JPH0147671B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は概ね円筒状の枠体によつて限定される
弁案内の内部にデイスクを該デイスクが弁の軸線
と概ね平行となる開放位置と前記デイスクが弁の
軸線と概ね直交する閉鎖位置との間で旋回できる
ように配置したデイスク弁または蝶形弁に係わ
る。

このようなデイスク弁は既に広く採用されてい
る。この種の弁の具体的な構成は千差万別である
が、特に有利な構成の一例が米国特許第3442488
号開示され且つ特許請求の範囲に記載されてい
る。この特許に開示されている弁は周縁にシール
環を装着され、偏心軸線を中心に回転して弁枠体
により限定される環状弁座の内側シール面と咬合
し且つこの咬合関係から離脱できるデイスクを含
む。シール面は軸線が弁枠体の軸線と鋭角を形成
する円錐面である。この種の弁、特にデイスクに
装着するシール環の構成、整合及び作用に対する
改良は米国特許第4003394号に開示されている。

上記米国特許に開示されている弁はすぐれた作
用効果を呈し、例えば高流体圧及び／または高
温、高流量、化学的または機械的摩耗性流体の処
理など極めて不利な使用条件下で気密性を確保
し、従つて商業的にも好ましい成果を上げてい
る。この種の弁の技術的な効果の少くとも一部は
この種の弁によつて採用される特殊なシール構
造、特に、弁の軸線からずれた軸線を有する円錐
状の座着面を弁枠体に設ける一方、これと対応的
な構成のシール環をデイスクに設けることによ
り、デイスクが閉鎖位置へ旋回すると後者が前者
へ楔状に密封咬合するようにしたシール構造の成
果である。摺動咬合による座着面及び／またはシ
ール環の摩耗はこの構造によつて軽減または防止
される。

しかしこのように有利な操作特性を得るために
は必然的に製造が複雑になり、枠体に弁軸線から
軸線のずれた円錐状座着面を正確に形成するのに
例えば特殊なジグ、工具、機械が必要であつた。
このことは弁の直径が24インチ以上と云うように
比較的大きい場合に切実であり、ジグ、工具など
のコストが全体の製造コストの大きな部分を占め
ることになる。この弁に組込まれるデイスクやシ
ール環の製造についても同様な配慮が要求され
る。従つて、この公知弁は製造に際して必ずしも
経済的ではない。

他方、弁軸線と同軸の円錐状シール環及び弁座
を有するデイスク弁の開発は殆ど成功を収めては
いない。即ち、この構成は低圧用、特に完全なシ
ール効果を必要としない場合のデイスク弁として
時には有効であるが、僅かの偏心度もシール損失
の原因となるから、不利な使用条件下で気密効果
を得るには概して有効ではなかつた。

さらにこの構成は例えばデイスクをシール環直
径の外側に配置された旋回軸線を中心に旋回させ
る場合のようにデイスクがフラツプとして作用す
るデイスク弁に限られる。この構成ではデイスク
を流体圧に抗して開放させるのに高い操作トルク
を必要とするから、低圧用にしか使用できない。

一般的に本発明は内部を貫通する弁案内と、開
放位置及び閉鎖位置間を移動できるように偏心的
に取付けた旋回デイスクとを含む弁枠体から成る
デイスク弁を提供するものであり、枠体には少く
とも一部が弁の軸線と直交する（以下場合によつ
ては“シール平面”と略称する）平面内に位置す
るシール面を限定するシール環を取付ける。少く
とも前記部分は（正しく心合わせされたシール環
によつて限定される）弁の軸線と同軸の円錐状を
呈する。

シール環と共働するデイスクの座着面はシール
面の前記シール平面に位置する部分と同じ円錐状
を呈する部分を有する。デイスクはシール面とシ
ール平面との交点に於いて座着面がシール面と接
触し、シール面及び座着面の２つの部分が互いに
整列する閉鎖位置を越えて旋回させることにより
両面間に発生するシール圧を増大させ、弁によつ
て形成されるシール効果を高めることができるよ
うに充分広く形成する。シール面と座着面とが適
正時点よりも早く接触しないように、デイスクの
面を座着面円錐状部分の軸線に対して傾斜させ
る。

