JP3057592B2 - 書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法 - Google Patents
書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、情報を重畳させた記
録用レーザ光を有機色素を含有する光吸収層に照射して
背景部分との間に光学的な位相差を有するピットを形成
させることのできる書き込み可能な光情報記録媒体と、
その製造方法に関するものである。
録用レーザ光を有機色素を含有する光吸収層に照射して
背景部分との間に光学的な位相差を有するピットを形成
させることのできる書き込み可能な光情報記録媒体と、
その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】書き込み可能な光情報記録媒体として
は、種々のものが提案されている。本件特許出願人は、
従来の書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、ＲＯＭ
型光情報記録媒体であるコンパクトディスク（ＣＤ）の
規格に適合させることができる書き込み可能な光情報記
録媒体として、特開平２−８７３４２号公報に開示され
ているものを提案している。
は、種々のものが提案されている。本件特許出願人は、
従来の書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、ＲＯＭ
型光情報記録媒体であるコンパクトディスク（ＣＤ）の
規格に適合させることができる書き込み可能な光情報記
録媒体として、特開平２−８７３４２号公報に開示され
ているものを提案している。
【０００３】この書き込み可能な光情報記録媒体は、光
吸収層と反射層との間に再生用レーザ光の波長に対して
透明（複素屈折率の虚数部ｋｅｈｓ ＝０）なエンハン
ス(enhance) 層を設けたことを特徴とするものである。
この書き込み可能な光情報記録媒体は光吸収層と反射層
との間にこのようなエンハンス層を備えているので、再
生用レーザ光の反射率を７０％以上と高くできるという
特長を有している。
吸収層と反射層との間に再生用レーザ光の波長に対して
透明（複素屈折率の虚数部ｋｅｈｓ ＝０）なエンハン
ス(enhance) 層を設けたことを特徴とするものである。
この書き込み可能な光情報記録媒体は光吸収層と反射層
との間にこのようなエンハンス層を備えているので、再
生用レーザ光の反射率を７０％以上と高くできるという
特長を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この書き込み
可能な光情報記録媒体は、エンハンス層が無機材料で形
成されているので、スパッタリング法等により形成しな
ければならず、エンハンス層を形成させるのに時間がか
かり、生産性が悪く、コスト高になるという問題点があ
った。ここで、エンハンス層を容易に形成することがで
きる光情報記録媒体として、エンハンス層を合成樹脂材
料で形成したものが考えられる。しかし、エンハンス層
を合成樹脂材料で形成すると。耐候性（高温多湿の環境
下に長時間放置した場合の耐久性）に関する信頼性に不
安がある。
可能な光情報記録媒体は、エンハンス層が無機材料で形
成されているので、スパッタリング法等により形成しな
ければならず、エンハンス層を形成させるのに時間がか
かり、生産性が悪く、コスト高になるという問題点があ
った。ここで、エンハンス層を容易に形成することがで
きる光情報記録媒体として、エンハンス層を合成樹脂材
料で形成したものが考えられる。しかし、エンハンス層
を合成樹脂材料で形成すると。耐候性（高温多湿の環境
下に長時間放置した場合の耐久性）に関する信頼性に不
安がある。
【０００５】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、反射率が高く、信頼性の高い書き込み可
能な光情報記録媒体を生産性良く、低コストで提供する
ことを目的とする。
されたもので、反射率が高く、信頼性の高い書き込み可
能な光情報記録媒体を生産性良く、低コストで提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る書き込み
可能な光情報記録媒体は、上記課題を解決するために、
有機色素を含有する光吸収層の一方の面側に透光性基板
を有し、該光吸収層の他方の面側に反射層を有し、該光
吸収層と該透光性基板との間又は該光吸収層と該反射層
との間に、再生用レーザ光の波長に対して透明なエンハ
ンス層を有する書き込み可能な光情報記録媒体におい
て、該エンハンス層をポリモノアルキルシロキサンを主
成分とするもので形成し、該エンハンス層の膜厚ｄ
ｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈折率の実数部ｎ
ａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層
の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波長λによって与
えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・
ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６の範囲にな
るようにしたものである。
可能な光情報記録媒体は、上記課題を解決するために、
有機色素を含有する光吸収層の一方の面側に透光性基板
