JPH0196640A - フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム - Google Patents
フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルムInfo
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- JPH0196640A JPH0196640A JP25396387A JP25396387A JPH0196640A JP H0196640 A JPH0196640 A JP H0196640A JP 25396387 A JP25396387 A JP 25396387A JP 25396387 A JP25396387 A JP 25396387A JP H0196640 A JPH0196640 A JP H0196640A
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-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィル
ムに関するものでアシ、詳しくは、溶剤現像型フォトレ
ジストフィルムにおいてポリエステル層を現像前に感光
層から塩化メチレンで処理し除去する際、カールし難い
特性を有する二軸延伸ポリエステルフィルムに関するも
のである。
ムに関するものでアシ、詳しくは、溶剤現像型フォトレ
ジストフィルムにおいてポリエステル層を現像前に感光
層から塩化メチレンで処理し除去する際、カールし難い
特性を有する二軸延伸ポリエステルフィルムに関するも
のである。
ポリエステルニ軸延伸フィルムは耐熱性、機械的性質、
耐薬品性等に優れているためフォトレジスト用ベースフ
ィルムとして需要が急増している。
耐薬品性等に優れているためフォトレジスト用ベースフ
ィルムとして需要が急増している。
ところで溶剤現像屋フォトレジストフィルムは、現像前
にポリエステル層を感光層から塩化メチレンで処理して
除去する工程があるが、この工程においてフィルムは感
光層側にカールしてくる。このカールの度合が著しいと
きには、現像に支障をきたす場合があり、非常に重大な
問題点となっている。このため、フィルムを塩化メチレ
ンで処理してもカールし難い特性を有するポリエステル
フィルムの開発が強く要望すれている。
にポリエステル層を感光層から塩化メチレンで処理して
除去する工程があるが、この工程においてフィルムは感
光層側にカールしてくる。このカールの度合が著しいと
きには、現像に支障をきたす場合があり、非常に重大な
問題点となっている。このため、フィルムを塩化メチレ
ンで処理してもカールし難い特性を有するポリエステル
フィルムの開発が強く要望すれている。
本発明者らは上記問題点に鑑み鋭意検討した結果、有機
滑剤を含有する二軸延伸ポリエステルフィルムのうち、
ある特定の物性を満たすフィルムが塩化メチレンに浸漬
しても、カールし難い特性を有することを見出した。
滑剤を含有する二軸延伸ポリエステルフィルムのうち、
ある特定の物性を満たすフィルムが塩化メチレンに浸漬
しても、カールし難い特性を有することを見出した。
即ち、本発明の要旨は、有機滑剤を含有するフィルムで
あって、下記式[1]〜[3]を同時に満足することを
特徴とするフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィ
ルムニ存する。
あって、下記式[1]〜[3]を同時に満足することを
特徴とするフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィ
ルムニ存する。
0、/ 3; 0≦ΔP≦0011rO・・曲■ン、6
0コO≦五≦八t、10o −・−・−@6S≦
θ≦90 曲・・■半≠→喝キ (式中、ΔP1云及びθはそれぞれ面配向度、平均屈折
率及び水滴接触角(aeg)を表わす。)以下本発明を
更に詳細に説明する。
0コO≦五≦八t、10o −・−・−@6S≦
θ≦90 曲・・■半≠→喝キ (式中、ΔP1云及びθはそれぞれ面配向度、平均屈折
率及び水滴接触角(aeg)を表わす。)以下本発明を
更に詳細に説明する。
本発明にいうポリエステルとは、テレフタル酸、インフ
タル酸及びナフタレンーコ、6−ジカルポン酸の如き芳
香族ジカルボン酸又ハそのエステルとエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、テトラメチレングリコール
及びネオペンチルグリコール等のジオールとを重縮合さ
せて得ることの出来る結晶性芳香族ポリエステルである
。該ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコールを
