JPH01951A - 画像形成方法 - Google Patents
画像形成方法Info
- Publication number
- JPH01951A JPH01951A JP62-156276A JP15627687A JPH01951A JP H01951 A JPH01951 A JP H01951A JP 15627687 A JP15627687 A JP 15627687A JP H01951 A JPH01951 A JP H01951A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- present
- silver halide
- water
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 84
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 52
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 37
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 33
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 25
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 16
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 10
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 44
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- 238000011161 development Methods 0.000 description 31
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 31
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 26
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 26
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 24
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 12
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 11
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 10
- 229960002086 dextran Drugs 0.000 description 10
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 10
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 10
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 10
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 9
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 7
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 5
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 4
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 4
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 3
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 3
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical group 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical group OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSRUBRSFDNKORM-UHFFFAOYSA-N 1,1-diaminopropan-1-ol Chemical compound CCC(N)(N)O LSRUBRSFDNKORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical class C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXZRQDIWHYFSGL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylpyrazolidin-3-one Chemical compound CN1CCC(=O)N1C OXZRQDIWHYFSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOSAPGZIZMAMTH-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-2-phenylbenzene Chemical group CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 VOSAPGZIZMAMTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 1-methylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)N=NC2=C1 HXQHRUJXQJEGER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 2-[3,3-diamino-1,2,2-tris(carboxymethyl)cyclohexyl]acetic acid Chemical compound NC1(N)CCCC(CC(O)=O)(CC(O)=O)C1(CC(O)=O)CC(O)=O RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 2-[dichloro(fluoro)methyl]sulfanylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(SC(Cl)(Cl)F)C(=O)C2=C1 NCDBYAPSWOPDRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCVJRXQHFJXZFZ-KVQBGUIXSA-N 2-amino-9-[(2r,4s,5r)-4-hydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]-3h-purine-6-thione Chemical compound C1=2NC(N)=NC(=S)C=2N=CN1[C@H]1C[C@H](O)[C@@H](CO)O1 SCVJRXQHFJXZFZ-KVQBGUIXSA-N 0.000 description 1
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBBMLBIXFDCCGQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3-oxazolidine Chemical compound C=CC1NCCO1 JBBMLBIXFDCCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylsulfonyl-n-[2-[(2-ethenylsulfonylacetyl)amino]ethyl]acetamide Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(=O)NCCNC(=O)CS(=O)(=O)C=C QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFJDQPJLANOOOB-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 KFJDQPJLANOOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-1,2-thiazole Chemical class C1CC=NS1 GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylamino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NCC1=CC=CC=C1 SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 101100411338 Caenorhabditis elegans qua-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000002260 anti-inflammatory agent Substances 0.000 description 1
- 229940121363 anti-inflammatory agent Drugs 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M benzododecinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 JBIROUFYLSSYDX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N chloroacetamide Chemical compound NC(=O)CCl VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000012258 culturing Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229960000633 dextran sulfate Drugs 0.000 description 1
- 108010042194 dextransucrase Proteins 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071264 lithium citrate Drugs 0.000 description 1
- WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K lithium citrate (anhydrous) Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002906 microbiologic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- UVXBYGHJZFBNGP-UHFFFAOYSA-M potassium [hydroxy(phosphonooxy)phosphoryl] hydrogen phosphate phosphoric acid Chemical compound [O-]P(O)(=O)OP(=O)(O)OP(=O)(O)O.[K+].P(=O)(O)(O)O UVXBYGHJZFBNGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- KYKNRZGSIGMXFH-ZVGUSBNCSA-M potassium bitartrate Chemical compound [K+].OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O KYKNRZGSIGMXFH-ZVGUSBNCSA-M 0.000 description 1
- 239000001508 potassium citrate Substances 0.000 description 1
- 229960002635 potassium citrate Drugs 0.000 description 1
- QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K potassium citrate (anhydrous) Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O QEEAPRPFLLJWCF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000011082 potassium citrates Nutrition 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229940074439 potassium sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000001472 potassium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229940111695 potassium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011005 potassium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083082 pyrimidine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960001790 sodium citrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011083 sodium citrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HMNUYYJYMOXWTN-UHFFFAOYSA-J strontium;barium(2+);disulfate Chemical compound [Sr+2].[Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HMNUYYJYMOXWTN-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N triammonium citrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O YWYZEGXAUVWDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は4真時性を損うことなく帯電防止性とフィルム
の搬送性が艮(、赤外域に分光増感されたレーザースキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感元材料(以下写真感光材料
と称す)全現像・定着して画像を形成する方法に関する
ものであり、特に短時間(15秒以内)に現像処理され
ても現像ムラ ゛全発生することがない画像形成方法に
関するものである。
の搬送性が艮(、赤外域に分光増感されたレーザースキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感元材料(以下写真感光材料
と称す)全現像・定着して画像を形成する方法に関する
ものであり、特に短時間(15秒以内)に現像処理され
ても現像ムラ ゛全発生することがない画像形成方法に
関するものである。
(従来の技術)
写真感光材料の露光方法の一つに原図を走査し、その1
ilii像信号に基づい℃ハロゲン化銀写真感光材斜上
に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像もしくは
ポジ画像全形ミニ−fる所謂スキャナ一方式による画像
形成方法が知られている。スキャナ一方式による画像形
成方法を実用した記録装置は種々あり、これらのスキャ
ナ一方式記録装置の記録用光源の7つとして半導体レー
ザーが使用される。
ilii像信号に基づい℃ハロゲン化銀写真感光材斜上
に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像もしくは
ポジ画像全形ミニ−fる所謂スキャナ一方式による画像
形成方法が知られている。スキャナ一方式による画像形
成方法を実用した記録装置は種々あり、これらのスキャ
ナ一方式記録装置の記録用光源の7つとして半導体レー
ザーが使用される。
半導体レーザーは小型で安価、しかも変調が容易であり
、長寿命である。また赤外域に発光するため、明るいセ
ーフライトが使用できるので、取扱い作業性が良くなる
という利点’に!している。
、長寿命である。また赤外域に発光するため、明るいセ
ーフライトが使用できるので、取扱い作業性が良くなる
という利点’に!している。
この半導体レーザーに用いられる感材は赤外域に分光増
感された写真感光材料であり、それはあ゛る釉のシアニ
ン色素ケハロゲン化銀写真乳剤に添加することによって
、その感光波長域を長波長側に拡張させる分光増感技術
によって得られる。赤外域の分光増感には、赤外光に対
して吸収全音する増感色素が用いられる。
感された写真感光材料であり、それはあ゛る釉のシアニ
ン色素ケハロゲン化銀写真乳剤に添加することによって
、その感光波長域を長波長側に拡張させる分光増感技術
によって得られる。赤外域の分光増感には、赤外光に対
して吸収全音する増感色素が用いられる。
(発明が解決しようとする間頭点)
しかし、この半導体レーザーを用いて画像形成に使用さ
れる赤外増感されたハロゲン化銀写真感光材料の帯電防
止性と搬送性は従来不十分であり問題であった。
れる赤外増感されたハロゲン化銀写真感光材料の帯電防
止性と搬送性は従来不十分であり問題であった。
写真感光材料は一般にミス絶縁性全方する支持体および
写真層から成っているので写真感光材料の製造工程中な
らびに使用時に同様または異糧物質の表面との間の接触
摩擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積さ
れろことが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害
を引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電
電荷が放電することによって感光性乳剤層が感光し写真
フィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹枝状や
羽毛状の線班を生ずることである。またこれらの蓄積さ
れた静電電荷はフィルム表面へ塵埃を付着させたり、撮
影やフィルム搬送機で搬送不良全生じたり、塗布が均一
に行なえないなどの第2次的な故障全誘起せしめる原因
にもなる。
写真層から成っているので写真感光材料の製造工程中な
らびに使用時に同様または異糧物質の表面との間の接触
摩擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積さ
れろことが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害
を引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電
電荷が放電することによって感光性乳剤層が感光し写真
フィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹枝状や
羽毛状の線班を生ずることである。またこれらの蓄積さ
れた静電電荷はフィルム表面へ塵埃を付着させたり、撮
影やフィルム搬送機で搬送不良全生じたり、塗布が均一
に行なえないなどの第2次的な故障全誘起せしめる原因
にもなる。
半導体レーザーを用いるスキャナ一方式においては、高
速且つ正確なフィルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像全得ることかできなくな
る。
速且つ正確なフィルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像全得ることかできなくな
る。
同様の問題は迅速処理が行なわれる自動現像機のフィル
ム搬送時(%に、現像浴前)において生じる。
ム搬送時(%に、現像浴前)において生じる。
静電気による障害をな(す九めの一つの方法はM&元材
料表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放電する前に短
時間に逸散せしめるようにすることである。
料表面の電気伝導性を上げて蓄積電荷が放電する前に短
時間に逸散せしめるようにすることである。
したがって、従来から写真感光材料の支持体や各穐塗布
表面層の導′亀性を同上させる方法が考えられ種々の吸
湿性物質や水溶性無機塩、ある椙の界面活性剤、ポリマ
ー等の利用が試みられてきた。
表面層の導′亀性を同上させる方法が考えられ種々の吸
湿性物質や水溶性無機塩、ある椙の界面活性剤、ポリマ
ー等の利用が試みられてきた。
例えば、ノニオン界面活性剤全表面保護層に含有させる
ことで良好な帯電防止性と搬送性を有した写真感光材料
を得ることができる。
ことで良好な帯電防止性と搬送性を有した写真感光材料
を得ることができる。
一方最近になり半導体レーザーを用いたスキャナ一方式
においても画像を早く見たいということが望まれ、その
ため従来よりも現像時間を短かくすること(従来は20
秒以上)が必要となって米た。
においても画像を早く見たいということが望まれ、その
ため従来よりも現像時間を短かくすること(従来は20
秒以上)が必要となって米た。
例えば、レーザースキャナー工程と現像処理工程が連続
的に行なわれるシステムにおいては、この点が特に必要
となり九。
的に行なわれるシステムにおいては、この点が特に必要
となり九。
しかし、前述のノニオン界面活性剤を用いた写真感光材
料は現像時間73秒以内で処理された場合に1現像ムラ
”と称する画像ムラを発生することが判明し重大な問題
となっている。この現像ムラは、前述のノニオン界面活
性剤は現像液中で非常に小さい溶解性を有し、感材表面
で析出てるために、感材が現像浴からスクイズされて定
着浴に移る際に現像液が感材の表面で不均一に残り、そ
れに対応し現像が不均一に生じるためであると考えられ
た。
料は現像時間73秒以内で処理された場合に1現像ムラ
”と称する画像ムラを発生することが判明し重大な問題
となっている。この現像ムラは、前述のノニオン界面活
性剤は現像液中で非常に小さい溶解性を有し、感材表面
で析出てるために、感材が現像浴からスクイズされて定
着浴に移る際に現像液が感材の表面で不均一に残り、そ
れに対応し現像が不均一に生じるためであると考えられ
た。
これは現像スクイズ後感材表面にムラ状に残っている現
像液によろ現像が、現像時間の短縮化のために写真感光
材料の現像速度全天き(したため、無視できないものと
なり、それが現像ムラとして残るためである。
像液によろ現像が、現像時間の短縮化のために写真感光
材料の現像速度全天き(したため、無視できないものと
なり、それが現像ムラとして残るためである。
またある種のノニオン界面活性剤は感光材料を重ね℃保
存したときの保存安定性を劣化させるという問題があっ
た(コンタクト写真性の劣化)。
存したときの保存安定性を劣化させるという問題があっ
た(コンタクト写真性の劣化)。
従って、本発明の第1の目的は、樗々の素材に対して発
電性が小さくなるよ5に帯電防止された赤外域に分光増
感されたレーザースキャナー用厚真感光材料全現像・定
着して画像形成する方法を提供fることにある、 本発明の第!の目的は、現像時間が73秒以内でも現像
ムラを生じない赤外域に分光増感され九し−ザースキャ
ナー用写真!rf&元材料を現像・定着して画像形成す
る方法を提供することにある。
電性が小さくなるよ5に帯電防止された赤外域に分光増
感されたレーザースキャナー用厚真感光材料全現像・定
着して画像形成する方法を提供fることにある、 本発明の第!の目的は、現像時間が73秒以内でも現像
ムラを生じない赤外域に分光増感され九し−ザースキャ
ナー用写真!rf&元材料を現像・定着して画像形成す
る方法を提供することにある。
本発明の第3の目的は、感材を長期保存しても感材同志
が接着したり、コンタクト写真性全劣化させることのな
いような帯電防止されたレーザースキャナー用感光材8
t−現像・定着して画像形成する方法を提供することに
ある。
が接着したり、コンタクト写真性全劣化させることのな
いような帯電防止されたレーザースキャナー用感光材8
t−現像・定着して画像形成する方法を提供することに
ある。
(問題点を解決するための手段)
本発明のこれらの目的は支持体の一方の側に赤外分光増
感されたハロゲン化銀乳剤層を少な(とも−層有するレ
ーザースキャナー用ハaゲン化銀感光材料を現像・定着
して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀感光材
料の乳剤層のある側に (1)少な(とも1種の7ニオ
ン界面活性剤、(2)現像液に対する溶解度がo、oo
srt*チ以上(30℃)でかつ/重t%水溶液の表面
張力が≠jダイン/為以下(30℃)でおるイオン性界
面活性剤を少なくともハL及び(3)下記−船人〔1〕
で表わされる重合体、デキストランあるいはセルロース
誘導体から選ばれる少な(とも/橿のポリマーを有し、
かつ現像時間が7〕秒以内で処理されろことに%徴とす
る画像形成方法によって達成された。
感されたハロゲン化銀乳剤層を少な(とも−層有するレ
ーザースキャナー用ハaゲン化銀感光材料を現像・定着
して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀感光材
料の乳剤層のある側に (1)少な(とも1種の7ニオ
ン界面活性剤、(2)現像液に対する溶解度がo、oo
srt*チ以上(30℃)でかつ/重t%水溶液の表面
張力が≠jダイン/為以下(30℃)でおるイオン性界
面活性剤を少なくともハL及び(3)下記−船人〔1〕
で表わされる重合体、デキストランあるいはセルロース
誘導体から選ばれる少な(とも/橿のポリマーを有し、
かつ現像時間が7〕秒以内で処理されろことに%徴とす
る画像形成方法によって達成された。
本発明はノニオン界面活性剤の現像液中での溶解性不良
が原因で生じる写真M&元材料の不均一な現像を、現像
液中でも溶解して界面張力が小さくなるよ5な界面活性
全音する特定のイオン性界面活性剤とかつ特定のポリマ
ーを用いて均一に現像させるようにしたことによって解
決したのものであり、これによって帯電防止性と機械搬
送性を損うことな(かつ現像時間73秒以内で処理され
ても良好な画像を得ることができたものである。
が原因で生じる写真M&元材料の不均一な現像を、現像
液中でも溶解して界面張力が小さくなるよ5な界面活性
全音する特定のイオン性界面活性剤とかつ特定のポリマ
ーを用いて均一に現像させるようにしたことによって解
決したのものであり、これによって帯電防止性と機械搬
送性を損うことな(かつ現像時間73秒以内で処理され
ても良好な画像を得ることができたものである。
本発明に用いられる赤外域に分光増感されたハロゲン化
銀写真乳剤は、赤外域に吸収を有する増感色素をハロゲ
ン化銀粒子に添加して得ることができる。
銀写真乳剤は、赤外域に吸収を有する増感色素をハロゲ
ン化銀粒子に添加して得ることができる。
まず、赤外光に対して吸収を有する増感色素について述
べる。
べる。
これらは例えばMees著 ’The Theoryo
f the Photographic Pro
cess 。
f the Photographic Pro
cess 。
第3版’ (MacMillan社/り66年発行)
のp、/りy−p、、2oiに記載されている。この場
合分−M:、感度即ち、赤外域の光に対する感度は高感
度でおることが望ましく、かつ乳剤の保存中にも感度の
変化の小さいことが望まれる。このために従来数多くの
増感色素が開発されてきた。これらは例えば米国特許第
、2 、O’?! 、♂3p号、同第2.θり!、IJ
ls号、同11.5’jj、り3り号、同第3.≠!r
!、り7?号、同第3,351.77≠号、同$3,3
73.り27号、同第3.jざ2.3≠≠号1例えば米
国特許第2゜153.03r号及び同第3,6りj、?
