JPH06139617A

JPH06139617A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JPH06139617A
Application number: JP5203695A
Authority: JP
Inventors: Toru Fujii; 徹藤井; Emiko Hamada; 恵美子浜田; Yoshikazu Takagishi; 吉和高岸
Original assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Current assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date: 1992-09-10
Filing date: 1993-07-27
Publication date: 1994-05-20

Abstract

(57)【要約】【目的】光反射補助層４を設けることにより光反射
層３に安価なアルミニウム材料も採用可能であって読み
取り専用のＣＤとの互換性を確保することができるとと
もに、耐候性などについても信頼性の高い、かつまた光
吸収層３の色素材料の選択の幅を広げることができるな
ど設計の自由度を大きくすることができ、さらにジッタ
ーなどの記録特性の良好な光情報記録媒体１を提供する
こと。【構成】光反射補助層４の材料に着目したもので、
透光性基板２と、色素を含む光吸収層２と、透光性樹脂
からなる光反射補助層４と、アルミニウムを主体とする
光反射層５と、保護層６とを積層してなる光情報記録媒
体１であって、上記光反射補助層４は、架橋硬化させた
樹脂膜からこれを構成するとともに、上記光反射層５
は、この光反射補助層４にこれを直接被着することこと
を特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光情報記録媒体にかかる
もので、とくに光反射補助層を形成することにより耐候
性および反射率を向上させるようにした光情報記録媒体
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在、ＤＡＤ（デジタル・オーディオ・
ディスク）として一般的に知られている光情報記録媒体
には、読み取り専用の、いわゆるＲＯＭ型のＣＤ（コン
パクト・ディスク）がある。

【０００３】また、書き込み可能な光情報記録媒体とし
ては、スパイラル状のプリグルーブを有する透明な基板
上に、有機色素からなる光吸収層を設け、この光吸収層
の上に、スパッタ法あるいは真空蒸着法により金（Ａ
ｕ）などによる光反射層を設け、この光反射層の上に、
樹脂材料からなる保護層を設けた構造のものがあり、こ
れは、上述のＣＤと互換性があり、該ＣＤと同様に通常
のＣＤプレーヤーを用いて再生可能である。

【０００４】しかしながら、こうした書き込み可能な光
情報記録媒体では、光反射層の材料として高価な金材料
の代わりに、ＣＤにおいて使用される安価なアルミニウ
ム材料を用いると、記録用レーザー光の波長において上
記光吸収層に記録に必要な光吸収機能を持たせることが
できる反面、レーザー光の反射率が十分ではなくなって
ＣＤとの互換性が問題となってくる。

【０００５】こうした問題を解決するためには、当該書
き込み可能な光情報記録媒体の光吸収層と光反射層との
間に、低屈折率で透明な光反射補助層を設けることが効
果的である。

【０００６】低屈折率の光反射補助層には、原価および
設備投資の面から透明な樹脂材料を用い、これを溶液と
してスピンコート法により成膜を行うことが好ましい。

【０００７】透明な樹脂材料としては、スピンコート法
により成膜を行うためにこれを溶液とする必要性から、
溶剤溶解性が比較的高いことが望ましく、したがって樹
脂の重合度を小さくして分子量を低く押さえておくこと
が必要である。

【０００８】ところが、比較的分子量の小さな樹脂材料
を用いて光反射補助層を成膜した光情報記録媒体を製造
した場合、耐候性などその信頼性に問題を生じることが
多い。

【０００９】とくにこの樹脂材料が親水性に富んでいる
場合に、高温高湿試験等を行った場合には、光情報記録
媒体の反射率など諸特性が短時間で著しく劣化するとい
う問題がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
諸問題にかんがみなされたもので、光反射補助層を設け
ることにより光反射層に安価なアルミニウム材料も採用
可能であって読み取り専用のＣＤとの互換性を確保する
ことができるとともに、耐候性などについても信頼性の
高い、かつまた光吸収層の色素材料の選択の幅を広げる
ことができるなど設計の自由度を大きくすることがで
き、さらにジッターなどの記録特性の良好な光情報記録
媒体を提供することを課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、光反
射補助層の材料に着目したもので、透光性基板と、色素
を含む光吸収層と、透光性樹脂からなる光反射補助層
と、アルミニウムを主体とする光反射層と、保護層とを
積層してなる光情報記録媒体であって、上記光反射補助
層は、架橋硬化させた樹脂膜からこれを構成するととも
に、上記光反射層は、この光反射補助層にこれを直接被
着することを特徴とする光情報記録媒体である。

