JPH01208751A - 情報記録方法及び装置 - Google Patents
情報記録方法及び装置Info
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- JPH01208751A JPH01208751A JP63313067A JP31306788A JPH01208751A JP H01208751 A JPH01208751 A JP H01208751A JP 63313067 A JP63313067 A JP 63313067A JP 31306788 A JP31306788 A JP 31306788A JP H01208751 A JPH01208751 A JP H01208751A
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- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
-
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- G11B11/10502—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing characterised by the transducing operation to be executed
- G11B11/10504—Recording
- G11B11/1051—Recording by modulating both the magnetic field and the light beam at the transducers
- G11B11/10513—Recording by modulating both the magnetic field and the light beam at the transducers one of the light beam or the magnetic field being modulated by data and the other by a clock or frequency generator
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- G11B13/00—Recording simultaneously or selectively by methods covered by different main groups among G11B3/00, G11B5/00, G11B7/00 and G11B9/00; Record carriers therefor not otherwise provided for; Reproducing therefrom not otherwise provided for
- G11B13/04—Recording simultaneously or selectively by methods covered by different main groups among G11B3/00, G11B5/00, G11B7/00 and G11B9/00; Record carriers therefor not otherwise provided for; Reproducing therefrom not otherwise provided for magnetically or by magnetisation and optically or by radiation, for changing or sensing optical properties
- G11B13/045—Recording simultaneously or selectively by methods covered by different main groups among G11B3/00, G11B5/00, G11B7/00 and G11B9/00; Record carriers therefor not otherwise provided for; Reproducing therefrom not otherwise provided for magnetically or by magnetisation and optically or by radiation, for changing or sensing optical properties combined recording by magnetic and optic means
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- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、熱磁気形式の記録層を有する記録担体上に情
報を記録するに当り、情報信号に応じて変調された磁界
で記録層を走査することにより記録層に第１及び第２磁
化方向を有する磁気領域のパターンを形成し、同時に、
放射を供給することにより、走査されつつある区域を局
部的に、記録層の磁化が磁界によって規定される方向と
なる書込温度以上の温度に加熱する情報記録方法に関す
る。
報を記録するに当り、情報信号に応じて変調された磁界
で記録層を走査することにより記録層に第１及び第２磁
化方向を有する磁気領域のパターンを形成し、同時に、
放射を供給することにより、走査されつつある区域を局
部的に、記録層の磁化が磁界によって規定される方向と
なる書込温度以上の温度に加熱する情報記録方法に関す
る。
また本発明は、記録担体の記録層を、情報信号に応じて
変調される磁界で走査する磁界変調器と、光学装置とを
具え、光学装置により磁界変調器によって走査された記
録層の部分を、記録層の磁化が磁界によって規定される
