JPH01321721A - 半導体時間遅延素子 - Google Patents
半導体時間遅延素子Info
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- JPH01321721A JPH01321721A JP1043387A JP4338789A JPH01321721A JP H01321721 A JPH01321721 A JP H01321721A JP 1043387 A JP1043387 A JP 1043387A JP 4338789 A JP4338789 A JP 4338789A JP H01321721 A JPH01321721 A JP H01321721A
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims abstract description 38
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K5/13—Arrangements having a single output and transforming input signals into pulses delivered at desired time intervals
- H03K5/133—Arrangements having a single output and transforming input signals into pulses delivered at desired time intervals using a chain of active delay devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K2005/00013—Delay, i.e. output pulse is delayed after input pulse and pulse length of output pulse is dependent on pulse length of input pulse
- H03K2005/00078—Fixed delay
- H03K2005/0013—Avoiding variations of delay due to power supply
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K5/00—Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
- H03K2005/00013—Delay, i.e. output pulse is delayed after input pulse and pulse length of output pulse is dependent on pulse length of input pulse
- H03K2005/0015—Layout of the delay element
- H03K2005/00195—Layout of the delay element using FET's
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Pulse Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は半導体素子に係るもので、特に電源供給電圧に
無関係に一定な遅延時間を持つ半導体時間遅延素子に係
るものである。
無関係に一定な遅延時間を持つ半導体時間遅延素子に係
るものである。
〈従来の技術及び発明が解決しようとする課題〉半導体
メモリ装置においては、用途により一定の、又は所定の
時間遅延(Time Delay)が必要とされる。
メモリ装置においては、用途により一定の、又は所定の
時間遅延(Time Delay)が必要とされる。
第1図は、従来におけるMOS電界効果トランジスタ(
MOS Field Effect Transist
or ;以下、MOSと称する)で構成されたCMOS
インバーターを利用した時間遅延素子を示したものであ
る。
MOS Field Effect Transist
