JPH0145138B2 - - Google Patents
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- JPH0145138B2 JPH0145138B2 JP58112738A JP11273883A JPH0145138B2 JP H0145138 B2 JPH0145138 B2 JP H0145138B2 JP 58112738 A JP58112738 A JP 58112738A JP 11273883 A JP11273883 A JP 11273883A JP H0145138 B2 JPH0145138 B2 JP H0145138B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、ビデオテープレコーダなどに用いら
れる、磁性膜を２枚の非磁性基板でサンドウイツ
チ構造とした薄膜磁気ヘツドに関する。
れる、磁性膜を２枚の非磁性基板でサンドウイツ
チ構造とした薄膜磁気ヘツドに関する。
近年、VTRの記録密度の向上は目覚ましくこ
れに対応できる狭トラツク幅ヘツド、メタルテー
プ対応ヘツド作成の方法として、金属磁性膜を利
用した薄膜磁気ヘツドが開発されている。
れに対応できる狭トラツク幅ヘツド、メタルテー
プ対応ヘツド作成の方法として、金属磁性膜を利
用した薄膜磁気ヘツドが開発されている。
従来のこの種の薄膜磁気ヘツドは、一層ごとに
スキンデプスを考慮に入れた膜厚にするため非磁
性基板上に電気絶縁性層間膜を介して磁性膜を多
層積層し、これを目的のトラツク幅にした後、も
う１枚の非磁性基板を前記磁性膜の上に接着して
サンドウイツチ構造のコア半体を形成し、このコ
ア半体を付き合せ面で接着し、然る後、研削や切
削等の機械加工を施してヘツドチツプを製造する
ものであつた。
スキンデプスを考慮に入れた膜厚にするため非磁
性基板上に電気絶縁性層間膜を介して磁性膜を多
層積層し、これを目的のトラツク幅にした後、も
う１枚の非磁性基板を前記磁性膜の上に接着して
サンドウイツチ構造のコア半体を形成し、このコ
ア半体を付き合せ面で接着し、然る後、研削や切
削等の機械加工を施してヘツドチツプを製造する
ものであつた。
しかしながら、上述した従来方法では、機械加
工の際、磁性膜にかなりの加工変質層が生じると
共に、コア材が延性金属材料であるため、加工面
の金属膜がだれ込み、このため電気絶縁性層間膜
を介した各磁性膜が接触してエデイーカレントロ
スが増大し、結果的に高域での出力劣化を招いて
いた。特に、巻線用窓の加工を施したコア半体で
は、この出力劣化の対応策として窓の内部を研摩
加工することが考えられるが窓内部に研摩加工を
施すことは非常に困難な作業であつた。
工の際、磁性膜にかなりの加工変質層が生じると
共に、コア材が延性金属材料であるため、加工面
の金属膜がだれ込み、このため電気絶縁性層間膜
を介した各磁性膜が接触してエデイーカレントロ
スが増大し、結果的に高域での出力劣化を招いて
いた。特に、巻線用窓の加工を施したコア半体で
は、この出力劣化の対応策として窓の内部を研摩
加工することが考えられるが窓内部に研摩加工を
施すことは非常に困難な作業であつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き研
削や切削等の機械加工による磁気特性劣化を防止
し、広周波数帯域にわたり高磁性特性を有する薄
膜磁気ヘツドを提供することにある。
削や切削等の機械加工による磁気特性劣化を防止
し、広周波数帯域にわたり高磁性特性を有する薄
膜磁気ヘツドを提供することにある。
この目的を達成するために、本発明は、巻線用
窓を加工した面とは反対側の面に研摩加工を施し
たことを特徴とする。
窓を加工した面とは反対側の面に研摩加工を施し
たことを特徴とする。
以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
第１図ａないしｅは、本発明における薄膜磁気
ヘツドの製造工程図である。
ヘツドの製造工程図である。
まず、第１図ａにおいて、非磁性基板１上にセ
ンダスト等の金属磁性膜２をSiO2等の電気絶縁
性層間膜３を介しながら、蒸着、スパツタリング
等で被着積層する。
ンダスト等の金属磁性膜２をSiO2等の電気絶縁
性層間膜３を介しながら、蒸着、スパツタリング
等で被着積層する。
然る後、第１図ｂにおいて、上記磁性膜２付き
非磁性基板１と蓋用非磁性基板４とを、低融点ガ
ラス等の接着剤５を介して互いに加重加熱接着
