JPS62262241A - 光記録媒体の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は書込みできる光記録媒体の製造法に関するもの
である。

従来の技術 光記録媒体、中でも光ディスクは近年目覚ましい発展を
遂げつつあり、市場の拡大に伴い多種多様な目的、用途
に利用されることになっていくことが予想される。−最
に光ディスクは再生専用型ディスクと書込み可能のディ
スクの二種類に大きく分類される。前者の代表は、音楽
用のコンパクトディスク（以下ＣＤと称する）である、
他方書込み可能光ディスクとしては、穴あけ型、相転移
型、光磁気型など種々の方式の光ディスクが開発され、
一部上市されている。

ところで、ＣＤはメーカーが大量生産することで比較的
安価になるが、小規模な生産、特に、個人用音楽ディス
ク等への適用コストパフォーマンスの面で不可能であっ
た。書込み可能光ディスクはこの個人用音楽ディスクや
個人用情軸ファイル等の用途に用いる場合には適してい
るが、反面、製造費が高くまたＣＤに比較すると２倍以
上の厚さとなっており、反射率も低いため、現在のＣＤ
プレーヤでは書込まれた信号を再生できなかった。

これらの問題点を解決する方法として、特願昭６０−２
５８９２８に示している特許がある。これは透明基板上
に有機色素からなる記録膜を形成する第１の工程と、記
録膜に半導体レーザを集光して信号をピット列として書
込む第２の工程と、記録膜を退色させる第３の工程と、
反射層を形成する第４の工程とからなる光記録媒体の製
造法である。

発明が解決しようとする問題点 前記光記録媒体の製造法によって作られる光記録媒体は
、書込みできる光ディスクを安価に、しかも記録面の反
射率を高くすることで市販のＣＤプレーヤで再生するこ
とを可能にするものである。

しかしながらこの製造法では、記録膜上に反射層を形成
するまでの間、すなわち、記録膜上に信号を書込む工程
、記録膜全体を退色させる工程において、記録膜が外気
にさらされており、周囲の異物が記録膜表面に付着する
。さらに、ハンドリング時に（たとえば記録前の光ディ
スクを別の場所へ持っていきそこで記録する時など）記
録−表面へ指紋が付着するなどの原因により、この製造
法によって得られる光記録媒体のエラー率を測定すると
大きい値になってしまうという欠点があった。

問題点を解決するための手段 透明基板上に半導体レーザに悪心して穴あき記録できる
記録膜を形成する第１の工程と、記録膜の形成された透
明基板上に保護板を装着する第２の工程と、記録膜上に
信号を半導体レーザにより書込み、記録膜上にピット列
を形成する第３の工程と、記録膜全体をピットの形状を
変えることなく退色せしめる第４の工程と、上記保護板
を脱着する第５の工程と、ピット例の形成された上記記
録膜上に反射層を形成する第６の工程とを順次経ること
により上記問題点を解決することが可能である。

作用 記録膜を退色させた後に反射層を設けることにより、特
異な吸収をもたなくなり、しかも反射率が高くなるめＣ
Ｄプレーヤにて再生することが可能となる。さらに記録
膜上に反射層を形成するまでの間、保護板が、記録膜に
周囲の異物が付着する、指紋が付着することを妨げてい
るためにエラー率をかなり小さくするこができ、高信幀
性の光記録媒体を得ることが可能となる。

実施例 本発明について図を用いてより詳細に説明する。

第１図は本発明になる保護板を装着している時の状態を
示す断面図、第２図は、本発明による製造法によって得
られた光記録媒体の断面図である。

本発明においては、透明基板１上に半導体レーザに悪心
して穴あき記録できる記録膜２を形成する第１の工程と
、記録膜２の形成された透明基板ｌ上に保護板３を装着
する第２の工程と（第１図）、上記記録膜２上に外部の
情報源からの信号を半導体レーザにより書込み、記録膜
２上にピント列を形成する第３の工程と、上記記録膜全
体をピットの形状を変えることなく退色せしめる第４の
工程と、上記保護板３を脱着する第５の工程と、ピット
列の形成された上記記録膜２上に反射層５を形成する第
６の工程（第２図）によって光記録媒体を製造するとい
う、６つの工程から成り立っている。これらの中で、透
明基板ｌは、半導体レーザの波長域で吸収のない材料が
好ましく、具体的には、光学ガラスやメタクリル樹脂、
ポリカーボネート樹脂などの透明樹脂が用いられる。透
明基板１上には、あらかじめトラッキングサーボのため
の溝（いわゆるプリグループ）を形成させてお（。

プリグループを形成させるには光硬化性樹脂を用いる方
法やスタンパを用いて射出成形により形成させるなど通
常の方法を用いることができる。

また、記録膜２としては、半導体レーザの波長域で分光
吸収特性を有し、集光された半導体レーザによって穿孔
ピット列が形成され、かつ特定の光を照射することによ
り未記録部分が退色され、上記の分光特性吸収が消失し
てしまう材料を用いることが必要であり、有機色素もし
くは色素を透明樹脂に分散したもの、中でもシアニン系
色素が適している。

記ｔ！膜２を基板に塗布する方法としては、スピンコー
ド法が最適であるが、ディップ、ロールコートなどの方
法によっても作成できる。記録膜２は、透明基板１上に
溝と反対側の面が平滑になるように形成するのが好まし
い。溝と反対側の面が平滑になると、本製造法により得
られた光記録媒体を再生する時に半導体レーザ光の反射
面が平滑になる。なお、記録膜塗布の前に溝つき基板の
表面の耐溶剤性を高めるため、表面に溝形状変化しない
程度に薄い保護膜を形成しておくことも可能である。