rt号に記載されているトリアジン誘導体、米国特許第
3、≠37,071号に記載されているメルカプト化合
物、米国特許第3.I4J!、3/I号に記載されてい
るチオウレア化合物、米国特許第3゜6/3,432号
KFIi2載されているピリミジン誘導体などがあり、
ま九米国特許第≠、0//、θど3号には了ザインデン
化合物を用いることにより、減感童の赤外増感色Xk使
用して赤外増感上行うことがi己載されている。
のp、/りy−p、、2oiに記載されている。この場
合分−M:、感度即ち、赤外域の光に対する感度は高感
度でおることが望ましく、かつ乳剤の保存中にも感度の
変化の小さいことが望まれる。このために従来数多くの
増感色素が開発されてきた。これらは例えば米国特許第
、2 、O’?! 、♂3p号、同第2.θり!、IJ
ls号、同11.5’jj、り3り号、同第3.≠!r
!、り7?号、同第3,351.77≠号、同$3,3
73.り27号、同第3.jざ2.3≠≠号1例えば米
国特許第2゜153.03r号及び同第3,6りj、?
rt号に記載されているトリアジン誘導体、米国特許第
3、≠37,071号に記載されているメルカプト化合
物、米国特許第3.I4J!、3/I号に記載されてい
るチオウレア化合物、米国特許第3゜6/3,432号
KFIi2載されているピリミジン誘導体などがあり、
ま九米国特許第≠、0//、θど3号には了ザインデン
化合物を用いることにより、減感童の赤外増感色Xk使
用して赤外増感上行うことがi己載されている。
あるいは又、待開昭60−g0ざ44/号記載のトリカ
ルボシアニン色素及び/又はぴ−キノリン核含有ジカル
ボシアニン色素が好ましく用いられる。以下に代表的な
赤外増感色素1示すが勿論、本発明はこれらに限定され
るものではない。
ルボシアニン色素及び/又はぴ−キノリン核含有ジカル
ボシアニン色素が好ましく用いられる。以下に代表的な
赤外増感色素1示すが勿論、本発明はこれらに限定され
るものではない。
H5べ\6”5
C2)i5■”−
CsJ’ls I−
(C)12)4803−
C2H5ニー
C2)i5I
これらの増感色素の添加量は、ハロゲン化銀1モル当り
j X / 0−7モル〜j X / 0−3モル、好
ましくは/×10 ’モル〜/X/ 0−3モル、特に
好ましくはJ X / 0−’モル〜jj×10 ’モ
ルである。
j X / 0−7モル〜j X / 0−3モル、好
ましくは/×10 ’モル〜/X/ 0−3モル、特に
好ましくはJ X / 0−’モル〜jj×10 ’モ
ルである。
次に本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、塩化銀、
臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃臭化銀な
ど、塩素、臭素、沃素化物から成るハロゲン化銀であれ
ばいずれでもよいが、特に臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀が好ましい。ハロゲン化鉄中の沃化銀は0−20モル
チが好ましく、0〜70%がと(に好ましい。ハロゲン
化銀中の塩化銀は多くとも20モルチ以下であることが
好ましく少なくとも10モルチ以下であることが更に好
ましくjモルチ以下であることがとくに好ましい。
臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、塩沃化銀、塩沃臭化銀な
ど、塩素、臭素、沃素化物から成るハロゲン化銀であれ
ばいずれでもよいが、特に臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化
銀が好ましい。ハロゲン化鉄中の沃化銀は0−20モル
チが好ましく、0〜70%がと(に好ましい。ハロゲン
化銀中の塩化銀は多くとも20モルチ以下であることが
好ましく少なくとも10モルチ以下であることが更に好
ましくjモルチ以下であることがとくに好ましい。
又待に好ましく用いられるハロゲン化銀粒子は(100
)面/(///)量比が7以上のハロゲン化銀粒子であ
り種々の方法でv!4mすることができる。最も一般的
な方法は粒子形成中のpAg値をざ、10以下の一定値
に保ち硝酸銀水溶液とアルカリハライド水溶液とを同時
添加する方法である(いわゆるコントロールダブルジェ
ット法)、より好ましくはpAg値を7.IO以下史に
好ましくはpAg値f7.60以下とするのがよい。
)面/(///)量比が7以上のハロゲン化銀粒子であ
り種々の方法でv!4mすることができる。最も一般的
な方法は粒子形成中のpAg値をざ、10以下の一定値
に保ち硝酸銀水溶液とアルカリハライド水溶液とを同時
添加する方法である(いわゆるコントロールダブルジェ
ット法)、より好ましくはpAg値を7.IO以下史に
好ましくはpAg値f7.60以下とするのがよい。
ハロゲン化銀粒子形成を核形成とその成長という2つの
タイプに分は九時、核形成時のpAg値の制限はなく、
そのpAgは前述と同様である。
タイプに分は九時、核形成時のpAg値の制限はなく、
そのpAgは前述と同様である。
これらの乳剤は粗粒子でも微粒子でも、fたはそれらの
混合粒子でもよいが、好1しくは平均粒径が(例えばプ
ロジエクテツドエリア@)数平均法による測定で約O0
O≠μから1.0μの粒子のものが好ましい。また、サ
イズ分布としては変動係数20%以内好ましくは134
以内の単分散乳剤を用いることが好ましい。
混合粒子でもよいが、好1しくは平均粒径が(例えばプ
ロジエクテツドエリア@)数平均法による測定で約O0
O≠μから1.0μの粒子のものが好ましい。また、サ
イズ分布としては変動係数20%以内好ましくは134
以内の単分散乳剤を用いることが好ましい。
粒子形状は好ヱしくけ立方体がよいが前記好ましい面指
数条件金満すものであれば、じゃがいも状、球状、板状
、粒子径が粒子厚みの3倍以上の平板状など変則的な結
晶形t−Vするものでもよい。
数条件金満すものであれば、じゃがいも状、球状、板状
、粒子径が粒子厚みの3倍以上の平板状など変則的な結
晶形t−Vするものでもよい。
不発明に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳剤層は
一層にかぎらず二層以上としてもよく、また粒子サイズ
、感度等の異なる2種以上の乳剤を混合もしくは別層に
用いてもよい。また乳剤層は支持体の片側に限らず両面
に設けてもよい。
一層にかぎらず二層以上としてもよく、また粒子サイズ
、感度等の異なる2種以上の乳剤を混合もしくは別層に
用いてもよい。また乳剤層は支持体の片側に限らず両面
に設けてもよい。
これら感光性乳剤に実質的に非感光性乳剤(例えば内部
のかぶつ危機粒子乳剤)を混合して用いてもよい、勿論
、別々の層に塗り分けて用いてもよい。
のかぶつ危機粒子乳剤)を混合して用いてもよい、勿論
、別々の層に塗り分けて用いてもよい。
更にハロゲン化銀粒子の結晶構造は内部迄−様なもので
あっても、’!7’C内部と外部が異質の層状構造tし
たものや、英国特許@l、3J、!≠/号、米国特許第
3,1s22.31I号に記されているようないわゆる
コンバージョン型のものであってもよい。1之潜像を主
として表面に形成する型のもの、粒子内部に形成する内
部潜像型のもの何れでもよい。
あっても、’!7’C内部と外部が異質の層状構造tし
たものや、英国特許@l、3J、!≠/号、米国特許第
3,1s22.31I号に記されているようないわゆる
コンバージョン型のものであってもよい。1之潜像を主
として表面に形成する型のもの、粒子内部に形成する内
部潜像型のもの何れでもよい。
本発明の乳剤にはイリジウムイオンが好ましく用いられ
、イリジウムイオンの含有は、乳剤a14m時に水溶性
イリジウム化合物(たとえばヘキサクロロイリジウム(
!I)#塩、ヘキサクロロイリジウム(IV)#l堰)
全水溶液の形で添加することによって達成される0粒子
形成の九めのハロゲン化銀と同じ水溶液の形で添加して
もよいし、粒子形成前添加、粒子形成途中添加、粒子形
成後から化学増感までの添加のいづれかでもよいが、特
に好ましいのは粒子形成時の添加である。
、イリジウムイオンの含有は、乳剤a14m時に水溶性
イリジウム化合物(たとえばヘキサクロロイリジウム(
!I)#塩、ヘキサクロロイリジウム(IV)#l堰)
全水溶液の形で添加することによって達成される0粒子
形成の九めのハロゲン化銀と同じ水溶液の形で添加して
もよいし、粒子形成前添加、粒子形成途中添加、粒子形
成後から化学増感までの添加のいづれかでもよいが、特
に好ましいのは粒子形成時の添加である。
このハロゲン化銀粒子の形成時には粒子の成長をコント
ロールするためにハロゲン化銀溶剤として例工ば、アン
モニア、ロダンカリ、ロダンアンモン、チオエーテル化
合物、チオン化合物、アミン化f!物などヶ用いること
ができる。
ロールするためにハロゲン化銀溶剤として例工ば、アン
モニア、ロダンカリ、ロダンアンモン、チオエーテル化
合物、チオン化合物、アミン化f!物などヶ用いること
ができる。
ハロゲン化銀溶剤以外にも粒子表面に吸着して晶避を制
御する化合物例えば、シアニン系の増感色素やテトラザ
インデン系化合物、メルカプト化合物など金粒子形成時
に用いることが出来る。
御する化合物例えば、シアニン系の増感色素やテトラザ
インデン系化合物、メルカプト化合物など金粒子形成時
に用いることが出来る。
ハロゲン化鏝写真乳剤は、通常用いられている化学増感
法、例えば金増感、硫黄増感、還元増感、チオエーテル
化合物による増感などの各種化学増感法が適用されろ。
法、例えば金増感、硫黄増感、還元増感、チオエーテル
化合物による増感などの各種化学増感法が適用されろ。
本発明に用いられるノニオン界面活性剤としては親油基
として炭素数弘〜30のアルキル基、アルケニル基、了
り−ル基、アラルキル基を有し親水基として炭素数、2
〜乙の置換%無置換のポリオキシアルキレン基を有する
化合物であり、好ましくは下記−船人(1−/)、(1
−,2)又は〔1−3〕で表わされる化合物上挙げるこ
とができる。
として炭素数弘〜30のアルキル基、アルケニル基、了
り−ル基、アラルキル基を有し親水基として炭素数、2
〜乙の置換%無置換のポリオキシアルキレン基を有する
化合物であり、好ましくは下記−船人(1−/)、(1
−,2)又は〔1−3〕で表わされる化合物上挙げるこ
とができる。
−船人(J −/ )
R1−A(−f3+ 几
一般式〔1−23
一般式(J−j)
式中、Rは水素原子、炭素数/〜弘のアルキル基(例工
ばメチル、エチル、ヒドロキシエチルなト)、又は炭素
数/〜jリアルキルカルボニル(例工ばアセチル、クロ
ルアセチル、カルボキシメチルカルボニルなど)全表わ
す。
ばメチル、エチル、ヒドロキシエチルなト)、又は炭素
数/〜jリアルキルカルボニル(例工ばアセチル、クロ
ルアセチル、カルボキシメチルカルボニルなど)全表わ
す。
又、8工は炭素数7〜30の置換又は無置換のアルキル
基、アルケニル基又はアリール基を表わす。
基、アルケニル基又はアリール基を表わす。
Aは一〇−基、−8−基、−CO(J−基、−N−R1
゜基、−C(J −N Rlo 基、又は−802N
RIO1k (ここでRIOは、水素原子、置換又
は無′r4を換のアルキル基を示す。)を表わ丁。
゜基、−C(J −N Rlo 基、又は−802N
RIO1k (ここでRIOは、水素原子、置換又
は無′r4を換のアルキル基を示す。)を表わ丁。
Bは、オキシアルキレン基ヲ表わす。
R12、R3、R7、Rgは水素原子、!換もしくは無
を換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スル
ホンアミド基、カルバモイル基或いはスルファモイル基
を表わす。
を換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スル
ホンアミド基、カルバモイル基或いはスルファモイル基
を表わす。
又式中R6及びR8は、fi!!換もしくは無置換のア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基或いはスルファモイルit表わす
。−船人CI+ −3)でフ二二ル環の置換基は左右非
対称でもよい。
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、アシル基、アミド基、スルホンアミ
ド基、カルバモイル基或いはスルファモイルit表わす
。−船人CI+ −3)でフ二二ル環の置換基は左右非
対称でもよい。
凡 及び几、は、水素原子%置換もしくは無電換のアル
キル基、又はアリール基t−表わす。R4と86、几、
と几7及びIt8と凡、は互いに連結して置換もしくは
無置換の環會形成してもよい。
キル基、又はアリール基t−表わす。R4と86、几、
と几7及びIt8と凡、は互いに連結して置換もしくは
無置換の環會形成してもよい。
nt、nz、R3及びR4はオキシアルキレン基の平均
重合度でろってλ〜30の数である。
重合度でろってλ〜30の数である。
又mは平均重合度であり、j−j Oの数である。
本発明の好ましい例を以下に記す。
Bは好ましくはλ〜乙の炭素七有するオキシアルキレン
基であり、特に好ましくは、オキシエチレン基、オキシ
アルキレン基、オキシ(ヒドロキシ)プロピレン:Ih
、オキシブチレン基、オキシスチレン基が挙げられる。
基であり、特に好ましくは、オキシエチレン基、オキシ
アルキレン基、オキシ(ヒドロキシ)プロピレン:Ih
、オキシブチレン基、オキシスチレン基が挙げられる。
特に好ましくはオキシエチレン基、オキシ(ヒドロキシ
)プロピレン基である。
)プロピレン基である。
R1は好ましくは炭素数q〜、2グのアルキル基、アル
ケニル基、アルキルアリール基であり、特に好ましくは
ヘキシル基、ドデシル基、インステアリル基、オレイル
基、t−ブチルフェニル丞、λ。
ケニル基、アルキルアリール基であり、特に好ましくは
ヘキシル基、ドデシル基、インステアリル基、オレイル
基、t−ブチルフェニル丞、λ。
≠−ジーt−ブチルフェニル基%2.’I−−ジーt−
ペンチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、m−ペ
ンタデカフェニル基、t−オクチルフェニル基、ノ、4
t−ジノニルフェニル基、オクチルナフチル基等である
。
ペンチルフェニル基、p−ドデシルフェニル基、m−ペ
ンタデカフェニル基、t−オクチルフェニル基、ノ、4
t−ジノニルフェニル基、オクチルナフチル基等である
。
R2,)R3,几6、几7、R8及び凡9は好ましくは
メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、t−アミ
ル、t−ヘキシル、t−オクチル、ノニル、テシル、ド
デシル、トリクロロメチル、トリクロロメチル、/−フ
ェニルエチル1.2−フェニル−2−プロピル等の炭素
数/〜コOの置換又は無置換のアルキル基、フェニル基
、p−りOOフェニル基等の置換又は無yL換の了り−
ル基、−〇R11(ここでR11は炭素数1−20の置
換又は無置換のアルキル基又はアリール基を表わす。
メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、t−アミ
ル、t−ヘキシル、t−オクチル、ノニル、テシル、ド
デシル、トリクロロメチル、トリクロロメチル、/−フ
ェニルエチル1.2−フェニル−2−プロピル等の炭素
数/〜コOの置換又は無置換のアルキル基、フェニル基
、p−りOOフェニル基等の置換又は無yL換の了り−
ル基、−〇R11(ここでR11は炭素数1−20の置
換又は無置換のアルキル基又はアリール基を表わす。