概ね以上に述べたように構成すれば、完全に同
心構成の枠体が得られると云う利点がある。即
ち、先に述べた公知の弁構造に見られたように偏
心関係を考慮して特殊なジグや工具などを使用す
ることなく、比較的簡単な工作機械で容易に弁枠
体を製造することができる。弁デイスク及びシー
ル環の製造も同様に簡単になる。デイスク面をや
や傾斜させることを考慮しながらデイスクを研削
するには簡単なジグを使用するのが好ましい。シ
ール環はその軸線に対して完全に垂直であるから
その製造にジグを使用する必要は全くない。従つ
て、本発明の弁は比較的低いコストで製造でき
る。

本発明は操作特性のすぐれた弁を極めて経済的
に製造することを可能にし、例えば高圧、高温の
ほか流体媒の取扱いが困難な場合などのような悪
条件下でもシール圧及び気密効果を高めるため、
デイスクが閉鎖位置を越えて旋回するとシール面
を限定するシール環部材が弾性変形できるように
シール環を構成することで前記操作特性を高める
ものである。

本発明の他の実施態様では環状基部、上記シー
ル環部材及び両者をつなぐウエツブとから成るよ
うにシール環を構成することで上記すぐれた作用
特性を得る。基部（半径方向に）所与の幅と（軸
線方向に）所与の厚さを有し、前記シール環部材
は基部よりも半径方向に内方に位置し、半径方向
に内方へ向いてテイスクの座着面と咬合するシー
ル面を限定する。ウエツブは弾性材から成り、基
部を前記シール部材とつなぐ。ウエツブは概ね半
径方向に基部から内方へシール部材にまで達して
いるが、シール平面に於けるシール面の上記部分
で限定される円錐面と概ね直交するように枠体軸
線に対して傾斜させる。ウエツブはまた基部の厚
さよりもはるかに薄い（軸線方向の）厚さを有す
るから軸線方向に作用する力が加えられると弾性
変形してシール面の上記変形を可能にする。

シール環のシール面断面はシール面及びシール
平面の交点とウエツブ中心線及びシール環基部の
交点との間の距離よりも例えば1.5：１の比率で
大きい曲率半径の彎曲、特に円弧状彎曲を有する
ことが好ましい。このように構成すればデイスク
がその閉鎖位置を越えて旋回することでシール環
がシール環基部とウエツブとの交点を中心とする
円形軌道に沿つて変形する。シール面の曲率半径
はシール面が変形する際の半径よりも大きいか
ら、デイスクが閉鎖位置を越えた位置まで閉ざさ
れると、シール環のシール面とデイスクの座着面
との接触圧が増大する結果となる。

本発明の弁によつて提供されるシール効果はデ
イスクが閉鎖位置にあつてデイスクのいずれか一
方の側の流体圧が増大する際に座着面とシール面
との接触圧が増大することでさらに高められる。
即ち、この結果生ずる圧力差によりシール環のシ
ール部材がウエツブと共に再びウエツブ及び（枠
体に固定された）基部との交線を軸としていずれ
か一方の方向へ僅かに変形させられる。シール部
材のこの変形は面接触を強めると共にシール面及
びデイスク座着面間の接触圧を高めることにより
シール効果を高め、高い圧力差に於いても気密関
係を確立させる結果となる。

即ち、本発明の弁で得られる接触圧はデイスク
を閉じる力、つまり相対的な位置及び寸法関係に
基づいて座着面がシール面に圧接する力によつて
のみ得られるのではなく、閉ざされたデイスクの
両側に発生する圧力差もこれに寄与する。換言す
ると、圧力差が増大すればシール環とデイスクと
の間の密封力もまた増大し、従つて極めて圧力が
高い場合でもデイスクを閉じる際に前記圧力を相
応する大きい力を加えて機械的に必要接触圧を発
生させなくても気密効果を確保することができ
る。

