΔP、
n及びひは、それぞれ面配向度、平均屈折率、及び水滴
接触角(deg)を表わす。)以下本発明を更に詳細に
説明する。
、4040≦云≦ハロ0ざS ・・・・・・■り0≦
0く6S ・・・・・・■(式中、ΔP、
n及びひは、それぞれ面配向度、平均屈折率、及び水滴
接触角(deg)を表わす。)以下本発明を更に詳細に
説明する。
本発明にいうポリエステルとはテレフタル酸、イソフタ
ル酸Jびナフタレン−コツ6−ジカルボン酸の如き芳香
族ジカルボン酸Jはそのエステルとエチレングリコール
、ジエチレングリコール、テトラメチレングリコール、
及びネオペンチルグリコール等のジオールとを重縮合さ
せて得ることの出来る結晶性芳香族ポリエステルである
。該ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコールを
直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボン酸ジア
ルキルエステルとグリコールをエステル交換反応させた
後、重縮合せしめる、ちるいは芳香族ジカルボン酸のジ
グリコールエステルを重縮合せしめる等の方法によって
も得られる。
ル酸Jびナフタレン−コツ6−ジカルボン酸の如き芳香
族ジカルボン酸Jはそのエステルとエチレングリコール
、ジエチレングリコール、テトラメチレングリコール、
及びネオペンチルグリコール等のジオールとを重縮合さ
せて得ることの出来る結晶性芳香族ポリエステルである
。該ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコールを
直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボン酸ジア
ルキルエステルとグリコールをエステル交換反応させた
後、重縮合せしめる、ちるいは芳香族ジカルボン酸のジ
グリコールエステルを重縮合せしめる等の方法によって
も得られる。
かかるポリマーの代表的なものとして、ポリエチレンテ
レフタレート、ホリエチレンーユ、6−ナフクレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート及びポリテトラメチ
レンーユ、乙−ナフタレート等であシ、例えばポリエチ
レンテレフタレート、あるいはポリエチレン−2,6−
ナフタレートはテレフタル酸あるいはナフタレン−コツ
6−ジカルポン酸とエチレングリコールとが結合したポ
リエステルのみならず、繰り返し単位のgθモル係以上
がエチレンテレフタレートあるいはエチレン−2,6−
ナフタレート単位よシ成シ繰シ返し単位の20モル係以
下が他の成分である共重合ポリエステル、またはこれら
のポリエステルに他のポリで−を添加、混合した混合ポ
リエステルである。
レフタレート、ホリエチレンーユ、6−ナフクレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート及びポリテトラメチ
レンーユ、乙−ナフタレート等であシ、例えばポリエチ
レンテレフタレート、あるいはポリエチレン−2,6−
ナフタレートはテレフタル酸あるいはナフタレン−コツ
6−ジカルポン酸とエチレングリコールとが結合したポ
リエステルのみならず、繰り返し単位のgθモル係以上
がエチレンテレフタレートあるいはエチレン−2,6−
ナフタレート単位よシ成シ繰シ返し単位の20モル係以
下が他の成分である共重合ポリエステル、またはこれら
のポリエステルに他のポリで−を添加、混合した混合ポ
リエステルである。
また、本発明においてはポリエステルの重合度が低すぎ
ると機械的特性が低下するので、その固有粘度はO0μ
O以上、好ましくはOlりO〜0.90.更に好ましく
はO,タタ〜o、g sのものである。
ると機械的特性が低下するので、その固有粘度はO0μ
O以上、好ましくはOlりO〜0.90.更に好ましく
はO,タタ〜o、g sのものである。
更に、滑υ性を付与するために微粒子を含有せしめるこ
とが出来る。滑り性を付与する微粒子としては、例えば
カオリン、クレー、炭酸カルシウム、酸化ケイ素等の公
知の不活性外部粒子が挙げられる。
とが出来る。滑り性を付与する微粒子としては、例えば
カオリン、クレー、炭酸カルシウム、酸化ケイ素等の公
知の不活性外部粒子が挙げられる。
本発明は、面配向度(△P)が0./ A 9〜0./
10の範囲でなければならない。好ましくは0./72
−0./10.更に好ましくは0./ 7ぐ〜Q、/g
Oの範囲である。面配向度(ΔP)が0./ A 9未
満では、塩化メチレンによるカールの度合いが大きく不
適当である。
10の範囲でなければならない。好ましくは0./72
−0./10.更に好ましくは0./ 7ぐ〜Q、/g
Oの範囲である。面配向度(ΔP)が0./ A 9未
満では、塩化メチレンによるカールの度合いが大きく不
適当である。
また、本発明の平均屈折率(云)は、/、AOAO〜/
、40t夕の範囲でなければならない。好ましくは7.