直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボン酸ジア
ルキルエステルとグリコールをエステル交換反応させた
後、重縮合せしめるあるいは芳香族ジカルボン酸のジグ
リコールエステルを重縮合せしめる等の方法によっても
得られる。
タル酸及びナフタレンーコ、6−ジカルポン酸の如き芳
香族ジカルボン酸又ハそのエステルとエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、テトラメチレングリコール
及びネオペンチルグリコール等のジオールとを重縮合さ
せて得ることの出来る結晶性芳香族ポリエステルである
。該ポリエステルは芳香族ジカルボン酸とグリコールを
直接重縮合させて得られる他、芳香族ジカルボン酸ジア
ルキルエステルとグリコールをエステル交換反応させた
後、重縮合せしめるあるいは芳香族ジカルボン酸のジグ
リコールエステルを重縮合せしめる等の方法によっても
得られる。
かかるポリマーの代表的なものとして、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−2,A−ナフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート及びポリテトラメチ
レン−2,6−ナフタレート等であり、例えばポリエチ
レンテレフタレートあるいはポリエチレン−コア6−ナ
フタレートはテレフタル酸あるいはナフタレン−2,6
−ジカルボン酸とエチレングリコールとが結合したポリ
エステルのみならス繰シ返し単位のgoモルチ以上がエ
チレンテレフタレートあるいはエチレンーコ、A−ナフ
タレート単位よシ成シ繰シ返し単位の20モルチ以下が
他の成分である共重合ポリエステル、またはこれらのポ
リエステルに他のポリマーを添加、混合した混合ポリエ
ステルである。
レフタレート、ポリエチレン−2,A−ナフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート及びポリテトラメチ
レン−2,6−ナフタレート等であり、例えばポリエチ
レンテレフタレートあるいはポリエチレン−コア6−ナ
フタレートはテレフタル酸あるいはナフタレン−2,6
−ジカルボン酸とエチレングリコールとが結合したポリ
エステルのみならス繰シ返し単位のgoモルチ以上がエ
チレンテレフタレートあるいはエチレンーコ、A−ナフ
タレート単位よシ成シ繰シ返し単位の20モルチ以下が
他の成分である共重合ポリエステル、またはこれらのポ
リエステルに他のポリマーを添加、混合した混合ポリエ
ステルである。
また、本発明においてはポリエステルの重合度が低すぎ
ると機械的特性が低下するので、その固有粘度はo、t
t o以上、好ましくは0.50〜0.901更に好ま
しくはO,タタ〜o、gりのものである。
ると機械的特性が低下するので、その固有粘度はo、t
t o以上、好ましくは0.50〜0.901更に好ま
しくはO,タタ〜o、gりのものである。
また、滑υ性を付与するために微粒子を含有せしめるこ
とが出来る。滑り性を付与する微粒子としては、例えば
、カオリン、クレー、炭酸カルシウム、酸化ケイ素等の
公知の不活性外部粒子が挙げられる。
とが出来る。滑り性を付与する微粒子としては、例えば
、カオリン、クレー、炭酸カルシウム、酸化ケイ素等の
公知の不活性外部粒子が挙げられる。
本発明は面配向度(ΔP)がo、iりo−o、ig。
の範囲でなければならない。面配向度(△P)がθ、/
!i 0未満ではカールの度合が大きくなり不適当で
ある。
!i 0未満ではカールの度合が大きくなり不適当で
ある。
また、本発明の平均屈折率(fi)は八6ρ20〜/、
6100の範囲でなければならない。好ましくは/、1
,6tl:) 〜/−&100の範囲である。
6100の範囲でなければならない。好ましくは/、1
,6tl:) 〜/−&100の範囲である。
平均屈折率(云)がへ602p未満ではカールの度合が
大きくなり不適当である。一方平均屈折を 率(rl)が八&/100を超えると、フィルム強度が
低下すると共にカールの度合が大きくなり不適当である
。
大きくなり不適当である。一方平均屈折を 率(rl)が八&/100を超えると、フィルム強度が
低下すると共にカールの度合が大きくなり不適当である
。
更に、本発明のフィルムは、水滴接触角(θ)が6S≦
θ≦90を満足しなければならない。
θ≦90を満足しなければならない。
好ましくは70≦θ≦90でおる。更に好ましくは70
≦θ≦goであも水滴接触角(θ)が90を超えると、
余シに疎水的になシすぎて、感光層との密着性が悪化す
るため不適当である。
≦θ≦goであも水滴接触角(θ)が90を超えると、
余シに疎水的になシすぎて、感光層との密着性が悪化す
るため不適当である。
本発明フィルムがカールし難い特性を有する理由は、必
ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。つ
