JPH01140437A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH01140437A JPH01140437A JP62297590A JP29759087A JPH01140437A JP H01140437 A JPH01140437 A JP H01140437A JP 62297590 A JP62297590 A JP 62297590A JP 29759087 A JP29759087 A JP 29759087A JP H01140437 A JPH01140437 A JP H01140437A
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- Pending
Links
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザー光を用いて情報の記録、再生消去を行
う光記録媒体に係り、特に樹脂基板の耐溶媒性向上に好
適な下地膜を用いた光記録媒体に関する。
う光記録媒体に係り、特に樹脂基板の耐溶媒性向上に好
適な下地膜を用いた光記録媒体に関する。
従来の技術としては、特開昭５９−２１７２４１号に記
載のようにハロゲン化炭化水素溶媒に対して水溶化処理
を施したプラスチック基板上にシアニン系色素薄膜を有
する光記録媒体がある。これは、ハロゲン化炭化水素に
不溶な樹脂もしくはガラス質の膜をプラスチック基板上
に設けることにより耐溶媒性を持たせている。樹脂とし
て水溶性ポリマーであるポリビニルアルコールを用いた
実施例が記載されている。
載のようにハロゲン化炭化水素溶媒に対して水溶化処理
を施したプラスチック基板上にシアニン系色素薄膜を有
する光記録媒体がある。これは、ハロゲン化炭化水素に
不溶な樹脂もしくはガラス質の膜をプラスチック基板上
に設けることにより耐溶媒性を持たせている。樹脂とし
て水溶性ポリマーであるポリビニルアルコールを用いた
実施例が記載されている。
しかし、水溶性ポリマーは湿度に対する形状安定性が悪
い、つまり高湿度下では水溶性ポリマーの溶解または膨
潤などがおこり、大幅な特性の劣化が見られる。そこで
キャスト法によるＰＭＭＡ基板の表面にＵＶ樹脂層を設
ける、いわゆる２Ｐ法によって作製されたレプリカ基板
が広く用いられている。しかし、この２Ｐ法アクリル基
板は生産性のみならず耐熱性の点でも問題がある。その
ため、有機溶媒から基板を保護する安定な下地膜が必要
である。
い、つまり高湿度下では水溶性ポリマーの溶解または膨
潤などがおこり、大幅な特性の劣化が見られる。そこで
キャスト法によるＰＭＭＡ基板の表面にＵＶ樹脂層を設
ける、いわゆる２Ｐ法によって作製されたレプリカ基板
が広く用いられている。しかし、この２Ｐ法アクリル基
板は生産性のみならず耐熱性の点でも問題がある。その
ため、有機溶媒から基板を保護する安定な下地膜が必要
である。
従来、生産性に優れた射出成型法による樹脂基板は一般
に有機溶媒に弱く、色素などの有機系記録膜を回転塗布
法で成膜する上で問題があった。
に有機溶媒に弱く、色素などの有機系記録膜を回転塗布
法で成膜する上で問題があった。
また、水溶性ポリマーを用いて基板表面を不溶化処理し
た場合は、湿度に対する溝、ピット形状の安定性が悪く
特性の劣化が見られる。
た場合は、湿度に対する溝、ピット形状の安定性が悪く
特性の劣化が見られる。
本発明の目的は樹脂基板の耐溶媒性を向上させうる安定
な下地膜を用いた光記録媒体提供することにある。
な下地膜を用いた光記録媒体提供することにある。
上記目的は、水溶性ポリマーの下地膜を樹脂基板上に設
けると共に、このポリマーの架橋、または熱処理を施す
ことにより達成される。
けると共に、このポリマーの架橋、または熱処理を施す
ことにより達成される。
水溶性ポリマーには耐有機溶媒性があり、これを下地膜
材料として用いると共に、ポリマーを架橋または熱処理
により結晶化することにより、耐水性が向上し色素の有
機溶液の塗布が可能となると共に、これを用いた光ディ
スクにおいて湿度による溝およびピットの形状変化は見
られなくなる。
材料として用いると共に、ポリマーを架橋または熱処理
により結晶化することにより、耐水性が向上し色素の有
機溶液の塗布が可能となると共に、これを用いた光ディ
スクにおいて湿度による溝およびピットの形状変化は見
られなくなる。
〔実施例〕
以下、本発明の詳細を実施例により説明する。
作製した光記録媒体の断面構造の模式図を第１図に示す
。基板（１）として１３０φポリカーボネート基板を用
いた。次に下地膜（２）の材料として水溶性のポリマー
であるポリビニルアルコールを選択した。ここで用いた
ポリビニルアルコールは鹸化度８８．０％、重合度２０
００である。
。基板（１）として１３０φポリカーボネート基板を用
いた。次に下地膜（２）の材料として水溶性のポリマー
であるポリビニルアルコールを選択した。ここで用いた
ポリビニルアルコールは鹸化度８８．０％、重合度２０
００である。
ポリビニルアルコールの水溶液調製法を以下に示す。ポ
リビニルアルコール中に含まれる酢酸曹達を除去するた
めに水によるデカンテーションを数回繰り返した。次に
加熱攪拌を２時間和度行ないポリビニルアルコールを完
全に溶解させた。ここでの加熱温度は６０〜８０℃であ
る。また、ポリビニルアルコールの濃度は２．５ ｗ
ｔ％である。
リビニルアルコール中に含まれる酢酸曹達を除去するた
めに水によるデカンテーションを数回繰り返した。次に
加熱攪拌を２時間和度行ないポリビニルアルコールを完