以下同じである)で表わされる置換又は無置換のアルコ
キシ基又はアリールオキシ基、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、−CO几!1で表わされるアシル基、−
N R12COR11(ここにR12は水素原子又は炭
素数/〜20のアルキル基を表わす。以下同じ)で表わ
されるアミド基、−N几、2S02R1□で表わされる
スルホンアミド基。
キシ基又はアリールオキシ基、塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、−CO几!1で表わされるアシル基、−
N R12COR11(ここにR12は水素原子又は炭
素数/〜20のアルキル基を表わす。以下同じ)で表わ
されるアミド基、−N几、2S02R1□で表わされる
スルホンアミド基。
或いは
であり、又R2、R3%几7、R9け水素原子であって
もよい。これらのうちR6、几8は好ましくはアルキル
基又はハロゲン原子であり、%に好ましくはかさ高いt
−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基等の3級ア
ルキル基である。R7、R9は特に好tL<は水素原子
である。すなわち、コ、弘−ジ置換フェノールから合成
されろ一般式(U −j )の化合物が特に好ましい。
もよい。これらのうちR6、几8は好ましくはアルキル
基又はハロゲン原子であり、%に好ましくはかさ高いt
−ブチル基、t−アミル基、t−オクチル基等の3級ア
ルキル基である。R7、R9は特に好tL<は水素原子
である。すなわち、コ、弘−ジ置換フェノールから合成
されろ一般式(U −j )の化合物が特に好ましい。
R4、R5は、好ましくは水素原子、メチル基。
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−へブ
チル基、/−エチルアミル基、n−ワンデシル基、トリ
クロロメチル基、トリブロモメチル基等の置換もしくは
無置換のアルキル基、α−フリル基、フェニル基、ナフ
チル基、p−りOロフェニル基、p−メトキシフェニル
基、m−ニトロフェニル基等の置換もしくは無置換のア
リール基である。又はR+4と凡5%R6と几フ及びR
8とR9は互いに連結して置換もしくは無置換の環を形
成しても良く、例えばシクロヘキシル環である。
チル基、/−エチルアミル基、n−ワンデシル基、トリ
クロロメチル基、トリブロモメチル基等の置換もしくは
無置換のアルキル基、α−フリル基、フェニル基、ナフ
チル基、p−りOロフェニル基、p−メトキシフェニル
基、m−ニトロフェニル基等の置換もしくは無置換のア
リール基である。又はR+4と凡5%R6と几フ及びR
8とR9は互いに連結して置換もしくは無置換の環を形
成しても良く、例えばシクロヘキシル環である。
これらのうちR4と几5は待に好ましくは、水素原子、
炭素数/〜gのアルキル基、フェニル基、フリル基であ
る。nl、R2、R3及びR4は特に好ましくはj〜3
0の数である。R3と04は同じでも異なっても良い。
炭素数/〜gのアルキル基、フェニル基、フリル基であ
る。nl、R2、R3及びR4は特に好ましくはj〜3
0の数である。R3と04は同じでも異なっても良い。
これらの化合物は例えば米国特許第2.りざ2゜631
号、同3.≠2ざ、弘!6号、同J、4tj7.076
号、同3.弘j4c、G、2j号、同3゜!!21り7
2号、同J 、1sjJ 、337号、特公昭j/−7
1,10号、特開昭J3−λり7/J号、特開昭3弘−
tり626号、特開昭jざ一203≠3j号、特開昭j
♂−20ざ7弘3号、堀口博著「新界面活性剤」(三共
出版/り7弘年)等に記載されている。
号、同3.≠2ざ、弘!6号、同J、4tj7.076
号、同3.弘j4c、G、2j号、同3゜!!21り7
2号、同J 、1sjJ 、337号、特公昭j/−7
1,10号、特開昭J3−λり7/J号、特開昭3弘−
tり626号、特開昭jざ一203≠3j号、特開昭j
♂−20ざ7弘3号、堀口博著「新界面活性剤」(三共
出版/り7弘年)等に記載されている。
次に本発明に好ヱしく用いられるノニオン界面活性剤の
具体例を示す。
具体例を示す。
化合物例
1− / C11)R2,p(J(J(−Cf(2
CH2(J九H1−、l C15)i3□C0(J
%C)12CH2(J−)15)11−≠ C3)11
5(J%C)12CM2(J−)−、)11−jC1□
)(250(0H2C)12U営H1−6C16)13
3(J(−C)12C)L2(Jすぼhl−、!i′C
2□H450+CH□CH2Oす25 Hl −// 1 −/、2 1−/j a +b = / j ■ C13)127CON +C)1rC)120±12’
1−/7 a+b−20 1−/タ Cl2H258(−C)12C)12(
Jす16”C1□HzsO+ CHCHz O+s (
Ck42 CHz (J +−!s )1h C)12 cH20(−CH2(J12 U−)−12
)11 −.2j ]−J≠ 0+CH2c)120テ]H 1−コj (J)1 に81−115− t Cg)11.− を次に
本発明に用いられる現像液に対する溶解度が0.003
g量−以上でかつその表面張力が弘jdy(1/cm以
下(/!l?J、現像液中、30℃)t−有するイオン
性界面活性剤について述べる。
CH2(J九H1−、l C15)i3□C0(J
%C)12CH2(J−)15)11−≠ C3)11
5(J%C)12CM2(J−)−、)11−jC1□
)(250(0H2C)12U営H1−6C16)13
3(J(−C)12C)L2(Jすぼhl−、!i′C
2□H450+CH□CH2Oす25 Hl −// 1 −/、2 1−/j a +b = / j ■ C13)127CON +C)1rC)120±12’
1−/7 a+b−20 1−/タ Cl2H258(−C)12C)12(
Jす16”C1□HzsO+ CHCHz O+s (
Ck42 CHz (J +−!s )1h C)12 cH20(−CH2(J12 U−)−12
)11 −.2j ]−J≠ 0+CH2c)120テ]H 1−コj (J)1 に81−115− t Cg)11.− を次に
本発明に用いられる現像液に対する溶解度が0.003
g量−以上でかつその表面張力が弘jdy(1/cm以
下(/!l?J、現像液中、30℃)t−有するイオン
性界面活性剤について述べる。
本発明のイオン性界面活性剤は、疎水基として炭素数弘
以上の置換、無置換のアルキル、アルケニル、アラルキ
ル、アリール基であり、親水基としては、アニオン、カ
チオン、ベタイン、基である。
以上の置換、無置換のアルキル、アルケニル、アラルキ
ル、アリール基であり、親水基としては、アニオン、カ
チオン、ベタイン、基である。
好ましい疎水基としては、炭素l!6〜≠Oの置w、5
11mのアルキル、アルケニル、アラルキル。
11mのアルキル、アルケニル、アラルキル。
アリール基であり、例えば、ヘキシル、オクチル、ノニ
ル、デシル、ドデシル、セチル、ステアリル。
ル、デシル、ドデシル、セチル、ステアリル。
オレイル、ノニルフェニル、オクチルフェニル、ジt−
アミルフェニル、ジノニルフェニル、ドデシルフェニル
、ドデシルビフェニル、ビス(ジーtブチルフェニル)
メチレン、ビス(ジt−ブチ/I/フェニル)−フェニ
ルメチレン、パーフルオロオクチル、パーフルオロデシ
ル、パーフルオロヘキシル、パーフルすロノニレイル、
ノに−フルオaドデシルなどが挙げられろ。
アミルフェニル、ジノニルフェニル、ドデシルフェニル
、ドデシルビフェニル、ビス(ジーtブチルフェニル)
メチレン、ビス(ジt−ブチ/I/フェニル)−フェニ
ルメチレン、パーフルオロオクチル、パーフルオロデシ
ル、パーフルオロヘキシル、パーフルすロノニレイル、
ノに−フルオaドデシルなどが挙げられろ。
又、親水基(イオン性)として好ましいのは、アニオン
基としてはカルボン酸塩、スルホン酸塩。
基としてはカルボン酸塩、スルホン酸塩。
リン酸塩、硫酸エステル塩、ホウ酸塩が、カチオン基と
しては、3級アミン、 lAiアミン、ホスホニウム、
スルホニウムであり、ベタイン基としてはアミノ酸、カ
ルボキシベタイン、スルホキシベタイン、ホスホベタイ
ンであり、親水基としては特に好ましいのはカルボン酸
塩、スルホン酸塩、リンl’l?塩、硫酸エステル塩、
3級もしくはμ級アミン、カルボキシベタイン、スルホ
ベタイン、なおアニオンの塩としては水素、アルカリ金
属、アルカリ土類、アンモニウム、低級アミンが好まし
い。又イオン性親水基に更にポリオキシルアルキレン(
アルキレンは炭素数/〜6)全同時に含有していること
が好ましい、 以下にこれらの具体的な化合物を列挙する。
しては、3級アミン、 lAiアミン、ホスホニウム、
スルホニウムであり、ベタイン基としてはアミノ酸、カ
ルボキシベタイン、スルホキシベタイン、ホスホベタイ
ンであり、親水基としては特に好ましいのはカルボン酸
塩、スルホン酸塩、リンl’l?塩、硫酸エステル塩、
3級もしくはμ級アミン、カルボキシベタイン、スルホ
ベタイン、なおアニオンの塩としては水素、アルカリ金
属、アルカリ土類、アンモニウム、低級アミンが好まし
い。又イオン性親水基に更にポリオキシルアルキレン(
アルキレンは炭素数/〜6)全同時に含有していること
が好ましい、 以下にこれらの具体的な化合物を列挙する。
化合物例
■−/C3H1□0OCCH2CH2
C3H1□0(JCCH2CH−803N al −2
■−3
B−3(J
ll
Cu3H35(C)CH2CH2:rv P (0Na
) 2n−+ C12H250+Ck42CM20fgC)12C(J
(JKC,6H33(0−CH2C)12す5 N (
C)120H2014)2 B rIt−// CH3 CH□C112(Jll ■−73 C3H。
) 2n−+ C12H250+Ck42CM20fgC)12C(J
(JKC,6H33(0−CH2C)12す5 N (
C)120H2014)2 B rIt−// CH3 CH□C112(Jll ■−73 C3H。
08F158C12N%CH4CH2(IhべCH21
8(J4Na08F、7802 N −(C)I2CH
20+40CCH21−/j H−it。
8(J4Na08F、7802 N −(C)I2CH
20+40CCH21−/j H−it。
F
■ −77
C13H27C(J(J (C)12 CH2(J+V
4CH2% SO3N al−/り 次に本発明で使用する一般式(L)で表わされる重合体
、デキストラン誘導体及びセルロース誘導体について詳
細に記す。
4CH2% SO3N al−/り 次に本発明で使用する一般式(L)で表わされる重合体
、デキストラン誘導体及びセルロース誘導体について詳
細に記す。
まず−船人〔LJで表わされる重合体について記す。
一般式〔LJ
−[−X←−千Y37
式中、Xはアクリルアミド類モノマー残基を、YばXと
共重合可能なX以外のモノマーを表わし、2種類以上の
混合物でもよい、Xは70〜/QOモルチ、yは30〜
θモルチを表わす。又分子量は0.2〜jO万である。
共重合可能なX以外のモノマーを表わし、2種類以上の
混合物でもよい、Xは70〜/QOモルチ、yは30〜
θモルチを表わす。又分子量は0.2〜jO万である。
本発明で好ましく用いられる一般式(LJの重合物のX
としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ア
ルキルアクリルアミド(アルキルとしてはメチル、エチ
ル、ヒドロキシエチルなど)。
としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ア
ルキルアクリルアミド(アルキルとしてはメチル、エチ
ル、ヒドロキシエチルなど)。
ヘーアルキルメタクリルアミド(アルキルは前記と同じ
)が挙げられ、好ましいYとしては例えばビニルアルコ
ール、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコ
ン酸、無水マレイン酸、カルボキシスチレン、スルホス
チレン、ビニルスルホン酸、−CON)iC(C)13
)2C1i28031−1 及びこれらの塩(例えばア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩、低級アルキルアミン塩
)、又はビニルビOリドン、ビニルオキサゾリジン、ア
クリル酸エステル(例えば、メチル−、エチル−、ヒド
ロキシエチル−アクリレート)メタクリル酸エステルC
例、tit:、メチル−、エチル−、ヒトaキシエチル
−メタクリレート)、イタコン酸エステル(例えばメチ
ル、エチル、ヒドロキシエチルイメコナート)、スチレ
ン、マレイン酸エステル(例、tば、モノメチル−、ジ
メチル−、モノエチル−/、ジエチル、モノヒドロキシ
エチル)、アクリロニトリル、メタクリレートリルが挙
げられる。−船人(L)の重合体の中で好ましく用いら
れる具体例を次に表わす。
)が挙げられ、好ましいYとしては例えばビニルアルコ
ール、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコ
ン酸、無水マレイン酸、カルボキシスチレン、スルホス
チレン、ビニルスルホン酸、−CON)iC(C)13
)2C1i28031−1 及びこれらの塩(例えばア
ルカリ金属塩、アンモニウム塩、低級アルキルアミン塩
)、又はビニルビOリドン、ビニルオキサゾリジン、ア
クリル酸エステル(例えば、メチル−、エチル−、ヒド
ロキシエチル−アクリレート)メタクリル酸エステルC
例、tit:、メチル−、エチル−、ヒトaキシエチル
−メタクリレート)、イタコン酸エステル(例えばメチ
ル、エチル、ヒドロキシエチルイメコナート)、スチレ
ン、マレイン酸エステル(例、tば、モノメチル−、ジ
メチル−、モノエチル−/、ジエチル、モノヒドロキシ
エチル)、アクリロニトリル、メタクリレートリルが挙
げられる。−船人(L)の重合体の中で好ましく用いら
れる具体例を次に表わす。
o $ I″I
S 暮尖 ・ ・ ・ ・
・ 宜 酬 職 III
概訣 訣 腺 h ) \
辱 鵠 )串 中 磯 職臂 + ) 〜 暮\
・ \ −\一
一 一般式(L)で表わされる重合物はol、2〜jO万の
分子量全音するが、好ましくは0.2〜/j万、特に好
ヱしくは0.μ〜lO万の分子量を有するものである。
S 暮尖 ・ ・ ・ ・
・ 宜 酬 職 III
概訣 訣 腺 h ) \
辱 鵠 )串 中 磯 職臂 + ) 〜 暮\
・ \ −\一
一 一般式(L)で表わされる重合物はol、2〜jO万の
分子量全音するが、好ましくは0.2〜/j万、特に好
ヱしくは0.μ〜lO万の分子量を有するものである。
一般式(L)で表わされる重合物は、水溶性であるのが
好まし1jacにおいて水への溶解度が0.1wt%以
上がより好ましく、/、0wt4以上が特に好ましい。
好まし1jacにおいて水への溶解度が0.1wt%以
上がより好ましく、/、0wt4以上が特に好ましい。
次に本発明で使用されるデキストラン誘導体について記
すと、その分子量は0./万〜100万のものであり、
好ましくは0.2万〜30万、特に好ヱしくけ、0.3
万〜2o万である。
すと、その分子量は0./万〜100万のものであり、
好ましくは0.2万〜30万、特に好ヱしくけ、0.3
万〜2o万である。
更に本発明で使用されるデキストラン誘導体について詳
細に記す。
細に記す。
デキストランは、α−/、6結合したD−グルコースの
重合体であり、一般に、糖類の存在下でデキストラン生
産菌を培養することによって得るが、ロイコノストック
、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液よ
り、分離したデキストランシュクラーゼを糖類と作用さ