を有し、該光吸収層の他方の面側に反射層を有し、該光
吸収層と該透光性基板との間又は該光吸収層と該反射層
との間に、再生用レーザ光の波長に対して透明なエンハ
ンス層を有する書き込み可能な光情報記録媒体におい
て、該エンハンス層をポリモノアルキルシロキサンを主
成分とするもので形成し、該エンハンス層の膜厚ｄ
ｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈折率の実数部ｎ
ａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層
の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波長λによって与
えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・
ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６の範囲にな
るようにしたものである。
【０００７】また、この発明に係る書き込み可能な光情
報記録媒体の製造方法は、上記課題を解決するために、
透光性基板の上に、有機色素を含有する光吸収層を形成
する工程と、該光吸収層の上に、再生用レ−ザ光の波長
に対して透明なエンハンス層を形成する工程と、該エン
ハンス層の上に、反射層を形成する工程とを備えた光情
報記録媒体の製造方法において、前記光吸収層の上にオ
リゴモノアルキルシロキサンを主成分とするものを被覆
させ、これを架橋させてポリモノアルキルシロキサンを
主成分とするものからなるエンハンス層を形成させ、該
エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈
折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、
該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エ
ンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波
長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ
＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．
６の範囲になるようにしたものである。
報記録媒体の製造方法は、上記課題を解決するために、
透光性基板の上に、有機色素を含有する光吸収層を形成
する工程と、該光吸収層の上に、再生用レ−ザ光の波長
に対して透明なエンハンス層を形成する工程と、該エン
ハンス層の上に、反射層を形成する工程とを備えた光情
報記録媒体の製造方法において、前記光吸収層の上にオ
リゴモノアルキルシロキサンを主成分とするものを被覆
させ、これを架橋させてポリモノアルキルシロキサンを
主成分とするものからなるエンハンス層を形成させ、該
エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈
折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、
該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エ
ンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波
長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ
＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．
６の範囲になるようにしたものである。
【０００８】また、この発明に係る別の書き込み可能な
光情報記録媒体の製造方法は、上記課題を解決するため
に、透光性基板の上に、再生用レ−ザ光の波長に対して
透明なエンハンス層を形成する工程と、該エンハンス層
の上に、有機色素を含有する光吸収層を形成する工程
と、該光吸収層の上に、反射層を形成する工程とを備え
た光情報記録媒体の製造方法において、前記透光性基板
の上にオリゴモノアルキルシロキサンを主成分とするも
のを被覆させ、これを架橋させてポリモノアルキルシロ
キサンを主成分とするものからなるエンハンス層を形成
させ、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層
の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄ
ａｂｓ 、該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎ
ｅｈｓ 、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用
レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ
・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０
５≦ρ≦１．６の範囲になるようにしたものである。
光情報記録媒体の製造方法は、上記課題を解決するため
に、透光性基板の上に、再生用レ−ザ光の波長に対して
透明なエンハンス層を形成する工程と、該エンハンス層
の上に、有機色素を含有する光吸収層を形成する工程
と、該光吸収層の上に、反射層を形成する工程とを備え
た光情報記録媒体の製造方法において、前記透光性基板