閉鎖状態のデイスクと連携の作動機構とで高い
接触圧を発生させる必要がないから、デイスク旋
回軸線を弁の軸線に近く設定することができ、従
つて、デイスクの一方の側に加わる流体圧に抗し
てデイスクを開放するのに必要なトルクを軽減す
ることができる。従来はデイスクとシール環との
間に必要な、比較的高い接触圧の発生を容易にす
るため、デイスク旋回軸線に比較的大きい偏心率
を与えねばならないことが多かつた。しかし、そ
の結果として圧力条件によつてはデイスクを操作
するためのトルクがそれだけ増大すると云う不都
合が生じた。本発明ではこのような不利な条件が
免除されるから、僅かに１乃至５mm、大きくても
約10mmまでの旋回軸線偏心率でデイスクを操作す
ることができる。従つて弁アクチユエータが小さ
くてすみ、弁の全体的なコストがその分だけ軽減
されることになる。

製造コスト、精度維持上の条件などをさらに軽
減すべく、本発明では枠体によつて限定される内
方にむかつて開口する溝にシール環を取付け、そ
の場合、シール環を例えば半径方向へ移動させ、
クランプ環のような手段でシール環を溝内の所望
の相対位置に係止することによつてシール環を調
整できるように溝の寸法を設定する。クランプ環
をゆるめ、デイスクを閉じて座着面をシール環面
と咬合させてシール環をデイスクと心合わせし、
次いでデイスクを閉鎖位置に維持したままクラン
プ環を締めてシール環を心合わせ位置に係止する
ことでシール環をデイスクの座着面に対して心合
わせすることができる。このようにすれば弁枠体
及びシール環を比較的ゆるい公差で製造すること
ができ、シール環とこれと共働するデイスク座着
面との完全な整合関係を確保しながら製造コスト
を軽減することができる。

本発明が少くとも最高級公知弁と同程度の操作
特性及び性能を有するデイスク弁を提供すること
は明らかである。また、本発明のデイスク弁は弁
デイスクの上流側に圧力が加わるか下流側に圧力
が加わるかに関係なく同じシール特性を呈する。
しかも本発明でこのような弁を比較的低いコスト
で製造することができる。

以下添付図面に従つて本発明を詳述する。

第１図に於いて、本発明の弁２は内部を案内孔
６が貫通している弁枠体４を主な構成要素とす
る。この案内孔６内に弁デイスク８を配置し、該
デイスク８の旋回軸線１２を限定するように弁枠
体内に適当に軸支したシヤフト１０を介して旋回
自在に案内孔６に取付け、デイスク８が弁軸線１
４と概ね平行となる鎖線で示す開放位置と、弁軸
線と概ね直交関係となる閉鎖位置との間を詳しく
は以下に述べるように旋回できるようにする。

案内孔６は枠体４の第１端１８から第２端２０
に至る円筒状部分１６と、前記両端間にあつて内
方へ突出するテーパ部分２２と、前記第２端２０
で終る外径の大きい第２円筒状部分２４とを含
む。

枠体４の前記テーパ部分２２に外周が円筒壁２
８で限定される環状凹部を形成する。第２円筒状
部分２４内にクランプ環３０を配置し、軸線方向
に向く複数のボルト３２を介して枠体４に固定す
る。クランプ環３０が第２端から環状凹部２６に
むかつて傾斜し、テーパ部分２２の内端直径とほ
ぼ等しい内端直径を有する傾斜内壁３４を具備す
ることが好ましい。即ち、環状凹部は円筒壁２８
を越えて延びているクランプ環３０の部分と共に
半径方向に内方へむかつて開口する環状溝３６を
枠体４内に限定する。

詳しくは後述するように構成したシール環３８
を溝３６内に配置する。シール環３８は溝の範囲
内で半径方向に調整できるように溝壁２８の直径
よりも直径の小さい半径方向に最も外側に位置す
る円筒壁４２で終る基部４０を具備する。シール
環を金属またはこれに類似の材料で形成する場
合、シール環基部とテーパ部分２２との間にガス
ケツト環４４を配置することにより、デイスクが
閉鎖位置にあるか、デイスクのいずれか一方の側
が加圧される時にシール環基部とテーパ部分との
間から流体が漏れるのを防止すればよい。