方向となる書込温度以上の温度に局部的に加熱するため
走査された部分に放射ビームによって放射エネルギーを
供給する磁気光学記録装置に関する。
変調される磁界で走査する磁界変調器と、光学装置とを
具え、光学装置により磁界変調器によって走査された記
録層の部分を、記録層の磁化が磁界によって規定される
方向となる書込温度以上の温度に局部的に加熱するため
走査された部分に放射ビームによって放射エネルギーを
供給する磁気光学記録装置に関する。
かかる方法及び装置は刊行物“Ｐ旧１ｉｐｓ Ｔｅｃｈ
ｎｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ” 、 Ｖｏｌ、４２． Ｎｏ
、２．第３８〜４７頁に記載されている。前記刊行物に
は、原理的に、記録層を、変調された磁界を走査すると
同時に、走査された部分を一定強度のレーザビームで加
熱することによって磁気領域（磁気ドメイン）のパター
ンを形成できることが記載されている。その場合加熱さ
れた部分の位置において、記録担体は変調された磁界に
よって規定される方向に従って磁化される。
ｎｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ” 、 Ｖｏｌ、４２． Ｎｏ
、２．第３８〜４７頁に記載されている。前記刊行物に
は、原理的に、記録層を、変調された磁界を走査すると
同時に、走査された部分を一定強度のレーザビームで加
熱することによって磁気領域（磁気ドメイン）のパター
ンを形成できることが記載されている。その場合加熱さ
れた部分の位置において、記録担体は変調された磁界に
よって規定される方向に従って磁化される。
冷却後記録担体の磁化は持続し、情報信号に対応する互
に反対方向の磁気領域のパターンが生ずる。
に反対方向の磁気領域のパターンが生ずる。
前記刊行物に記載された如く、この方法に関連する問題
、即ち磁界の反転の不適切な速度は解決されている。例
えば、オランダ国特許出願第８７０２４０１号には磁界
の反転を適切な速度で行う磁界変調器が記載されている
。上記問題は解決されているから、上記記録方法は極め
て魅力的になっており、その理由は、先に記録された情
報を、付加的な消去動作を必要とすることなく、容易に
書き換えることができるからである。
、即ち磁界の反転の不適切な速度は解決されている。例
えば、オランダ国特許出願第８７０２４０１号には磁界
の反転を適切な速度で行う磁界変調器が記載されている
。上記問題は解決されているから、上記記録方法は極め
て魅力的になっており、その理由は、先に記録された情
報を、付加的な消去動作を必要とすることなく、容易に
書き換えることができるからである。
情報は直線性偏光の反射に当り偏光方向の回転を介して
読出される。読出品位は、読出されつつある信号の信号
対雑音比に依存する。続出信号における雑音は３つの主
要雑音成分、即らディスクの不完全さから生ずるディス
ク雑音と、続出過程における不完全さから生ずる続出雑
音と、書込過程における不完全さから生ずる書込雑音と
を含む。
読出される。読出品位は、読出されつつある信号の信号
対雑音比に依存する。続出信号における雑音は３つの主
要雑音成分、即らディスクの不完全さから生ずるディス
ク雑音と、続出過程における不完全さから生ずる続出雑
音と、書込過程における不完全さから生ずる書込雑音と
を含む。
一方、ディスク及び続出過程の達成可能な品位は、かか
るディスクの続出中書込雑音が優勢になるという範囲ま
では改良されている。従って、続出信号の信号対雑音比
を一層改善することが所望される場合には、書込雑音の
低減を目的として書込過程の改善を行う必要がある。
るディスクの続出中書込雑音が優勢になるという範囲ま
では改良されている。従って、続出信号の信号対雑音比
を一層改善することが所望される場合には、書込雑音の
低減を目的として書込過程の改善を行う必要がある。
本発明の目的は、書込雑音を低減できる冒頭に述べた形
式の記録方法及び装置を提供するにある。
式の記録方法及び装置を提供するにある。
かかる目的を達成するため本発明の記録方法は、放射を
放射パルスとし、磁界の方向が反転する瞬時及び放射パ
ルスが終了する瞬時の間の時間間隔を最小として、放射
パルスの終りにおいて書込温度以上に加熱された部分に
対し磁界を十分強くして磁界によって規定される方向に
磁化することを特徴とする。
放射パルスとし、磁界の方向が反転する瞬時及び放射パ
ルスが終了する瞬時の間の時間間隔を最小として、放射
パルスの終りにおいて書込温度以上に加熱された部分に
対し磁界を十分強くして磁界によって規定される方向に
磁化することを特徴とする。
またかかる目的を達成するため本発明の記録装置は、放
射パルスを発生するよう放射ビーム強度を変調する変調
手段と、磁界の方向の反転瞬時及び放射パルスの終りの
間の時間間隔を特定最小時間に維持する同期手段とを具
えたことを特徴とする。
射パルスを発生するよう放射ビーム強度を変調する変調
手段と、磁界の方向の反転瞬時及び放射パルスの終りの
間の時間間隔を特定最小時間に維持する同期手段とを具
えたことを特徴とする。
本発明は特に、書込雑音が主に、磁気領域（磁気ドメイ
ン）の形成される位置が不正確であることによって起る
ことを認識し、これを基礎として為したものである。本
発明の方法及び装置ではもイ（界の反転における不正確
さが磁気領域の位置に殆んど影響を及ぼさない。磁気領
域の境界は主に、放射パルスが終了する瞬時によって決
まる。放射パルスのこれら瞬時は磁界の反転の瞬時より
遥に正確に調整できる。実際上、数百エールステッドの
所要磁界強度のため磁界に蓄積される磁気エネルギーの
量は大きいので、磁界を反転できる速度は放射ビームの
強度を変化できる速度より著しく小さい。
ン）の形成される位置が不正確であることによって起る
ことを認識し、これを基礎として為したものである。本
発明の方法及び装置ではもイ（界の反転における不正確