の上にオリゴモノアルキルシロキサンを主成分とするも
のを被覆させ、これを架橋させてポリモノアルキルシロ
キサンを主成分とするものからなるエンハンス層を形成
させ、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層
の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄ
ａｂｓ 、該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎ
ｅｈｓ 、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用
レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ
・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０
５≦ρ≦１．６の範囲になるようにしたものである。
【０００９】ここで、光吸収層又は透光性基板の上にオ
リゴモノアルキルシロキサンを主成分とするものを被覆
させる方法としてはスピンコート法が好ましいが、これ
以外の被覆方法を採用してもよい。
リゴモノアルキルシロキサンを主成分とするものを被覆
させる方法としてはスピンコート法が好ましいが、これ
以外の被覆方法を採用してもよい。
【００１０】
【作用】この発明に係る光情報記録媒体においては、エ
ンハンス層をポリモノアルキルシロキサンという耐熱性
の高い材料を主成分とするもので形成したので、エンハ
ンス層の安定性が向上し、光情報記録媒体の信頼性が向
上する。また、この発明に係る光情報記録媒体において
は、透明度が高く、複素屈折率の実数部ｎも無機材料並
み（１．３〜１．５程度）に低いポリモノアルキルシロ
キサンを主成分とするものでエンハンス層を形成し、該
エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈
折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、
該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エ
ンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波
長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ
＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．
６の範囲になるようにしたため、光情報記録媒体につい
て７０％以上の反射率が得られる。
ンハンス層をポリモノアルキルシロキサンという耐熱性
の高い材料を主成分とするもので形成したので、エンハ
ンス層の安定性が向上し、光情報記録媒体の信頼性が向
上する。また、この発明に係る光情報記録媒体において
は、透明度が高く、複素屈折率の実数部ｎも無機材料並
み（１．３〜１．５程度）に低いポリモノアルキルシロ
キサンを主成分とするものでエンハンス層を形成し、該
エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈
折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、
該エンハンス層の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エ
ンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波
長λによって与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ
＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．
６の範囲になるようにしたため、光情報記録媒体につい
て７０％以上の反射率が得られる。
【００１１】また、この発明に係る光情報記録媒体の製
造方法においては、オリゴモノアルキルシロキサンを主
成分とするものを被覆し、これを加熱架橋させてポリモ
ノアルキルシロキサンからなるエンハンス層としている
が、このオリゴモノアルキルシロキサンは有機溶媒に良
く溶解し、その溶液は簡単に塗布でき、しかも単に加熱
することにより簡単に架橋させることができるので、均
一な膜厚のエンハンス層を簡単に形成することができ
る。
造方法においては、オリゴモノアルキルシロキサンを主
成分とするものを被覆し、これを加熱架橋させてポリモ
ノアルキルシロキサンからなるエンハンス層としている
が、このオリゴモノアルキルシロキサンは有機溶媒に良
く溶解し、その溶液は簡単に塗布でき、しかも単に加熱
することにより簡単に架橋させることができるので、均
一な膜厚のエンハンス層を簡単に形成することができ
る。
【００１２】ここで、オリゴモノアルキルシロキサンを
主成分とするものの被覆方法としてスピンコート法を採
用した場合は、オリゴモノアルキルシロキサンを主成分
とするものを均一にかつ簡単に被覆させることができ
る。
主成分とするものの被覆方法としてスピンコート法を採
用した場合は、オリゴモノアルキルシロキサンを主成分
とするものを均一にかつ簡単に被覆させることができ
る。
【００１３】
【実施例】図１はこの発明に係る光情報記録媒体の一例
の一部切欠斜視図、図２は図１のＡ部拡大図である。こ
の光情報記録媒体１０では、同図に示すように、透光性