【００１２】上記光反射層の厚さは、これを１２０ｎｍ
以上とすることが望ましい。

【００１３】上記光反射層は、上記アルミニウム以外の
不純物の含有量が０．３〜３．５重量％であることが望
ましい。

【００１４】上記アルミニウム以外の不純物は、Ｓｉ、
Ｍｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｓ
ｍ、Ｌａ、Ｔｍ、Ｃｅ、Ｚｒ、Ｇｅの少なくとも１種を
含むものであることができる。

【００１５】なお、当該光反射補助層の材料としては、
ＵＶ光（紫外線光）や電子線の照射、熱、あるいはその
他の方法により架橋硬化する硬化性樹脂であることが望
ましい。

【００１６】たとえば、赤外線などの照射による熱によ
って架橋硬化するシリコン系樹脂を用いることができ
る。

【００１７】つぎに、図１ないし図５にもとづき本発明
をより具体的に説明する。図１は、本発明による光情報
記録媒体１の要部縦断面図であって、この光情報記録媒
体１は透光性の基板２と、この基板２上に形成した光吸
収層３と、この光吸収層３の上に形成した光反射補助層
４と、この光反射補助層４の上に形成した光反射層５
と、この光反射層５の上に形成した保護層６とを有す
る。

【００１８】上記基板２にはスパイラル状にプリグルー
ブ７を形成してある。このプリグルーブ７の左右には、
このプリグルーブ７以外の部分すなわちランド８が位置
している。

【００１９】なお、基板２と光吸収層３とは第１の層界
９により互いに接している。光吸収層３と光反射補助層
４とは第２の層界１０により互いに接している。光反射
補助層４と光反射層５とは第３の層界１１により接して
いる。光反射層５と保護層６とは第４の層界１２により
接している。

【００２０】ここで、基板２を形成する材料としては、
ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
オレフィンあるいはガラスなどをあげることができる
が、これら以外の材料であっても、レーザー光に対する
屈折率が１．４〜１．６で、耐衝撃性にすぐれたもので
あれば使用可能である。

【００２１】基板２は、たとえば射出成形などの手段に
よってこれを成形することができる。また、基板２には
あらかじめプリグルーブ７がスパイラル状に形成されて
いてもよい。このプリグルーブ７は、通常考えられるも
のであれば、どのような条件のものでもよいが、その深
さが５０〜３００ｎｍのものが好ましい。また、射出成
形することにより基板２を製造する際にスタンパーを押
し当てることによってプリグルーブ７を形成するのが一
般的であるが、必ずしもこの方法に限られるものではな
い。

【００２２】光吸収層３の材料としては、光吸収性の有
機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては具体的
には、たとえばシアニン色素、トリアリールメタン色
素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデヒ
ドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリリ
ウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン色
素、アズレニウム系色素などをあげることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても、使用する
ことができる。

【００２３】光吸収層３には、他の色素、樹脂（たとえ
ばニトロセルロースなどの熱可塑性樹脂、あるいは熱可
塑性エラストマー）、さらには液ゴムなどを含んでいて
もよい。

【００２４】光吸収層３は、上述の色素および任意の添
加剤を有機溶剤（たとえば、アルコール、アセチルアセ
トン、メチルセロソルブ、トルエンなど）により溶解し
たものを、プリグルーブ７が形成された基板２、あるい
は基板２の上にコーティングした他の層の上にこれを被
覆する。なお、光吸収層３としては、複数層によりこれ
を構成してもよいことはもちろんである。

【００２５】この場合の被覆方法としては、蒸着法、Ｌ
Ｂ法、スピンコート法などがあげられるが、スピンコー
ト法においては、光吸収層３の濃度、粘度、溶剤の乾燥
速度を調節することにより層厚を制御することができる
ために、スピンコート法が好ましい。

【００２６】エンハンス層としての光反射補助層４は、
たとえばオリゴモノアルキルシロキサンを光吸収層３の
上に直接あるいは他の層を介してスピンコートすること
によりこれを形成する。

【００２７】このオリゴモノアルキルシロキサンは、こ
れをスピンコート後、加熱することにより図２のように
脱水縮合し、あるいは図３のように脱アルコール縮合し
て架橋硬化し、ポリモノアルキルシロキサンとなる。

