JPH0139474B2 - - Google Patents
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- JPH0139474B2 JPH0139474B2 JP56111512A JP11151281A JPH0139474B2 JP H0139474 B2 JPH0139474 B2 JP H0139474B2 JP 56111512 A JP56111512 A JP 56111512A JP 11151281 A JP11151281 A JP 11151281A JP H0139474 B2 JPH0139474 B2 JP H0139474B2
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- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
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Description
本発明は、一般式がアルキル基又はアルコキシ
ル基でのみおよび臭素又はシアノ基でのみ互いに
相違する物質群に相当する液晶に関する。ある温
度範囲に於て、これらの物質は正の誘電異方性を
有するA型スメクチツク中間相を有する。これら
の物質間の混合物およびこれらの物質と他の液晶
との混合物は本発明の範囲内にある。それらは、
電場の助力により又は助力なしで熱一光学効果の
利点を利用する可視デイスプレーに使用できる。 本発明による液晶は下記の一般式を有する: 式中、Rは1〜15個の炭素原子を有するアルキ
ル又はアルコキシ型の有機基を表わし、そしてX
およびYはブロム又はシアノ基を表わす。 これらの物質は以下で示される: (1) X=Y=Brの場合、 p−ブロムジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−ブロム安息香酸エステル、 (2) X=BrそしてY=CNの場合、 p−シアノジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−ブロム安息香酸エステル、 (3) X=Y=CNの場合、 p−シアノジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−シアノ安息香酸エステル。 以下に、本発明の一般的製造工程の機構、次い
で操作手順の多くの例を掲げる。 一般的製造工程 まず、4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル
および適当な4−アルコキシ−3−ブロム安息香
酸又は4−アルキル−3−ブロム安息香酸を合成
して、臭素化安息香酸エステルを得る。臭素化化
合物の臭素をニトリルで置換して、CN含有化合
物を得る。 (1) 4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル 出発物質は酢酸ジフエニルであり、それと臭
素を30℃で触媒としてのヨウ素の存在下で反応
させる。反応図式は次の通りである: 得られた生成物をエタノール媒体中で水酸化
カリウムでケン化し、そして次に下記の図式に
従つて塩酸により加水分解する: X=BrそしてY=CNである生成物の場合
は、4−ヒドロキシ−4′−シアノジフエニルを
合成する必要がある。それは前記生成物から、
ジメチルホルムアミド(DMF)中でシアン化
第1銅と反応させることにより得られる: (2) 4−(アルキル又はアルコキシ)−3−ブロム
安息香酸の合成 臭素化により、対応する4−置換安息香酸が
得られる: R=CoH2o+1の場合は、反応は硝酸および酢
酸の水溶液中、硝酸銀の存在下で25℃にて行わ
れる。 R=CoH2o+1Oの場合は、反応は水性媒体中
55℃にて行われる。 (3) 前記酸の塩化物の合成 反応図式は次の通りである: (4) ジフエニル安息香酸エステルの合成 三つの場合が予想される: (1) X=Y=Brの場合: 4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル
を、採択した3−ブロム酸塩化物を用いて、
周囲温度にてピリジンから成る媒体中でエス
テル化する: (2) X=BrそしてY=CNの場合: 酸塩化物と4−ヒドロキシ−4′−シアノジ
フエニルとを、同じ媒体(ピリジン)中でエ
ステル化する: (3) X=Y=CNの場合: タイプ(1)の生成物の二つのBr基を、シア
ン化第1銅およびジメチルホルムアミドを含
む媒体中でCNにて置換する: 操作手順の例(R=C7H15、X=Br、Y=CN) (a) 4−n−ヘプチル−3−ブロム安息香酸の合
成 8.8g(0.04モル)の4−n−ヘプチル−3
−ブロム安息香酸および8g(0.05モル)の臭
素を、撹拌しながら20mlの軟水、27mlの硝酸お
よび120mlの氷酢酸から成る25℃に加熱した混
合物中に導入する。次に20mlの軟水中に6.8g
(0.04モル)の硝酸銀を含む溶液を、温度を25
℃に維持しながら30分間にわたつて添加する。