第１図図示の弁２の操作を以下に要約する。弁
を閉じたい時はシヤフト１０と連動させた（図示
しない）弁アクチユエータに給電することにより
旋回軸線１２を中心にデイスク８を第１図に矢印
で示すように（鎖線で示す）開放位置からデイス
クが弁の軸線１４と直交関係となる閉鎖位置へ反
時計方向に旋回させる。閉鎖位置ではデイスク座
着面４８とシール環シール面５０との理論上接触
線で限定されるシール平面４６は弁の軸線と直交
する。弁を開放するにはアクチユエータに給電し
てデイスクを再び弁軸線と概ね平行となるまで反
対方向へ旋回させる。

次に第２図に従つてデイスク８の座着面４８及
びシール環３８のシール面５０の詳細な構成、位
置及び共働を説明する。デイスク８の座着面４８
は円錐状を呈し、デイスクが閉鎖位置を占めると
（鎖線で示す）（座着面）円錐５２の項点“Ａ”が
弁の軸線１４上に位置し、円錐の軸線“Ｘ”が同
軸関係となる、即ち、弁の軸線１４と一致するよ
うに設定されている。また、デイスクには（円錐
軸線“Ｘ”と平行に測定した）余剰厚“Ｔ”を与
え、デイスク端面５４，５６を枠体軸線“Ｘ”と
直交する平面に対して１乃至10゜、好ましくは約
5゜を超えない角度“ａ”だけ傾斜させる。

デイスクの端面５４，５６は常態では互いに概
ね平行であり、円錐軸線“Ｘ”を含む且つ旋回軸
線１２と直交する平面内に限定される角度“ａ”
だけ傾斜させる。この傾斜角度はまた、第２図か
ら明らかなように端面がデイスクの閉成旋回動作
（反時計）から逃げる方向へ傾斜するように設定
することにより、デイスクとシール環とが適正時
点よりも早く接触するのを防止する。第２図に鎖
線で示し且つ参照番号５４′，５６′で示すよう
に、端面が円錐軸線“Ｘ”と直交すると上記のよ
うな適正時点前の接触が起こる。

端面を上記のように傾斜させなければ（デイス
クが開放位置から反時計方向に閉鎖位置へ旋回す
る際に）端面と座着面４８とが（想像上の）前縁
５８，６０に於いて接触する。デイスク旋回軸線
１２から想像上の前縁５８，６０までの距離は旋
回軸線からシール平面４６及び座着面４８（また
はシール面５０）間の交点６２までの距離よりも
大きいから、前記前縁はデイスクが閉鎖位置に来
る前にシール面と接触することになる。この接触
と、それに伴なう損傷の可能性を防止するため、
デイスク端面５４，５６を上述のように傾斜させ
ることにより、適正時点前の接触を防止する凹部
を垂直デイスク面５４′，５６′に形成する。ま
た、端面から座着面への過渡部を図示のように彎
曲させて前記適正時点前の接触に対する別の防止
策とする。

以下の説明を容易に且つ簡単にし、特許請求範
囲に使用する用語を簡単にするため、上記傾斜角
度“ａ”の方向性を以下場合によつては“デイス
クの閉成動作に追従する傾斜角”または“追従傾
斜角”と呼称する。

次にシール環３８の詳細な構成を説明する。一
般的にはシール面及びシール平面４６の交点に於
けるシール面５０の少くとも一部が前記交点に於
けるデイスク８の座着面４８と同じ円錐形状を呈
する限り、断面プロフイルは任意である。本発明
の好ましい実施例では、この円錐状部分を、点６
２に於いてシール環の全円周に亘つて正接円錐を
限定する接線を有する彎曲シール面によつて限定
する。正接円錐はその一部が座着面４８を限定す
る円錐と同じ円錐である。正接円錐はまたデイス
クが閉鎖位置を占める時の座着面の円錐と同じ方
向性を持つ。即ち、座着面によつて限定される円
錐と同様に正接円錐は弁軸線１４上に頂点“Ａ”
と、弁軸線と同軸の円錐軸線“Ｘ”とを有する。