せて得ることができる。また、これらのネイティブデキ
ストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法に
よって、所望の分子量1で低下させ、極限粘度が0.0
3〜2.3の範囲のものも得ることができる。
重合体であり、一般に、糖類の存在下でデキストラン生
産菌を培養することによって得るが、ロイコノストック
、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液よ
り、分離したデキストランシュクラーゼを糖類と作用さ
せて得ることができる。また、これらのネイティブデキ
ストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法に
よって、所望の分子量1で低下させ、極限粘度が0.0
3〜2.3の範囲のものも得ることができる。
また、デキストラン変性物とは、デキストラン分子中に
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
でろカルボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル結
合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、及び
、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシアル
キル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキスト
ランなどが挙げられる。
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫酸基がエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
でろカルボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、及
び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステル結
合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、及び
、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシアル
キル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキスト
ランなどが挙げられる。
次に本発明で使用されるセルロース誘導体について記す
と、セルロース、セルロース誘導体(例えはメチルセル
ロース、ヒトOキシエチルセルロース、ヒトミキシピロ
ピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、硫酸化
セルロースなど)であり、その分子量は0./万〜10
0万であり、好ましく#iO、−万〜30万、特に好ま
しくは0゜3万〜コ0万である。
と、セルロース、セルロース誘導体(例えはメチルセル
ロース、ヒトOキシエチルセルロース、ヒトミキシピロ
ピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、硫酸化
セルロースなど)であり、その分子量は0./万〜10
0万であり、好ましく#iO、−万〜30万、特に好ま
しくは0゜3万〜コ0万である。
本発明の成分(1)のノニオン界面活性剤及び成分(3
)のイオン性界面活性剤の添加量は各々7〜2゜00q
7m”が好ましく、更には、j 〜300111p/m
2がより好ましく、j〜300キ/m2が特に好ましい
。
)のイオン性界面活性剤の添加量は各々7〜2゜00q
7m”が好ましく、更には、j 〜300111p/m
2がより好ましく、j〜300キ/m2が特に好ましい
。
又、これらの界面活性剤は各々単独でもよいし2a以上
全混合して用いてもよい。
全混合して用いてもよい。
本発明の成分(3)の−船人(L)の重合体、デキスト
ラン誘導体及びセルロース誘導体の中から選ばれる特定
のポリマーの添加量は感材を構成する成分(3)の特定
のポリマーも含んだ全バインダー量に対して、2−30
重量%、より好ましくは3〜弘0111i%、 %に好
ましくはio 〜303Itsである。
ラン誘導体及びセルロース誘導体の中から選ばれる特定
のポリマーの添加量は感材を構成する成分(3)の特定
のポリマーも含んだ全バインダー量に対して、2−30
重量%、より好ましくは3〜弘0111i%、 %に好
ましくはio 〜303Itsである。
成分(3)の特定のポリマーは単独でもよいし2種類以
上の混合物であっても良い。
上の混合物であっても良い。
本発明の成分(1)のノニオン界面活性剤及び成分(2
)のイオン性界面活性剤及び成分(3)の特定のポリマ
ーの添加場所は写真/!l+元材料のハロゲン化銀乳剤
側の少なくとも1層である。
)のイオン性界面活性剤及び成分(3)の特定のポリマ
ーの添加場所は写真/!l+元材料のハロゲン化銀乳剤
側の少なくとも1層である。
層としては例えば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗層
などを挙げることができる。表面保護層が2層以上から
なる場合はそのいづれの層でもよく、又表面保護層の上
にさらにオーバーコートとして用いることができる。こ
の5ち特に好ましいのは表面保護層である。
などを挙げることができる。表面保護層が2層以上から
なる場合はそのいづれの層でもよく、又表面保護層の上
にさらにオーバーコートとして用いることができる。こ
の5ち特に好ましいのは表面保護層である。
本発明のノニオン界面活性剤、特定のイオン性界面活性
剤及び特定のポリマーを感材に含有させることにより、
帯電防止性全損うことなく、又現像時間/j秒以内の処
理で現像ムラを生じることなく写真感度の高い画像を得
ることができた。
剤及び特定のポリマーを感材に含有させることにより、
帯電防止性全損うことなく、又現像時間/j秒以内の処
理で現像ムラを生じることなく写真感度の高い画像を得
ることができた。
本発明のノニオン界面活性剤及びイオン性界面活性剤を
含有する層あるいは他の層に別の帯電防止剤を併用する
こともでき、こうすることによって更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。
含有する層あるいは他の層に別の帯電防止剤を併用する
こともでき、こうすることによって更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。
このような帯電防止剤にはアニオン、カチオン、ベタイ
ン性重合物、含フツ素界面活性剤、金属酸化物、コブイ
ドシリカ等や硫識バリウムストロンチウム、ポリメタク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル−メタクリル醗共重
合体、特開昭62−tm7号に記載の含フツ素微粒子、
特願昭61一コ/PO/W号に記載の含ケイ素iット剤
、コロイドシリカ又は粉末シリカ等からなるいわゆるマ
ット剤七挙げることができる。マット剤の添加層は最外
層でもよいし、最外層より支持体側の層で4よい。
ン性重合物、含フツ素界面活性剤、金属酸化物、コブイ
ドシリカ等や硫識バリウムストロンチウム、ポリメタク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル−メタクリル醗共重
合体、特開昭62−tm7号に記載の含フツ素微粒子、
特願昭61一コ/PO/W号に記載の含ケイ素iット剤
、コロイドシリカ又は粉末シリカ等からなるいわゆるマ
ット剤七挙げることができる。マット剤の添加層は最外
層でもよいし、最外層より支持体側の層で4よい。
又、x’y−vンクリコール、フロピレンゲリコール、
/、/、/−トリメチロールプロノン等特開昭j4(−
?P6コ6に示されるようなポリオール化合物を本発明
の界面活性剤を含有する層あるいは他の層に添加するこ
とが出来、こうすることによっても更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。
/、/、/−トリメチロールプロノン等特開昭j4(−
?P6コ6に示されるようなポリオール化合物を本発明
の界面活性剤を含有する層あるいは他の層に添加するこ
とが出来、こうすることによっても更に好ましい帯電防
止効果を得ることができる。
こnらの中でも特に含フツ素界面活性剤を使用すること
によって更に良好な帯電防止能を得ることができる。
によって更に良好な帯電防止能を得ることができる。
好ましい含弗素界面活性剤としては、炭素数参以上のフ
ルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリール基r
育し、イオン性基としてアニオン基(スルホン震(壇)
、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸(塩)、カチ
オン基(アミン13に%アンモニウム壇、芳香族アミン
塩、スルホニt)A塩、ホスホニウム塩)、ベタイン基
(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウム塩、ス
ルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホアンモニ
ウム塩)又はノニオン基(Il換、無置換のポリオキシ
アルキレン基、ポリグリセリル基ま九はソルビタン残基
)t−有する界面活性剤が挙げられる。
ルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリール基r
育し、イオン性基としてアニオン基(スルホン震(壇)
、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸(塩)、カチ
オン基(アミン13に%アンモニウム壇、芳香族アミン
塩、スルホニt)A塩、ホスホニウム塩)、ベタイン基
(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウム塩、ス
ルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホアンモニ
ウム塩)又はノニオン基(Il換、無置換のポリオキシ
アルキレン基、ポリグリセリル基ま九はソルビタン残基
)t−有する界面活性剤が挙げられる。
こnらの含弗素界面活性剤は特開昭弘デー10722号
、英国特許第t、3io、ztt号、米国特許第弘、3
3!、λoi号、同弘、3≠7゜ior号、英国特許第
1,1415,111号、特開昭!!−7≠’?WJr
号、同jt−iytij弘弘号、英国特許第1.≠35
P、≠Oコ号などに記載されている。
、英国特許第t、3io、ztt号、米国特許第弘、3
3!、λoi号、同弘、3≠7゜ior号、英国特許第
1,1415,111号、特開昭!!−7≠’?WJr
号、同jt−iytij弘弘号、英国特許第1.≠35
P、≠Oコ号などに記載されている。
これらの好ましい具体例を以下に記す。
1−/ C,F、7803に
1 2 C7Fty C00N aH−30,Fl
、C)i2CM2080.Na■−≠
c3i−i。
、C)i2CM2080.Na■−≠
c3i−i。
c、、 Fl7 Bt)2へ一〇)12cO(JKl
−A C0F、、 CUUCH2Ci’tC)i2
S(J3N a■ CH 1−7C3F15CH2C)iz(JUC−CH4C4
H,υC)C−CH−803Na 駿 CH3 H3 Cハ2C)12U)1 1−/ / 1−/λ CH3 夏−73 CIO)i21 C,Fエフsuz N +CH2Cl−12(J+、:
5)i■−76 n+m=//、j 1−/7 c3H7 C8Fl7802 N %C)i zcHz O−ガ丁
H08F150H2C)i2C1(−C)12C1−1
2(J−)−H)i■−λ/C3H7 CB Fl 7802 N +CH2C)i−CH2−
0+rfCH2CH2UカフhH ■−λl ○ [有] 08Fよ78(J3 N(02H5)4これらの含
フツ素界面活性剤の添加量は0./〜1000119/
ゼであればよく、好ましくは0゜2−.2jOキ/ゼ、
特に好ましくは0.3〜/Q0119/ゴである。
−A C0F、、 CUUCH2Ci’tC)i2
S(J3N a■ CH 1−7C3F15CH2C)iz(JUC−CH4C4
H,υC)C−CH−803Na 駿 CH3 H3 Cハ2C)12U)1 1−/ / 1−/λ CH3 夏−73 CIO)i21 C,Fエフsuz N +CH2Cl−12(J+、:
5)i■−76 n+m=//、j 1−/7 c3H7 C8Fl7802 N %C)i zcHz O−ガ丁
H08F150H2C)i2C1(−C)12C1−1
2(J−)−H)i■−λ/C3H7 CB Fl 7802 N +CH2C)i−CH2−
0+rfCH2CH2UカフhH ■−λl ○ [有] 08Fよ78(J3 N(02H5)4これらの含
フツ素界面活性剤の添加量は0./〜1000119/
ゼであればよく、好ましくは0゜2−.2jOキ/ゼ、
特に好ましくは0.3〜/Q0119/ゴである。
写真層のバインダーとしてはゼラチン、カゼイ□
ンなどの蛋白質、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん
誘導体の糖誘導体、合成親水性コロイド例えばポリビニ
ルアルコール、ボリーヘービニルピロリドン、ポリアク
リル酸共重合体、!たはこれらの゛誘導体および部分加
水分解物を併用することもできる。
ンなどの蛋白質、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん
誘導体の糖誘導体、合成親水性コロイド例えばポリビニ
ルアルコール、ボリーヘービニルピロリドン、ポリアク
リル酸共重合体、!たはこれらの゛誘導体および部分加
水分解物を併用することもできる。
ここに言うゼラチンはいわゆる石灰処理ゼラチン、酸処
理ゼラチン、誘導体ゼラチンおよび酵素処理ゼラチンを
指す。それらの分子量には、特に限定はな(,0,2〜
20万が好ましい。
理ゼラチン、誘導体ゼラチンおよび酵素処理ゼラチンを
指す。それらの分子量には、特に限定はな(,0,2〜
20万が好ましい。
本発明の写真構成層には本発明のノニオン界面活性剤及
びイオン性界面活性剤の他に他の公知の界面活性剤を単
独または混合して添加してもよい。
びイオン性界面活性剤の他に他の公知の界面活性剤を単
独または混合して添加してもよい。
それらの塗布助剤として用いられるものであるが、時と
してその他の目的、例えば乳化分散、増感その他の写真
特性の改良、等のためにも適用される。
してその他の目的、例えば乳化分散、増感その他の写真
特性の改良、等のためにも適用される。
これらの界面活性剤はサポニン等の天然界面活性剤、高
級アルキルアミン類、第μ級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、
リン酸、硫酸エステル、リン酸エステル等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類等
の両性界面活性剤にわけられろ。
級アルキルアミン類、第μ級アンモニウム塩類、ピリジ
ンその他の複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、
リン酸、硫酸エステル、リン酸エステル等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類等