tb塩化メチレンにポリエステルフィルムを浸漬した際
°、ポリエステルの非晶部に塩化メチレン分子が侵入し
、ポリエステルの溶媒結晶化が進み、それによシ片面の
結晶化が進み表裏で結晶性の差が生じてコート面側にカ
ールしてくるものと考えられる。
ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。つ
tb塩化メチレンにポリエステルフィルムを浸漬した際
°、ポリエステルの非晶部に塩化メチレン分子が侵入し
、ポリエステルの溶媒結晶化が進み、それによシ片面の
結晶化が進み表裏で結晶性の差が生じてコート面側にカ
ールしてくるものと考えられる。
それ故、フィルムにカールし難い特性を付与するために
は、ポリエステルフィルムの結晶性を高めて非晶部を少
なくするか、或いは、非晶部の配向を高めたシ、フィル
ムの疎水性を高めたシするととによって塩化メチレン分
子がポリエステル分子鎖中に侵入し難くすればよいと考
られる。
は、ポリエステルフィルムの結晶性を高めて非晶部を少
なくするか、或いは、非晶部の配向を高めたシ、フィル
ムの疎水性を高めたシするととによって塩化メチレン分
子がポリエステル分子鎖中に侵入し難くすればよいと考
られる。
次に、本発明フィルムの製造方法を具体的に述べる。
本発明では、水滴接触角(θ)が前記した特定範囲のフ
ィルムを得るために、原料ポリエステルに有機滑剤を配
合して用いる。
ィルムを得るために、原料ポリエステルに有機滑剤を配
合して用いる。
有機滑剤は、脂肪族炭化水素、脂肪酸エステル、アルキ
レンビス脂肪族アミド、アルキレンビス芳香族アミド等
がすすめられる。更に好ましくはアルキレンビス脂肪族
アミド、アルキレンビス芳香族アミドである。アルキレ
ンビス脂肪族アミド、アルキレンビス芳香族アミドとし
ては、ヘキサメチレンビスベヘンアミド、ヘキサメチレ
ンビスステアリルアミド、N、N’−ジステアリルテレ
フタルアミド等が挙げられる。
レンビス脂肪族アミド、アルキレンビス芳香族アミド等
がすすめられる。更に好ましくはアルキレンビス脂肪族
アミド、アルキレンビス芳香族アミドである。アルキレ
ンビス脂肪族アミド、アルキレンビス芳香族アミドとし
ては、ヘキサメチレンビスベヘンアミド、ヘキサメチレ
ンビスステアリルアミド、N、N’−ジステアリルテレ
フタルアミド等が挙げられる。
これらの滑剤はすべて水滴接触角(θ)が65〜90の
範囲内にある。添加量としてはポリエステルに対し、/
Oppm以上110000pp以下である。好ましく
は20 ppm以上2000 ppm以下である。更に
好ましくはj Oppm以上/ 000 ppm以下で
ある。
範囲内にある。添加量としてはポリエステルに対し、/
Oppm以上110000pp以下である。好ましく
は20 ppm以上2000 ppm以下である。更に
好ましくはj Oppm以上/ 000 ppm以下で
ある。
/ Oppm以下では、効果が甑めて小さく、逆にio
oooppm以上では、フィルム表面に滑剤つ がブリードアクトする恐れがある。
oooppm以上では、フィルム表面に滑剤つ がブリードアクトする恐れがある。
有機滑剤を含む原料ポリエステルは、先ず、通常210
〜320℃の範囲の温度で押出機よシシート状に押し出
され、約り0℃以下の温度に冷却されて実質的に無定形
のシートにされる。
〜320℃の範囲の温度で押出機よシシート状に押し出
され、約り0℃以下の温度に冷却されて実質的に無定形
のシートにされる。
次いで、かかるシートは、縦及び横方向に10倍以上、
好ましくは12倍以上に延伸して二軸配向ポリエステル
フィルムとされ、更に200〜21.0℃の範囲の温度
で熱処理される。
好ましくは12倍以上に延伸して二軸配向ポリエステル
フィルムとされ、更に200〜21.0℃の範囲の温度
で熱処理される。
尚、フィルムの厚さは、通常10N100μm1好まし
くは、10−tOttmの範囲とされる。
くは、10−tOttmの範囲とされる。
以下に実施例にて本発明を具体的に説明するが本発明は
これら実施例のみに限定されるものではない。
これら実施例のみに限定されるものではない。
なお、フィルムの評価方法を以下に示す。
(1) 塩化メチレンに浸漬した際のフィルムのカー
ルしやすさの評価 塩化メチレンで満たした容器に、縦lりθ踵、横200
vmの評価フィルムを片面が浸漬するよう載置し室温に
て60秒間塩化メチレンにフィルムの片面を浸漬した。
ルしやすさの評価 塩化メチレンで満たした容器に、縦lりθ踵、横200
vmの評価フィルムを片面が浸漬するよう載置し室温に
て60秒間塩化メチレンにフィルムの片面を浸漬した。
その後フィルムを室温にて乾燥し、20時間放置した。
塩化メチレンを浸漬した側の縦方向にカールしたフィル
ムのカールの度合を目視で評価し、以下のランクに分類
した。