また、第２の工程である保護板３を装着する方法には、
記録膜２と保護板３との間に空隙を設け、記録領域以外
の内外周部のみを、感熱感圧型接着シートを用いて低温
で仮接着をする方法や、あるいは、透明基板１の外周部
と保護板３の外周部とをはめこみ式にするなどの方法に
よって行なうことができる。

第４の記録膜の退色化工程としては、紫外線を照射して
記録膜を形成する色素分子の官能基を酸　　　　゛化分
解させる方法が優れており、この方法により記録された
ピットの形状を変化させることなく退色させることがで
きる。

また、反射層５の形成法としてはアルミニウムを蒸着す
ることによりＣＤプレーヤで再生可能となるような高反
射率を得ることができる。

以下、具体的な実施例について述べる。

（実施例１） 厚さが１．２１諺で表面に深さ０．０８μｍ、幅０．８
μｍのトランキング溝が１．６μｍピンチでスバイラ状
に形成されたメタクリル樹脂成形基板１を準備し、溝の
有する面上に１００人のＳｉＯ□の保護膜をスパツクし
た。この面上に、ヨウ化−１，１′−ジエチル−２，２
′−キノトリカルボシアニンの塩化メチレン溶液を５０
Ｏｒｐｍでスピンコードして記録膜２を形成した。さら
に感熱怒圧型接着シートを用いてメタクリル樹脂製の保
護板３を記録領域以外の内外周部で仮接着した。この条
件は温度６０℃、圧力１ｋｇ／（−１）１で３０分間で
ある。その後、トラッキングサーボをかけながら透明基
板１を通して４１ＩＩｗで波長８３０ｎｍの半導体レー
ザ光を１．４ｍ／５ｅｃＯ線速で照射した。書込まれた
信号は５００　ｋ　ｔｌｚでデユーティ比５０１５０の
パルスである。記録後、基板ｌを通して３０００ｍ　Ｊ
　／ｃａｔの紫外線を照射し、未記録部を退色させた。

その後、保護板３を取り去り、記録膜表面に２００人の
アルミニウムを蒸着した。完成された光ディスクを市販
のＣＤプレーヤを用いて再生したところ帯域幅３０　ｋ
　ｌｌｚで５３ｄＢの再生Ｃ／Ｎ比が得られた。さらに
、ピットエラー率を測定したところ５ＸＬＯ−’であっ
た。

比較として保護板３を全く使用せず、記録膜２の形成後
、記録、退色、アルミニウムの蒸着の工程を経て光ディ
スクを得た。このディスクも実施例１と同様に測定した
ところ、再生Ｃ／Ｎ比は５４ｄＢと実施例１と同等の値
が得られたが、ピットエラー率が４Ｘ１０−’であった
。

（実施例２） 記録膜として下記の色素を用いる他は実施例１と同一の
方法、工程で光ディスクを得た。完成された光ディスク
をＣＤプレーヤで再生したところ帯域幅３０　ｋ　ｌｌ
ｚで５１ｄＢの再生Ｃ／Ｎ比が得られ、またピットエラ
ー率は７Ｘ１０−ｂであった。

発明の効果 本発明による光記録媒体の製造法を用いることにより、
小規模多品種の情報を有する光記録媒体が安価に製造で
き、製造された光記録媒体がＣＤプレーヤで再生でき、
しかも、エラー率が小さい高信頼性の光記録媒体を得る
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明になる保護板を装着している時の状態を
示す断面図、第２図は本発明による製造法によって得ら
れた光記録媒体の断面図である。 ｌ・・・・・・透明基板、２・・・・・・記録膜、３・
・・・・・保護板、５・・・・・・反射層。 代理人の氏名　弁理士　中尾敏男　はか１名／−−−進
朋基板 ２−４己９に平気 ３−一一輝ＣＩ坂 ５−　反射１ 第１図 第　２Ｉ７Ｉ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基板上に半導体レーザに感応して穴あき記録
   できる記録膜を形成する第１の工程と、記録膜の形成さ
   れた透明基板上に保護板を装着する第２の工程と、上記
   記録膜上に外部の情報源からの信号を半導体レーザによ
   り書込み、記録膜上にピット列を形成する第３の工程と
   、上記記録膜全体をピットの形状を変えることなく退色
   せしめる第４の工程と、上記保護板を脱着する第５の工
   程と、ピット列の形成された上記記録膜上に反射層を形
   成する第６の工程とからなる光記録媒体の製造法。
2. （２）第１の工程があらかじめトラッキングサーボのた
   めの溝を表面に形成した透明基板上に、溝面と反対の面
   が平滑になるように退色性記録膜を施すことを特徴とす
   る特許請求の範囲第（１）項記載の光記録媒体の製造法
   。
3. （３）記録膜が紫外線により退色し、かつ７００〜９０
   ０ｎｍの波長域に特性吸収を有する有機色素であること
   を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の光記録媒
   体の製造法。
4. （４）第４の工程が紫外域を含む光線を用いて退色せし
   めることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
   光記録媒体の製造法。
5. （５）反射層がアルミニウムであることを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）項記載の光記録媒体の製造法。