の両性界面活性剤にわけられろ。
又、本発明に於ては、滑性化組成物、例えば米国特許筒
3,072.ざ37号、同第3,010゜3/7号、同
第3 、 j!j 、り7o号、同第3゜、22弘、3
37号及び日本公開時許昭32−/、2り320号に示
されるような変性シリコーン等を写真構成中に含むこと
ができる。
3,072.ざ37号、同第3,010゜3/7号、同
第3 、 j!j 、り7o号、同第3゜、22弘、3
37号及び日本公開時許昭32−/、2り320号に示
されるような変性シリコーン等を写真構成中に含むこと
ができる。
本発明に於いて用いられるハレーション防止染料及び/
又はイラジェーション防止染料としては、730nm以
上の長波長に実質的な吸収?有する染料が用いられる。
又はイラジェーション防止染料としては、730nm以
上の長波長に実質的な吸収?有する染料が用いられる。
ここでハレーション防止染料は、中間層、下塗り層、ハ
レーション防止層、バック層、乳剤層などに、イラジェ
ーション防止染料は、乳剤層の他に中間層などに用いら
れる。ま九これらの染料は好ましくは10〜/l/ぜ、
より好ましくは10−3〜0.39/イの添加量で用い
られる。例えば、米国特許第2.了りj、り33号、同
3./77.07!r号、同p、5lri。
レーション防止層、バック層、乳剤層などに、イラジェ
ーション防止染料は、乳剤層の他に中間層などに用いら
れる。ま九これらの染料は好ましくは10〜/l/ぜ、
より好ましくは10−3〜0.39/イの添加量で用い
られる。例えば、米国特許第2.了りj、り33号、同
3./77.07!r号、同p、5lri。
323号%特開昭30−1,001.!llp号に記載
の染料や、特願昭1./−/1,27ざ7号に記載され
ているような染料が好ましく用いられる。
の染料や、特願昭1./−/1,27ざ7号に記載され
ているような染料が好ましく用いられる。
本発明の写真感光材料は写真構成中に米国特許第3.μ
//、り//号、同3.≠/1.り72号、待公昭1A
J−333/号、特願昭67−/りj!711号、特開
昭62−・ざ2730号、同62−777≠j号、等に
記載のポリマーラテックスを含むことができる。
//、り//号、同3.≠/1.り72号、待公昭1A
J−333/号、特願昭67−/りj!711号、特開
昭62−・ざ2730号、同62−777≠j号、等に
記載のポリマーラテックスを含むことができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層。
辰面保護層などに用いられるカブリ防止剤、安定剤、硬
膜剤、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マット剤、増白剤、
染料等については特に制限はなく、例えばリサーチ・デ
ィスクロージャー誌(Research Disclo
sure) / 7A巻2λ〜3/頁(lり7g年7.
2月)の記th!全参考にすることが出来る。
膜剤、可塑剤、潤滑剤、塗布助剤、マット剤、増白剤、
染料等については特に制限はなく、例えばリサーチ・デ
ィスクロージャー誌(Research Disclo
sure) / 7A巻2λ〜3/頁(lり7g年7.
2月)の記th!全参考にすることが出来る。
本発明に用いられる感光材料としては銀画像を与えろ感
光材料(例えば医療用感光材料、製版用感光材料など)
の他に色素画像を与える感光材料(例えばカラー印画紙
、カラー反転ペーパーなど)上挙げることができる。
光材料(例えば医療用感光材料、製版用感光材料など)
の他に色素画像を与える感光材料(例えばカラー印画紙
、カラー反転ペーパーなど)上挙げることができる。
次に本発明における現像時間が73秒以内で処理される
現像・定着・水洗・乾燥工程について記す。
現像・定着・水洗・乾燥工程について記す。
本発明において「現像時間」、「定着時間」とは各々、
処理する感光材料が自現機の現像タンク液に浸漬されて
から次の定着液に浸漬されるまでの時間、定着タンク液
に浸漬されてから次の水洗タンク液(安定i)に浸漬さ
れるまでの時間を言う。
処理する感光材料が自現機の現像タンク液に浸漬されて
から次の定着液に浸漬されるまでの時間、定着タンク液
に浸漬されてから次の水洗タンク液(安定i)に浸漬さ
れるまでの時間を言う。
また「水洗時間」とは、水洗タンク液に浸漬されている
時間をいう。
時間をいう。
また「乾燥時間」とは通常33℃〜lQO℃好ましくは
<10℃〜♂O℃の温風が吹きつけられる乾燥ゾーンが
自現機には設置されているが、その乾燥ゾーンに入って
いる時間をいう。
<10℃〜♂O℃の温風が吹きつけられる乾燥ゾーンが
自現機には設置されているが、その乾燥ゾーンに入って
いる時間をいう。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には良好な性
能を得やすい点で、ジヒドロキシベンゼン類ト/−フェ
ニル−3−ピラゾリドン類の組合せが最も好ましい。勿
論この他にp−アミノフェノール系現像主薬を含んでも
よい。
能を得やすい点で、ジヒドロキシベンゼン類ト/−フェ
ニル−3−ピラゾリドン類の組合せが最も好ましい。勿
論この他にp−アミノフェノール系現像主薬を含んでも
よい。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、イソプロ
ピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2.3−
ジクロロハイドロキノン、!、j−ジクaロバイドOキ
ノン、2.3−ジブロムハイドロキノン、2.j−ジメ
チルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノンが
好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、イソプロ
ピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2.3−
ジクロロハイドロキノン、!、j−ジクaロバイドOキ
ノン、2.3−ジブロムハイドロキノン、2.j−ジメ
チルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノンが
好ましい。
本発明に用いる/−フェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては/−フェニル−4Ll≠−
ジメチル−3−ピラゾリドン、/−フェニル−≠−メチ
ルー≠−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、/−フ
ェニル−≠、弘−ジヒドロキシメチルー3−ピラゾリド
ン、などがある。
の誘導体の現像主薬としては/−フェニル−4Ll≠−
ジメチル−3−ピラゾリドン、/−フェニル−≠−メチ
ルー≠−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、/−フ
ェニル−≠、弘−ジヒドロキシメチルー3−ピラゾリド
ン、などがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
は〜−メチルーp−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、ヘー(β−ヒドロキシエチル)−p−アミンフ
ェノール、N−(lI−ヒドロキシフェニル)グリシン
、λ−メチルーp−アミノフェノール、p−ベンジルア
ミノフェノール等があるが、なかでもヘーメチルーp−
アミノフェノールが好筐しい。
は〜−メチルーp−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、ヘー(β−ヒドロキシエチル)−p−アミンフ
ェノール、N−(lI−ヒドロキシフェニル)グリシン
、λ−メチルーp−アミノフェノール、p−ベンジルア
ミノフェノール等があるが、なかでもヘーメチルーp−
アミノフェノールが好筐しい。
現像主薬は通常0.O1モル/2〜/、2モル/iの竜
で用いられるのが好ましい。
で用いられるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.λモル/2以上待に0.弘モル/2以上が好
ましい。また、上限は2.jモル/ft、でとするのが
好ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.λモル/2以上待に0.弘モル/2以上が好
ましい。また、上限は2.jモル/ft、でとするのが
好ましい。
本発明に用いる現像液のpHはりから/31!での範囲
のものが好ましい。更に好ましくはpjlQから/2ま
での範囲である。
のものが好ましい。更に好ましくはpjlQから/2ま
での範囲である。
pHの設定のために用いるアルカリ剤くけ水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリワムの如きp
H調節剤を含む。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリワムの如きp
H調節剤を含む。
特願昭1p/−,21501@(ホウ酸塩)、特開昭6
0−231433号(例えば、サッカロース、アセトオ
キシム、j−スルホサルチル酸)、リン酸塩、炭酸塩な
どの緩衝剤ケ用いてもよい。
0−231433号(例えば、サッカロース、アセトオ
キシム、j−スルホサルチル酸)、リン酸塩、炭酸塩な
どの緩衝剤ケ用いてもよい。
上記成分以外に用いられる添加剤としては、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソ
ルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノール
の類5via剤:/−7二二ルー!−メルカプトテトラ
ゾール。
ウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤:
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセロソ
ルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノール
の類5via剤:/−7二二ルー!−メルカプトテトラ
ゾール。
λ−メルカプトベンツイミダゾール−j−スルホン酸ナ
トリワム塩等のメルカプト系化合物、!−二トロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、3−メチルベンツト
リアゾール等のペンツトリアゾール系化合物などのカプ
リ防止剤を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭!l、−101
.2≠μ号記載のアミノ化合物などを含んでもよ(・。
トリワム塩等のメルカプト系化合物、!−二トロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、3−メチルベンツト
リアゾール等のペンツトリアゾール系化合物などのカプ
リ防止剤を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界
面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、特開昭!l、−101
.2≠μ号記載のアミノ化合物などを含んでもよ(・。
本発明においては現像液に銀汚れ防止剤、例えば特開昭
jA−、2弘3≠7号に記載の化合物、を用いることが
できろ。
jA−、2弘3≠7号に記載の化合物、を用いることが
できろ。
本発明の現像液には、特開昭36−701.2弘弘号に
記載のアルカノールアミンなどのアミノ化合物を用いる
ことができる8 この他り、F、A、メイソン著「フォトグラフィック・
プロセシング・ケミストリー」、フォーカル・プレス刊
(/り66年)の!26〜22’?頁、米国特許第x、
i!73.oij号、同一、!タコ、36≠号、特開昭
4Lど−6グタ33号などに記載のものを用いてもよい
。
記載のアルカノールアミンなどのアミノ化合物を用いる
ことができる8 この他り、F、A、メイソン著「フォトグラフィック・
プロセシング・ケミストリー」、フォーカル・プレス刊
(/り66年)の!26〜22’?頁、米国特許第x、
i!73.oij号、同一、!タコ、36≠号、特開昭
4Lど−6グタ33号などに記載のものを用いてもよい
。
不発明においては現像液として前述の3−ピラゾリドン
系現像主薬を含有する/剤からなる現像液を補充して用
いてもよい。これらの3−ピラゾリドン化合物は、現像
液lL中にo、iy〜30り添加され、より好ましくは
0.j1〜λoy。
系現像主薬を含有する/剤からなる現像液を補充して用
いてもよい。これらの3−ピラゾリドン化合物は、現像
液lL中にo、iy〜30り添加され、より好ましくは
0.j1〜λoy。
更に好fしくはly〜/jPtfi加される。又上記/
剤からなる現儂液Fi濃縮化して使用することもでき、
その場合には写真感光材料が処理されるに従って現像液
を水で希釈することが好ましい。
剤からなる現儂液Fi濃縮化して使用することもでき、
その場合には写真感光材料が処理されるに従って現像液
を水で希釈することが好ましい。
本発明における現像処理工程の現像温度及び時間は約2
3”C〜約jO℃で13秒以下であるが好ましくは30
℃〜≠Q℃で6秒〜/j秒である。
3”C〜約jO℃で13秒以下であるが好ましくは30
℃〜≠Q℃で6秒〜/j秒である。
次に本発明で使用される定着液はチオ硫酸塩、を含む水
溶液であり、pHj 、、r以上、好ましくは≠、2〜
j、j全2〜j、j全有ましくはpHj、l、j!−3
,にである。
溶液であり、pHj 、、r以上、好ましくは≠、2〜
j、j全2〜j、j全有ましくはpHj、l、j!−3
,にである。
定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニウムイオンと
全必須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫
酸アンモニウムが特に好ヱしい。定着剤の使用量は適宜
変えろことができ、一般には約O1/〜約6モル/2で
ある。
ウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニウムイオンと
全必須成分とするものであり、定着速度の点からチオ硫
酸アンモニウムが特に好ヱしい。定着剤の使用量は適宜
変えろことができ、一般には約O1/〜約6モル/2で
ある。
定着液には硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム[
t−含んでもよ(、それらには、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがある。
t−含んでもよ(、それらには、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがある。
定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン酸あるいはそ
れらの線導体全単独で、あるいは、2檀以上、併用する
ことができる。これらの化合物は定着液/2につき%o
、oo、sモル以上含むものが有効で、特に0.07
モル/2〜0.03モル/Lが特に有効である。
れらの線導体全単独で、あるいは、2檀以上、併用する
ことができる。これらの化合物は定着液/2につき%o
、oo、sモル以上含むものが有効で、特に0.07
モル/2〜0.03モル/Lが特に有効である。