ムのカールの度合を目視で評価し、以下のランクに分類
した。
ランク:◎ (極めて良好)
ランク二〇 (良好)
ランク:Δ (やや不良)
ランク=×(不良)
(2)面配向度及び平均屈折率
フィルムの屈折率の測定は、アタゴ銖製アツベの屈折計
を年月し、光源にはす) IJウムランプを用いて行な
った。
を年月し、光源にはす) IJウムランプを用いて行な
った。
フィルム面内の最大の屈折率ηr1 それに直角方向の
屈折率Cηβ、及び厚さ方向の屈折率ηαを求め、面配
向度及び平均屈折率を算出した。
屈折率Cηβ、及び厚さ方向の屈折率ηαを求め、面配
向度及び平均屈折率を算出した。
(3)水滴接触角
蒸留水を用い、20′C湿度6タチの条件下フィルムと
水滴との接触角をエルマ光学製ゴニオメータ−で測定し
た。水滴の直径は約2咽である。
水滴との接触角をエルマ光学製ゴニオメータ−で測定し
た。水滴の直径は約2咽である。
(4)極限粘度〔η〕
ポリマー1gをフェノール/テトラクロルエタン=り0
/’;0(重量比)の混合溶媒io。
/’;0(重量比)の混合溶媒io。
−に溶解し落下式粘度計を用い300Cで測定した。
次に、実施例及び比較例で用いたフィルムの製造方法を
示す。
示す。
実施例/
/、3μのSiO□が90ppm、−次粒径30rnμ
のSiO□がiooppm1ヘキサメチレンビスペラン
アミド(有機滑剤)が200 ppmとなるように調整
したポリエチレンテレフタレート樹脂を常法により乾燥
し290℃で溶融押出し冷却固化し無定形シートを得た
。
のSiO□がiooppm1ヘキサメチレンビスペラン
アミド(有機滑剤)が200 ppmとなるように調整
したポリエチレンテレフタレート樹脂を常法により乾燥
し290℃で溶融押出し冷却固化し無定形シートを得た
。
上記の無定形シートを縦方向に3.9倍、横方向にti
、o倍延伸した後u ! f ’Cで熱固定して二軸延
伸フィルムを得た。得られたフィルムの物性、及び特性
を表1に示す。
、o倍延伸した後u ! f ’Cで熱固定して二軸延
伸フィルムを得た。得られたフィルムの物性、及び特性
を表1に示す。
実施例2.3
実施例/において熱固定温度を2.320C。
292℃とした以外は、実施例/と同様に製膜してフィ
ルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表/に
示す。
ルムを得た。得られたフィルムの物性及び特性を表/に
示す。
実施例弘
実施例λにおいて有機滑剤をりθOppmにした以外は
、実施例コと同様に製膜してフィルムを得た。得られた
フィルムの物性及び特注を表1に示す。
、実施例コと同様に製膜してフィルムを得た。得られた
フィルムの物性及び特注を表1に示す。
比較例11 コ
実施例/、2において有機滑剤を含ない以外は実施例/
、2と同様に製膜しフィルムを得だ。
、2と同様に製膜しフィルムを得だ。
得られたフィルムの物性及び特性を表/に示す。
比較例3
比較例コにおいて縦延伸倍率3.0倍、横延伸率3.0
倍とする以外は比較例コと同様に製膜しフィルムを得た
。得られたフィルムの物性及び特性を表/に示す。
倍とする以外は比較例コと同様に製膜しフィルムを得た
。得られたフィルムの物性及び特性を表/に示す。
比較例q
実施例1において熱固定温度を、19ダCとする以外は
、実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィ
ルムの物性及び特性を表/に示す。
、実施例1と同様にしてフィルムを得た。得られたフィ
ルムの物性及び特性を表/に示す。
比較例り
実施例/において熱固定温度をコタ2°Cとする以外は
実施例/と同様にして比較例Sを製膜したが破断が多く
、長尺サンプルが得られなかった。
実施例/と同様にして比較例Sを製膜したが破断が多く
、長尺サンプルが得られなかった。
尚、実施例及び比較例で示した全ての二軸延伸フィルム
の厚さは25μである。
の厚さは25μである。
& /
〔発明の効果〕
本発明によれば、溶剤現像型フォトレジストフィルムに
おいて、塩化メチレンで処理してポリエステル層を感光
層から除去する際カールし難い特性を有するフォトレジ
スト用ベースフィルムを製造することができその工業的
価値は高い。
おいて、塩化メチレンで処理してポリエステル層を感光
層から除去する際カールし難い特性を有するフォトレジ
スト用ベースフィルムを製造することができその工業的
価値は高い。
Claims (1)
- (1)有機滑剤を含有するポリエステルフィルムであっ
て、下記式[1]〜[3]を同時に満足することを特徴
とするフォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム
。 0.0150≦ΔP≦0.180・・・・・・[1] 1.6020≦@n@≦1.6100・・・・[2] 65≦θ≦90・・・・・・[3] (式中、ΔP、@n@及びθはそれぞれ面配向度、平均