撹拌を3 1/2時間続ける。次に溶液を200mlの
氷水中に注ぎ、そして30分間撹拌する。懸濁液
中の生成物を過し、そして軟水で中性となる
まで洗浄する。次に酸を、エタノール中への溶
解により生成した臭化銀から分離する。エタノ
ール溶液を蒸発する。10.5gの粗製生成物が得
られるが、それを30c.c.のヘキサンで再液晶させ
る。9.1gの合成酸が回収される。観測された
融点は80℃である。 (b) 4−ヒドロキシ−4′−シアノジフエニルの合
成 1モル又は249gの4−ヒドロキシ−4′−ブ
ロムジフエニル、1.25モル又は113gのシアン
化第1銅および1リツトルのジメチルホルムア
ミドを反応器に導入する。撹拌と共に還流を6
時間行う。次に反応塊を、エチレンジアミンお
よび水を含む反応器に注ぐ。クロロホルム(2
×1リツトル)で抽出を行い、次に有機相を洗
浄して中性にする。乾燥しそしてクロロホルム
を蒸発させた後、100gの粗製生成物が得られ
る。溶離剤としてベンゼンを用いるシリカ上の
クロマトグラフイーにより、47gの生成物が得
られる。合成収率は約24%である。 (c) 4′−シアノジフエニル−4−n−ヘプチル−
3−ブロム安息香酸エステルの合成 0.5g(2.5×10-3モル)の4−ヒドロキシ−
4′−シアノジフエニルを5mlのピリジン中に溶
解し、そして0.8g(2.5×10-3モル)の4−ヘ
プチル−3−ブロムベンゾイルクロリドをそれ
に加える。該混合物を周囲温度にて3日間撹拌
し、次に20gの氷および2c.c.の濃硫酸から成る
混合物中に注ぐ。4時間撹拌後、生成物をベン
ゼンで抽出し、軟水で洗浄して中性にし、そし
て乾燥する。それを次に、ヘキサン:ベンゼン
(50:50)混合物で溶離するシリカカラムクロ
マトグラフイーで精製する。得られた生成物を
エタノール中に溶解し、そして松煙で処理し、
次いで15c.c.のエタノール中で再液晶させる。
300mgの純粋な生成物が収集され、収率は25%
である。該生成物は下記の特性を有する: K 89.5 SA 129N151I(温度℃) 下記の意味を有する: K 液晶相 SA スメクチツク相A N ネマチツク相 I 等方性液体 表に、本発明による物質の多くの例の式およ
び温度範囲を要約する。
ル基でのみおよび臭素又はシアノ基でのみ互いに
相違する物質群に相当する液晶に関する。ある温
度範囲に於て、これらの物質は正の誘電異方性を
有するA型スメクチツク中間相を有する。これら
の物質間の混合物およびこれらの物質と他の液晶
との混合物は本発明の範囲内にある。それらは、
電場の助力により又は助力なしで熱一光学効果の
利点を利用する可視デイスプレーに使用できる。 本発明による液晶は下記の一般式を有する: 式中、Rは1〜15個の炭素原子を有するアルキ
ル又はアルコキシ型の有機基を表わし、そしてX
およびYはブロム又はシアノ基を表わす。 これらの物質は以下で示される: (1) X=Y=Brの場合、 p−ブロムジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−ブロム安息香酸エステル、 (2) X=BrそしてY=CNの場合、 p−シアノジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−ブロム安息香酸エステル、 (3) X=Y=CNの場合、 p−シアノジフエニル−4−(アルキル又は
アルコキシ)−3−シアノ安息香酸エステル。 以下に、本発明の一般的製造工程の機構、次い
で操作手順の多くの例を掲げる。 一般的製造工程 まず、4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル
および適当な4−アルコキシ−3−ブロム安息香
酸又は4−アルキル−3−ブロム安息香酸を合成
して、臭素化安息香酸エステルを得る。臭素化化
合物の臭素をニトリルで置換して、CN含有化合
物を得る。 (1) 4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル 出発物質は酢酸ジフエニルであり、それと臭
素を30℃で触媒としてのヨウ素の存在下で反応
させる。反応図式は次の通りである: 得られた生成物をエタノール媒体中で水酸化
カリウムでケン化し、そして次に下記の図式に
従つて塩酸により加水分解する: X=BrそしてY=CNである生成物の場合
は、4−ヒドロキシ−4′−シアノジフエニルを
合成する必要がある。それは前記生成物から、
ジメチルホルムアミド(DMF)中でシアン化
第1銅と反応させることにより得られる: (2) 4−(アルキル又はアルコキシ)−3−ブロム
安息香酸の合成 臭素化により、対応する4−置換安息香酸が
得られる: R=CoH2o+1の場合は、反応は硝酸および酢
酸の水溶液中、硝酸銀の存在下で25℃にて行わ
れる。 R=CoH2o+1Oの場合は、反応は水性媒体中
55℃にて行われる。 (3) 前記酸の塩化物の合成 反応図式は次の通りである: (4) ジフエニル安息香酸エステルの合成 三つの場合が予想される: (1) X=Y=Brの場合: 4−ヒドロキシ−4′−ブロムジフエニル
を、採択した3−ブロム酸塩化物を用いて、