さが磁気領域の位置に殆んど影響を及ぼさない。磁気領
域の境界は主に、放射パルスが終了する瞬時によって決
まる。放射パルスのこれら瞬時は磁界の反転の瞬時より
遥に正確に調整できる。実際上、数百エールステッドの
所要磁界強度のため磁界に蓄積される磁気エネルギーの
量は大きいので、磁界を反転できる速度は放射ビームの
強度を変化できる速度より著しく小さい。
記録担体が放射パルスによって加熱されるという事実の
ため、磁気領域の形成に当り、磁気領域の境界区域にお
ける温度勾配が一定強度放射ビームに露光した場合に得
られる温度勾配より著しく大きくなり、これは磁気領域
境界の位置精度に対しても好影響を有する。
ため、磁気領域の形成に当り、磁気領域の境界区域にお
ける温度勾配が一定強度放射ビームに露光した場合に得
られる温度勾配より著しく大きくなり、これは磁気領域
境界の位置精度に対しても好影響を有する。
更に、放射パルスによって記録層の加熱は、記録層に供
給される熱負荷、従って記録層が変形する速度が一定強
度放射での走査の場合より著しく小さくなるという利点
を有する。
給される熱負荷、従って記録層が変形する速度が一定強
度放射での走査の場合より著しく小さくなるという利点
を有する。
放射パルスの持続時間を放射パルスの周期に対し短（す
ることを特徴とする本発明方法の実施例においては、極
めて大きい温度勾配が得られる。
ることを特徴とする本発明方法の実施例においては、極
めて大きい温度勾配が得られる。
一定ビツトレートのディジタル情報信号を記録するのに
極めて好適な本発明方法の実施例においては、放射パル
スの周波数をビットレートのｎ倍（但しｎは１に等しい
か又はＩより大きい）に等しくすることを特徴とする。
極めて好適な本発明方法の実施例においては、放射パル
スの周波数をビットレートのｎ倍（但しｎは１に等しい
か又はＩより大きい）に等しくすることを特徴とする。
ビットレートの逓倍である放射パルス周波数は、放射パ
ルスによって形成される単一磁気領域の直径がビット長
に対応する記録担体上の距離より小さい場合に有利であ
る。その場合、１ビツトを示す磁気領域を１または２以
上のオーバーラツプする別個の磁気領域だけ延設するこ
とが所望される。
ルスによって形成される単一磁気領域の直径がビット長
に対応する記録担体上の距離より小さい場合に有利であ
る。その場合、１ビツトを示す磁気領域を１または２以
上のオーバーラツプする別個の磁気領域だけ延設するこ
とが所望される。
個々の磁気領域の直径が前記距離より大きい場合、放射
パルスの周波数をビットレートに等しく選定すると好適
である。
パルスの周波数をビットレートに等しく選定すると好適
である。
更に、磁界の反転瞬時及び次の放射パルスの終りの間の
時間間隔を調整して、磁界反転の瞬時を、２つの順次の
放射パルスの終りの間のほぼ中間に配置すると好適であ
る。その場合、前記時間間隔の変化を生ずる擾乱の影響
は最小になる。
時間間隔を調整して、磁界反転の瞬時を、２つの順次の
放射パルスの終りの間のほぼ中間に配置すると好適であ
る。その場合、前記時間間隔の変化を生ずる擾乱の影響
は最小になる。
以下図面につき本発明の詳細な説明する。
第１図は、例えば、前記”Ｐｈ１ｌｉｐｓ Ｔｅｃｈｎ
ｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ” 、 Ｖｏｌ、４２＋ Ｎｎ２
．第３８〜４７頁に記載された如き形式の熱磁気記録層
４を配設した記録担体１上に情報を記録する本発明装置
の実施例を示す。
ｉｃａｌＲｅｖｉｅｗ” 、 Ｖｏｌ、４２＋ Ｎｎ２
．第３８〜４７頁に記載された如き形式の熱磁気記録層
４を配設した記録担体１上に情報を記録する本発明装置
の実施例を示す。
本例装置は記録担体１をその軸線の周りで回転するター
ンテーブル２及び駆動装置３を具える。回転する記録担
体１に対して光学走査装置を配置し、光学走査装置は普
通の形式の光学ヘッド５を具え、これにより放射ビーム
、例えばレーザビームを記録担体に指向させて、レーザ
ビームの強度を制御信号ｖｒに従って変調できるように
する。この目的のため光学ヘッド５は、例えば、信号ｖ
ｒによって駆動される半導体レーザ８を具えることがで
きる。
ンテーブル２及び駆動装置３を具える。回転する記録担
体１に対して光学走査装置を配置し、光学走査装置は普
通の形式の光学ヘッド５を具え、これにより放射ビーム
、例えばレーザビームを記録担体に指向させて、レーザ
ビームの強度を制御信号ｖｒに従って変調できるように
する。この目的のため光学ヘッド５は、例えば、信号ｖ
ｒによって駆動される半導体レーザ８を具えることがで
きる。
記録担体１に対し光学ヘッド５の反対側には磁界変調器
７を設け、放射ビーム６によって照射された記録層４の
区域に磁界を発生させるようにする。
７を設け、放射ビーム６によって照射された記録層４の
区域に磁界を発生させるようにする。
磁界変調器７は、磁界の方向を２進制御信号Ｖ、に従っ
て変調できる形式のものとする。かかる磁界変調器はオ
ランダ国特許出願第８７０２４５１号に詳細に記載され
ており、本明細書でもこれを参照する。
て変調できる形式のものとする。かかる磁界変調器はオ
ランダ国特許出願第８７０２４５１号に詳細に記載され
ており、本明細書でもこれを参照する。
制御信号Ｖ、及びＶ、は情報信号Ｖ、から同期回路９に
よって導出する制御信号Ｖ、は、レーザビームの強度Ｉ
を高エネルギーレベルＩｍａｘ及び低エネルギーレベル
Ｌｉｎ０間で制御するパルス状信号を含む。
よって導出する制御信号Ｖ、は、レーザビームの強度Ｉ
を高エネルギーレベルＩｍａｘ及び低エネルギーレベル
Ｌｉｎ０間で制御するパルス状信号を含む。
制’ｔｌＢ信号Ｖ、は、磁気変調器７によって記録層４
において発生する磁界を、第２図に時間の関数として示
した如く、値Ｈｐ及び反対値Ｉ＋、の間で交番させる信
号である。