屈折率及び水滴接触角(deg)を表わす。)(2)有
機滑剤が脂肪族炭化水素、脂肪酸エステル、アルキレン
ビス脂肪族アミド及びアルキレンビス芳香族アミドから
選ばれた1種以上であり、その含有量が10ppm以上
10000ppm以下であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載のフォトレジスト用二軸延伸ポリエス
テルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25396387A JPH0196640A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25396387A JPH0196640A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0196640A true JPH0196640A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17258382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25396387A Pending JPH0196640A (ja) | 1987-10-08 | 1987-10-08 | フォトレジスト用二軸延伸ポリエステルフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0196640A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0338645A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH0338646A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
WO2000079344A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Element photosensible, rouleau d'element photosensible, procede de fabrication d'un motif de resine, motif de resine, substrat avec motif de resine sus-jacent, procede de fabrication d'un motif de cablage et motif de cablage associe |
-
1987
- 1987-10-08 JP JP25396387A patent/JPH0196640A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0338645A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
JPH0338646A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toray Ind Inc | 受像シート |
WO2000079344A1 (fr) * | 1999-06-24 | 2000-12-28 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Element photosensible, rouleau d'element photosensible, procede de fabrication d'un motif de resine, motif de resine, substrat avec motif de resine sus-jacent, procede de fabrication d'un motif de cablage et motif de cablage associe |
US7592124B2 (en) | 1999-06-24 | 2009-09-22 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photosensitive element, photosensitive element roll, process for the preparation of resist pattern using the same, resist pattern, resist pattern laminated substrate, process for the preparation of wiring pattern and wiring pattern |
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