基板１２の一方の面に、光吸収層１４、エンハンス層１
６、反射層１８及び保護層２０がこの順に積層形成され
されている。
の一部切欠斜視図、図２は図１のＡ部拡大図である。こ
の光情報記録媒体１０では、同図に示すように、透光性
基板１２の一方の面に、光吸収層１４、エンハンス層１
６、反射層１８及び保護層２０がこの順に積層形成され
されている。
【００１４】ここで、透光性基板１２を形成する材料と
しては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリオレフィン又はガラス等を挙げることができる
が、これら以外の材料であっても、レーザ光に対する屈
折率が１．４〜１．６で、耐衝撃性に優れたものであれ
ば使用することができる。
しては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリオレフィン又はガラス等を挙げることができる
が、これら以外の材料であっても、レーザ光に対する屈
折率が１．４〜１．６で、耐衝撃性に優れたものであれ
ば使用することができる。
【００１５】透光性基板１２は、例えば射出成形等の手
段により成形させることができる。また、透光性基板１
２にはあらかじめプリグルーブがスパイラル状に形成さ
れているものでもよい。プリグルーブは、通常考えられ
るものであればどのような条件のものでもよいが、深さ
が５０〜３００ｎｍのものが好ましい。プリグルーブ
は、透光性基板１２を射出成形して製造する際にスタン
パを押し当てることにより形成するのが一般的である
が、必ずしもこの方法に限られるものではない。
段により成形させることができる。また、透光性基板１
２にはあらかじめプリグルーブがスパイラル状に形成さ
れているものでもよい。プリグルーブは、通常考えられ
るものであればどのような条件のものでもよいが、深さ
が５０〜３００ｎｍのものが好ましい。プリグルーブ
は、透光性基板１２を射出成形して製造する際にスタン
パを押し当てることにより形成するのが一般的である
が、必ずしもこの方法に限られるものではない。
【００１６】光吸収層１４の材料としては、光吸収性の
有機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては、具
体的には、例えば、シアニン色素、トリアリールメタン
色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデ
ヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン
色素、アズレニウム系色素等を挙げることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても使用するこ
とができる。
有機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては、具
体的には、例えば、シアニン色素、トリアリールメタン
色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデ
ヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン
色素、アズレニウム系色素等を挙げることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても使用するこ
とができる。
【００１７】光吸収層１４には、他の色素、樹脂（例え
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラス
トマー）、液ゴム等を含んでいてもよい。光吸収層１４
は、上記の色素及び任意の添加剤を有機溶剤（例えばア
ルコール、アセチルアセトン、メチルセロソルブ、トル
エン等）で溶解したものをプリグルーブが形成された透
光性基板１２、または、透光性基板１２の上にコーティ
ングした他の層の上に被覆することにより形成する。
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラス
トマー）、液ゴム等を含んでいてもよい。光吸収層１４
は、上記の色素及び任意の添加剤を有機溶剤（例えばア
ルコール、アセチルアセトン、メチルセロソルブ、トル
エン等）で溶解したものをプリグルーブが形成された透
光性基板１２、または、透光性基板１２の上にコーティ
ングした他の層の上に被覆することにより形成する。
【００１８】この場合の被覆方法としては、蒸着法、Ｌ
Ｂ法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収層１４
の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより層
厚を制御できるために、スピンコート法が好ましい。
Ｂ法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収層１４
の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより層
厚を制御できるために、スピンコート法が好ましい。
【００１９】エンハンス層１６はオリゴモノアルキルシ
ロキサンを光吸収層１４の上にスピンコ−トすることに
よって形成する。このオリゴモノアルキルシロキサンは
スピンコート後、加熱することにより、化１のように脱
水縮合し、又は化２のように脱アルコール縮合して架橋
硬化し、ポリモノアルキルシロキサンとなる。従って、
加熱架橋させるためにはオリゴモノアルキルシロキサン