具体的には、酒石酸、酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウ
ム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸、クエン酸ナ
トリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、クエ
ン酸アンモニウムなどがある。
ム、酒石酸カリウムナトリウム、クエン酸、クエン酸ナ
トリウム、クエン酸カリウム、クエン酸リチウム、クエ
ン酸アンモニウムなどがある。
定着液には所望により保恒剤(例えば、亜硫酸塩、重亜
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、@19)、p
H調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤や特願昭6o−、zigjbx号記載の化合物を含む
ことができる。
硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、@19)、p
H調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤や特願昭6o−、zigjbx号記載の化合物を含む
ことができる。
定着温度及び時間は約り0℃〜約30℃で6秒〜/分が
好ましいが30℃〜弘Q℃で6秒〜30秒がより好まし
く、更に好ましくは30℃〜≠θ℃で6秒〜/j秒であ
る。
好ましいが30℃〜弘Q℃で6秒〜30秒がより好まし
く、更に好ましくは30℃〜≠θ℃で6秒〜/j秒であ
る。
本発明においては定着液濃縮液が自動現像機に、感光材
料が処理されるに従って、それを希釈する水と共に補充
される場合、定着液#縮液は/剤で構成されてもよい。
料が処理されるに従って、それを希釈する水と共に補充
される場合、定着液#縮液は/剤で構成されてもよい。
/剤として定着液原液が安定に存在し5るのはpH≠、
j以上であり、より好ましくはp)i弘。
j以上であり、より好ましくはp)i弘。
63以上である。pH≠、3未満では、特に定着液が実
際に1吏われろまでの期間長年放置された場合にチオ硫
酸塩が分解して最終的には硫化してしマウためである。
際に1吏われろまでの期間長年放置された場合にチオ硫
酸塩が分解して最終的には硫化してしマウためである。
従ってpH4t、3以上の範囲では亜硫ヲガスの発生も
少なく、作業環境上も良くなる。pHの上限はそれ程厳
しくないが余り高pHで定着されると、以後水洗されて
も膜pHが高くなって膜膨潤が大きくなり従って乾燥負
荷が大きくなるのでI)H7−!で位が限度である。゛
アルミニウム塩を使って硬膜する定着液ではアルミニウ
ム塩の析出沈澱防止pHはj、jまでが限界である。
少なく、作業環境上も良くなる。pHの上限はそれ程厳
しくないが余り高pHで定着されると、以後水洗されて
も膜pHが高くなって膜膨潤が大きくなり従って乾燥負
荷が大きくなるのでI)H7−!で位が限度である。゛
アルミニウム塩を使って硬膜する定着液ではアルミニウ
ム塩の析出沈澱防止pHはj、jまでが限界である。
本発明の処理では現像液fたは定着液のいずれかが上記
のような希釈水全必要としない(すなわち原液の′f、
まで補充てる)いわゆる使用液であっても構わない。
のような希釈水全必要としない(すなわち原液の′f、
まで補充てる)いわゆる使用液であっても構わない。
各濃縮液の処理タンク液への供給量及び希釈水との混合
割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して糊々変化させる
ことができるが、一般にa縮液対希沢水tfi/対O−
tの割合で、これらの現像液、定N液各々の全量は感光
材料/+7L′に対して30ゴから/300dであるこ
とが好ましい。
割合はそれぞれ濃縮液の組成に依存して糊々変化させる
ことができるが、一般にa縮液対希沢水tfi/対O−
tの割合で、これらの現像液、定N液各々の全量は感光
材料/+7L′に対して30ゴから/300dであるこ
とが好ましい。
本発明においては感光材料は現像、定着した後、水洗又
は安定化処理が施される。
は安定化処理が施される。
水洗又は安定化処理は本分野で公知のあらゆる方法全適
用することができ、本分野で公知の種々の添加剤上含有
する水金水洗水又は安定化液として用いることもできる
。防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液に使用する
ことにより、感光材料/d当たり32以下の補充量とい
う節水処理も可能となるのみならず、自現機設置の配管
が不要となり更にストック槽の削減が可能となる。即ち
現像液及び定着液用の調液希釈水及び水洗水又は安定化
液全共通の一層のストック槽から供給でき、自動現像機
の一層のコンパクト化が可能となる。
用することができ、本分野で公知の種々の添加剤上含有
する水金水洗水又は安定化液として用いることもできる
。防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液に使用する
ことにより、感光材料/d当たり32以下の補充量とい
う節水処理も可能となるのみならず、自現機設置の配管
が不要となり更にストック槽の削減が可能となる。即ち
現像液及び定着液用の調液希釈水及び水洗水又は安定化
液全共通の一層のストック槽から供給でき、自動現像機
の一層のコンパクト化が可能となる。
防黴手段を施した水を水洗水又は安定化液に併用すると
、水垢の発生等が有効に防止し得るため、感光材料/イ
当たりO〜31.好ましくは0−/λ、の節水処理を行
うことができる。
、水垢の発生等が有効に防止し得るため、感光材料/イ
当たりO〜31.好ましくは0−/λ、の節水処理を行
うことができる。
ここで、補充量がOの場合とは、水洗槽中の水洗水が自
然蒸発等により減少した分だけ適宜補充する以外は全く
補充を行なわない、即ち実質的に無補充のいわゆる「た
め水」処理方法を行なう場合をいう。
然蒸発等により減少した分だけ適宜補充する以外は全く
補充を行なわない、即ち実質的に無補充のいわゆる「た
め水」処理方法を行なう場合をいう。
補充it少な(する方法として、古くより多段向流方式
(例えば−段、3段など)が知られている。この多段向
流方式全本発明に適用すれば定着後の感光材料はだんだ
んと清浄な方間、つまり定着液で汚れていない処理液の
方に順次接触して処理されて行(ので、更に効率の良い
水洗がなされる。これによれば、不安定なチオ硫酸塩等
が適度に除去され、変退色の可能性が一層小さくなって
、更に著しい安定化効釆が得られる。水洗水も従来く比
べ、非常に少ない量ですむ。
(例えば−段、3段など)が知られている。この多段向
流方式全本発明に適用すれば定着後の感光材料はだんだ
んと清浄な方間、つまり定着液で汚れていない処理液の
方に順次接触して処理されて行(ので、更に効率の良い
水洗がなされる。これによれば、不安定なチオ硫酸塩等
が適度に除去され、変退色の可能性が一層小さくなって
、更に著しい安定化効釆が得られる。水洗水も従来く比
べ、非常に少ない量ですむ。
少量の水洗水で水洗するときには!#願昭6θ−/72
り6に号に記載のスクイズローラー洗浄槽を設けること
がより好ヱしい。
り6に号に記載のスクイズローラー洗浄槽を設けること
がより好ヱしい。
更に水洗又は安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバー70−液の一部又は全部は特開昭1.0−2
33/33号に記載されているようにその前の処理工程
である定着能?有する処理液に利用することもできる。
じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴から
のオーバー70−液の一部又は全部は特開昭1.0−2
33/33号に記載されているようにその前の処理工程
である定着能?有する処理液に利用することもできる。
こうすることによって上記ストック水の節水ができ、し
かも廃液がより少なくなるためより好ましい。
かも廃液がより少なくなるためより好ましい。
防黴手段としては、特開昭1,0−263り3り号に記
され九紫外線照射法、同60−2632弘θ号に記され
た磁場音用いる方法、同6i−i3/632号に記され
たイオン交換樹脂を用いて純水にする方法、特願昭60
−.233107号、同1.0−、!りj♂り≠号、同
、4 / −& 、? 030号、同6/−j/3?1
.号に記載の防漬剤を用いる方法を用いることができる
。
され九紫外線照射法、同60−2632弘θ号に記され
た磁場音用いる方法、同6i−i3/632号に記され
たイオン交換樹脂を用いて純水にする方法、特願昭60
−.233107号、同1.0−、!りj♂り≠号、同
、4 / −& 、? 030号、同6/−j/3?1
.号に記載の防漬剤を用いる方法を用いることができる
。
史には、L、E、West ”Weter Qua1
口yCriteria ’ Photo Sci
&Eng、Vol。
口yCriteria ’ Photo Sci
&Eng、Vol。
り/V、6(/り&j)、M、W、Beach@Mic
robiological Growths in
Motion−Picture Processin
g’S八IPTE Jourへal Vol、J’
j、(/’77A)。
robiological Growths in
Motion−Picture Processin
g’S八IPTE Jourへal Vol、J’
j、(/’77A)。
几、U、Deegan、’Photo Process
ingWash Water Biocides ’
J、ImagingTech、 Vol / 0.4
A (/ 9115 )及び特開昭37−ざj弘2号、
同37−jど/≠3号、同j♂−70!/4t3号、同
!;7−/3λ/≠6号、同j♂−/ど63/号、同j
7−タ7j30号、同37−/!7コ≠弘号などに記載
されている防菌剤、防パイ剤、界面活性剤などケ併用す
ることもできる。
ingWash Water Biocides ’
J、ImagingTech、 Vol / 0.4
A (/ 9115 )及び特開昭37−ざj弘2号、
同37−jど/≠3号、同j♂−70!/4t3号、同
!;7−/3λ/≠6号、同j♂−/ど63/号、同j
7−タ7j30号、同37−/!7コ≠弘号などに記載
されている防菌剤、防パイ剤、界面活性剤などケ併用す
ることもできる。
史に、水洗浴には、几、T、Kreiman署J−Im
age、 ’I’ech / 0 、 (6’)241
2 (/りg弘)に記載されたインチアゾリン系化合物
、RESEA几C1(DISCLO8URE 第2o、
s巻、Item 203;乙(/りど7年、3月号)
に記載されたイソチアゾリン系化合物、同第2.2に巻
、fte+n 22f143 (/ 9g3年、ψ月
号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、特願昭67
−j/3り6号に記載された化合物、など全防張剤(M
icrobiocide) として併用することもで
きる。
age、 ’I’ech / 0 、 (6’)241
2 (/りg弘)に記載されたインチアゾリン系化合物
、RESEA几C1(DISCLO8URE 第2o、
s巻、Item 203;乙(/りど7年、3月号)
に記載されたイソチアゾリン系化合物、同第2.2に巻
、fte+n 22f143 (/ 9g3年、ψ月
号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、特願昭67
−j/3り6号に記載された化合物、など全防張剤(M
icrobiocide) として併用することもで
きる。
更に防パイ剤の具体例としては、フェノール、μmクロ
ロフェノール、ペンタクロロフェノール、クレゾール、
1(J−7二二ルフエノール、りOロフエン、ジクaa
7エン、ホルムアルデヒド、ゲルタールアルデヒド、ク
ロルアセト了ミド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、
2−(4t−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベン
ゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−ジ
メチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオロジク
ロロメチルチオ)−フタルイミド1,2.IA、l−ト
リクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテルな
どがある。
ロフェノール、ペンタクロロフェノール、クレゾール、
1(J−7二二ルフエノール、りOロフエン、ジクaa
7エン、ホルムアルデヒド、ゲルタールアルデヒド、ク
ロルアセト了ミド、p−ヒドロキシ安息香酸エステル、
2−(4t−チアゾリン)−ベンゾイミダゾール、ベン
ゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベンジル−ジ
メチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオロジク
ロロメチルチオ)−フタルイミド1,2.IA、l−ト
リクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテルな
どがある。
防黴手段を施して水ストック槽に保存され九本は前記現
像液足看液などの処理液原液の希釈水としても水洗水と
しても共用されるのがスペースが小さくてすむ点で好ま
しい。しかし防黴手段を施し之調液希釈水と水洗水(又
は安定化液)とを分け℃別槽にそれぞれ保管することも
できるし、どちらか一方だff’t−水道から直接とっ
てもよい。
像液足看液などの処理液原液の希釈水としても水洗水と
しても共用されるのがスペースが小さくてすむ点で好ま
しい。しかし防黴手段を施し之調液希釈水と水洗水(又
は安定化液)とを分け℃別槽にそれぞれ保管することも
できるし、どちらか一方だff’t−水道から直接とっ
てもよい。
別イーに分けて保管したときは、防徽十段全施した上に
、水洗水(又は安定浴)には棟々の箔加剤を含有させる
ことができる。
、水洗水(又は安定浴)には棟々の箔加剤を含有させる
ことができる。
例えば、アルミニウムとのキレート安定変定数1ogK
値が、10以上のキレート化合物を含有させてもよい。
値が、10以上のキレート化合物を含有させてもよい。
これらは、定着液中に硬膜剤としエアルミニウム化合物
を含む場合水洗水中での自沈を防止するのに有効である
。
を含む場合水洗水中での自沈を防止するのに有効である
。
キレート剤の具体例としては、エチレンジアミン四酢酸
(logK=/乙、/、以下同じ)、シク0ヘキサンジ
アミン四酢IIS+(/7.!、)、ジアミノプロパノ
ール0酢q(/3.1)、ジエチレントリアミン五酢#
1(/1.≠)、トリエチレンテトラミン六酢酸(lり
、7)等及びこれらのナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩があり、その添加量は好ましくは0.0/〜
101/l、より好ましくは0.7〜397fLである
。
(logK=/乙、/、以下同じ)、シク0ヘキサンジ
アミン四酢IIS+(/7.!、)、ジアミノプロパノ
ール0酢q(/3.1)、ジエチレントリアミン五酢#
1(/1.≠)、トリエチレンテトラミン六酢酸(lり
、7)等及びこれらのナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩があり、その添加量は好ましくは0.0/〜
