JPH01208824A - 積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
積層セラミック電子部品の製造方法Info
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- JPH01208824A JPH01208824A JP3365988A JP3365988A JPH01208824A JP H01208824 A JPH01208824 A JP H01208824A JP 3365988 A JP3365988 A JP 3365988A JP 3365988 A JP3365988 A JP 3365988A JP H01208824 A JPH01208824 A JP H01208824A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は積層セラミック電子部品の製造方法に関し、
特にたとえば内部電極を付与したセラミック生シートを
積層して積層セラミックコンデンサなどの電子部品のた
めの積層ブロックを作る、積層セラミック電子部品の製
造方法に関する。
特にたとえば内部電極を付与したセラミック生シートを
積層して積層セラミックコンデンサなどの電子部品のた
めの積層ブロックを作る、積層セラミック電子部品の製
造方法に関する。
従来の積層セラミック電子部品の製造方法としては、セ
ラミック生シート上に内部電極ペーストを印刷して乾燥
し、このように形成したセラミンク生シートを所定の枚
数積層した後、プレスし、切断しチップ化して、焼成し
た後、両側に外部電極を付与する方法がある。
ラミック生シート上に内部電極ペーストを印刷して乾燥
し、このように形成したセラミンク生シートを所定の枚
数積層した後、プレスし、切断しチップ化して、焼成し
た後、両側に外部電極を付与する方法がある。
また、他の方法として、キャリアフィルムが付着した状
態のセラミック生シート上に内部電極ペーストを印刷し
て乾燥し、それを熱圧着で積層してキャリアフィルムを
剥がすという工程を繰り返す方法がある。
態のセラミック生シート上に内部電極ペーストを印刷し
て乾燥し、それを熱圧着で積層してキャリアフィルムを
剥がすという工程を繰り返す方法がある。
前者の方法では、内部電極を形成した部分と形成してい
ない部分とでシートの厚みに差が生じるため、プレス時
に内部電極を形成していない部分に十分な圧力が加わら
ず、プレス成形密度が上がらないため、焼成後にこの部
分で層剥がれが生じ−易い。特に高容量化のためにセラ
ミック生シートを薄くシ、あるいは積層枚数を増やすほ
ど、プレス時における密度差が顕著となるのでその影客
は大きい。
ない部分とでシートの厚みに差が生じるため、プレス時
に内部電極を形成していない部分に十分な圧力が加わら
ず、プレス成形密度が上がらないため、焼成後にこの部
分で層剥がれが生じ−易い。特に高容量化のためにセラ
ミック生シートを薄くシ、あるいは積層枚数を増やすほ
ど、プレス時における密度差が顕著となるのでその影客
は大きい。
また、後者の方法でも、内部電極を形成した部分と形成
していない部分とでシートの厚みに差が生じるため、熱
圧着時に圧着面に均一に圧力をかけることができず、熱
圧着が困難になるという問題点があった。
していない部分とでシートの厚みに差が生じるため、熱
圧着時に圧着面に均一に圧力をかけることができず、熱
圧着が困難になるという問題点があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、積層の際に内部
電極の厚みが妨げとならない、積層セラミック電子部品
の製造方法を提供することである〔問題点を解決するた
めの手段〕 この発明は、(a ) (a−i)キャリアフィルム上
に所定のパターンの内部電極ペーストを付与して乾燥し
、次いで(a−ii)キャリアフィルム上の内部電極以
外の部分に所定の厚みでセラミックペーストを付与して
乾燥することによって第1部分を形成準備するステップ
、(b)キャリアフィルム上にほぼ全面にセラミックペ
ーストを付与して乾燥することによって第2部分を準備
するステップ、(c)第1部分と第2部分とを上層にな
るもののキャリアフィルムが上になるように重ね合わせ
て熱圧着するステップ、および(d)キャリアフィルム
を剥離するステップを含み、必要に応じてステップ(a
)−(d)を繰り返してセラミック積層ブロックを形成
するようにした、積層セラミック電子部品の製造方法で
ある。
電極の厚みが妨げとならない、積層セラミック電子部品
の製造方法を提供することである〔問題点を解決するた
めの手段〕 この発明は、(a ) (a−i)キャリアフィルム上
に所定のパターンの内部電極ペーストを付与して乾燥し
、次いで(a−ii)キャリアフィルム上の内部電極以
外の部分に所定の厚みでセラミックペーストを付与して
乾燥することによって第1部分を形成準備するステップ
、(b)キャリアフィルム上にほぼ全面にセラミックペ
ーストを付与して乾燥することによって第2部分を準備
するステップ、(c)第1部分と第2部分とを上層にな
るもののキャリアフィルムが上になるように重ね合わせ
て熱圧着するステップ、および(d)キャリアフィルム
を剥離するステップを含み、必要に応じてステップ(a