の分子の側鎖もしくは分子末端がヒドロキシル基または
アルコキシル基で置換されていることが必要となる。
ロキサンを光吸収層１４の上にスピンコ−トすることに
よって形成する。このオリゴモノアルキルシロキサンは
スピンコート後、加熱することにより、化１のように脱
水縮合し、又は化２のように脱アルコール縮合して架橋
硬化し、ポリモノアルキルシロキサンとなる。従って、
加熱架橋させるためにはオリゴモノアルキルシロキサン
の分子の側鎖もしくは分子末端がヒドロキシル基または
アルコキシル基で置換されていることが必要となる。
【００２０】
【化１】
【００２１】
【化２】
【００２２】エンハンス層１６の膜厚ｄｅｈｓ は、光
吸収層１４の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、光吸収層
１４の膜厚ｄａｂｓ 、エンハンス層１６の複素屈折率
の実数部ｎｅｈｓ 、エンハンス層１６の膜厚ｄｅｈｓ
及び再生用レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝
（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λ
が、０．０５≦ρ≦１．６の範囲になるように設定す
る。また、光吸収層１４の複素屈折率の虚部ｋａｂｓ
は０．０４以下となるようにする。
吸収層１４の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、光吸収層
１４の膜厚ｄａｂｓ 、エンハンス層１６の複素屈折率
の実数部ｎｅｈｓ 、エンハンス層１６の膜厚ｄｅｈｓ
及び再生用レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝
（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λ
が、０．０５≦ρ≦１．６の範囲になるように設定す
る。また、光吸収層１４の複素屈折率の虚部ｋａｂｓ
は０．０４以下となるようにする。
【００２３】反射層１８は、例えば、金、銀、アルミニ
ウムあるいはこれらを含む合金等の金属膜が好ましい。
金属膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により形成
することができる。なお、反射層１８にはその酸化を防
止するために耐酸化層を被覆させてもよい。
ウムあるいはこれらを含む合金等の金属膜が好ましい。
金属膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により形成
することができる。なお、反射層１８にはその酸化を防
止するために耐酸化層を被覆させてもよい。
【００２４】また、反射層１８を保護するために、反射
層１８の上に保護層２０を形成するのが好ましい。保護
層２０は耐衝撃性の優れた合成樹脂によって形成される
ことが望ましい。例えば紫外線硬化性樹脂をスピンコー
ト法により塗布し、紫外線を照射して硬化させることに
より形成する。
層１８の上に保護層２０を形成するのが好ましい。保護
層２０は耐衝撃性の優れた合成樹脂によって形成される
ことが望ましい。例えば紫外線硬化性樹脂をスピンコー
ト法により塗布し、紫外線を照射して硬化させることに
より形成する。
【００２５】実施例１ まず、スパイラル状のプリグルーブが形成された円板状
の透光性基板１２を射出成形法により形成した。ここ
で、透光性基板１２の材料としてはポリカーボネートを
使用した。透光性基板１２のサイズは、厚さ１．２ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφとした。プリグ
ルーブは、幅０．５μｍ、深さ２３０ｎｍ、ピッチ１．
６μｍとし、透光性基板１２の直径４６〜１１７ｍｍφ
の範囲に形成した。
の透光性基板１２を射出成形法により形成した。ここ
で、透光性基板１２の材料としてはポリカーボネートを
使用した。透光性基板１２のサイズは、厚さ１．２ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφとした。プリグ
ルーブは、幅０．５μｍ、深さ２３０ｎｍ、ピッチ１．
６μｍとし、透光性基板１２の直径４６〜１１７ｍｍφ
の範囲に形成した。
【００２６】次に、透光性基板１２の上に１，１’ジブ
チル３，３，３’，３’テトラメチル４，５，４’５’
ジベンゾインドジカ−ボシアニンパ−クロレ−ト（株式
会社日本感光色素研究所製：ＮＫ３２１９）のジアセト
ンアルコ−ル溶液をスピンコ−ト法により塗布し、膜厚
ｄａｂｓ ＝１３０ｎｍの光吸収層１４を形成した。
チル３，３，３’，３’テトラメチル４，５，４’５’
ジベンゾインドジカ−ボシアニンパ−クロレ−ト（株式
会社日本感光色素研究所製：ＮＫ３２１９）のジアセト
ンアルコ−ル溶液をスピンコ−ト法により塗布し、膜厚
ｄａｂｓ ＝１３０ｎｍの光吸収層１４を形成した。
【００２７】ここで、このジアセトンアルコール溶液
は、０．６５ｇの１，１’ジプチル３，３，３’，３’
テトラメチル４，５，４’５’ジベンゾイントジカ−ボ
シアニンパ−クロレ−トを１０ｃｃのジアセトンアルコ
−ルに溶解させたものを使用した。また、この光吸収層
１４の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ は２．５であっ
た。
は、０．６５ｇの１，１’ジプチル３，３，３’，３’
テトラメチル４，５，４’５’ジベンゾイントジカ−ボ
シアニンパ−クロレ−トを１０ｃｃのジアセトンアルコ