or ;以下、MOSと称する)で構成されたCMOS
インバーターを利用した時間遅延素子を示したものであ
る。
入力ライン1に入力される入力信号Viを電源供給電圧
V=ccと接地電圧Vssとの間にチャンネルが直列接
続されたPMOS2とNMOS3のゲートに印加すると
、PMOS2とNMOS3との間のノード4を通じて入
力信号Viが反転された信号が出力される。ノード4に
供給された信号は、電源供給電圧Vccと接地電圧Vs
sとの間にチャンネルが直列接続されたPMOS5とN
MOS6のゲートに印加され、そしてノード4に印加さ
れた信号の反転信号、即ち出力信号VOが出力ライン7
を通じて出力される。出力信号■0ば入力信号Viを各
インバーターが持つ遅延時間の和の分遅延した信号にな
る。
V=ccと接地電圧Vssとの間にチャンネルが直列接
続されたPMOS2とNMOS3のゲートに印加すると
、PMOS2とNMOS3との間のノード4を通じて入
力信号Viが反転された信号が出力される。ノード4に
供給された信号は、電源供給電圧Vccと接地電圧Vs
sとの間にチャンネルが直列接続されたPMOS5とN
MOS6のゲートに印加され、そしてノード4に印加さ
れた信号の反転信号、即ち出力信号VOが出力ライン7
を通じて出力される。出力信号■0ば入力信号Viを各
インバーターが持つ遅延時間の和の分遅延した信号にな
る。
〈発明が解決しようとする課題〉
上記のようなCMOSインバーターでは、素子の特性上
遅延時間と重要な関係がある抵抗成分が、電源供給電圧
と温度との影響に対して純粋抵抗より甚だしく変動する
。
遅延時間と重要な関係がある抵抗成分が、電源供給電圧
と温度との影響に対して純粋抵抗より甚だしく変動する
。
第2図は第1図と同じ時間遅延素子を使用した場合の特
性を示す図であって、曲線8が示すように、MOSと抵
抗成分の供給電圧との温度により低電圧−高温と高電圧
−低温との間には遅延時間に大きな差異が現れる。従っ
て、上記のような時間遅延素子を使用した半導体装置に
おいては、その動作速度においても大きな差異が現れる
。
性を示す図であって、曲線8が示すように、MOSと抵
抗成分の供給電圧との温度により低電圧−高温と高電圧
−低温との間には遅延時間に大きな差異が現れる。従っ
て、上記のような時間遅延素子を使用した半導体装置に
おいては、その動作速度においても大きな差異が現れる
。
一方、MOSと電源供給電圧又は接地電圧との間にシー
ト抵抗(Sheet Re5istance)を使用し
て変動幅を減すこともできるが、これも又第2図の曲線
9のように電源供給電圧に対して変動幅を持つ。
ト抵抗(Sheet Re5istance)を使用し
て変動幅を減すこともできるが、これも又第2図の曲線
9のように電源供給電圧に対して変動幅を持つ。
したがって、本発明の目的は電源供給電圧及び外部の温
度に関係なく一定な遅延時間を持つ半導体時間遅延素子
を提供することにある。
度に関係なく一定な遅延時間を持つ半導体時間遅延素子
を提供することにある。
〈実 施 例〉
以下、本発明を添付図面を参照して詳細に説明する。
第3図(A)〜(E)は、本発明に使用される接合電界
効果トランジスタ(以下、JFETと称する)に関する
図である。第3図(A)はN型JFETの一例の断面図
であり、第3図(B)はP型JFETの一例の断面図で
あり、第3図(C)はドレインとソースとに各々Vcc
とVssの電圧を印加し′、ゲートに電源供給電圧Vc
cを印加した一例のN型JFETを示した図(記号)で
あり、第3図(D)はドレインとソースとにVccとV
ssの電圧を印加し、ゲートに接地電圧VsSを印加し
た他の例のP型JFETを示した図(記号)であり、第
3図(E)は第3図(A)に示したJFETの特性を示
したものである。第3図(C)及び第3図(D)に図示
したJFETはゲートに印加された電圧により抵抗成分
が定められる。
効果トランジスタ(以下、JFETと称する)に関する
図である。第3図(A)はN型JFETの一例の断面図
であり、第3図(B)はP型JFETの一例の断面図で
あり、第3図(C)はドレインとソースとに各々Vcc
とVssの電圧を印加し′、ゲートに電源供給電圧Vc