し、サンドウイツチ構造体６を形成する。
非磁性基板１と蓋用非磁性基板４とを、低融点ガ
ラス等の接着剤５を介して互いに加重加熱接着
し、サンドウイツチ構造体６を形成する。
次に、第１図ｃにおいて、上記サンドウイツチ
構造体６をアジマスを付けて切削して２つのコア
半体７，７′を形成し、これらコア半体７，７′う
ち一方のコア半体７に巻線用窓８を加工しこれら
コア半体７，７′の切断面をダイヤペースト等で
鏡面研摩してギヤツプ付き合せ面７ａ，７′ａを
形成する。
構造体６をアジマスを付けて切削して２つのコア
半体７，７′を形成し、これらコア半体７，７′う
ち一方のコア半体７に巻線用窓８を加工しこれら
コア半体７，７′の切断面をダイヤペースト等で
鏡面研摩してギヤツプ付き合せ面７ａ，７′ａを
形成する。
次に、第１図ｄにおいて、前記ギヤツプ付き合
せ面７ａに、SiO2等の非磁性のスペーサ材９を
スパツタリング等で被着させ、前記２つのコア半
体７，７′を突き合わせ接合し、コア体１０を形
成する。そして、このコア体１０の、前記ギヤツ
プ付き合せ面７ａと反対側の切断面１０ａ，１０
ｂをダイヤペースト等で鏡面研摩する。
せ面７ａに、SiO2等の非磁性のスペーサ材９を
スパツタリング等で被着させ、前記２つのコア半
体７，７′を突き合わせ接合し、コア体１０を形
成する。そして、このコア体１０の、前記ギヤツ
プ付き合せ面７ａと反対側の切断面１０ａ，１０
ｂをダイヤペースト等で鏡面研摩する。
さらに、第１図ｅにおいて、前記コア体１０に
切断、研削等の機械加工、およびヘツド摺動面１
０ｃの舟型加工、研摩等を施してヘツドチツプ１
１を形成する。なお、このヘツドチツプ１１にお
いて、前記ヘツド摺動面１０ｃ、及び窓８の反対
面１０ａ，１０ｂのみに研摩加工を施すことに限
らず、ヘツド摺動面１０ｃの反対面１０ｄにも研
摩加工を施しても良い。
切断、研削等の機械加工、およびヘツド摺動面１
０ｃの舟型加工、研摩等を施してヘツドチツプ１
１を形成する。なお、このヘツドチツプ１１にお
いて、前記ヘツド摺動面１０ｃ、及び窓８の反対
面１０ａ，１０ｂのみに研摩加工を施すことに限
らず、ヘツド摺動面１０ｃの反対面１０ｄにも研
摩加工を施しても良い。
ところで、ヘツド再生出力は、一般にコア材の
実効透磁率μに比例する。つまり、実効透磁率μ
が高いもの程、ヘツド再生出力は増大する。
実効透磁率μに比例する。つまり、実効透磁率μ
が高いもの程、ヘツド再生出力は増大する。
第２図は、第１図で説明した工程によつて製造
したコア半体の実効透磁率μと周波数との関係を
示したものである。図中、Ａは第１図ｃにおける
巻線用窓８を加工しない方のコア半体７′につい
てのもので、Ｂはこのコア半体７′のギヤツプ突
き合せ面７ａとは反対面を研摩加工したものにつ
いてのものである。Ｃは第１図ｃにおける巻線用
窓８を加工した方のコア半体７についてのもの
で、Ｄは同じくこのコア半体７の、ギヤツプ付き
合せ面７ａとは反対面を研摩加工したものについ
てのものである。この第２図から明らかなこと
は、巻線用窓８を形成するために機械加工を施し
たコア半体７は、高域においてかなりの磁気特性
劣化を招くが（曲線Ｃ）、このコア半体７の、窓
加工を施した面とは反対側の切断面１０ａ（第１
図ｄ）に研摩加工を施すことで、磁気特性は、高
域において、３ないし6dB程度回復するというこ
とである。すなわち研削、切削等の機械加工によ
り磁気特性劣化が生じても、その加工を施した面
に対し、磁性膜２をはさんだ反対側の面を研摩加
工することで磁気特性劣化を防止することができ
る。
したコア半体の実効透磁率μと周波数との関係を
示したものである。図中、Ａは第１図ｃにおける
巻線用窓８を加工しない方のコア半体７′につい
てのもので、Ｂはこのコア半体７′のギヤツプ突
き合せ面７ａとは反対面を研摩加工したものにつ
いてのものである。Ｃは第１図ｃにおける巻線用
窓８を加工した方のコア半体７についてのもの
で、Ｄは同じくこのコア半体７の、ギヤツプ付き
合せ面７ａとは反対面を研摩加工したものについ
てのものである。この第２図から明らかなこと
は、巻線用窓８を形成するために機械加工を施し
たコア半体７は、高域においてかなりの磁気特性
劣化を招くが（曲線Ｃ）、このコア半体７の、窓
加工を施した面とは反対側の切断面１０ａ（第１
図ｄ）に研摩加工を施すことで、磁気特性は、高
域において、３ないし6dB程度回復するというこ
とである。すなわち研削、切削等の機械加工によ
り磁気特性劣化が生じても、その加工を施した面