−ルに溶解させたものを使用した。また、この光吸収層
１４の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ は２．５であっ
た。
【００２８】次に、モノメチルシロキサン（信越化学工
業株式会社製ＫＲ−２２０）１．２ｇを１００ｍｌのシ
クロヘキサンに溶解したものを、光吸収層１４の上にス
ピンコート法により塗布した後、８０℃で３０分間キュ
アリングしてエンハンス層１６を得た。このエンハンス
層１６の膜厚ｄｅｈｓ は５２ｎｍ、複素屈折率の実数
部ｎｅｈｓ は１．４１であった。
業株式会社製ＫＲ−２２０）１．２ｇを１００ｍｌのシ
クロヘキサンに溶解したものを、光吸収層１４の上にス
ピンコート法により塗布した後、８０℃で３０分間キュ
アリングしてエンハンス層１６を得た。このエンハンス
層１６の膜厚ｄｅｈｓ は５２ｎｍ、複素屈折率の実数
部ｎｅｈｓ は１．４１であった。
【００２９】次に、エンハンス層１６の上にＡｌをスパ
ッタリング法により被覆し、膜厚１００ｎｍの反射層１
８を形成した。
ッタリング法により被覆し、膜厚１００ｎｍの反射層１
８を形成した。
【００３０】次に、反射層１８の上に紫外線硬化性樹脂
をスピンコート法により塗布し、これに紫外線を照射し
て硬化させ、膜厚１０μｍの保護層２０を形成した。
をスピンコート法により塗布し、これに紫外線を照射し
て硬化させ、膜厚１０μｍの保護層２０を形成した。
【００３１】次に、このようにして得られた光情報記録
媒体に、波長７８０ｎｍのレーザ光を線速１．２ｍ／ｓ
ｅｃ、記録パワー６．０ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録した。そして、この光情報記録媒体を市販のＣＤプレ
ーヤー（Ａｕｒｅｘ ＸＲ−Ｖ７３、再生光の波長λ＝
７８０ｎｍ）で再生したところ、再生用レ−ザ光の反射
率がグルーブ上で７０．５％、Ｉ１１／Ｉｔｏｐ が７
５．５％、Ｉ３ ／Ｉｔｏｐ が３２．０５、ブロックエ
ラ−レ−トＢＬＥＲが３．０×１０−４であった。ま
た、このときρは０．５１であった。
媒体に、波長７８０ｎｍのレーザ光を線速１．２ｍ／ｓ
ｅｃ、記録パワー６．０ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録した。そして、この光情報記録媒体を市販のＣＤプレ
ーヤー（Ａｕｒｅｘ ＸＲ−Ｖ７３、再生光の波長λ＝
７８０ｎｍ）で再生したところ、再生用レ−ザ光の反射
率がグルーブ上で７０．５％、Ｉ１１／Ｉｔｏｐ が７
５．５％、Ｉ３ ／Ｉｔｏｐ が３２．０５、ブロックエ
ラ−レ−トＢＬＥＲが３．０×１０−４であった。ま
た、このときρは０．５１であった。
【００３２】ＣＤ規格では、反射率が７０％以上、Ｉ
１１／Ｉｔｏｐ が０．６以上、Ｉ３／Ｉｔｏｐ が０．
３〜０．７、ブロックエラ−レ−トＢＬＥＲが３×１０
−２以下と定められており、この実施例による光ディス
クは、この規格を満足していた。
１１／Ｉｔｏｐ が０．６以上、Ｉ３／Ｉｔｏｐ が０．
３〜０．７、ブロックエラ−レ−トＢＬＥＲが３×１０
−２以下と定められており、この実施例による光ディス
クは、この規格を満足していた。
【００３３】次に、この光情報記録媒体について、７０
℃、８０％ＲＨで耐候性試験を行ない、そのグルーブ反
射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲線ａ
のようになった。
℃、８０％ＲＨで耐候性試験を行ない、そのグルーブ反
射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲線ａ
のようになった。
【００３４】比較例１ 実施例１と同様の透光性基板１２上に、実施例１と同様
の有機色素を同様に塗布して光吸収層１４を形成した。
そして光吸収層１４の上に、スチレン樹脂１．５ｇをメ
チルシクロヘキサン１００ｍｌに溶解したものをスピン
コート法により被覆し、厚さ６３ｎｍのエンハンス層１
６を形成した。以下、実施例１と同様にして光情報記録
媒体を作成した。
の有機色素を同様に塗布して光吸収層１４を形成した。
そして光吸収層１４の上に、スチレン樹脂１．５ｇをメ
チルシクロヘキサン１００ｍｌに溶解したものをスピン
コート法により被覆し、厚さ６３ｎｍのエンハンス層１
６を形成した。以下、実施例１と同様にして光情報記録
媒体を作成した。
【００３５】そして、この光情報記録媒体について、実
施例１と同様の条件で耐候性試験を行ない、そのグルー
ブ反射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲
線ｂのようになった。
施例１と同様の条件で耐候性試験を行ない、そのグルー
ブ反射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲
線ｂのようになった。
【００３６】比較例２ 実施例１とは、エンハンス層１６を形成する際にキュア
リングを施さず、熱架橋硬化を行なっていない点だけが
相違し、他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作
成した。そして、この光情報記録媒体について、実施例
１と同様の条件で耐候性試験を行ない、そのグルーブ反
射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲線ｃ
のようになった。
リングを施さず、熱架橋硬化を行なっていない点だけが
相違し、他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作