)−(d)を繰り返してセラミック積層ブロックを形成
するようにした、積層セラミック電子部品の製造方法で
ある。
第1部分のキャリアフィルム上の内部電極以外の部分に
形成された所定の厚みのセラミック層によって、内部電
極による段差ないし肉厚差が解消される。
形成された所定の厚みのセラミック層によって、内部電
極による段差ないし肉厚差が解消される。
この発明によれば、内部電極による段差が解消されるの
で、内部電極が形成されていない部分でも各セラミック
層が十分に圧着され得るので、層剥がれがなくなるとと
もに、積層ブロックの外表面がフラットになるので、チ
ップ化した後もフラットになって取り扱いが容易になる
。
で、内部電極が形成されていない部分でも各セラミック
層が十分に圧着され得るので、層剥がれがなくなるとと
もに、積層ブロックの外表面がフラットになるので、チ
ップ化した後もフラットになって取り扱いが容易になる
。
また、−旦乾燥した内部電極をセラミック生シートに熱
圧着するので、セラミック生シートに溶剤による膨潤が
生じるがことなく、したがってそれに起因する不良の発
生を防止することができるさらに、内部電極の肉厚の影
響を受けないので、積層数を大きくしても問題が生じず
、したがってコンデンサを作る場合には高容量化が期待
できる。
圧着するので、セラミック生シートに溶剤による膨潤が
生じるがことなく、したがってそれに起因する不良の発
生を防止することができるさらに、内部電極の肉厚の影
響を受けないので、積層数を大きくしても問題が生じず
、したがってコンデンサを作る場合には高容量化が期待
できる。
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から
一層明らかとなろう。
第1図−第7図はこの発明の一実施例としての積層セラ
ミックコンデンサの製造工程を示す図解図である。
ミックコンデンサの製造工程を示す図解図である。
第1図および第2図に示すようにして、第1部分12を
準備する。まず、所定面積の所定形状のキャリアフィル
ム14上に、第1図に示すように、たとえばスクリーン
印刷法によって、所定パターンで、電極ペーストを印刷
する。なお、キャリアフィルム14としては、その一方
面に離型処理が施されたもの、たとえば、シリコーン樹
脂がコーティングされたポリエチレンフィルムなどが利
用され得る。その後電極ペーストが乾燥されて内部電極
16となる。
準備する。まず、所定面積の所定形状のキャリアフィル
ム14上に、第1図に示すように、たとえばスクリーン
印刷法によって、所定パターンで、電極ペーストを印刷
する。なお、キャリアフィルム14としては、その一方
面に離型処理が施されたもの、たとえば、シリコーン樹
脂がコーティングされたポリエチレンフィルムなどが利
用され得る。その後電極ペーストが乾燥されて内部電極
16となる。
次に、第2図に示すように、キャリアフィルム14上の
内部電極16以外の部分に、たとえばスクリーン印刷法
によってセラミックペーストを印刷する。セラミックペ
ーストは、好ましくは、後述するセラミック生シート2
4と同じ原料でかつ同じかまたは異なるバインダが混合
されたものである。その後セラミックペーストが乾燥さ
れてセラミンク層18となる。なお、このようにして形
成されたセラミック層18は、内部電極16と同じもし
くはほぼ同じ厚みを有し、たとえば約10μmである。
内部電極16以外の部分に、たとえばスクリーン印刷法
によってセラミックペーストを印刷する。セラミックペ
ーストは、好ましくは、後述するセラミック生シート2
4と同じ原料でかつ同じかまたは異なるバインダが混合
されたものである。その後セラミックペーストが乾燥さ
れてセラミンク層18となる。なお、このようにして形
成されたセラミック層18は、内部電極16と同じもし
くはほぼ同じ厚みを有し、たとえば約10μmである。
このようにして第1部分12が作られる。
次いで、第2部分20を準備する。第3図に示すように
、先のものと同様のキャリアフィルム22上に、はぼ全
面に亘って、たとえばドクタブレード法によって、セラ
ミックスラリを塗布する。
、先のものと同様のキャリアフィルム22上に、はぼ全
面に亘って、たとえばドクタブレード法によって、セラ
ミックスラリを塗布する。
その後、セラミックスラリか乾燥されてセラミック生シ
ート24となる。このようにして第2部分20が作られ
る。
ート24となる。このようにして第2部分20が作られ
る。
その後、基本的には、第2図に示す第1部分12と第3
図に示す第2部分20とを、必要に応じて交互に積層す
ることによって、積層セラミックコンデンサのための積
層ブロックを製造する。
図に示す第2部分20とを、必要に応じて交互に積層す
ることによって、積層セラミックコンデンサのための積
層ブロックを製造する。
第4図に示すように、プレート26上にゴムシート28
を置き、このゴムシート28上で積層コンデンサのため
の下外層ブロック32を準備する。ゴムシート28は、
圧着の際圧着面の全面に均一に圧力がかかるようにする
ためのものであり、なくてもよい場合もある。下外層ブ
ロック32は、所定の枚数積層されたセラミック生シー
トを含み、まず、ゴムシート28上に、たとえばドクタ
ブレード法によってセラミック生シートを塗布し乾燥さ
せて最下層シート30を形成する。次に、最下層シート