に対し、磁性膜２をはさんだ反対側の面を研摩加
工することで磁気特性劣化を防止することができ
る。
上記効果は、下記理由による。すなわち、導電
性の金属磁性材料では、特に、高周波での応答を
考えた場合、スキンデプスを考慮に入れる必要が
あり、この為、１層当りの膜厚を小さくし、電気
絶縁膜を介して多層化したコア材を考える必要が
ある。しかしながら、これに多層積層膜を、機械
加工して作成する、本発明の磁気ヘツドでは、機
械加工の精度、コア材を例えば延性金属材料であ
ることを考えた場合、その機械加工端部で、分割
した層間で各層が互いに電気的に導通すること
は、容易に判断出来、事実、単なる切削加工（加
工面Rmax＝1.5μm）では各層間は導通してい
た。そこで、加工面を研摩加工することで、電気
的に絶縁した。この場合、各層間で、磁束の流れ
る方向に対し、旋回して、エデイーカレントが流
れる為電気的に絶縁するのは、コア半体に加工し
た各面の片側のみでよい。コア半体７，７′にお
いて、コア半体７′はギヤツプ突き合せ面が研摩
加工が施されており、この面の反対面に研摩加工
を施さなくても、多層化の効果はある。しかしな
がら、コア半体７は、窓加工を施すため、この窓
加工面と、これと反対面が切削加工により層間部
で電気的に導通した場合、磁束の流れに対し、旋
回してエデイーカレントが流れることになる。し
かし、窓加工面に研摩加工を施すことは困難であ
るため、窓加工面とは反対面に研摩加工を施す必
要がある。
性の金属磁性材料では、特に、高周波での応答を
考えた場合、スキンデプスを考慮に入れる必要が
あり、この為、１層当りの膜厚を小さくし、電気
絶縁膜を介して多層化したコア材を考える必要が
ある。しかしながら、これに多層積層膜を、機械
加工して作成する、本発明の磁気ヘツドでは、機
械加工の精度、コア材を例えば延性金属材料であ
ることを考えた場合、その機械加工端部で、分割
した層間で各層が互いに電気的に導通すること
は、容易に判断出来、事実、単なる切削加工（加
工面Rmax＝1.5μm）では各層間は導通してい
た。そこで、加工面を研摩加工することで、電気
的に絶縁した。この場合、各層間で、磁束の流れ
る方向に対し、旋回して、エデイーカレントが流
れる為電気的に絶縁するのは、コア半体に加工し
た各面の片側のみでよい。コア半体７，７′にお
いて、コア半体７′はギヤツプ突き合せ面が研摩
加工が施されており、この面の反対面に研摩加工
を施さなくても、多層化の効果はある。しかしな
がら、コア半体７は、窓加工を施すため、この窓
加工面と、これと反対面が切削加工により層間部
で電気的に導通した場合、磁束の流れに対し、旋
回してエデイーカレントが流れることになる。し
かし、窓加工面に研摩加工を施すことは困難であ
るため、窓加工面とは反対面に研摩加工を施す必
要がある。
第３図は、上述した研摩加工による表面荒さと
実効透磁率との関係を示す特性図である。第３図
において、Ｅは前記コア半体７の、巻線用窓８を
施した加工面とは反対の切断面１０ａ（第１図ｄ）
に研摩加工を施した時、この研摩面の表面荒さ
（Rmax）と実効透磁率μとの関係を示したもの
である。この第３図から明らかなように、研摩面
の表面荒さ（Rmax）を0.8μm以下にすることで
研摩加工を施す効果が現われはじめ、0.2μm以下
で5dB程度回復する。
実効透磁率との関係を示す特性図である。第３図
において、Ｅは前記コア半体７の、巻線用窓８を
施した加工面とは反対の切断面１０ａ（第１図ｄ）
に研摩加工を施した時、この研摩面の表面荒さ
（Rmax）と実効透磁率μとの関係を示したもの
である。この第３図から明らかなように、研摩面
の表面荒さ（Rmax）を0.8μm以下にすることで
研摩加工を施す効果が現われはじめ、0.2μm以下
で5dB程度回復する。
以上説明したように、本発明によれば、研削や
切削等の機械加工によつて生じた磁気特性劣化
を、その加工面に対し、磁性膜をはさんだ反対面
に研摩加工を施すことによつて回復できるので、
特に、巻線用窓を施したコア半体に対してはその
効果が大きく、高域での磁気特性劣化を防止する
のに好適な薄膜磁気ヘツドを提供できる。
切削等の機械加工によつて生じた磁気特性劣化
を、その加工面に対し、磁性膜をはさんだ反対面
に研摩加工を施すことによつて回復できるので、
特に、巻線用窓を施したコア半体に対してはその
効果が大きく、高域での磁気特性劣化を防止する
のに好適な薄膜磁気ヘツドを提供できる。
第１図ａ〜ｅは本発明による薄膜磁気ヘツドの
製造工程を示す外観図、第２図は研摩加工にとも