604 j〜7.60tり、更に好ましくは/、1.0
70〜/、60:夕の範囲である。平均屈折率(Ill
)がへ6060未満では、上記と同様にカールの度合い
が大きくなシネ適当である。
、40t夕の範囲でなければならない。好ましくは7.
604 j〜7.60tり、更に好ましくは/、1.0
70〜/、60:夕の範囲である。平均屈折率(Ill
)がへ6060未満では、上記と同様にカールの度合い
が大きくなシネ適当である。
更に本発明のフィルムの水滴接触角(θ) (deg)
は夕0≦θく65でなければならない。好ましくはタタ
≦θ(A?、?更に好ましくはS5≦θ≦62である。
は夕0≦θく65でなければならない。好ましくはタタ
≦θ(A?、?更に好ましくはS5≦θ≦62である。
水滴接触角(θ)が65以上のときは、作成したフォト
レジストの感度が低くなる恐れがある。一方、水滴接触
角θが5S未満となると、ポリエステルフィルムの剥離
が困難となり不適当である。
レジストの感度が低くなる恐れがある。一方、水滴接触
角θが5S未満となると、ポリエステルフィルムの剥離
が困難となり不適当である。
本発明のフィルムはフィルムの固有粘度(〔η〕)がO
oりS≦〔η〕≦0.7タを満足することが好ましい。
oりS≦〔η〕≦0.7タを満足することが好ましい。
更に好ましくは0.A O≦〔η〕≦0.70でちる。
フィルムの固有粘度〔η〕がO,Sりより低いと、塩化
メチレンに片面のみ浸した場合に結晶化度の表裏の差が
つき易くカールし易7い。フィル本発明のフィルムがカ
ールし難い特性を有する理由は必ずしも明らかではない
が、以下のように考えられる。つtb塩化メチレンにポ
リエステルフィルムを浸漬した際ポリエステルの非晶部
に塩化メチレン分子が侵入し、ポリエステルの溶媒結晶
化が進み片面の結晶化が進み表裏で結晶性の差が生じて
感光層側にカールしてくるものと考えられる。
メチレンに片面のみ浸した場合に結晶化度の表裏の差が
つき易くカールし易7い。フィル本発明のフィルムがカ
ールし難い特性を有する理由は必ずしも明らかではない
が、以下のように考えられる。つtb塩化メチレンにポ
リエステルフィルムを浸漬した際ポリエステルの非晶部
に塩化メチレン分子が侵入し、ポリエステルの溶媒結晶
化が進み片面の結晶化が進み表裏で結晶性の差が生じて
感光層側にカールしてくるものと考えられる。
それ故、フィルムにカールし難い特性を付与するために
は、ポリエステルフィルムの結晶性を高めて非晶部を少
くしたシ、非晶部の配向を高めることによシ、塩化メチ
レン分子がポリエステル分子鎖中に侵入し難たくなるよ
うKすればよいものと考えられる。
は、ポリエステルフィルムの結晶性を高めて非晶部を少
くしたシ、非晶部の配向を高めることによシ、塩化メチ
レン分子がポリエステル分子鎖中に侵入し難たくなるよ
うKすればよいものと考えられる。
次に、本発明のフィルムの製膜方法を具体的に述べる。
本発明のフィルムは、前記のポリエステルを通常210
〜320℃の範囲の温度で押出機よシシート状に押し出
し約70℃以下の温度に冷却して実質的に無定形のシー
トとし次いでかかへ るシート状物を縦及び横方向に出来るだけ低温で75倍
以上に延伸して二軸配向ポリエステル −フィルムと
し、更にかかるフィルムを23り〜210℃の範囲の温
度で熱処理することにょシ得ることができる。
〜320℃の範囲の温度で押出機よシシート状に押し出
し約70℃以下の温度に冷却して実質的に無定形のシー
トとし次いでかかへ るシート状物を縦及び横方向に出来るだけ低温で75倍
以上に延伸して二軸配向ポリエステル −フィルムと
し、更にかかるフィルムを23り〜210℃の範囲の温
度で熱処理することにょシ得ることができる。
特に面配向度をあげるために、再縦延伸及び/又は再横
延伸、熱固定時巾出し、縦多段延伸等を適用することは
好ましい形態である。本発明のフィルムは、上記範囲内
で条件を適宜選択することによシ得ることができ、その
厚みは通常i0 Nioottm、好ましくはloNり
□amである。
延伸、熱固定時巾出し、縦多段延伸等を適用することは
好ましい形態である。本発明のフィルムは、上記範囲内
で条件を適宜選択することによシ得ることができ、その
厚みは通常i0 Nioottm、好ましくはloNり
□amである。
以下に実施例にて本発明を具体的に説明するが本発明は
これら実施例のみに限定されるものではない。
これら実施例のみに限定されるものではない。
なおフィルムの評価方法を以下に示す。
(1) 塩化メチレンに浸漬した際のフィルムのカー
ルしやすさの評価 塩化メチレンで満たした容器に、縦it。
ルしやすさの評価 塩化メチレンで満たした容器に、縦it。
■、横200mの評価フィルムを片面が浸漬するように
載置し、室温にて6θ秒間塩化メチレンにフィルムの片
面を浸漬した。その後フィルムを室温にて乾燥し、−0
時間放置した。塩化メチレンを浸漬した側の縦方向にカ
ールしたフィルムのカールの度合を目視で評価し、以下
のランクに分類した。
載置し、室温にて6θ秒間塩化メチレンにフィルムの片
面を浸漬した。その後フィルムを室温にて乾燥し、−0
時間放置した。塩化メチレンを浸漬した側の縦方向にカ
ールしたフィルムのカールの度合を目視で評価し、以下
のランクに分類した。
ランク二〇 (極めて良好)
ランク:○ (良好)
ランク:Δ (やや不良)
ランク:×(不良)
(2)面配向度及び平均屈折率
フィルムの屈折率の測定はアタゴ■製アツベの屈折計を
使用し、光源にはナトリウムランプを用いて行なった。
使用し、光源にはナトリウムランプを用いて行なった。
フィルム面内の最大の屈折率1r、それに直角方向の屈
折率りηβ及び厚さ方向の屈折率ηαを求め、面配向度
及び平均屈折率を算出した。