において発生する磁界を、第２図に時間の関数として示
した如く、値Ｈｐ及び反対値Ｉ＋、の間で交番させる信
号である。
情報信号から制御信号ν、及びＶ、を導出する態様は後
で詳細に説明する。
で詳細に説明する。
まず第２及び３図につき書込過程を説明する。
この書込過程に際しては記録層４が放射パルス１０によ
って加熱される。これにより、放射パルスの持続時間が
８０ｎｓ、走査速度１．２ｍ／ｓ、及び放射パルスの周
波数が４．３２Ｍ）ｌｚの場合、走査方向（Ｘ）におい
て記録担体内に生ずる温度勾配を第３図に示す。
って加熱される。これにより、放射パルスの持続時間が
８０ｎｓ、走査速度１．２ｍ／ｓ、及び放射パルスの周
波数が４．３２Ｍ）ｌｚの場合、走査方向（Ｘ）におい
て記録担体内に生ずる温度勾配を第３図に示す。
上記周波数及び走査速度はＣＤ標準方式に従うディジタ
ル信号を記録する際における情用のビットレート及び走
査速度に対応する。参照数字２０，２１，２２゜２３、
２４及び２５は放射パルスの初め、２０ｎｓ、 ４０ｎ
ｓ。
ル信号を記録する際における情用のビットレート及び走
査速度に対応する。参照数字２０，２１，２２゜２３、
２４及び２５は放射パルスの初め、２０ｎｓ、 ４０ｎ
ｓ。
６０ｎｓ、 ８０ｎｓ及び１００ｎｓにおける温度勾配
を示す。
を示す。
第３図から明らかなように、放射パルスの発生に当り温
度は、放射パルスのパルスの終り（８０ｎｓ後）に最大
値に到達するまで、書込レベルＴ、以上に迅速に増大す
る。次いで温度は書込レベルＴ５以下に迅速に減少する
。書込レベルＴ５は、それ以上では記録層４の磁化の方
向を、発生した磁界によって変化できる温度を示す。
度は、放射パルスのパルスの終り（８０ｎｓ後）に最大
値に到達するまで、書込レベルＴ、以上に迅速に増大す
る。次いで温度は書込レベルＴ５以下に迅速に減少する
。書込レベルＴ５は、それ以上では記録層４の磁化の方
向を、発生した磁界によって変化できる温度を示す。
第２図においては、放射パルス１０ａ、・・・、 １０
ｇによって書込温度１８以上に加熱された記録層４内の
区域を参照数字１１ａ、・・・、１１ｇで示す。放射パ
ルス１０ａが発生しなくなった場合磁界はＨｌとなるの
で、区域１１ａはＨｌの方向によって規定される第１方
向において磁化される。記録層４の温度が書込温度Ｔｓ
以下に減少した後磁界の方向が反転される。
ｇによって書込温度１８以上に加熱された記録層４内の
区域を参照数字１１ａ、・・・、１１ｇで示す。放射パ
ルス１０ａが発生しなくなった場合磁界はＨｌとなるの
で、区域１１ａはＨｌの方向によって規定される第１方
向において磁化される。記録層４の温度が書込温度Ｔｓ
以下に減少した後磁界の方向が反転される。
次の放射パルスｆｏｂの終りにおいて区域１１ｂにおけ
る温度が書込温度１５以上に増大するので、この区域１
１ｂは前記第１方向とは反対の第２方向において磁化さ
れる。区域１１ａ及びｌｌｂは部分的に互にオーバーラ
ツプするから、オーバーラツプ部分内の磁化の方向は反
転される。
る温度が書込温度１５以上に増大するので、この区域１
１ｂは前記第１方向とは反対の第２方向において磁化さ
れる。区域１１ａ及びｌｌｂは部分的に互にオーバーラ
ツプするから、オーバーラツプ部分内の磁化の方向は反
転される。
次いで放射パルス１０ｃが発生した場合、区域１１ｃが
第２方向において磁化される。然る後区域ｉｉａ。
第２方向において磁化される。然る後区域ｉｉａ。
ｌｉｅ、 ｌｌｆ及びｌ１ｇがそれぞれ第１及び第２方
向において磁化され、第１磁化方向の磁気領域（磁気ド
メイン）３５ａ及び３５ｂ並びに第２磁化方向の磁気領
域（磁気ドメイン）３４ａ及び３４ｂのパターンが生ず
る。なお第２図では磁気領域３４及び３５の外側におけ
る記録担体の磁化方向は示してない。実際上、前記磁気
領域の外側の記録層は２つの可能な方向の一方において
磁化される。
向において磁化され、第１磁化方向の磁気領域（磁気ド
メイン）３５ａ及び３５ｂ並びに第２磁化方向の磁気領
域（磁気ドメイン）３４ａ及び３４ｂのパターンが生ず
る。なお第２図では磁気領域３４及び３５の外側におけ
る記録担体の磁化方向は示してない。実際上、前記磁気
領域の外側の記録層は２つの可能な方向の一方において
磁化される。
磁気領域の長さは磁界の２つの順次の反転後における第
１放射パルス１０間の時間間隔に依存する。
１放射パルス１０間の時間間隔に依存する。
ドメイン３４ａに対してはこれは放射パルス１０ｂ及び
放射パルス１０ｄの発生瞬時の間の時間間隔である。
放射パルス１０ｄの発生瞬時の間の時間間隔である。
磁気領域が配置される精度は最大温度に到達した場合に
おける磁界の強度と、区域１１の境界における温度勾配
に著しく依存する。磁気領域の位置に対するレーザ強度
、周囲温度、書込感度及び磁界の変化の影響はこの温度
勾配が増大するに従って減少する。これらパラメータの
変化の結果起る磁気領域境界の推移は以後“磁気領域の
ジッタ（ドメイン ジッタ（ｄｏｍａｉｎ ｊｉｔｔｅ
ｒ）） ”と称する。記録層における温度勾配は、区域
を書込温度以上に加熱するために必要な放射エネルギー
が供給される期間が減少するに従って増大するから、放
射パルスの周期に対し放射パルスの持続時間を小さくす
ることが所望される。第４図は記録層４を加熱するため
に必要な放射エネルギーが一定強度レーザビームによっ
て供給された場合の記録担体における温度勾配を例示す
る。第３及び４図を比較すると明らかな如く、一定強度
レーザビームでの加熱の際の温度勾配は放射パルスによ
る加熱の場合より著しく小さくなる（従って磁気領域ジ
ッタに対する感度が一層大きくなる）。この磁気領域ジ
ッタにより磁気領域パターンの読取に当り読取信号にお
ける雑音レベルが増大する。実験により、一定強度レー
ザビームによる書込過程との比較において信号対雑音比
が本発明方法の場合に比べ４〜５ｄＢ高くなる。−例と
して第１２図に、−定周波数ｆｃの信号が記録された場