【００２８】したがって、加熱架橋させるためには、オ
リゴモノアルキルシロキサンの分子の側鎖あるいは分子
末端がヒドロキシル基もしくはアルコキシル基により置
換されていることが必要となる。

【００２９】光反射補助層４は、一般には重合してポリ
マーとなり得る有機化合物のモノマーおよびオリゴマー
を塗布後、架橋反応させることによりこれを得ることが
できる。

【００３０】架橋反応により有機ポリマーとしてこれを
得る場合には、作業性の面から分子中にひとつ以上の反
応性アクリロイル基（−ＣＨ＝ＣＨ2）を持つ有機重化
合物のモノマーおよびオリゴマーの混合物に反応開始
剤、反応触媒を少量加え、液状のこれらの混合物を塗布
し、紫外線もしくは電子線を照射することにより架橋さ
せる方法が有利である。

【００３１】しかしながら、架橋の方法はこれに限られ
るわけではなく、エポキシ樹脂やウレタン樹脂のよう
に、熱によって架橋が進むものであってもよいし、ジア
ルコキシシランカップリング剤のように空気中の水分で
重合反応が進むものであってもよい。

【００３２】こうして得られた架橋物の主鎖および側鎖
は、飽和もしくは不飽和系の直鎖状炭化水素であっても
よいし、メラミン、ビスフェノール系等の環状化合物を
含んでいてもよい。

【００３３】また、この架橋物の主鎖または側鎖の途中
に一個以上のエーテル結合を含むポリエーテル、エステ
ル結合を含むポリエステル、ウレタン結合を含むポリウ
レタン、イオン結合を含むアイオノマー、アミド結合を
含むポリアミド、イミド結合を含むポリイミド、スルホ
ン結合を含むポリスルホン、スルフィド結合を含むポリ
スルフィド等に例示されるその他の結合を含んでいても
かまわない。これらの結合をふたつ以上含む共重合化合
物であってもよいし、ブロックポリマーであってもかま
わない。

【００３４】また、これらの架橋物の防湿性を向上させ
るために、側鎖にフルオロカーボン等を含んでいてもよ
いし、ハロゲン化水素による劣化を防止するためにエポ
キシ樹脂を含んでいてもよい。

【００３５】また、光反射層５との密着性を向上させる
ために、側鎖にヒドロキシル基、カルボキシル基、アク
リル基、アミノ基、酢酸ビニル基等を含んでいてもよい
し、主鎖または側鎖に塩基酸が含まれていてもよい。

【００３６】光反射補助層４の形成の際には、塗布中に
樹脂とその反応剤、反応開始剤等のほかに、塗布性を向
上させるために、溶剤、希釈剤が含まれていてもよい。
また、塗膜の安定化を図るために、レベリング剤や、可
塑剤、酸化防止剤、帯電防止剤、等が含まれていてもよ
い。また、必要に応じて、顔料や染料により着色してあ
ってもかまわない。

【００３７】なお、樹脂の硬化は、架橋構造の架橋密度
ないしは反応性アクロイル濃度によってこれを変えるこ
とができ、主鎖となり得るオリゴマー自体の分子回転の
自由度によっても変わってくる。

【００３８】光反射層５は、たとえばアルミニウム、あ
るいはアルミニウムを含む合金などの金属膜が好まし
い。望ましくは、０．３〜３．５重量％のＳｉ、Ｍｎ、
Ｍｇ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｓｍ、Ｌ
ａ、Ｔｍ、Ｃｅ、Ｚｒ、Ｇｅの少なくとも１種を含む不
純物を含むか、あるいはその厚さが１２０ｎｍ以上が好
ましい。

【００３９】アルミニウムを主体とするこの光反射層５
に０．３〜３．５重量％の不純物が含まれると光反射層
５が硬くなるので、明瞭なピット１３が形成される結
果、ジッターが良好となる。

【００４０】不純物が０．３重量％以下、あるいは光反
射層５の厚さが１２０ｎｍ未満であると、ジッター（再
生信号の時間軸のゆらぎ）が３０ｎｓをこえてしまう問
題があり、また不純物が３．５重量％以上であると、光
反射層５における反射率が低くなってしまう。