成した。そして、この光情報記録媒体について、実施例
１と同様の条件で耐候性試験を行ない、そのグルーブ反
射率Ｒｇと時間との関係を求めたところ、図３の曲線ｃ
のようになった。
【００３７】図３に示すように、実施例１及び比較例
１，２の結果から、架橋硬化させたポリシラン樹脂でエ
ンハンス層１６を形成したものにおいて、信頼性の高い
光情報記録媒体が得られることがわかる。
１，２の結果から、架橋硬化させたポリシラン樹脂でエ
ンハンス層１６を形成したものにおいて、信頼性の高い
光情報記録媒体が得られることがわかる。
【００３８】
【発明の効果】この発明によれば、エンハンス層を、透
明度が高く、複素屈折率の実数部ｎも無機材料並み
（１．３〜１．５程度）に低いポリモノアルキルシロキ
サンを主成分とするもので形成し、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈折率の実数部ｎ
ａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層
の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波長λによって与
えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・
ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６の範囲にな
るようにしているので、高温多湿の環境下において、長
期間にわたって、再生用レーザ光に対する反射率を７０
％以上に維持できる光情報記録媒体を得ることができる
という効果がある。
明度が高く、複素屈折率の実数部ｎも無機材料並み
（１．３〜１．５程度）に低いポリモノアルキルシロキ
サンを主成分とするもので形成し、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈折率の実数部ｎ
ａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層
の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜
厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波長λによって与
えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・
ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６の範囲にな
るようにしているので、高温多湿の環境下において、長
期間にわたって、再生用レーザ光に対する反射率を７０
％以上に維持できる光情報記録媒体を得ることができる
という効果がある。
【００３９】また、この発明によれば、エンハンス層を
ポリモノアルキルシロキサンという、熱や湿気に対して
安定した材料で形成しているので、エンハンス層の安定
性が向上し、信頼性の高い光情報記録媒体を得ることが
できるという効果がある。
ポリモノアルキルシロキサンという、熱や湿気に対して
安定した材料で形成しているので、エンハンス層の安定
性が向上し、信頼性の高い光情報記録媒体を得ることが
できるという効果がある。
【００４０】更に、この発明によれば、オリゴモノアル
キルシロキサンを塗布し、これを加熱架橋させることに
よりエンハンス層を形成しているので、均一な膜厚のエ
ンハンス層を簡単に形成することができる。特に、スピ
ンコート法によりオリゴモノアルキルシロキサンを塗布
すれば、光情報記録媒体を生産性良く、低コストで製造
することができるという効果がある。
キルシロキサンを塗布し、これを加熱架橋させることに
よりエンハンス層を形成しているので、均一な膜厚のエ
ンハンス層を簡単に形成することができる。特に、スピ
ンコート法によりオリゴモノアルキルシロキサンを塗布
すれば、光情報記録媒体を生産性良く、低コストで製造
することができるという効果がある。
【図１】図１はこの発明に係る光情報記録媒体の一部切
欠斜視図である。
欠斜視図である。
【図２】図２は図１のＡ部拡大図である。
【図３】図３は実施例１及び比較例１，２の光情報記録
媒体の反射率Ｒｇ（％Ｒ）と時間Ｔ（ｈｒ）との関係を
示すグラフである。
媒体の反射率Ｒｇ（％Ｒ）と時間Ｔ（ｈｒ）との関係を
示すグラフである。
１０ 光情報記録媒体 １２ 透光性基板 １４ 光吸収層 １６ エンハンス層 １８ 反射層 ２０ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 徹 東京都台東区上野６丁目16番20号 太陽 誘電株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−7196（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−162728（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−263132（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−188753（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】 有機色素を含有する光吸収層の一方の面
側に透光性基板を有し、該光吸収層の他方の面側に反射
層を有し、該光吸収層と該透光性基板との間又は該光吸