cを印加した一例のN型JFETを示した図(記号)で
あり、第3図(D)はドレインとソースとにVccとV
ssの電圧を印加し、ゲートに接地電圧VsSを印加し
た他の例のP型JFETを示した図(記号)であり、第
3図(E)は第3図(A)に示したJFETの特性を示
したものである。第3図(C)及び第3図(D)に図示
したJFETはゲートに印加された電圧により抵抗成分
が定められる。
第3図(A)及び第3図(B)はP型基板10.20上
に形成されたN型JFETとP型JFETの断面図であ
って、第3図(A)はゲート電極15がゲート12と絶
縁されているN型JFETであり、第3図(B)はゲー
ト電極26がゲート23と直接接触しているP型JFE
Tである。符号21はN−ウェルを示す。
に形成されたN型JFETとP型JFETの断面図であ
って、第3図(A)はゲート電極15がゲート12と絶
縁されているN型JFETであり、第3図(B)はゲー
ト電極26がゲート23と直接接触しているP型JFE
Tである。符号21はN−ウェルを示す。
上記JFETはゲーI・電極15.26に電圧を印加し
なくても、第1電極13.24の信号はN−領域11又
はP゛領域22にイオン注入された線量による抵抗を持
って第2電極14.25に伝達される。この時抵抗成分
Rは下記のように示される。
なくても、第1電極13.24の信号はN−領域11又
はP゛領域22にイオン注入された線量による抵抗を持
って第2電極14.25に伝達される。この時抵抗成分
Rは下記のように示される。
ここでLはゲート電極の長さ、Wは図示されていないゲ
ート電極の幅、dはN−領域11又はP°領域22の深
さ、そしてρは抵抗率を示す。
ート電極の幅、dはN−領域11又はP°領域22の深
さ、そしてρは抵抗率を示す。
上記のようなJFETのゲート電極15.26に印加さ
れる電圧により、N−?fI域11又はP0領域22に
欠乏領域(Depletion Region) X
dが生じてN−領域11又はP+領域22の深さdが減
らされる。
れる電圧により、N−?fI域11又はP0領域22に
欠乏領域(Depletion Region) X
dが生じてN−領域11又はP+領域22の深さdが減
らされる。
第3図(A)を参照して見ると、ゲート12に印加され
る電圧が増加することにより下記の式で示されるJFE
Tの欠乏領域の深さXdが増加して(1が小さくなり、
抵抗成分Rは増加する。
る電圧が増加することにより下記の式で示されるJFE
Tの欠乏領域の深さXdが増加して(1が小さくなり、
抵抗成分Rは増加する。
ここでEsiはシリコンの誘電率、Coxはゲート電極
とゲートとの間を絶縁する絶縁物質(Oxide)の単
位面積当りのキャパシター、qは電荷量、Ndはチャン
ネル領域11の不純物濃度、vlはソースまたはゲート
に印加される電圧、そして■2はゲート電極に印加され
る電圧を表わす。
とゲートとの間を絶縁する絶縁物質(Oxide)の単
位面積当りのキャパシター、qは電荷量、Ndはチャン
ネル領域11の不純物濃度、vlはソースまたはゲート
に印加される電圧、そして■2はゲート電極に印加され
る電圧を表わす。
また、ゲート電極とゲートが直接接触したJFETの欠
乏領域の深さXdは、一般的なP−N接合の欠乏領域の
深さと同一であることはこの分野の通常の知識を有する
ものには容易に分る。
乏領域の深さXdは、一般的なP−N接合の欠乏領域の
深さと同一であることはこの分野の通常の知識を有する
ものには容易に分る。
一方、上記の実施例においてN型JFETは例としてゲ
ート電極がゲートと絶縁されたものを図示しており、P
型JFETは例としてゲート電極がゲートに直接接触し
たものを図示しているが、ゲート電極がゲートと絶縁さ
れたN型JFETとゲート電極がゲートに直接接触され
たP型JFETを使用することができることもこの分野
の通常の知識を有するものには容易に分る。
ート電極がゲートと絶縁されたものを図示しており、P
型JFETは例としてゲート電極がゲートに直接接触し
たものを図示しているが、ゲート電極がゲートと絶縁さ
れたN型JFETとゲート電極がゲートに直接接触され
たP型JFETを使用することができることもこの分野
の通常の知識を有するものには容易に分る。