101/l、より好ましくは0.7〜397fLである
。
更に水洗水中には鍜画像安定化剤の他に水滴むら全防止
する目的で、谷檀の界面活性剤を添710fることかで
きる。界面活性剤としては、陽イオン型、陰イオン凰、
非イオン型えよび両イオン型のいずれを用いてもよい。
する目的で、谷檀の界面活性剤を添710fることかで
きる。界面活性剤としては、陽イオン型、陰イオン凰、
非イオン型えよび両イオン型のいずれを用いてもよい。
界面活性剤の具体例としてはたとえば工学図書(株〕発
行の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている化@
物などがある。
行の「界面活性剤ハンドブック」に記載されている化@
物などがある。
上記安定化浴中には画像全安定化する目的で各種化合物
が添加される。例えば暎pi(v祠整てる(例工ばp
1−13〜g)比めの各種の緩衝剤(例えばホワm項、
メタホワ酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリ
、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、
ジカルボン酸、ポリカルボン酸など全組み合わせて使用
)やホルマリンなどのアルデヒドを代表例として挙げる
ことができる。その他、キレート剤、殺菌剤(チアゾー
ル系、イソチアゾール系、ハo)7ン化フエノール、ス
ルファニルアミド、ベンゾトリアゾールナト)、界面活
性剤、蛍光増白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用して
もよく、同一もしくは異種の目的の化合物12a以上併
用し℃も良い。
が添加される。例えば暎pi(v祠整てる(例工ばp
1−13〜g)比めの各種の緩衝剤(例えばホワm項、
メタホワ酸塩、ホウ砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリ
、水酸化ナトリウム、アンモニア水、モノカルボン酸、
ジカルボン酸、ポリカルボン酸など全組み合わせて使用
)やホルマリンなどのアルデヒドを代表例として挙げる
ことができる。その他、キレート剤、殺菌剤(チアゾー
ル系、イソチアゾール系、ハo)7ン化フエノール、ス
ルファニルアミド、ベンゾトリアゾールナト)、界面活
性剤、蛍光増白剤、硬膜剤などの各種添加剤を使用して
もよく、同一もしくは異種の目的の化合物12a以上併
用し℃も良い。
また、処理機の膜p)114整剤として塩化アンモニウ
ム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アン
モニウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム
等の各椙アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良
化するために好ましい。
ム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アン
モニウム、亜硫酸アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム
等の各椙アンモニウム塩を添加するのが画像保存性を良
化するために好ましい。
上記の方法による水洗または安定浴温度及び時間はθ℃
〜jO℃で6秒〜7分が好ましいが/j°C−≠O℃で
6秒から30秒がより好ましく、更にはij’c−弘Q
℃で6秒から73秒が好ましい。
〜jO℃で6秒〜7分が好ましいが/j°C−≠O℃で
6秒から30秒がより好ましく、更にはij’c−弘Q
℃で6秒から73秒が好ましい。
現像、定着及び水洗された写真材料は水洗水音しぼり切
る、すなわちスクイズローラー法を経て乾燥される。乾
燥は約≠θ℃〜約700℃で行なわれ、乾燥時間は周囲
の状態によって適宜変えられるが、通常は約j秒〜/分
でよいが、より好ましくは弘O℃〜10℃で約3秒〜3
0秒である。
る、すなわちスクイズローラー法を経て乾燥される。乾
燥は約≠θ℃〜約700℃で行なわれ、乾燥時間は周囲
の状態によって適宜変えられるが、通常は約j秒〜/分
でよいが、より好ましくは弘O℃〜10℃で約3秒〜3
0秒である。
本発明では、現像、定着、水洗及び乾燥されるまでのい
わゆるDry to Dryの処理時間は3分/j秒
以内、好ましくは10a秒以内、更に最も好ましくは6
0秒以内で処理される。
わゆるDry to Dryの処理時間は3分/j秒
以内、好ましくは10a秒以内、更に最も好ましくは6
0秒以内で処理される。
ここでdry to dry’とは処理される感材
の先端が自現機のフィルム挿入部分に入った瞬間から、
処理されて、同先端が自現機から出て(る瞬間までの時
間金言う。
の先端が自現機のフィルム挿入部分に入った瞬間から、
処理されて、同先端が自現機から出て(る瞬間までの時
間金言う。
(実施例)
以下に実施例?挙げて本発明全例証するが本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例1
fl) 単分散ハロゲン化銀乳剤の調製ゼラチンと臭
化カリウムと水が入った53℃に加温された容器に適当
量のアンモニアを入れた後、反応容器中のpAg値’z
7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対するイリジウ
ムのモル比で70−7モルとなるようにヘキサクロロイ
リジウム(璽)酸塩を添加した臭化カリウム水溶液とを
ダブルジェット法により添加して平均粒子サイズが06
jjμの単分散臭化銀乳剤粒子t−y4製した。この乳
剤粒子は、平均粒子サイズの士弘04以内に全粒子数の
りどチが存在していた。この乳剤全脱塩処理後、p)l
iA 、、2、pAgtJ、AK合わせてからチオ硫酸
ナトリウムと塩化金酸とにより金・硫黄増at行ない所
望の写真性金得た。
化カリウムと水が入った53℃に加温された容器に適当
量のアンモニアを入れた後、反応容器中のpAg値’z
7.60に保ちつつ硝酸銀水溶液と銀に対するイリジウ
ムのモル比で70−7モルとなるようにヘキサクロロイ
リジウム(璽)酸塩を添加した臭化カリウム水溶液とを
ダブルジェット法により添加して平均粒子サイズが06
jjμの単分散臭化銀乳剤粒子t−y4製した。この乳
剤粒子は、平均粒子サイズの士弘04以内に全粒子数の
りどチが存在していた。この乳剤全脱塩処理後、p)l
iA 、、2、pAgtJ、AK合わせてからチオ硫酸
ナトリウムと塩化金酸とにより金・硫黄増at行ない所
望の写真性金得た。
この乳剤の(ioo)面/C///)11ili比率を
クベルカムンク法で測定したところり了/2であった。
クベルカムンク法で測定したところり了/2であった。
この乳剤iAと命名した。
次にAから粒子形成前に添加するアンモニア量金減らす
だけの変更を行なって平均粒子サイズが0.3jμ及び
0.2jμの単分散乳剤B、Ci調製した。
だけの変更を行なって平均粒子サイズが0.3jμ及び
0.2jμの単分散乳剤B、Ci調製した。
(2)乳剤塗布液の調製
乳剤A、B%Cの各々0.333Kp全110℃に加温
して乳剤全溶解後赤外域増感色素、構造人の増感色素の
メタノール溶液(りX10=M/It)を7Qcc、強
色増感剤≠、弘′−ビス〔λ、6−ジ(す7チルーl−
オキシ)ピリミジン−t−イルアミノコスチルベン−λ
、λ′−ジスルホン酸ジナトリウム塩水溶液(弘、弘X
/ 0””3M/ A )りQcc、構造式Bの化合
物のメタノール溶液(,2゜lX10 M7ft)3
3cc、II−−ヒドロキシ−6−メチル−/Ij#j
a15−チトラザインデン水溶液、ポリアクリル酸ソー
ダ水浴液、塗布助剤p−t−オクチルフェノキシエトキ
シエトキシエタンスルホン酸ソーダの水溶液、増粘剤ポ
リスチレンスルホン酸カリワム塩の水溶液及び本発明の
%足のポリマーIl−表/のごとく添加して乳剤塗布液
とした。
して乳剤全溶解後赤外域増感色素、構造人の増感色素の
メタノール溶液(りX10=M/It)を7Qcc、強
色増感剤≠、弘′−ビス〔λ、6−ジ(す7チルーl−
オキシ)ピリミジン−t−イルアミノコスチルベン−λ
、λ′−ジスルホン酸ジナトリウム塩水溶液(弘、弘X
/ 0””3M/ A )りQcc、構造式Bの化合
物のメタノール溶液(,2゜lX10 M7ft)3
3cc、II−−ヒドロキシ−6−メチル−/Ij#j
a15−チトラザインデン水溶液、ポリアクリル酸ソー
ダ水浴液、塗布助剤p−t−オクチルフェノキシエトキ
シエトキシエタンスルホン酸ソーダの水溶液、増粘剤ポ
リスチレンスルホン酸カリワム塩の水溶液及び本発明の
%足のポリマーIl−表/のごとく添加して乳剤塗布液
とした。
(3)感材層の最外層用塗布液の調製
4!θ℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液に、増
粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリアク
リル酸ソーダ水溶液、マット剤ポリメチルメタクリレー
ト微粒子(平均粒子サイズ3゜0μm)及びポリ(メチ
ルアクリレート/アクリル酸二♂j:/J)共重合体の
微粒子(粒径弘。
粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリアク
リル酸ソーダ水溶液、マット剤ポリメチルメタクリレー
ト微粒子(平均粒子サイズ3゜0μm)及びポリ(メチ
ルアクリレート/アクリル酸二♂j:/J)共重合体の
微粒子(粒径弘。
0μm)、硬膜剤N、N’−エチレンビス−(ビニルス
ルフォニルアセトアミド)、≠、j′−ビス(,2,6
−ジ(ナフチル−2−オキシ)ピリミジン−≠−イルア
ミノ〕スチルベンーコ、λ′−ジスルホン酸ナトリウム
塩のメタノール溶液(弘。
ルフォニルアセトアミド)、≠、j′−ビス(,2,6
−ジ(ナフチル−2−オキシ)ピリミジン−≠−イルア
ミノ〕スチルベンーコ、λ′−ジスルホン酸ナトリウム
塩のメタノール溶液(弘。
<4X / 0−3M/It ) Kjcc、帯tfA
X剤ノe −7/l/オロオクタンスルホン酸テトラエ
チルアンモニウム4(1−ra )の水溶液及び本発明
のノニオン界面活性剤水溶液、イオン性界面活性剤及び
特定のポリマーの水溶液全表7のごとく添加して塗布液
とした。
X剤ノe −7/l/オロオクタンスルホン酸テトラエ
チルアンモニウム4(1−ra )の水溶液及び本発明
のノニオン界面活性剤水溶液、イオン性界面活性剤及び
特定のポリマーの水溶液全表7のごとく添加して塗布液
とした。
(4)バック塗布液の調製
≠Q℃に加温された10wtチゼラチン水溶液lKPに
増粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、構造式
〇の染料水溶液(j×10 モル/x)jocc、硬
膜剤へ N I −エチレンビス(ビニルスルホニルア
セトアミド)水溶液、塗布助剤t−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリウム水溶液
、ポリアクリル酸ソーダ水溶液、ポリ(メチルメタクリ
レート/メタクリル酸=りjaj)重合体からなる微粒
子(該微粒子はポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=
30:、SO)のポリマーをj重量チ含有したもの)(
粒径Q、りμm)、デキストラン水溶液、と金加えて塗
布液とした。
増粘剤ポリスチレンスルフオン酸ソーダ水溶液、構造式
〇の染料水溶液(j×10 モル/x)jocc、硬
膜剤へ N I −エチレンビス(ビニルスルホニルア
セトアミド)水溶液、塗布助剤t−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリウム水溶液
、ポリアクリル酸ソーダ水溶液、ポリ(メチルメタクリ
レート/メタクリル酸=りjaj)重合体からなる微粒
子(該微粒子はポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=
30:、SO)のポリマーをj重量チ含有したもの)(
粒径Q、りμm)、デキストラン水溶液、と金加えて塗
布液とした。
構造式C
8O3+5)1
8(J3K
(5) バック層の最外層用塗布液の、14製4tO
℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液にポリスチレ
ンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリメチルメタクリレー
ト微粒子(平均粒子サイズ弘。
℃に加温された10wt%ゼラチン水溶液にポリスチレ
ンスルフオン酸ソーダ水溶液、ポリメチルメタクリレー
ト微粒子(平均粒子サイズ弘。
2μm)、ポリ(メチルメタクリレート/スチレン/ド
デシルフルオロへブチルメタクリレート/スチレンスル
フィン酸=60:λo:ts:s)共重合体の微粒子(
粒径1.0μm)、デキストラン(分子−@3 、7万
)、アクリルアミド(分子i0.1万)、t−オクチル
フェノキシエトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリ
ウム水溶液及びポリオキシエチレンセチルエーテル及び
下記構造の含フツ素化合物の水溶液とを添加して塗布液
とした。
デシルフルオロへブチルメタクリレート/スチレンスル
フィン酸=60:λo:ts:s)共重合体の微粒子(
粒径1.0μm)、デキストラン(分子−@3 、7万
)、アクリルアミド(分子i0.1万)、t−オクチル
フェノキシエトキシエトキシエタンスルフオン酸ナトリ
ウム水溶液及びポリオキシエチレンセチルエーテル及び
下記構造の含フツ素化合物の水溶液とを添加して塗布液
とした。
C8Fよ、SO3におよび
C8F15802N (03H7) (CH2CHzケ
バCHz片803NaC8F7802N(C3H7)
(CH2CH20輻バcH2chci−iz OガH0
)i (6)塗布試料の作成 前述のバック塗布液全バフク層の最外層塗布液とともに
ポリエチレンテレフタレート支持体の一方の側にゼラチ
ン塗布量≠1/ぜとなるように塗布した。これに続いて
支持体の反対の側に(2)で述べた赤外増感色素入りの
乳剤塗布液と最外層塗布液とを塗布銀量が3.3P/イ
となるように塗布した。
バCHz片803NaC8F7802N(C3H7)
(CH2CH20輻バcH2chci−iz OガH0
)i (6)塗布試料の作成 前述のバック塗布液全バフク層の最外層塗布液とともに
ポリエチレンテレフタレート支持体の一方の側にゼラチ
ン塗布量≠1/ぜとなるように塗布した。これに続いて
支持体の反対の側に(2)で述べた赤外増感色素入りの
乳剤塗布液と最外層塗布液とを塗布銀量が3.3P/イ
となるように塗布した。
得られた試料フィルムを後述する方法で、それぞれコン
タクト写真性、レーザースキャナ一部分と自動現像機部
分に使用されるウレタンローラーに対するスタチックマ
ーク、同様にステンレス部分圧対する機械搬送性テスト
および現像ムラテストを行なった。
タクト写真性、レーザースキャナ一部分と自動現像機部
分に使用されるウレタンローラーに対するスタチックマ
ーク、同様にステンレス部分圧対する機械搬送性テスト
および現像ムラテストを行なった。
現像液及び定着液の組成は次の通りである。
く現像液〉
水酸化カリウム /79亜硫酸
ナトリウム 60タジエチレント
リアミン五酢酸 2y炭酸カリ
jyホワM
3yヒドロキノン
2jyジエチレングリコール
/λ1≠−ヒドロキシメチルー弘−メチル八6!