周囲温度にてピリジンから成る媒体中でエス
テル化する: (2) X=BrそしてY=CNの場合: 酸塩化物と4−ヒドロキシ−4′−シアノジ
フエニルとを、同じ媒体(ピリジン)中でエ
ステル化する: (3) X=Y=CNの場合: タイプ(1)の生成物の二つのBr基を、シア
ン化第1銅およびジメチルホルムアミドを含
む媒体中でCNにて置換する: 操作手順の例(R=C7H15、X=Br、Y=CN) (a) 4−n−ヘプチル−3−ブロム安息香酸の合
成 8.8g(0.04モル)の4−n−ヘプチル−3
−ブロム安息香酸および8g(0.05モル)の臭
素を、撹拌しながら20mlの軟水、27mlの硝酸お
よび120mlの氷酢酸から成る25℃に加熱した混
合物中に導入する。次に20mlの軟水中に6.8g
(0.04モル)の硝酸銀を含む溶液を、温度を25
℃に維持しながら30分間にわたつて添加する。
撹拌を3 1/2時間続ける。次に溶液を200mlの
氷水中に注ぎ、そして30分間撹拌する。懸濁液
中の生成物を過し、そして軟水で中性となる
まで洗浄する。次に酸を、エタノール中への溶
解により生成した臭化銀から分離する。エタノ
ール溶液を蒸発する。10.5gの粗製生成物が得
られるが、それを30c.c.のヘキサンで再液晶させ
る。9.1gの合成酸が回収される。観測された
融点は80℃である。 (b) 4−ヒドロキシ−4′−シアノジフエニルの合
成 1モル又は249gの4−ヒドロキシ−4′−ブ
ロムジフエニル、1.25モル又は113gのシアン
化第1銅および1リツトルのジメチルホルムア
ミドを反応器に導入する。撹拌と共に還流を6
時間行う。次に反応塊を、エチレンジアミンお
よび水を含む反応器に注ぐ。クロロホルム(2
×1リツトル)で抽出を行い、次に有機相を洗
浄して中性にする。乾燥しそしてクロロホルム
を蒸発させた後、100gの粗製生成物が得られ
る。溶離剤としてベンゼンを用いるシリカ上の
クロマトグラフイーにより、47gの生成物が得
られる。合成収率は約24%である。 (c) 4′−シアノジフエニル−4−n−ヘプチル−
3−ブロム安息香酸エステルの合成 0.5g(2.5×10-3モル)の4−ヒドロキシ−
4′−シアノジフエニルを5mlのピリジン中に溶
解し、そして0.8g(2.5×10-3モル)の4−ヘ
プチル−3−ブロムベンゾイルクロリドをそれ
に加える。該混合物を周囲温度にて3日間撹拌
し、次に20gの氷および2c.c.の濃硫酸から成る
混合物中に注ぐ。4時間撹拌後、生成物をベン
ゼンで抽出し、軟水で洗浄して中性にし、そし
て乾燥する。それを次に、ヘキサン:ベンゼン
(50:50)混合物で溶離するシリカカラムクロ
マトグラフイーで精製する。得られた生成物を
エタノール中に溶解し、そして松煙で処理し、
次いで15c.c.のエタノール中で再液晶させる。
300mgの純粋な生成物が収集され、収率は25%
である。該生成物は下記の特性を有する: K 89.5 SA 129N151I(温度℃) 下記の意味を有する: K 液晶相 SA スメクチツク相A N ネマチツク相 I 等方性液体 表に、本発明による物質の多くの例の式およ
び温度範囲を要約する。
【表】
【表】
相間の転移点は摂氏温度である。〔 〕中の相
は準安定型である。 例1および3の物質の誘電性は、各生成物とネ
マチツク液晶“F”、即ちp−ベンチルフエノー
ルp−メトキシ安息香酸エステル、との混合物に
関して行つた測定に基づいて決定した。“F”は
29〜43℃のネマチツクである。該混合物の組成
は、モル分率で“F”90%および本発明による化
合物10%である。該混合物自体はネマチツクであ
る。測定は22℃で行い、配向磁場は104エールス
テツドであり、そして測定電場の周波数は10KHz
である。例1および3の物質をAおよびCの文字
で表わすと、下記の表の結果が得られる:
は準安定型である。 例1および3の物質の誘電性は、各生成物とネ
マチツク液晶“F”、即ちp−ベンチルフエノー
ルp−メトキシ安息香酸エステル、との混合物に
関して行つた測定に基づいて決定した。“F”は
29〜43℃のネマチツクである。該混合物の組成
は、モル分率で“F”90%および本発明による化
合物10%である。該混合物自体はネマチツクであ
る。測定は22℃で行い、配向磁場は104エールス
テツドであり、そして測定電場の周波数は10KHz
である。例1および3の物質をAおよびCの文字
で表わすと、下記の表の結果が得られる:
【表】
従つて、純粋な生成物AおよびCは正の誘電異
方性を有する。線形変化の法則に基づいて、εa
を濃度の関数として、下記の値が得られる:εa
(A)=2、εa(C)=16従つて、Aはわずかに正であ
り、そしてCは大きい正である。 本発明の化合物と他のA型スメクチツク液晶と
の共融混合物、特に全てスメクチツク相を有する
一般式: のp−シアノジフエニルとの共融混合物、を使用
できる。 下記の表は混合物の例を示す。
方性を有する。線形変化の法則に基づいて、εa
を濃度の関数として、下記の値が得られる:εa
(A)=2、εa(C)=16従つて、Aはわずかに正であ
り、そしてCは大きい正である。 本発明の化合物と他のA型スメクチツク液晶と