上記におけるJFETの電圧に対する抵抗成分の特性を
図示したものが第3図(E)である。図示されているよ
うに電圧が増加するほどその抵抗成分が大きくなるJF
ETは、電圧が増加するほどその抵抗成分が小さくなる
MOSFETとは相対的な特性を示すので、MOSFE
TとJFETとを組合せ使用し、供給電圧に対し一定な
抵抗、即ち遅延時間を持つ半導体装置を構成することが
できる。
図示したものが第3図(E)である。図示されているよ
うに電圧が増加するほどその抵抗成分が大きくなるJF
ETは、電圧が増加するほどその抵抗成分が小さくなる
MOSFETとは相対的な特性を示すので、MOSFE
TとJFETとを組合せ使用し、供給電圧に対し一定な
抵抗、即ち遅延時間を持つ半導体装置を構成することが
できる。
第4図はJFETとMOSFETとを組合せて構成した
本発明による一実施例の時間遅延回路を図示したもので
あり、第5図は本発明による他の実施例を図示したもの
である。
本発明による一実施例の時間遅延回路を図示したもので
あり、第5図は本発明による他の実施例を図示したもの
である。
第4図及び第5図に図示されているように、ゲートが電
源供給電圧Vccの供給される第1電圧供給端子に接続
されたJFETはJFETの特性により高抵抗の特性を
示しており、ゲートが接地電圧Vssの第2電圧供給端
子に接続されたJFETはJFETの特性により低抵抗
の特性を表わす。
源供給電圧Vccの供給される第1電圧供給端子に接続
されたJFETはJFETの特性により高抵抗の特性を
示しており、ゲートが接地電圧Vssの第2電圧供給端
子に接続されたJFETはJFETの特性により低抵抗
の特性を表わす。
第4図を参照すると、「第1MOS電界効果トランジス
タ」としてのPMOSl−ランジスタ41と「第2MO
S電界効果トランジスタ」としてのNMOS)ランジス
タ42とが出力ノードを介して直列接続された通常のC
MOSインバーター81と、PMOS)ランジスタ43
とNMOSI−ランジスタ44とが出力ノードを介して
直列接続された通常のC03Mインバーター82が接続
され、又電源供給電圧VccとPMOS)ランジスタ4
1.43との間にはゲートが電源供給電圧Vccに連結
されている「第1接合電界効果トランジスタ」としての
N型JFET45.47が接続され、そしてNMOS)
ランジスタ42.44と接地電圧Vssとの間にはゲー
トが接地電圧に連結されている「第2接合電界効果トラ
ンジスタ」としてのP型JFET46.48が接続され
ている。尚、符号40は入力端子の接続された入力ライ
ン、符号49は出力ラインを表す。
タ」としてのPMOSl−ランジスタ41と「第2MO
S電界効果トランジスタ」としてのNMOS)ランジス
タ42とが出力ノードを介して直列接続された通常のC
MOSインバーター81と、PMOS)ランジスタ43
とNMOSI−ランジスタ44とが出力ノードを介して
直列接続された通常のC03Mインバーター82が接続
され、又電源供給電圧VccとPMOS)ランジスタ4
1.43との間にはゲートが電源供給電圧Vccに連結
されている「第1接合電界効果トランジスタ」としての
N型JFET45.47が接続され、そしてNMOS)
ランジスタ42.44と接地電圧Vssとの間にはゲー
トが接地電圧に連結されている「第2接合電界効果トラ
ンジスタ」としてのP型JFET46.48が接続され
ている。尚、符号40は入力端子の接続された入力ライ
ン、符号49は出力ラインを表す。
第5図を参照すると、電源供給電圧Vccと接地電圧V
ssとの間には、「第1MOS電界効果トランジスタ」
としてのPMOSトランジスタ51と「第2MOS電界
効果トランジスタ」としてのNMOSトランジスタ52
とが第1制御ノードを介して直列接続されて通常のCM
OSインバーター83を形成している。また電源供給電
圧VcCと接地電圧Vssとの間には「第3MOS電界
効果トランジスタ」としてのPMOSI−ランジスタ5
4と「第4MOS電界効果トランジスタ」としてのNM
OSトランジスタ55が出力ノードを介して直列接続さ
れて通常のCMOSインバーター84を形成している。
ssとの間には、「第1MOS電界効果トランジスタ」