合読取信号のエネルギー分布を周波数の関数として示す
。参照数字５０は一定放射強度での記録の場合における
エネルギー分布を示す。信号が本発明の方法によって記
録された場合におけるエネルギー分布を参照数字５１で
示す。水平部分は雑音レベルを示す。ピークの高さは信
号レベルを示す。
おける磁界の強度と、区域１１の境界における温度勾配
に著しく依存する。磁気領域の位置に対するレーザ強度
、周囲温度、書込感度及び磁界の変化の影響はこの温度
勾配が増大するに従って減少する。これらパラメータの
変化の結果起る磁気領域境界の推移は以後“磁気領域の
ジッタ（ドメイン ジッタ（ｄｏｍａｉｎ ｊｉｔｔｅ
ｒ）） ”と称する。記録層における温度勾配は、区域
を書込温度以上に加熱するために必要な放射エネルギー
が供給される期間が減少するに従って増大するから、放
射パルスの周期に対し放射パルスの持続時間を小さくす
ることが所望される。第４図は記録層４を加熱するため
に必要な放射エネルギーが一定強度レーザビームによっ
て供給された場合の記録担体における温度勾配を例示す
る。第３及び４図を比較すると明らかな如く、一定強度
レーザビームでの加熱の際の温度勾配は放射パルスによ
る加熱の場合より著しく小さくなる（従って磁気領域ジ
ッタに対する感度が一層大きくなる）。この磁気領域ジ
ッタにより磁気領域パターンの読取に当り読取信号にお
ける雑音レベルが増大する。実験により、一定強度レー
ザビームによる書込過程との比較において信号対雑音比
が本発明方法の場合に比べ４〜５ｄＢ高くなる。−例と
して第１２図に、−定周波数ｆｃの信号が記録された場
合読取信号のエネルギー分布を周波数の関数として示す
。参照数字５０は一定放射強度での記録の場合における
エネルギー分布を示す。信号が本発明の方法によって記
録された場合におけるエネルギー分布を参照数字５１で
示す。水平部分は雑音レベルを示す。ピークの高さは信
号レベルを示す。
他の実験では一定レーザ強度書込過程における磁気領域
長さの不正確さを、本発明方法による書込の不正確さと
比較した。走査速度は１．４ｍ八とし、情報信号のビッ
トレートは４ 、３２Ｍ）Ｉｚとした。本発明方法の場
合には磁気領域ジッタの標準偏差σは１７ｎｓに対応す
ることを見出し、一定レーザ強度書込過程の場合には前
記標準偏差が２Ｉｎｓに対応することを見出した。
長さの不正確さを、本発明方法による書込の不正確さと
比較した。走査速度は１．４ｍ八とし、情報信号のビッ
トレートは４ 、３２Ｍ）Ｉｚとした。本発明方法の場
合には磁気領域ジッタの標準偏差σは１７ｎｓに対応す
ることを見出し、一定レーザ強度書込過程の場合には前
記標準偏差が２Ｉｎｓに対応することを見出した。
この測定に当り放射パルス及び磁界変調の間の位相関係
は最適化された。磁気領域ジッタに対するこの位相関係
の影響を以下詳細に説明する。
は最適化された。磁気領域ジッタに対するこの位相関係
の影響を以下詳細に説明する。
第５図は例えば第７図に示す如き、特定ビットレートの
ディジタル情報信号Ｖ、を記録する過程を制御するのに
使用する同期回路９の第１例を示す。
ディジタル情報信号Ｖ、を記録する過程を制御するのに
使用する同期回路９の第１例を示す。
同期回路は情報信号Ｖ、のビットレートに等しい周波数
のチャンネルクロック信号ＶｃＬを再生する回路を具え
る。かかる回路は位相検出回路３０を具え、位相検出回
路は情報信号ｖｃのゼロ交さ点毎に前記ゼロ交さ点と、
電圧制御発振器３１によって発生したチャンネルクロッ
ク信号ＶＣＬのパルスとの間の位相差、を決定する。こ
のようにして検出された位相差を示す信号をループフィ
ルタ３２を介して電圧制御発振器３１の入力端子に供給
する。位相検出回路３０と、ループフィルタ３２と、電
圧制御発振器３１とは相まって、チャンネルクロック信
号ＶＣＬを再生するための普通の形式の位相ロックルー
プ回路を構成する。
のチャンネルクロック信号ＶｃＬを再生する回路を具え
る。かかる回路は位相検出回路３０を具え、位相検出回
路は情報信号ｖｃのゼロ交さ点毎に前記ゼロ交さ点と、
電圧制御発振器３１によって発生したチャンネルクロッ
ク信号ＶＣＬのパルスとの間の位相差、を決定する。こ
のようにして検出された位相差を示す信号をループフィ
ルタ３２を介して電圧制御発振器３１の入力端子に供給
する。位相検出回路３０と、ループフィルタ３２と、電
圧制御発振器３１とは相まって、チャンネルクロック信
号ＶＣＬを再生するための普通の形式の位相ロックルー
プ回路を構成する。
制御信号ｖｒはチャンネルクロック信号ｖｃＬから遅延
回路３３を介して導出し、この遅延回路はチャンネルク
ロック信号ＶＣｔの各パルスに応答して所定幅の制御パ
ルスを発生し、このパルスはチャンネルクロックパルス
に対し所定時間だけ遅延される。
回路３３を介して導出し、この遅延回路はチャンネルク
ロック信号ＶＣｔの各パルスに応答して所定幅の制御パ
ルスを発生し、このパルスはチャンネルクロックパルス
に対し所定時間だけ遅延される。
信号ν８は磁界変調器７に対する制御信号ν、として作
用する。磁界変調器７によって発生した磁界の強度Ｈも
第７図に示しである。
用する。磁界変調器７によって発生した磁界の強度Ｈも
第７図に示しである。
第７図は更に、制御信号Ｖ、に応答して発生した放射パ
ルス１０を示す。遅延回路３３の前記遅延時間を適切に
調整して、放射パルスの終りにおいて磁界が、放射ビー
ムによって書込温度Ｔｓ以上に加熱され磁界の方向によ
って規定される方向に磁化すぺき区域に対し十分強くな
るようにする。
ルス１０を示す。遅延回路３３の前記遅延時間を適切に
調整して、放射パルスの終りにおいて磁界が、放射ビー
ムによって書込温度Ｔｓ以上に加熱され磁界の方向によ
って規定される方向に磁化すぺき区域に対し十分強くな
るようにする。
磁界変調及び放射パルスによって発生する温度上昇の結
果、第１ｍ化方向の磁気領域３４及び第２磁化方向の磁