30上にキャリアフィルム22が付いたままの第2部分
20をセラミック生シート24が下面となるように置く
。そして、たとえば熱圧着法によって、セラミック生シ
ート24を最下層シート30に圧着して、その後キャリ
アフィルム22を剥がす。所定の枚数の第2部分20す
なわちセラミック生シート24が積層されるようにこの
第4図に示す工程が繰り返される。このようにして、第
5図に示す下外層ブロック32が得られる。なお、熱圧
着条件は、40kg/cfl1以上であって、80〜1
10°Cが適当である。
を置き、このゴムシート28上で積層コンデンサのため
の下外層ブロック32を準備する。ゴムシート28は、
圧着の際圧着面の全面に均一に圧力がかかるようにする
ためのものであり、なくてもよい場合もある。下外層ブ
ロック32は、所定の枚数積層されたセラミック生シー
トを含み、まず、ゴムシート28上に、たとえばドクタ
ブレード法によってセラミック生シートを塗布し乾燥さ
せて最下層シート30を形成する。次に、最下層シート
30上にキャリアフィルム22が付いたままの第2部分
20をセラミック生シート24が下面となるように置く
。そして、たとえば熱圧着法によって、セラミック生シ
ート24を最下層シート30に圧着して、その後キャリ
アフィルム22を剥がす。所定の枚数の第2部分20す
なわちセラミック生シート24が積層されるようにこの
第4図に示す工程が繰り返される。このようにして、第
5図に示す下外層ブロック32が得られる。なお、熱圧
着条件は、40kg/cfl1以上であって、80〜1
10°Cが適当である。
次いで、第5図に示すように、下外層ブロック32上に
、キャリアフィルム14が付着したままの第1部分12
を、内部電極16およびセラミック層18が下面となる
ように置く。その後、上述と同様の方法で、内部電極1
6およびセラミック層18を下外層ブロック32に熱圧
着する。このとき、もし第1部分12の内部電極16と
セラミック層18との間に隙間があっても、両者は密に
一体となる。そして、上層にあるキャリアフィルム14
を剥離する。
、キャリアフィルム14が付着したままの第1部分12
を、内部電極16およびセラミック層18が下面となる
ように置く。その後、上述と同様の方法で、内部電極1
6およびセラミック層18を下外層ブロック32に熱圧
着する。このとき、もし第1部分12の内部電極16と
セラミック層18との間に隙間があっても、両者は密に
一体となる。そして、上層にあるキャリアフィルム14
を剥離する。
その後、第6図に示すように、第2部分20を、そのセ
ラミック生シート24が先に圧着されている下層の内部
電極16およびセラミック層18上に置いて熱圧着する
。そして、上層にあるキャリアフィルム22を剥離する
。
ラミック生シート24が先に圧着されている下層の内部
電極16およびセラミック層18上に置いて熱圧着する
。そして、上層にあるキャリアフィルム22を剥離する
。
このような工程を所定の枚数の内部電極16が交互に対
向電極になるように繰り返す。
向電極になるように繰り返す。
その後、第7図に示すように、第2部分20のセラミッ
ク生シート24を順次積層して熱圧着することによって
、必要な層数の積層コンデンサのための上外層ブロック
38を形成する。
ク生シート24を順次積層して熱圧着することによって
、必要な層数の積層コンデンサのための上外層ブロック
38を形成する。
なお、上述の実施例では内部電極16間のセラミック生
シート24は1層であったが、これは2層以上でもよい
。
シート24は1層であったが、これは2層以上でもよい
。
さらに、この実施例では、1つの積層ブロックチップを
作る場合が説明されたが、同じ方法でより大面積の積層
ブロック母材を作り、それをチップに加工(切断)する
ようにしてもよいことは勿論である。
作る場合が説明されたが、同じ方法でより大面積の積層
ブロック母材を作り、それをチップに加工(切断)する
ようにしてもよいことは勿論である。
また、この発明は積層コンデンサに限らず、内部電極を
有するセラミック積層ブロックを用いる任意の電子部品
たとえば積層インダクタ等の製造方法にも適用され得る
。
有するセラミック積層ブロックを用いる任意の電子部品
たとえば積層インダクタ等の製造方法にも適用され得る
。
第1図−第7図はこの発明の一実施例としての積層コン
デンサの製造工程の一部を順番に示す図解図であり、第
1図は内部電極を形成する工程を示し、第2図はセラミ
ック層を形成する工程を示し、第3図はセラミック生シ
ートを形成する工程し、第4図は下外層ブロックを形成
する工程を示し、第5図は内部電極を圧着する工程を示
し、第6図はセラミック生シートを圧着する工程を示し
、そして第7図は上外層ブロックを形成し終えた積層ブ
ロックを示す。 図において、10は積層ブロック、12は第1部分、1
4.22はキャリアフィルム、16は内部電極、18は
セラミック層、20は第2部分、24はセラミック生シ
ートを示す。 −特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 山 1) 義 人 * 1 [m 、6 第3図 第4図
デンサの製造工程の一部を順番に示す図解図であり、第
1図は内部電極を形成する工程を示し、第2図はセラミ
ック層を形成する工程を示し、第3図はセラミック生シ