デイスク８の座着面４８及びシール環３８のシ
ール面５０はデイスクが閉鎖位置を占める時シー
ル平面４６が円錐状座着面と交差するが、他の場
合には端面５４（第２図のデイスク上半分）及び
５６（デイスク下半分）と、各端面から座着面へ
の彎曲過渡部とのすぐ近くに位置するように構成
し且つ配置する。即ち、シール環のシール面と接
触する座着面の幅が参照番号６４で示す部分だけ
広くなる。換言すれば、座着面には余分の幅厚が
与えられ、理論上この余分の幅厚にもシール効果
が必要となる。端面を上述のように傾斜させる
と、デイスクの厚さを（“Ｔ”まで）増大させる
ことなく余分幅を与えることができる。この余分
の座着面幅６４によつて詳しくは後述するように
デイスクとシール環との接触圧を増大させること
ができる。

次に第３図及び第４図に従つてシール環３８の
構成及び弁デイスク８との共働を詳述する。一般
に、シール環の断面形状は例えば第２図に示す断
面形状のように種々考えられ、少くともシール面
及びシール平面４６の交点に於いて上述のような
円錐状シール面を限定するならシール端面５０の
形状も任意に選択できる。従つて、シール面は座
着面４８と補完関係の円錐状でもよい。但し、本
発明の一実施態様ではシール面に弧状に彎曲した
断面形状を与える。また、シール面は軸線方向に
作用する圧力下で変形自在なシール環のシール部
材６６によつて限定される。

構造的にはシール環の断面はシール環基部及び
弁枠体４間からの流体漏れを防止するためにクラ
ンプ環３０を締めると基部がシール環溝３０へ圧
入されるように幅及び厚さを設定した上記長方形
シール環基部４０から成る。ガスケツト４４を使
用する場合には、基部の厚さをガスケツトの両面
とクランプ環との距離よりもやや大きく設定す
る。

ある程度の可撓性を与えるため、基部の厚さよ
りもはるかに薄い（軸線方向）厚さを有する概ね
半径方向に内方へ延びるウエツブ７０を前記基部
に接合する。ウエツブはまた、シール環面５０と
シール平面４６の交点に於ける接線と概ね直交す
るように傾斜させる。換言すると、デイスクが閉
鎖位置を占める時ウエツブはデイスクの座着面４
８と直交する。断面に於いて、シール部材６６は
ウエツブと概ね直交関係にウエツブのいずれか一
方の側に、例えばＩ形ビームのフランジのように
延びる。

特に高温用の場合、例えば鋼、ステンレス・ス
チール、ベリリウム銅のような弾性変形可能な金
属でシール環を構成する。この場合、基部から流
体が漏れるのを防止するためガスケツト４４を設
ける必要がある。低温用、即ち、最大圧が150℃
を超えない場合には、シール環を必要硬度のプラ
スチツク、ゴムなどのようなエラストマー材で構
成してもよい。この場合、クランプ環３０を締め
るだけでシール環基部と枠体との間に流体漏れを
防止するのに充分な圧力が得られるから、ガスケ
ツト４４を設ける必要がない。いずれの場合にも
ウエツブとシール部分を一体的に構成するのが好
ましい。

基部４０の半径方向幅は半径方向に内方へ向い
た円筒面７２の（想像上の）延長線と（点６２に
於いて円錐状座着面と直交する）ウエツブ中心線
７４との交点がシール点６２から距離“ｒ”だけ
離れた位置にシール部材６６及びウエツブ７０の
変形中心７６を限定するように設定する。シール
面５０はウエツブ中心線７４の延長直線上に位置
し且つシール点６２から“ｒ”よりも好ましくは
少くとも約1.5：１の比率で大きい距離“Ｒ”だ
け離れた中心点７８を中心に凹んだ弧状に形成す
る。