の共融混合物、特に全てスメクチツク相を有する
一般式: のp−シアノジフエニルとの共融混合物、を使用
できる。 下記の表は混合物の例を示す。
【表】
【表】
これらの混合物は、マトリツクススクリーンお
よびレザーアドレススクリーン(laser
addressing screen)のような熱−光学デバイス
に直接使用できる。それらは全て要求される特性
である周囲温度の狭いネマチツク温度範囲、正の
誘電異方性、良好な分散力、従つて定常性の良好
な低い操業電力を含む、広いスメクチツクA温度
範囲を有する。
よびレザーアドレススクリーン(laser
addressing screen)のような熱−光学デバイス
に直接使用できる。それらは全て要求される特性
である周囲温度の狭いネマチツク温度範囲、正の
誘電異方性、良好な分散力、従つて定常性の良好
な低い操業電力を含む、広いスメクチツクA温度
範囲を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式: (式中、 R=CoH2o+1又はCoH2o+1O;1≦n≦15、 X=Br又はCN、 Y=Br又はCN、 である) を有することを特徴とする、正の誘電異方性を有
するA型スメクチツク液晶材料。 2 R=C7H15、X=Y=Brであることを特徴と
する、特許請求の範囲第1項に記載の液晶材料。 3 R=C8H17O、X=Y=Brであることを特徴
とする、特許請求の範囲第1項に記載の液晶材
料。 4 R=C7H15、X=Br、Y=CNであることを
特徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の液晶
材料。 5 R=C7H15、X=Y=CNであることを特徴
とする、特許請求の範囲第1項に記載の液晶材
料。 6 R=C8H17O、X=Y=CNであることを特
徴とする、特許請求の範囲第1項に記載の液晶材
料。 7 一般式: (式中、 R=CoH2o+1又はCoH2o+1O;1≦n≦15、 X=Br又はCN、 Y=Br又はCN、 である) を有する第1の液晶および少なくとも一つの第2
の液晶を含むことを特徴とするA型スメクチツク
液晶材料。 8 第2の液晶が一般式 又は (式中pおよびqは1〜15である) を有することを特徴とする、特許請求の範囲第7
項に記載の液晶材料。 9 第1および第2の液晶のモル比率がそれぞれ
0.18および0.82であり、第1物質についてn=
7、X=Y=Brであり、そして第2物質につい
てp=8であることを特徴とする、特許請求の範
囲第8項に記載の液晶材料。 10 第1および第2の液晶のモル比率がそれぞ
れ0.11および0.89であり、そして第1物質につい
てn=7、X=Br、Y=CNであり、そして第2
物質についてp=8であることを特徴とする、特
許請求の範囲第8項に記載の液晶材料。 11 第1および第2の液晶のモル比率がそれぞ
れ0.15および0.64であり、混合物が第2の液晶と
同じ式を有する第3の液晶により完全にされ、第
1物質についてn=7;X=Y=Brであり、そ
して第2および第3物質についてpはそれぞれ8
および10であることを特徴とする、特許請求の範
囲第8項に記載の液晶材料。 12 第1および第2の液晶のモル比率がそれぞ
れ0.13および0.54であり、混合物はモル比率がそ
れぞれ0.18および0.15の第3および第4の液晶に
より完全にされ、パラメーターが下記の値: 第1物質についてn=7;X=Y=Br、 第2物質についてp=8、 第3物質についてp=10、 第4物質についてq=8、 を有することを特徴とする、特許請求の範囲第8
項に記載の液晶材料。 13 第1および第2の液晶のモル比率がそれぞ
れ0.14および0.58であり、混合物はモル比率がそ
れぞれ0.19および0.09の第3および第4の液晶に
より完全にされ、パラメーターが下記の値: 第1物質についてn=7;X=Y=Br、 第2物質についてp=8、 第3物質についてp=10を有し、 そして第4の物質の式が であることを特徴とする、特許請求の範囲第8項
に記載の液晶材料。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8015904A FR2486955A1 (fr) | 1980-07-18 | 1980-07-18 | Cristal liquide smectique de type a presentant une anisotropie dielectrique positive |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5751779A JPS5751779A (en) | 1982-03-26 |
JPH0139474B2 true JPH0139474B2 (ja) | 1989-08-21 |
Family
ID=9244290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56111512A Granted JPS5751779A (en) | 1980-07-18 | 1981-07-16 | A type smestic liquid crystal having positive dielectric anisotropy |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4402855A (ja) |