気領域３５のパターンが、第７図に示す如く、記録層４
に形成される。各磁気領域は同−論理値のビット系列を
示し、これは磁化方向によって麦わされる。磁気領域の
長さは当該系列におけるビットの数を表わす。
果、第１ｍ化方向の磁気領域３４及び第２磁化方向の磁
気領域３５のパターンが、第７図に示す如く、記録層４
に形成される。各磁気領域は同−論理値のビット系列を
示し、これは磁化方向によって麦わされる。磁気領域の
長さは当該系列におけるビットの数を表わす。
第６図はアナログ情報信号を記録する過程を制御するの
に使用する同期回路９の第２例を示す。
に使用する同期回路９の第２例を示す。
本例回路はアナログ情報ｖ′、によって制御される電圧
制御発振器３６を具え、この発振器は電圧レベルによっ
て決まる周波数のクロック信号ν′。
制御発振器３６を具え、この発振器は電圧レベルによっ
て決まる周波数のクロック信号ν′。
を発生する。アナログ情報Ｖ ／ 、及びクロック信号
Ｖ ’ ｃｔを第８図に示す。第８図にはアナログ信号
ｖ′、に対し３つの異なる信号レベルのみ示す。遅延回
路３７によりクロック信号Ｖ′０．から制御信号ｖｒを
導出する。この遅延回路は第５図について述べた遅延回
路３３と同じである。また制御信号Ｖ、はクロック信号
Ｖ ’ ｃｔから導出する。この目的のため同期回路９
は分周回路３８を具え、その入力端子にはクロック信号
Ｖ ’ ｃｌが供給され、かつその出力端子からは制御
信号ｖ１として作用する出力信号が送出される。本例で
は分周回路の分周除数が４であるので、制御信号ｖ８の
周波数はクロック信号Ｖ’ｃＬの周波数の１７４となる
。また第８図には制御信号ν、及び磁界変調器７によっ
て発生する磁界の強度Ｈも示しである。
Ｖ ’ ｃｔを第８図に示す。第８図にはアナログ信号
ｖ′、に対し３つの異なる信号レベルのみ示す。遅延回
路３７によりクロック信号Ｖ′０．から制御信号ｖｒを
導出する。この遅延回路は第５図について述べた遅延回
路３３と同じである。また制御信号Ｖ、はクロック信号
Ｖ ’ ｃｔから導出する。この目的のため同期回路９
は分周回路３８を具え、その入力端子にはクロック信号
Ｖ ’ ｃｌが供給され、かつその出力端子からは制御
信号ｖ１として作用する出力信号が送出される。本例で
は分周回路の分周除数が４であるので、制御信号ｖ８の
周波数はクロック信号Ｖ’ｃＬの周波数の１７４となる
。また第８図には制御信号ν、及び磁界変調器７によっ
て発生する磁界の強度Ｈも示しである。
また第８図には制御信号Ｖ、のパルスに応答して発生す
る放射パルス１０と、磁界変調及び放射パルスによって
発止する磁気領域３４及び３５のパターンも示しである
。記録されたパターンは、その周波数がアナログ情報信
号Ｖ ／ 、の信号レベルに対応する周波数変調信号を
示す。
る放射パルス１０と、磁界変調及び放射パルスによって
発止する磁気領域３４及び３５のパターンも示しである
。記録されたパターンは、その周波数がアナログ情報信
号Ｖ ／ 、の信号レベルに対応する周波数変調信号を
示す。
本例は、順次加熱された区域１１が互にオーバーラツプ
するという事実を有利に利用するので、磁気領域の長さ
は、放射パルスの周波数を適合させることにより特定範
囲限界値内で変化できる。２つの順次のパルスの間の間
隔を適切に小さくして区域１１が互にオーバーラツプす
るようにした場合、連続した磁気領域が得られる。
するという事実を有利に利用するので、磁気領域の長さ
は、放射パルスの周波数を適合させることにより特定範
囲限界値内で変化できる。２つの順次のパルスの間の間
隔を適切に小さくして区域１１が互にオーバーラツプす
るようにした場合、連続した磁気領域が得られる。
本発明は上に述べた実施例に限定されるものではない。
例えば、その強度変化がここに示した矩形状強度変化と
は異なる放射パルスにより放射エネルギーを供給するこ
とができる。例えば、放射パルスの強度レベルはます書
込温度より低く加熱する第１の値とし、その僅か後に強
度を書込温度以上に加熱する値に増大するようにするこ
とができる。代案として、放射パルスが多数の副パルス
を含み、その成るものが予熱パルスとして作用し、他の
放射パルスが書込パルスとして作用するようにできる。
は異なる放射パルスにより放射エネルギーを供給するこ
とができる。例えば、放射パルスの強度レベルはます書
込温度より低く加熱する第１の値とし、その僅か後に強
度を書込温度以上に加熱する値に増大するようにするこ
とができる。代案として、放射パルスが多数の副パルス
を含み、その成るものが予熱パルスとして作用し、他の
放射パルスが書込パルスとして作用するようにできる。
しかし、記録層における温度が最大値に到達する瞬時、
即ち放射パルスの終りにおいては磁界強度が書込温度以
上に加熱された区域に対し十分高くなり、磁界によって
規定された方向に磁化することが常に重要である。
即ち放射パルスの終りにおいては磁界強度が書込温度以
上に加熱された区域に対し十分高くなり、磁界によって
規定された方向に磁化することが常に重要である。
一例として第１０図の曲線４０は、放射パルス１０の繰
り返しレートが４．３２ＭＨｚ 、放射パルスの持続時
間ｔｒが８０ｎｓ及び磁界変調の立上り時間が１６０ｎ
ｓの場合において、記録層４における温度が最大値に到
達する瞬時即ち放射パルスの終りと、磁界の方向が反転
される瞬時との間の時間間隔ｔｄの関数として磁気領域
ジッタの標準偏差σを示す（放射強度Ｉ及び磁界強度Ｈ
の関連する変化を第９図に示す）。
り返しレートが４．３２ＭＨｚ 、放射パルスの持続時
間ｔｒが８０ｎｓ及び磁界変調の立上り時間が１６０ｎ
ｓの場合において、記録層４における温度が最大値に到
達する瞬時即ち放射パルスの終りと、磁界の方向が反転
される瞬時との間の時間間隔ｔｄの関数として磁気領域
ジッタの標準偏差σを示す（放射強度Ｉ及び磁界強度Ｈ
の関連する変化を第９図に示す）。