収層と該反射層との間に、再生用レーザ光の波長に対し
て透明なエンハンス層を有する書き込み可能な光情報記
録媒体において、該エンハンス層をポリモノアルキルシ
ロキサンを主成分とするもので形成し、該エンハンス層
の膜厚ｄｅｈｓ を、該光吸収層の複素屈折率の実数部
ｎａｂｓ 、該光吸収層の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス
層の複素屈折率の実数部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の
膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生用レ−ザ光の波長λによって
与えられる値ρ＝（ｎａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ
・ｄｅｈｓ ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６の範囲に
なるようにしたことを特徴とする書き込み可能な光情報
記録媒体。 - 【請求項２】 透光性基板の上に、有機色素を含有する
光吸収層を形成する工程と、該光吸収層の上に、再生用
レ−ザ光の波長に対して透明なエンハンス層を形成する
工程と、該エンハンス層の上に、反射層を形成する工程
とを備えた光情報記録媒体の製造方法において、前記光
吸収層の上にオリゴモノアルキルシロキサンを主成分と
するものを被覆させ、これを架橋させてポリモノアルキ
ルシロキサンを主成分とするものからなるエンハンス層
を形成させ、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該光
吸収層の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層の
膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層の複素屈折率の実数部
ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再生
用レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎ
ａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、
０．０５≦ρ≦１．６の範囲になるようにしたことを特
徴とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 透光性基板の上に、再生用レ−ザ光の波
長に対して透明なエンハンス層を形成する工程と、該エ
ンハンス層の上に、有機色素を含有する光吸収層を形成
する工程と、該光吸収層の上に、反射層を形成する工程
とを備えた光情報記録媒体の製造方法において、前記透
光性基板の上にオリゴモノアルキルシロキサンを主成分
とするものを被覆させ、これを架橋させてポリモノアル
キルシロキサンを主成分とするものからなるエンハンス
層を形成させ、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ を、該
光吸収層の複素屈折率の実数部ｎａｂｓ 、該光吸収層
の膜厚ｄａｂｓ 、該エンハンス層の複素屈折率の実数
部ｎｅｈｓ 、該エンハンス層の膜厚ｄｅｈｓ 及び該再
生用レ−ザ光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎ
ａｂｓ ・ｄａｂｓ ＋ｎｅｈｓ ・ｄｅｈｓ ）÷λが、
０．０５≦ρ≦１．６の範囲になるようにしたことを特
徴とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項２又は３項記載の光情報記録媒体
の製造方法において、オリゴモノアルキルシロキサンを
主成分とするものをスピンコート法により被覆させたこ
とを特徴とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095211A JP3057592B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095211A JP3057592B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06282873A JPH06282873A (ja) | 1994-10-07 |
| JP3057592B2 true JP3057592B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=14131422
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5095211A Expired - Fee Related JP3057592B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3057592B2 (ja) |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP5095211A patent/JP3057592B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06282873A (ja) | 1994-10-07 |
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