折率りηβ及び厚さ方向の屈折率ηαを求め、面配向度
及び平均屈折率を算出した。
平均屈折率、1r+1fi+7′
(3)水滴接触角
蒸留水を用い、20℃湿度6!チの条件下、フィルムと
水滴との接触角をエルマ光学製ゴニオメータ−で測定し
た。水滴の直径は約λ閣である。
水滴との接触角をエルマ光学製ゴニオメータ−で測定し
た。水滴の直径は約λ閣である。
(4)極限粘度〔η〕
ポリマー/J9をフェノール/テトラクロルエタン=り
0/!;0(重量比)の混合溶媒100−に溶解し落下
式粘度計を用い30℃で測定した。
0/!;0(重量比)の混合溶媒100−に溶解し落下
式粘度計を用い30℃で測定した。
次に、実施例及び比較例で用いたフィルムの製造方法を
示す。
示す。
実施例1
7.3μのSin□が60ppm、−欠粒径30 mt
tのSiO□が/ 2 Q ppmとなるように調整し
たポリエチレンテレフタレート樹脂を常法にょシ乾燥し
、21:0℃で溶融押出し、ダ。℃にしたキャスティン
グドラム上に静電密着法にょシ冷却固化せしめ無定形シ
ートを得た。
tのSiO□が/ 2 Q ppmとなるように調整し
たポリエチレンテレフタレート樹脂を常法にょシ乾燥し
、21:0℃で溶融押出し、ダ。℃にしたキャスティン
グドラム上に静電密着法にょシ冷却固化せしめ無定形シ
ートを得た。
上記無定形シートをまず33℃で2.9倍縦延伸したの
ち、更に7g℃でへ夕倍縦延伸し次にテンターで110
℃でIl、Q倍横延伸し、2qコ℃で熱固定してコタ、
1lWLのフィルムを得た。
ち、更に7g℃でへ夕倍縦延伸し次にテンターで110
℃でIl、Q倍横延伸し、2qコ℃で熱固定してコタ、
1lWLのフィルムを得た。
得られたフィルムの物性及び特性を表1に示す。
実施例コ
実施例1において熱固定温度を、2q7°Gとする以外
は実施例1と同様に製膜してコSμのフィルムを得た。
は実施例1と同様に製膜してコSμのフィルムを得た。
得られたフィルムの物性及び特性を表/に示す。
実施例3
実施例/の無定形フィルムを用い、まず縦方向にざ5℃
で’IQ倍縦延伸したのち、95℃です、0倍横延伸し
たのち、更に縦方向に130′Cでへ1倍l再縦延伸を
行ない更に横方向にiq。
で’IQ倍縦延伸したのち、95℃です、0倍横延伸し
たのち、更に縦方向に130′Cでへ1倍l再縦延伸を
行ない更に横方向にiq。
℃で/、1倍再横延伸して、2q2℃で熱固定し25μ
のフィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を
表1に示す。
のフィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を
表1に示す。
比較例1
実施例/の無定形シートを縦方向に3.1倍漢方向にも
3.7倍延伸したのち2’12°Cて一固定し25μの
フィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表
1に示す。
3.7倍延伸したのち2’12°Cて一固定し25μの
フィルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表
1に示す。
比較例2.3
実施例1において、熱固定温度を22g ℃コタタ℃と
する以外は実施例/と同様にしてフィルムを得た。得ら
れたフィルムの物性及び特性を表1に示す。
する以外は実施例/と同様にしてフィルムを得た。得ら
れたフィルムの物性及び特性を表1に示す。
表 7
〔発明の効果〕
本発明によれば、溶剤現像型フォトレジストフィルムに
おいて、塩化メチレンで処理してポリエステル層を感光
層から除去する際、゛カールし難い特性を有するフォト
レジスト用ベースフィルムを製造することができ、その
工業的価値は高い。
おいて、塩化メチレンで処理してポリエステル層を感光
層から除去する際、゛カールし難い特性を有するフォト
レジスト用ベースフィルムを製造することができ、その
工業的価値は高い。
Claims (1)
- (1)下記式[1]〜[3]を同時に満足することを特
徴とするフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィル
ム。 0.169≦ΔP≦0.180・・・・・・[1] 1.6060≦@n@≦1.6085・・・[2] 50≦Q<65・・・・・・[3] (式中、ΔP、@n@及びQはそれぞれ面配向度、平均
屈折率、及び水滴接触角(deg)を表わす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25396487A JPH0196641A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25396487A JPH0196641A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0196641A true JPH0196641A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17258394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25396487A Pending JPH0196641A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0196641A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0338645A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH0338646A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH06110211A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Nippon Paper Ind Co Ltd | 感光性シート |