曲線４１は、放射パルス持続時間ｔｒが８０ｎｓに代え
１１５ｎｓである場合における磁気領域ジッタの標準偏
差を示す。更に第１０図の曲線４２は放射パルス１０の
終りにおける磁界の強度を示す。破線４３は、放射強度
が一定に維持された場合における磁気領域ジッタの標準
偏差を示す。
１１５ｎｓである場合における磁気領域ジッタの標準偏
差を示す。更に第１０図の曲線４２は放射パルス１０の
終りにおける磁界の強度を示す。破線４３は、放射強度
が一定に維持された場合における磁気領域ジッタの標準
偏差を示す。
第１０図は、放射パルスの終りにおいて磁界強度が最終
値（Ｈ０８又はＬｉ、、）の４０％より大きい場合、磁
気領域ジッタが減少することを明瞭に示す。
値（Ｈ０８又はＬｉ、、）の４０％より大きい場合、磁
気領域ジッタが減少することを明瞭に示す。
第１Ｉ図は、放射パルス持続時間ｔｒが８０ｎｓであり
かつ立上り時間ｔ１が２００ｎｓである場合における磁
気領域ジッタの標準偏差σを表わす曲線４４を示す。
かつ立上り時間ｔ１が２００ｎｓである場合における磁
気領域ジッタの標準偏差σを表わす曲線４４を示す。
これから分るように、放射パルス１０の終りにおいて磁
界強度が最終値の少なくとも４０％である場合に、磁気
領域ジッタが低減する。
界強度が最終値の少なくとも４０％である場合に、磁気
領域ジッタが低減する。
磁気領域ジッタの前記低減に加え、本発明方法は記録層
が受ける熱負荷を大幅に低減されるという利点を有する
。実際上、記録層が放射パルスによって加熱された場合
記録層は極（短期間だけ書込温度以上に加熱され、一方
、一定強度の放射での加熱の場合、記録層は連続的に書
込温度以上に加熱される。熱負荷の低減により記録層の
材料が変形する速度も低減される。この低減は、例えば
データの一時記憶のために所望される如く、あらかじめ
形成された条溝構造を有する記録担体に極めて頻繁に書
込まれる用途に対し特に興味がある。
が受ける熱負荷を大幅に低減されるという利点を有する
。実際上、記録層が放射パルスによって加熱された場合
記録層は極（短期間だけ書込温度以上に加熱され、一方
、一定強度の放射での加熱の場合、記録層は連続的に書
込温度以上に加熱される。熱負荷の低減により記録層の
材料が変形する速度も低減される。この低減は、例えば
データの一時記憶のために所望される如く、あらかじめ
形成された条溝構造を有する記録担体に極めて頻繁に書
込まれる用途に対し特に興味がある。
かかる用途に対しては、記録担体の寿命は、あらかじめ
形成された条溝構造が熱負荷の結果消滅する速度にも依
存する。
形成された条溝構造が熱負荷の結果消滅する速度にも依
存する。
第１図は本発明装置の実施例のブロック図、第２図は放
射ビームの強度、磁界の強度を時間の関数として示し、
かつこれより得られる磁気領域のパターンを示す図、 第３図は加熱に必要な放射エネルギーを放射パルスによ
って供給した場合における記録担体の温度勾配を示す図
、 第４図は加熱に必要な放射を一定強度放射ビームによっ
て供給した場合における記録担体の温度勾配を示す図、 第５及び６図は本発明装置において使用する同期回路の
２例のブロック図、 第７及び８図は放射ビーム強度、磁界の強度を時間の関
数として示し、かつこれより得られる磁気領域のパター
ンを示す図、 第９．１０，１．１及び１２図は本発明の方法及び装置
によって得られる書込雑音の低減を示す図である。 ｌ・・・記録担体 ２・・・ターンテーブル３
・・・駆動装置 ４・・・熱磁気記録層５・・
・光学ヘッド ６・・・放射ビーム７・・・磁界
変調器 ８・・・半導体レーザ９・・・同期回路
１０・・・放射パルス３０・・・位相検出回
路 ３１・・・電圧制御発振器３２・・・ループフ
ィルタ ３３・・・遅延回路３６・・・電圧制御発振
器 ３７・・・遅延回路３８・・・分周回路 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フル−
イランペンファブリケン 同 出 願人 フィリップス・アンド・デュポン・
オプティカル・コンパニー ９′ ＦＩＧ、１
射ビームの強度、磁界の強度を時間の関数として示し、
かつこれより得られる磁気領域のパターンを示す図、 第３図は加熱に必要な放射エネルギーを放射パルスによ
って供給した場合における記録担体の温度勾配を示す図
、 第４図は加熱に必要な放射を一定強度放射ビームによっ
て供給した場合における記録担体の温度勾配を示す図、 第５及び６図は本発明装置において使用する同期回路の
２例のブロック図、 第７及び８図は放射ビーム強度、磁界の強度を時間の関
数として示し、かつこれより得られる磁気領域のパター
ンを示す図、 第９．１０，１．１及び１２図は本発明の方法及び装置
によって得られる書込雑音の低減を示す図である。 ｌ・・・記録担体 ２・・・ターンテーブル３
・・・駆動装置 ４・・・熱磁気記録層５・・
・光学ヘッド ６・・・放射ビーム７・・・磁界
変調器 ８・・・半導体レーザ９・・・同期回路
１０・・・放射パルス３０・・・位相検出回
路 ３１・・・電圧制御発振器３２・・・ループフ
ィルタ ３３・・・遅延回路３６・・・電圧制御発振
器 ３７・・・遅延回路３８・・・分周回路 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フル−
イランペンファブリケン 同 出 願人 フィリップス・アンド・デュポン・
オプティカル・コンパニー ９′ ＦＩＧ、１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、熱磁気形式の記録層を有する記録担体上に情報を記
録するに当り、情報信号に応じて変調された磁界で記録
層を走査することにより記録層に第１及び第２磁化方向
を有する磁気領域のパターンを形成し、同時に、放射を
供給することにより、走査されつつある区域を局部的に
、記録層の磁化が磁界によって規定される方向となる書