ートを形成する工程し、第4図は下外層ブロックを形成
する工程を示し、第5図は内部電極を圧着する工程を示
し、第6図はセラミック生シートを圧着する工程を示し
、そして第7図は上外層ブロックを形成し終えた積層ブ
ロックを示す。 図において、10は積層ブロック、12は第1部分、1
4.22はキャリアフィルム、16は内部電極、18は
セラミック層、20は第2部分、24はセラミック生シ
ートを示す。 −特許出願人 株式会社 村田製作所 代理人 弁理士 山 1) 義 人 * 1 [m 、6 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (a)(a−i)キャリアフィルム上に所定のパターン
の内部電極ペーストを付与して乾燥し、次いで(a−i
i)前記キャリアフィルム上の前記内部電極以外の部分
に所定の厚みでセラミックペーストを付与して乾燥する
ことによって第1部分を準備するステップ、 (b)キャリアフィルム上にほぼ全面にセラミックペー
ストを付与して乾燥することによって第2部分を準備す
るステップ、 (c)前記第1部分と前記第2部分とを上層になるもの
のキャリアフィルムが上になるように重ね合わせて熱圧
着するステップ、および (d)キャリアフィルムを剥離するステップを含み、 必要に応じて前記ステップ(a)−(d)を繰り返して
セラミック積層ブロックを形成するようにした、積層セ
ラミック電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63033659A JPH0756851B2 (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63033659A JPH0756851B2 (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01208824A true JPH01208824A (ja) | 1989-08-22 |
JPH0756851B2 JPH0756851B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=12392577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63033659A Expired - Lifetime JPH0756851B2 (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0756851B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0531317A1 (en) * | 1990-04-03 | 1993-03-17 | Vistatech | Pre-engineered electrode/dielectric composite film and related manufacturing process for multilayer ceramic chip capacitors |
JP2001196228A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Murata Mfg Co Ltd | 積層セラミック電子部品の製造方法及び積層セラミック電子部品 |
US6602370B1 (en) | 1999-07-28 | 2003-08-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing ceramic electronic components |
JP2006210813A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Tdk Corp | 積層電子部品の製造方法 |
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JPS59172711A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-09-29 | 株式会社村田製作所 | セラミツク積層コンデンサの製造方法 |
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JPS6331104A (ja) * | 1986-07-24 | 1988-02-09 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミツクコンデンサの製造方法 |
-
1988
- 1988-02-16 JP JP63033659A patent/JPH0756851B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2006210813A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Tdk Corp | 積層電子部品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0756851B2 (ja) | 1995-06-14 |
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