全に溶解させた。ここでの加熱温度は６０〜８０℃であ
る。また、ポリビニルアルコールの濃度は２．５ ｗ
ｔ％である。
さらに、細かいゴミなどを除去するために、０．２μｍ
のフィルターでろ過を行なった。
のフィルターでろ過を行なった。
以上の様な方法で調製したポリビニルアルコール水溶液
を回転塗布法を用いて基板（１）上に成膜した。塗布回
転数は４０００ｒｐｍであり、下地膜の膜厚は８０ｎｍ
である。光記録材料としてシアニン系、色素のシクロヘ
キサノン、あるいは１゜２−ジクロロエタン溶液をこの
下地膜上に回転塗布した場合、基板に変化は見られず耐
溶媒性は良好であった。
を回転塗布法を用いて基板（１）上に成膜した。塗布回
転数は４０００ｒｐｍであり、下地膜の膜厚は８０ｎｍ
である。光記録材料としてシアニン系、色素のシクロヘ
キサノン、あるいは１゜２−ジクロロエタン溶液をこの
下地膜上に回転塗布した場合、基板に変化は見られず耐
溶媒性は良好であった。
つぎに、この下地膜の耐水性を向上させるためのポリビ
ニルアルコールの架橋硬化を具体的に説明する。
ニルアルコールの架橋硬化を具体的に説明する。
ここでは架橋剤として重クロム酸アンモニウムを用いた
。重クロム酸アンモニウムをポリビニルアルコールに対
して重量比で１０％ポリビニルアルコール水溶液に添加
し、溶解させた。回転塗布による成膜後、超高圧水銀ラ
ンプ（波長３６０〜４００ｎｍ）で１．５分間照射を行
ない架橋させた。
。重クロム酸アンモニウムをポリビニルアルコールに対
して重量比で１０％ポリビニルアルコール水溶液に添加
し、溶解させた。回転塗布による成膜後、超高圧水銀ラ
ンプ（波長３６０〜４００ｎｍ）で１．５分間照射を行
ない架橋させた。
その他、耐水性向上の手段として、熱処理を行なった。
熱処理としては基板の変形が見られないもつとも高い温
度１１０℃で６０分間保持した。
度１１０℃で６０分間保持した。
このように架橋反応あるいは熱処理を施すことにより、
温度６０′Ｃ湿度９５％の雰囲気下に１５００時間置い
装場合でも、案内溝、ピットの膨潤による形状変化の割
合は数パーセントにおさえられており問題にはならない
。また、ポリビニルアルコール薄膜と基板との剥離も見
られなかった。
温度６０′Ｃ湿度９５％の雰囲気下に１５００時間置い
装場合でも、案内溝、ピットの膨潤による形状変化の割
合は数パーセントにおさえられており問題にはならない
。また、ポリビニルアルコール薄膜と基板との剥離も見
られなかった。
上記の光記録媒体を回転（１８００ｒｐｍ）させながら
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、膜面パワー８ｍＷ、
ビーム径約１．６μｍ）で記録を行なった。この時の腺
速度は８．５ｍ／ｓｅｅ、記録パルス幅２００ｎｓａｃ
とした。得られたＣ／Ｎ値は５４ｄＢ （２ＭＨｚ）で
あった。
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、膜面パワー８ｍＷ、
ビーム径約１．６μｍ）で記録を行なった。この時の腺
速度は８．５ｍ／ｓｅｅ、記録パルス幅２００ｎｓａｃ
とした。得られたＣ／Ｎ値は５４ｄＢ （２ＭＨｚ）で
あった。
また、ポリビニルアルコール下地膜による、感度の低下
及び雑音の増加は認められなかった。
及び雑音の増加は認められなかった。
本発明によれば、架橋処理あるいは熱処理を施した水溶
性ポリマーの下地膜を設けることにより、樹脂基板の耐
溶媒性を向上させることができるので、色素など有機系
記＠１漠を回転塗布により成膜することができ、しかも
耐湿性に優れた信頼の高い光記録媒体を得ることができ
る。
性ポリマーの下地膜を設けることにより、樹脂基板の耐
溶媒性を向上させることができるので、色素など有機系
記＠１漠を回転塗布により成膜することができ、しかも
耐湿性に優れた信頼の高い光記録媒体を得ることができ
る。
第１図は本発明の実施例の光記録媒体の断面図である。
１・・・基板、２・・・下地膜、３・・・光記録膜。
Claims (1)
- １、レーザー光を用いて情報の記録再生消去を行う光記
録媒体において、記録層と樹脂基板の間に水溶性ポリマ
ーの下地膜を設けさらに、下地膜である水溶性ポリマー
を架橋または熱処理を施して耐水性を向上させたことを
特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62297590A JPH01140437A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62297590A JPH01140437A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01140437A true JPH01140437A (ja) | 1989-06-01 |
Family
ID=17848522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62297590A Pending JPH01140437A (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01140437A (ja) |
-
1987
- 1987-11-27 JP JP62297590A patent/JPH01140437A/ja active Pending
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