WO2000079344A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Element photosensible, rouleau d'element photosensible, procede de fabrication d'un motif de resine, motif de resine, substrat avec motif de resine sus-jacent, procede de fabrication d'un motif de cablage et motif de cablage associe |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS552241A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-09 | Toray Ind Inc | Substrate for photosensitive resin |
JPS61167938A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-29 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 改善されたオーバーレー方式校正フイルム及び改善された透明度を有する被覆されたポリエステルフイルム |
JPS6317454A (ja) * | 1985-07-25 | 1988-01-25 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | オ−バ−レ−・カラ−校正フイルム |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP25396487A patent/JPH0196641A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS552241A (en) * | 1978-06-20 | 1980-01-09 | Toray Ind Inc | Substrate for photosensitive resin |
JPS61167938A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-29 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | 改善されたオーバーレー方式校正フイルム及び改善された透明度を有する被覆されたポリエステルフイルム |
JPS6317454A (ja) * | 1985-07-25 | 1988-01-25 | ヘキスト・セラニ−ズ・コ−ポレイシヨン | オ−バ−レ−・カラ−校正フイルム |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0338645A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH0338646A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH06110211A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Nippon Paper Ind Co Ltd | 感光性シート |
WO2000079344A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Element photosensible, rouleau d'element photosensible, procede de fabrication d'un motif de resine, motif de resine, substrat avec motif de resine sus-jacent, procede de fabrication d'un motif de cablage et motif de cablage associe |
KR100599219B1 (ko) * | 1999-06-24 | 2006-07-12 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 엘리먼트, 감광성 엘리먼트롤, 이것을 사용한레지스트패턴의 제조법, 레지스트패턴, 레지스트패턴적층기판, 배선패턴의 제조법 및 배선패턴 |
US7592124B2 (en) | 1999-06-24 | 2009-09-22 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photosensitive element, photosensitive element roll, process for the preparation of resist pattern using the same, resist pattern, resist pattern laminated substrate, process for the preparation of wiring pattern and wiring pattern |
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