上記のようにシール環３８を構成すれば、シー
ル点６２に於いて発生する座着面４８及びシール
面５０間の接触圧を、デイスクを閉鎖位置を越え
て旋回させることによつて増大させることができ
る。この接触圧はまたシール環のどちら側に圧力
差が作用するかに関係なく、デイスクが閉鎖され
るとシール環に作用する圧力差によつても増大さ
せられる。即ち、比較的薄い、従つて、可撓的な
ウエツブを固定状態のシール環基部４０に接続し
たから、軸線方向の力成分がウエツブを前記基部
と共に旋回させることから上記接触圧増大が達成
される。シール部材６６は点７６を中心とする円
形軌道のほぼ上方に位置する。

第４図左方から圧力P₁が作用し、デイスク８
が閉成され、反対側が低圧、例えば大気圧となる
と、シール部材６６及びウエツブ７０の左側に加
わる力が点７６を中心とする概ね円形の通路に沿
つてこれら２つの部材を右方へ、第４図に鎖線で
示す位置８０まで変位させる。シール面５０の曲
率半径“Ｒ”とはシール部材の旋回半径“ｒ”よ
りも大きいから、シール面５０の（第４図上）左
側部分８２は第４図に鎖線で示すように半径方向
に内方へ移動する。実際にはこのようなシール部
材の移動は閉鎖状態のデイスク８によつて妨げら
れ、シール部材及びウエツブは僅かだけ右方へ変
位して弾性的に圧縮され、P₁によつて発生する
圧力差の大きさに応じて座着面４８及びシール面
５０間の接触圧を増大させる。

従つて、シール環及び弁デイスク間の流体漏れ
の危険を増大させる圧力差が大きければ大きいほ
ど、両者間の接触圧が増大し、このような漏れを
防止するから、本発明の弁は圧力に関係なく完全
なシール効果を維持することができる。

第４図でシール環の右から、環の左側の圧力よ
りも大きい流体圧P₂の作用下に圧力差が作用し
ても結果は同じである。この圧力差でシール部材
６６及びウエツブ７０が点７６を中心に左方へ位
置８４まで旋回する。上述の“Ｒ”と及び“ｒ”
間の関係から、理論的にはシール面５０の右側部
分は８６で示すように半径方向に内方へ移動す
る。デイスクがこの半径方向に内方への移動を妨
げるから、シール環及びデイスク間の接触圧は上
述の態様で再び増大する。

デイスク及びシール環の接触圧は旋回軸線１２
を中心にデイスク８を閉鎖位置を越えて、即ち、
円錐状シール面４８の円錐軸線“Ｘ”が弁軸線１
４と同軸となり円錐の頂点“Ａ”が第２図に示す
弁軸線及び“Ａ”よりも下方に来る位置を越えて
旋回させることにより増大させることができる。
そのため、（弁が常規の、理論上の閉鎖位置にあ
る時）旋回軸線からシール点６２までの距離が旋
回軸線から座着面の残り幅上の任意の点、例えば
点８８（第２〜４図）及び９０（第２図）までの
距離よりも小さくなるように旋回軸線１２に対し
て座着面４８の円錐形を設定する。この条件が満
たされれば、デイスクを閉鎖位置を越えて旋回さ
せることでシール部材６６及びウエツブ７０が弾
性的に圧縮され、接触圧が増大する。また、この
ようにデイスクが閉鎖位置を越えて旋回するのに
伴なつてシール部材及びウエツブがデイスクの旋
回方向に僅かに弾性変形し、両部材が点７６を中
心に（第４図上）右方へ旋回して接触圧をさらに
増大させる。