EP (1) | EP0044759B1 (ja) |
JP (1) | JPS5751779A (ja) |
DE (1) | DE3162785D1 (ja) |
FR (1) | FR2486955A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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FR2538804A1 (fr) * | 1982-12-30 | 1984-07-06 | Thomson Csf | Famille de cristaux liquides presentant une phase smectique a et son procede de fabrication |
US4670581A (en) * | 1983-01-27 | 1987-06-02 | Sugai Chemical Industry Co., Ltd. | Biphenyl compounds and process for producing the same |
FR2561250B1 (fr) * | 1984-03-16 | 1987-03-06 | Thomson Csf | Compose organique presentant une phase smectique a, melange comprenant ce compose et procede de fabrication |
EP0162437B1 (en) * | 1984-05-21 | 1990-09-26 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal compound and liquid crystal composition including the same |
DE3438424C1 (de) * | 1984-10-19 | 1986-05-15 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen | Hexasubstituierte Tribenzocyclononatrien-Derivate,Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung |
US4834906A (en) * | 1985-01-22 | 1989-05-30 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Smectic A liquid crystal compositions |
JPH0825957B2 (ja) * | 1985-03-12 | 1996-03-13 | チッソ株式会社 | ジフルオロ芳香族化合物 |
WO1987001717A2 (fr) * | 1985-09-18 | 1987-03-26 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Phases smectiques a cristaux liquides |
GB8804330D0 (en) * | 1988-02-24 | 1988-03-23 | Secr Defence | Laterally fluorinated 4-cyanophenyl & 4-cyanobiphenyl benzoates |
JPH0669987B2 (ja) * | 1989-03-02 | 1994-09-07 | チッソ株式会社 | 正の誘電異方性の大きい安息香酸誘導体 |
US5315024A (en) * | 1989-07-28 | 1994-05-24 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Cyano-substituted compound containing ether bond |
JPH07278545A (ja) * | 1994-04-14 | 1995-10-24 | Chisso Corp | ネマテック液晶組成物 |
FR2759696B1 (fr) * | 1997-02-18 | 1999-04-16 | Expansia Sa | Preparation du 4-cyano-4'-hydroxy biphenyle |
FR2759697B1 (fr) * | 1997-02-18 | 1999-04-16 | Expansia Sa | Preparation du 4-cyano-4'-hydroxy biphenyle |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1433130A (en) * | 1972-11-09 | 1976-04-22 | Secr Defence | Substituted biphenyl and polyphenyl compounds and liquid crystal materials and devices containing them |