【００４１】この光反射層５の金属膜は、蒸着法、スパ
ッタリングなどの手段によりこれを形成することができ
る。

【００４２】なお光反射層５にはその酸化を防止するた
めに、耐酸化層を被覆させてもよい。

【００４３】上記光反射補助層４を架橋硬化させたのち
に、この光反射補助層４の上に反射膜を形成して光反射
層５を構成することにより、光反射補助層４と光反射層
５との間の界面（第３の層界１１）の硬さおよび結着性
が向上するため、ジッターが向上する。

【００４４】つぎに、光反射層５を保護するために、光
反射層５の上に直接あるいは他の層を介して保護層６を
形成することが好ましい。

【００４５】この保護層６は、耐衝撃性のすぐれた合成
樹脂によってこれを形成することが好ましく、たとえば
紫外線硬化性樹脂をスピンコート法により塗布し、紫外
線を照射して硬化させることによりこれを形成する。

【００４６】なお、保護層６と基板２とはその円周部に
おいてこれらを一体化させることにより光情報記録媒体
１全体の強度を向上させるとともに、内部の光吸収層
３、光反射補助層４および光反射層５をより確実に保護
することができる。

【００４７】図１に図示のように、光情報記録媒体１に
記録光（記録用レーザー光）Ｌ１を照射したときに、光
吸収層３がそのレーザー光Ｌ１のエネルギーを吸収する
ことにより発熱し基板２側に熱変形が生じてピット１３
を形成している。あるときには、光吸収層３に光学的変
化が生じる場合もある。

【００４８】当該光情報記録媒体１の製造にあたって
は、基板２および光吸収層３を従来と同様の方法により
に形成したのち、光反射補助層４を形成する。

【００４９】すなわち、比較的低分子量で架橋可能な樹
脂材料を溶媒に溶解し、光吸収層３上にスピンコート法
により塗布、成膜したのち、この樹脂を架橋し、その後
の樹脂（光反射補助層４）の複素屈折率ｎenhを、ｎenh
≦１．６とし、かつまた光吸収層３の複素屈折率の実数
部ｎabsとの差（ｎabs−ｎenh）を、ｎabs−ｎenh≧
０．５となるようにする。

【００５０】ついで、従来と同様の方法により、たとえ
ばスパッタ法あるいは真空蒸着法により光反射層５を形
成し、さらにこの上層に樹脂材料により保護層６を形成
する。

【００５１】つぎに、ρ＝（ｎabs・ｄabs(av)＋ｎenh
・ｄenh(av)）／λにより定義される光学的パラメータ
ーについて説明する。

【００５２】ｄabs(av)は、光吸収層３の平均膜厚であ
り、ここでいう平均膜厚ｄabs(av)は（光吸収層３の体
積）／（光吸収層３が形成された領域の面積）で表され
る。

【００５３】ｄenh(av)は、光反射補助層４の平均膜厚
であり、ここでいう平均膜厚ｄenh(av)は（光反射補助
層４の体積）／（光反射補助層４が形成された領域の面
積）で表される。

【００５４】またλは、再生光（再生用レーザー光）Ｌ
２の波長である。なお、光吸収層３の複素屈折率の虚部
をｋabsとする。

【００５５】本発明者らによる実験およびシュミレーシ
ョンの結果から、ρ＝（ｎabs・ｄabs(av)＋ｎenh・ｄe
nh(av)）／λが非常に重要なパラメーターであることに
着目した。

【００５６】すなわち、ＣＤ規格では、反射率が７０％
以上、かつ変調度として示されるＩ11／Ｉtopが６０％
以上、および変調度Ｉ3／Ｉtopが０．３〜０．７と定め
られている。

【００５７】基板２上に光吸収層３、光反射補助層４、
および光反射層５を設けた構成を有する光情報記録媒体
１において、当該ρ＝（ｎabs・ｄabs(av)＋ｎenh・ｄe
nh(av)）／λを、０．０５≦ρ≦１．６の範囲内に設定
することにより、反射率７０％以上、Ｉ11／Ｉtopが６
０％以上、Ｉ3／Ｉtopが０．３〜０．７という出力信号
を得ることができる。

【００５８】上記ρが０．０５よりも小さい場合には、
光吸収層３の平均膜厚ｄabs(av)を０．０５μｍ以下
と、相当薄くしなければならないため、製造上実用的で
はない。