込温度以上の温度に加熱する情報記録方法において、放
射を放射パルスとし、磁界の方向が反転する瞬時及び放
射パルスが終了する瞬時の間の時間間隔を最小として、
放射パルスの終りにおいて書込温度以上に加熱された部
分に対し磁界を十分強くして磁界によって規定される方
向に磁化することを特徴とする情報記録方法。 ２、放射パルスの持続時間を放射パルスの周期に対し短
くすることを特徴とする請求項１に記載の情報記録方法
。 ３、情報信号を特定のビットレートのディジタル信号と
し、放射パルスの周波数を前記ビットレートのｎ倍（但
しｎは１に等しいか又は１より大きい）とすることを特
徴とする請求項２に記載の情報記録方法。 ４、ｎを１とすることを特徴とする請求項３に記載の情
報記録方法。 ５、磁界の方向が反転される瞬時を、２つの順次の放射
パルスが終了する瞬時のほぼ中間とすることを特徴とす
る請求項１〜４のいずれかに記載の情報記録方法。 ６、記録担体の記録層を、情報信号に応じて変調される
磁界で走査する磁界変調器と、光学装置とを具え、光学
装置により磁界変調器によって走査された記録層の部分
を局部的に加熱するため走査された部分に放射ビームに
よって放射エネルギーを供給する磁気光学記録装置にお
いて、放射パルスを発生するよう放射ビーム強度を変調
する変調手段と、磁界の方向の反転瞬時及び放射パルス
の終りの間の時間間隔を特定最小時間に維持する同期手
段とを具えたことを特徴とする磁気光学記録装置。 ７、同期手段が磁界変調及び放射ビーム変調の間に特定
の位相関係を維持する手段を具えたことを特徴とする請
求項６に記載の記録装置。 ８、放射パルス間の時間間隔の長さに対し短い持続時間
の放射パルスを発生させるよう構成したことを特徴とす
る請求項６又は７に記載の記録装置。 ９、情報信号を特定のビットレートのディジタル信号と
し、同期手段を用いて前記ビットレートのｎ倍（但しｎ
は１に等しいか又は１より大きい）に等しい周波数の周
期信号を発生させるよう構成したことを特徴とする請求
項６、７又は８に記載の記録装置。 １０、ｎを１とすることを特徴とする請求項８に記載の
記録装置。 １１、同期手段が位相差を決定する位相検出器を具え、
周期信号を、検出された位相差に応じて適応させて位相
差を特定値にほぼ等しく維持する手段を具えたことを特
徴とする請求項７、８、９又は１０に記載の記録装置。 １２、同期手段を用いて放射パルスの終り及び磁界の方
向が反転する間の時間間隔を維持して、反転の瞬時が２
つの順次の放射パルスの終りの間のほぼ中間に位置する
よう構成したことを特徴とする請求項６〜１１のいずれ
かに記載の記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8703011A NL8703011A (nl) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | Werkwijze voor het optekenen van informatie op een registratiedrager van het thermo-magnetische type, alsmede een inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. |
| NL8703011 | 1987-12-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01208751A true JPH01208751A (ja) | 1989-08-22 |
| JP2847117B2 JP2847117B2 (ja) | 1999-01-13 |
Family
ID=19851084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63313067A Expired - Lifetime JP2847117B2 (ja) | 1987-12-14 | 1988-12-13 | 情報記録方法及び装置 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5126985A (ja) |
| EP (1) | EP0321027B1 (ja) |
| JP (1) | JP2847117B2 (ja) |
| KR (1) | KR100210989B1 (ja) |
| CN (1) | CN1034820A (ja) |
| AT (1) | ATE94303T1 (ja) |
| BR (1) | BR8806542A (ja) |
| DE (1) | DE3883939T2 (ja) |
| ES (1) | ES2045093T3 (ja) |
| HK (1) | HK85396A (ja) |
| NL (1) | NL8703011A (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| NL8902293A (nl) * | 1989-09-14 | 1991-04-02 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het inschrijven en uitlezen van een magneto-optische registratiedrager. |
| NL8902728A (nl) * | 1989-11-06 | 1991-06-03 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het inschrijven en uitlezen van een magneto-optische registratiedrager. |
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