旋回軸線１２及び弁軸線１４間のずれを１乃至
５mmとした本発明の好ましい実施例では、円錐角
“ｂ”（第２図）を約20゜乃至70゜の範囲で設定して
すぐれた成果を得たが、上記条件が満たされる限
り、前記角度は状況に応じて前記範囲より大きく
てもよい。多くの場合約40゜が最適の角度であり、
口径の小さい弁では円錐角度を大きく、口径の大
きい弁では円錐角度を小さく取る。これはシヤフ
ト軸線１２の相対位置と、大口径弁の場合、弁デ
イスクの厚さを制限する必要とに起因する。即
ち、公称弁径が300mmの弁では円錐角“ｂ”は約
34゜、公称弁径が600mmの弁では円錐角“ｂ”は約
25゜でよい。また、この２つの例に於いて、弁軸
線及び旋回軸線間の偏心度はそれぞれ２及び３mm
となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は弁のデイスクの開放位置を鎖線で示す
本発明の弁の断面図であり、第２図は弁枠体、シ
ール環及び弁デイスクの幾何的関係を示す簡略化
した部分断面図であり、第３図は本発明の実施態
様におけるシール構造を詳細に示す拡大部分断面
図であり、第４図はシール環断面及び軸線方向に
作用する力の影響下に生ずるシール環の変形を詳
細に示す拡大部分断面図である。 ２……弁、４……枠体、６……案内孔、８……
弁デイスク、１０……シヤフト、１２……軸線、
１４……弁軸線、１６……円筒状部分、１８……
枠体の第１端、２０……枠体の第２端、２２……
テーパ部分、２４……第２円筒状部分、２８……
円筒壁、３０……クランプ環、３４……傾斜内
壁、３６……溝、３８……シール環、４０……基
部、４２……円筒壁、４４……ガスケツト環。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 弁案内を限定する枠体と、枠体に装着されシ
   ール面を有するシール環と、互いに距離をへだて
   る両端面及び両端面をつなぐ座着面によつて限定
   され、閉鎖位置に於いてシール環のシール面と密
   封関係に咬合する弁デイスクと、弁の軸線からず
   れ且つこれと直交する旋回軸線を中心に座着面が
   シール面と咬合する閉鎖位置とデイスクが弁の軸
   線と概ね平行になる開放位置との間でデイスクを
   旋回させる手段とを具備するデイスク弁であつ
   て、シール面はその少なくとも一部が弁の軸線と
   同軸の円錐面を限定することと、デイスクの座着
   面は前記シール面の前記部分の円錐形を含み且つ
   デイスクが閉鎖位置を占めてシール面と座着面と
   が弁の軸線と実質的に直交するシール平面内で互
   いに接触すると弁の軸線と同軸関係となる円錐形
   を呈することと、デイスクは円錐状座着面の軸線
   に対して、施回軸線と実質的に直交し且つ弁の軸
   線を含む平面内にあつてデイスクの閉成動作に追
   従してデイスクが開放位置から閉鎖位置へ移動す
   る際デイスクと環とが適正時点よりも早く接触す
   るのを防止する角度だけ傾斜させた概ね平行な両
   端面を含むことを組合わせて成るシール面及びデ
   イスクの改良を特徴とするデイスク弁。 ２ デイスク面を円錐状座着面の軸線に対して約
   5゜を超えない角度だけ傾斜させたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項に記載の弁。 ３ シール面を弁の軸線にむかつて凸面状に彎曲
   させ、円錐面を限定するシール面の前記部分をシ
   ール面とシール平面との交線に於けるシール面に
   対する接線によつて限定することを特徴とする特
   許請求の範囲第１項に記載の弁。 ４ シール面が弧状に彎曲し、所与の曲率半径Ｒ
   を有し、“Ｒ”よりも小さい半径“ｒ”を有する
   ほぼ円形の軌道に沿つたシール面の弾性動作を可
   能にする手段を含むことを特徴とする特許請求の
   範囲第３項に記載の弁。 ５ “Ｒ”と“ｒ”の比が少なくとも約1.5：１
   であることを特徴とする特許請求の範囲第４項に
   記載の弁。 ６ 旋回軸線を弁の軸線に対して約10mmを超えな
   い距離だけずらしたことを特徴とする特許請求の
   範囲第１項に記載の弁。 ７ 旋回軸線を弁の軸線に対して約１乃至約５mm
   だけずらしたことを特徴とする特許請求の範囲第
   ６項記載の弁。 ８ 円錐面の頂角が約20゜乃至約70゜であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の弁。