としてのPMOSトランジスタ51と「第2MOS電界
効果トランジスタ」としてのNMOSトランジスタ52
とが第1制御ノードを介して直列接続されて通常のCM
OSインバーター83を形成している。また電源供給電
圧VcCと接地電圧Vssとの間には「第3MOS電界
効果トランジスタ」としてのPMOSI−ランジスタ5
4と「第4MOS電界効果トランジスタ」としてのNM
OSトランジスタ55が出力ノードを介して直列接続さ
れて通常のCMOSインバーター84を形成している。
そしてCMOSインバーター83の第1制御ノードとC
MOSインバーター84の第2制御ノードとの間に、ゲ
ートが電源供給電圧Vccに連結されたN型JFET5
3が接続されている。
MOSインバーター84の第2制御ノードとの間に、ゲ
ートが電源供給電圧Vccに連結されたN型JFET5
3が接続されている。
尚、符号50は入力端子の接続された入力ライン、符号
56は出力ラインを示す。
56は出力ラインを示す。
第5図におけるN型JFET53の代わりにゲートが接
地電圧Vssに接続されているP型JFETを接続する
こともできる。
地電圧Vssに接続されているP型JFETを接続する
こともできる。
第6図は本発明による時間遅延回路の特性曲線を示した
図である。
図である。
点70と点71とを結ぶ直線は第4図のような本発明に
よる時間遅延回路の特性曲線であり、点60と点61と
を結ぶ曲線は通常のCMOSインバーターを二つ連続的
に使用した遅延回路の特性を図示したものである。
よる時間遅延回路の特性曲線であり、点60と点61と
を結ぶ曲線は通常のCMOSインバーターを二つ連続的
に使用した遅延回路の特性を図示したものである。
第4図において電源供給電圧Vccが低い時にはN型J
FET45.47の特性により抵抗が小さいので遅延時
間が短くなり、第6図で示すように出力は点60から点
70のように遅延時間が短縮され、電源供給電圧Vcc
が高くなるとその抵抗も大きくなるので遅延時間も長く
なり、出力は点61から点71のように遅延時間が長く
なる。
FET45.47の特性により抵抗が小さいので遅延時
間が短くなり、第6図で示すように出力は点60から点
70のように遅延時間が短縮され、電源供給電圧Vcc
が高くなるとその抵抗も大きくなるので遅延時間も長く
なり、出力は点61から点71のように遅延時間が長く
なる。
〈発明の効果〉
上述したように本発明に係る半導体時間遅延素子は通常
のCMOSインバーターにJFETを接続して使用した
ので電源供給電圧及び温度の影響に対し殆ど変動のない
信号伝達の時間特性を持つ回路を具現し、遅延時間の使
用に効果的である。
のCMOSインバーターにJFETを接続して使用した
ので電源供給電圧及び温度の影響に対し殆ど変動のない
信号伝達の時間特性を持つ回路を具現し、遅延時間の使
用に効果的である。
又、本発明は速度制限半導体装置に強い半導体時間遅延
素子を実現することができる。
素子を実現することができる。
第1図は、従来における通常のCMOSインバーターで
構成した時間遅延回路図、 第2図は、従来における時間遅延素子を使用した時の出
力特性図、 第3図(A)は、N型JFETの断面図、第3図(B)
は、P型JFETの断面図、第3図(C)は、本発明に
使用されるN型JFETの電源供給電圧と接地電圧との
接続関係を示す回路図、 第3図(D)は、本発明に使用されるP型JFETの電
源供給電圧と接地電圧との接続関係を示す回路図、 第3図(E)は、第3図(C)に示したN型JFETの
出力特性図、 第4図は、本発明に係る半導体時間遅延素子の一実施例
を示す回路図、 第5図は、本発明に係る半導体時間遅延素子の他の実施
例を示す回路図、ぞして 第6図は本発明に係る半導体時間遅延素子の出力特性図
である。 45.47 −・・ N型JFBT(第1接合電界効果
トランジスタ) 46.48 ・−P型JFET(第2接合電界効果ト
ランジスタ) 41.43.51 ・−・ PMOSトランジスタ(
第1MO8電界効果トランジスタ) 42.44.52−NMOSトランジスタ(第2MOS
電界効果トランジスタ) 54 − PMOSトランジスタ(第3MOS電界効
果トランジスタ) 55 −・−NMOS)ランジスタ(第4MO8電界効