なう効果を示す特性図、第３図は研摩加工による
表面荒さと透磁率との関係を示す特性図である。 １，４……非磁性基板、２……磁性膜、３……
電気絶縁性層間膜、７，７′……コア半体、８…
…巻線用窓、１０……コア体。
製造工程を示す外観図、第２図は研摩加工にとも
なう効果を示す特性図、第３図は研摩加工による
表面荒さと透磁率との関係を示す特性図である。 １，４……非磁性基板、２……磁性膜、３……
電気絶縁性層間膜、７，７′……コア半体、８…
…巻線用窓、１０……コア体。
Claims (1)
- １ ２枚の非磁性基板間に複数の磁性膜と電気絶
縁性層間膜とを交互に積層してコア半体を形成
し、前記磁性膜面を付き合せ面として複数のコア
半体を接合することによりコア体を形成し、該コ
ア体を構成する前記複数のコア半体の少なくとも
１方に巻線用窓を設けてなる薄膜磁気ヘツドにお
いて、該巻線用窓を設けたコア半体の窓加工面と
は反対面に研摩加工を施してなることを特徴とす
る薄膜磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11273883A JPS605411A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11273883A JPS605411A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS605411A JPS605411A (ja) | 1985-01-12 |
| JPH0145138B2 true JPH0145138B2 (ja) | 1989-10-02 |
Family
ID=14594308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11273883A Granted JPS605411A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605411A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53109613A (en) * | 1977-03-07 | 1978-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
| JPS5542379A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic head |
| JPS5764323A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-19 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS5870418A (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-26 | Sony Corp | 磁気ヘツドの製法 |
-
1983
- 1983-06-24 JP JP11273883A patent/JPS605411A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53109613A (en) * | 1977-03-07 | 1978-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
| JPS5542379A (en) * | 1978-09-20 | 1980-03-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic head |
| JPS5764323A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-19 | Hitachi Ltd | Magnetic head and its manufacture |
| JPS5870418A (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-26 | Sony Corp | 磁気ヘツドの製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS605411A (ja) | 1985-01-12 |
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