へ−/−フェニル−3−ピラゾリド ン !−メチルベンゾトリアゾール 0.6F酢酸
/・r! 臭化カリウム 2jl水で/
Lとする(pH10,33に調整する)。
ナトリウム 60タジエチレント
リアミン五酢酸 2y炭酸カリ
jyホワM
3yヒドロキノン
2jyジエチレングリコール
/λ1≠−ヒドロキシメチルー弘−メチル八6!
へ−/−フェニル−3−ピラゾリド ン !−メチルベンゾトリアゾール 0.6F酢酸
/・r! 臭化カリウム 2jl水で/
Lとする(pH10,33に調整する)。
〈定着液〉
チオ8Mアンモニウム / 1401亜硫
酸ナトリウム /jPエチレンジ
アミン四酢rg!2389 二ナトリウム・二水塩 水酸化ナトリワム 6p水で71
とする(酢[JpH弘、りjに調整する)、。
酸ナトリウム /jPエチレンジ
アミン四酢rg!2389 二ナトリウム・二水塩 水酸化ナトリワム 6p水で71
とする(酢[JpH弘、りjに調整する)、。
現像工程は以下の通りである。
処理温度、時間
現像 33℃×I/、に秒
定着 33℃×/2.3秒
水洗 20℃×7.j秒
乾燥 60℃
Dry to Dry処理時間 60秒(7) ス
タチックマークの評価 未露光の試料’(2j’c、10%RHで2時間調湿し
次後、同一空調条件の暗室中に於いて試料を、ウレタン
ゴムローラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理した
。
タチックマークの評価 未露光の試料’(2j’c、10%RHで2時間調湿し
次後、同一空調条件の暗室中に於いて試料を、ウレタン
ゴムローラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理した
。
そのスタチックマーク発生度の評価は以下の弘段階に分
けて行った。
けて行った。
A:スタチックマークの発生が全(認められずB:
# p 少し認められるC:
I z かなり認められるD:
# # はぼ全面に認められる (3) コンタクト写真性の評価は以下の方法で行つ
九。
# p 少し認められるC:
I z かなり認められるD:
# # はぼ全面に認められる (3) コンタクト写真性の評価は以下の方法で行つ
九。
試料フィルム44偽×4ttII&を2!℃、70チ相
対湿度で3時間調湿し、試料の感光層側とバック層側の
面を重ね合わせて同一条件下で調湿した袋中に入れて密
封した。このよ5KLで調整し次試料の上に/KPの荷
重を均一にかけ、25℃下、/週間経時した後、試8全
現像しその写真性のムラを以下のV段階で評価した。
対湿度で3時間調湿し、試料の感光層側とバック層側の
面を重ね合わせて同一条件下で調湿した袋中に入れて密
封した。このよ5KLで調整し次試料の上に/KPの荷
重を均一にかけ、25℃下、/週間経時した後、試8全
現像しその写真性のムラを以下のV段階で評価した。
A:画像のムラ発生が全(認められないB: I
少し認められ。
少し認められ。
C: S かなり認められる。
D: 〃 はぼ全面に認められろ。
(9)横槍搬送性テストの評価は以下の方法で行なった
。
。
試料7 (ルム/ 、2cmx 30exhk2 j
”C110%相対湿度で3時間調湿し同温度、湿度下で
ウレタンゴムローラー(直径3眞)の間全通した後、水
平面に対し≠jc′の角[−有したステンレス板の止金
バック層側をステンレス面に向けて自然落下させた。こ
の時の試料フィルムの平らなステンレス(/30礪Xり
0備)への付着状態を以下のμ段階で評価した。
”C110%相対湿度で3時間調湿し同温度、湿度下で
ウレタンゴムローラー(直径3眞)の間全通した後、水
平面に対し≠jc′の角[−有したステンレス板の止金
バック層側をステンレス面に向けて自然落下させた。こ
の時の試料フィルムの平らなステンレス(/30礪Xり
0備)への付着状態を以下のμ段階で評価した。
Aニステンレスへの付着は全くなくスムースに落下した
。
。
Bニステンレスへの付着が弱(認められ落下するのに少
し時間がかかった。
し時間がかかった。
Cニステンレスへの付着が認められ落下するのにかなり
時間がかかった。
時間がかかった。
D=ニステンレスへ付着し落下しなかった。
α〔現像ムラ評価方法
試′4+フィルム33txhX2!−に前記現像・定着
・水洗・乾燥工程を通じて処理し、次の≠段階でその現
像ムラ會評価した。
・水洗・乾燥工程を通じて処理し、次の≠段階でその現
像ムラ會評価した。
A:画像のムラが全く認められない
B: I 少し認められる
C: N かなり認められる
D: 〃 はぼ全面に認められる比較化合物(a
) C)I C00C8H1□ 1′ N ao 35−CH−COOCB H15〃 (b
) 第1表から明らかなように、本発明のノニオン界面活性
剤、イオン性界面活性剤及び特定のポリマーを併用した
試料(/−,5’−/−/3)は、相対湿度70%とい
つ次湿度条件下においてスタチックマークの発生が殆ん
ど認められないすぐれた帯電防止効果を有するだけでな
くフンタクト写真性、機械搬送性共に良いものであり、
かつ現像ムラの発生は全(認められない。これに対して
、コントロールでは、帯電防止性、機械搬送性が著しく
劣り、又現像ムラも悪い。一方ノニオン性界面活性剤イ
オン性界面活性剤及び特定のポリマーのいずれか7つを
用いない比較試料1−2〜1−7ではスタチックマーク
、機械搬送性、現像ムラのすべてを満足することはでき
なく、又比較試料/−7≠〜/−/!は、イオン性界面
活性剤の溶解性がo 、ooss以下である念めにやは
り現像ムラが悪く本発明に比べ大きく劣る。
) C)I C00C8H1□ 1′ N ao 35−CH−COOCB H15〃 (b
) 第1表から明らかなように、本発明のノニオン界面活性
剤、イオン性界面活性剤及び特定のポリマーを併用した
試料(/−,5’−/−/3)は、相対湿度70%とい
つ次湿度条件下においてスタチックマークの発生が殆ん
ど認められないすぐれた帯電防止効果を有するだけでな
くフンタクト写真性、機械搬送性共に良いものであり、
かつ現像ムラの発生は全(認められない。これに対して
、コントロールでは、帯電防止性、機械搬送性が著しく
劣り、又現像ムラも悪い。一方ノニオン性界面活性剤イ
オン性界面活性剤及び特定のポリマーのいずれか7つを
用いない比較試料1−2〜1−7ではスタチックマーク
、機械搬送性、現像ムラのすべてを満足することはでき
なく、又比較試料/−7≠〜/−/!は、イオン性界面
活性剤の溶解性がo 、ooss以下である念めにやは
り現像ムラが悪く本発明に比べ大きく劣る。
また、本発明のフィルム試料に7108の波長を有する
牛導体し−ザーキャナーを用いて光模露光を行って前述
の方法で現像・定着全行い、更に水洗し所定の黒白像を
もつストリップスを得た。
牛導体し−ザーキャナーを用いて光模露光を行って前述
の方法で現像・定着全行い、更に水洗し所定の黒白像を
もつストリップスを得た。
これらの写真性は良好な感度、階調を示し、カブリも少
な(優れたものであった。
な(優れたものであった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
昭和6λ年r月/船
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体の一方の側に赤外分光増感されたハロゲン化銀乳
剤層を少なくとも1層有してなるハロゲン化銀感光材料
を露光・現像・定着して画像形成する方法において、該
ハロゲン化銀感光材料の乳剤層のある側に、 (1)少なくとも1種のノニオン界面活性剤、(2)現
像液に対する溶解度が0.005重量%以上(30℃)
でかつ1重量%水溶液にしたときの表面張力がパターン
/cm以下(30℃)であるイオン性界面活性剤の少な
くとも1種、および (3)デキストラン誘導体、セルロース誘導体もしくは
下記一般式〔L〕で表される重合体から選ばれる少なく
とも1種 を組み合わせて有し、かつ現像時間が15秒以内で処理
されることを特徴とする画像形成方法。 一般式〔L〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Xはアクリルアミド類モノマー残基をYはXと共
重合可能なX以外のモノマー残基を表し、2種以上の混
合物でもよい。xは70〜100モル%、yは30〜0
モル%を表す。また分子量は2000から50万である
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62156276A JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62156276A JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS64951A JPS64951A (en) | 1989-01-05 |
JPH01951A true JPH01951A (ja) | 1989-01-05 |
JPH0786672B2 JPH0786672B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=15624274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62156276A Expired - Lifetime JPH0786672B2 (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | 画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0786672B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0497344A (ja) * | 1990-08-16 | 1992-03-30 | Konica Corp | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
GB9807498D0 (en) * | 1998-04-08 | 1998-06-10 | Ici Plc | Production of unsaturated acids therfore and catalysts therfor |
CN114062222A (zh) * | 2021-11-12 | 2022-02-18 | 烟台核晶陶瓷新材料有限公司 | 陶瓷过滤板检测液的制备方法及陶瓷过滤板的检测方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0677136B2 (ja) * | 1986-12-16 | 1994-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 現像処理方法 |
JPH0677137B2 (ja) * | 1986-12-16 | 1994-09-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 現像処理方法 |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP62156276A patent/JPH0786672B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4826757A (en) | Process for processing silver halide photographic materials | |
US5028516A (en) | Method of forming an image comprising rapidly developing an infrared sensitized photographic material comprising surfactants | |
JPH04229860A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPS63287849A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH01951A (ja) | 画像形成方法 | |
US5232823A (en) | Method for development of silver halide light-sensitive black and white material | |
JP2808298B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH0786672B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JPS63148254A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS63148257A (ja) | 画像形成方法 | |
JPH02239243A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JP2759280B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH04219753A (ja) | アルカリ性白黒写真現像液 | |
JPS63148255A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS63142350A (ja) | 画像形成方法 | |
JPS63148256A (ja) | 画像形成方法 | |
JP2816615B2 (ja) | 定着液およびそれを用いた処理方法 | |
JPH03196140A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料用定着液 | |
JP3172897B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料用現像液組成物 | |
JPH03255437A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH01191140A (ja) | 処理剤 | |
JPH03269423A (ja) | 白黒用ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH02118634A (ja) | ハロゲン化銀感光材料用現像処理剤キット | |
JPH03269424A (ja) | 迅速処理適性を有する黒白写真感光材料用定着液を用いた処理方法 | |
JPH04277739A (ja) | ハロゲン化銀感光材料の現像処理方法 |