果トランジスタ) 53 ・−N型JFET(接合電界効果トランジスタ
) Vcc−m−電源供給電圧 Vss −接地電圧 Vi −入力信号 第5図 第6図 第1図 VsS Vss 第3図(A) H二→ 1u
構成した時間遅延回路図、 第2図は、従来における時間遅延素子を使用した時の出
力特性図、 第3図(A)は、N型JFETの断面図、第3図(B)
は、P型JFETの断面図、第3図(C)は、本発明に
使用されるN型JFETの電源供給電圧と接地電圧との
接続関係を示す回路図、 第3図(D)は、本発明に使用されるP型JFETの電
源供給電圧と接地電圧との接続関係を示す回路図、 第3図(E)は、第3図(C)に示したN型JFETの
出力特性図、 第4図は、本発明に係る半導体時間遅延素子の一実施例
を示す回路図、 第5図は、本発明に係る半導体時間遅延素子の他の実施
例を示す回路図、ぞして 第6図は本発明に係る半導体時間遅延素子の出力特性図
である。 45.47 −・・ N型JFBT(第1接合電界効果
トランジスタ) 46.48 ・−P型JFET(第2接合電界効果ト
ランジスタ) 41.43.51 ・−・ PMOSトランジスタ(
第1MO8電界効果トランジスタ) 42.44.52−NMOSトランジスタ(第2MOS
電界効果トランジスタ) 54 − PMOSトランジスタ(第3MOS電界効
果トランジスタ) 55 −・−NMOS)ランジスタ(第4MO8電界効
果トランジスタ) 53 ・−N型JFET(接合電界効果トランジスタ
) Vcc−m−電源供給電圧 Vss −接地電圧 Vi −入力信号 第5図 第6図 第1図 VsS Vss 第3図(A) H二→ 1u
Claims (4)
- (1)半導体時間遅延素子において、 電源供給電圧が供給される第1電圧供給端子と、接地電
圧が供給される第2電圧供給端子と、入力信号を入力す
る入力端子と、出力ノードと、上記第1電圧供給端子に
チャンネルの一端を接続し、ゲートを第1電圧供給端子
に接続した第1接合電界効果トランジスタと、上記第1
接合電界効果トランジスタのチャンネルの他端と出力ノ
ードとの間にチャンネルを接続し、ゲートを入力端子に
接続した第1MOS電界効果トランジスタと、上記第2
電圧供給端子にチャンネルの一端を接続し、ゲートを上
記第2電圧供給端子に接続した第2接合電界効果トラン
ジスタと、上記第2接合電界効果トランジスタのチャン
ネルの他端と出力ノードとの間にチャンネルを接続し、
ゲートを入力端子に接続した第2MOS電界効果トラン
ジスタを具備したことを特徴とする半導体時間遅延素子
。 - (2)第1接合電界効果トランジスタはN型接合電界効
果トランジスタであり、第2接合電界効果トランジスタ
はP型接合電界効果トランジスタであることを特徴とす
る請求項(1)記載の半導体時間遅延素子。 - (3)半導体時間遅延素子において、 電源供給電圧が供給される第1電圧供給端子と、接地
電圧が供給される第2電圧供給端子と、入力信号を入力
する入力端子と、第1制御ノードと、第2制御ノードと
、出力ノードと、第1電圧供給端子と第1制御ノードと
の間にチャンネルを接続し、ゲートを入力端子に接続し
た第1MOS電界効果トランジスタと、上記第1制御ノ
ードと第2電圧供給端子との間にチャンネルを接続し、
ゲートを入力端子に接続した第2MOS電界効果トラン
ジスタと、上記第1電圧供給端子と出力ノードとの間に
チャンネルを接続し、ゲートを上記第2制御ノードに接
続した第3MOS電界効果トランジスタと、上記第2電
圧供給端子と出力ノードとの間にチャンネルを接続し、
ゲートを上記第2制御ノードに接続した第4MOS電界
効果トランジスタと、上記第1制御ノードと第2制御ノ
ードとの間にチャンネルを接続した接合電界効果トラン
ジスタを具備したことを特徴とする半導体時間遅延素子
。 - (4)接合電界効果トランジスタは、ゲートを第1電圧
供給端子に接続したN型接合電界効果トランジスタ又は
ゲートを第2電源供給端子に接続したP型接合電界効果
トランジスタのうち選択された一つであることを特徴と
する請求項(3)記載の半導体時間遅延素子。
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