SE409724B (sv) * | 1972-11-09 | 1979-09-03 | Secr Defence Brit | Flytande kristallkomposition |
US3951846A (en) * | 1974-06-28 | 1976-04-20 | Rca Corporation | Novel liquid crystal electro-optic devices |
FR2297201A1 (fr) * | 1975-01-10 | 1976-08-06 | Thomson Csf | Produits mesogenes pour cellules a cristal liquide, et procede de fabrication desdits produits |
DE2613293C3 (de) * | 1976-03-29 | 1982-02-18 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Cyanosubstituierte Biphenylverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung und diese Verbindungen enthaltende flüssigkristalline Dielektrika |
US4029594A (en) * | 1976-06-17 | 1977-06-14 | Rca Corporation | Novel liquid crystal compounds and electro-optic devices incorporating them |
US4235736A (en) * | 1977-02-11 | 1980-11-25 | Thomson-Csf | Diphenylic esters exhibiting mesomorphic phases |
US4120567A (en) * | 1977-02-11 | 1978-10-17 | Rca Corporation | Electro-optic device |
FR2380333A1 (fr) * | 1977-02-11 | 1978-09-08 | Thomson Csf | Nouvelle famille de cristaux liquides a grande anisotropie dielectrique negative, et dispositifs utilisant de tels cristaux liquides |
FR2439765A1 (fr) * | 1978-10-27 | 1980-05-23 | Thomson Csf | Compose organique mesomorphe dont la formule chimique derive d'un acide alcoxy-4 tetrafluorobenzoique, et dispositif a cristal liquide utilisant un tel compose |
DE2967129D1 (en) * | 1979-05-28 | 1984-08-30 | Merck Patent Gmbh | Liquid-crystal compositions |
-
1980
- 1980-07-18 FR FR8015904A patent/FR2486955A1/fr active Granted
-
1981
- 1981-06-16 EP EP81400959A patent/EP0044759B1/fr not_active Expired
- 1981-06-16 DE DE8181400959T patent/DE3162785D1/de not_active Expired
- 1981-07-15 US US06/283,740 patent/US4402855A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-07-16 JP JP56111512A patent/JPS5751779A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0044759A1 (fr) | 1982-01-27 |
FR2486955B1 (ja) | 1984-09-14 |
EP0044759B1 (fr) | 1984-03-21 |
DE3162785D1 (en) | 1984-04-26 |
JPS5751779A (en) | 1982-03-26 |
US4402855A (en) | 1983-09-06 |
FR2486955A1 (fr) | 1982-01-22 |
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