【００５９】したがって、０．０５≦ρ≦０．６の範囲
においては、０．３０≦ρ≦０．６の範囲が実用的であ
り、十分な変調度を取るためには、０．１以上の範囲が
望ましく、変調度の大きい安定した記録特性を得るため
には０．４５±０．１の範囲が最も望ましい範囲である
ということができる。

【００６０】さらに、図４に示すようにρが０．６以上
の範囲であっても、グラフ上でのピーク点であれば、反
射率が７０％を越えることが可能である。

【００６１】０．６＜ρ＜１．６の範囲においては、ピ
ーク点は２点あり、常に０．６＜ρ＜１．１０の範囲
と、１．１０＜ρ＜１．６の範囲とにあり、それらのピ
ーク点において高い反射率を得ることができることがわ
かっている。

【００６２】ρ＞１．６の時には膜厚が厚くなるため、
膜厚の制御が困難になり、製造上実用的ではない。

【００６３】このρと反射率との関係を示すグラフは、
指数関数と、周期関数との組み合わされた関数として表
され、ρが大きくなるにしたがって、周期関数の振幅が
大きくなる。

【００６４】こうした周期関数の振幅は、光情報記録媒
体１を構成する層の複素屈折率、膜厚、それらの均質性
等をパラメーターとして変化する。たとえば、光吸収層
３から光が入射する側にある層の屈折率が小さいと、反
射率はグラフ全体として反射率が高くなる方向にシフト
する等である。

【００６５】また、このグラフは光吸収層３の複素屈折
率の虚部ｋabs、および平均膜厚ｄabs(av)、ｄenh(av)
をパラメーターとする指数関数で表され、図５に示すよ
うにｋabsが大きくなるほどグラフ全体の反射率の減衰
が大きくなるということもわかっている。

【００６６】高い反射率を得るためにはこのｋabsが
０．３以下であることが必要である。図５から判明
するように、このｋabsは０．３以下であれば、０に近
くなるほど反射率は向上する。

【００６７】したがって、この範囲が最も望ましい。し
かし０に近づくほど記録感度が悪くなるため、０より大
きいことが必要である。具体的には０．０１以上の範囲
が望ましく、実際には０．０５前後が望ましい。

【００６８】光吸収層３および光反射補助層４が均質で
あり、その複素屈折率の実数部ｎabs、ｎenh、および平
均膜厚ｄabs(av)、ｄenh(av)に不均一な分布がない限
り、図４の上記グラフのピークを示す点の周期には変化
がないことが本発明者らのシミュレーションによりわか
っている。

【００６９】なお、条件により、図４におけるグラフの
ボトム点の反射率についても、上記パラメーター条件を
制御することによりこれを高くすることが可能である
が、ρをボトム点付近に設定した場合には、変調度を大
きく取ることが困難であり、ある場合には、記録前より
も反射率が上昇してしまう場合も生じる。したがって、
ρはピーク点付近に設定することが望ましい。

【００７０】

【作用】本発明による光情報記録媒体においては、光反
射補助層の材料が比較的低分子量の状態で、光吸収層の
上に塗布、成膜され、その後、ＵＶ光（紫外線光）や電
子線の照射、熱、あるいはその他の方法による架橋によ
って高分子化されて硬化されるため、均一で、信頼性の
高い光反射補助層とすることができる。

【００７１】とくに、光反射補助層を架橋硬化性樹脂と
することにより、高温高湿状態下においても、分解・低
分子量化せず、ポリマーどうしが三次元架橋構造を保持
しており、光反射補助層が塑性変形を起こし難いととも
に、加水分解などによるモノマー遊離により光吸収層中
の色素材料に悪影響を起こすこともなくなる。

【００７２】したがって、熱・光安定性が向上し、高温
高湿状態下においても特性劣化の少ない光情報記録媒体
を得ることができる。

【００７３】なお、こうした良好な作用を得るために
は、基板が塑性変形を起こす基板軟化点温度以下で、こ
の硬化性樹脂が光分解・熱分解および加水分解などの分
解を生ぜず、低分子量化しない材料を選択することが望
ましい。

【００７４】このような樹脂を選択することにより、過
酷な条件にさらされる車載等の用途にも適用しても特性
劣化や反りの少ない信頼性の高い良好な光情報記録媒体
を得ることができる。

【００７５】また、架橋前後の重量変化率を１０％以下
とすることにより、光反射補助層の架橋硬化の際に生じ
るおそれのある欠陥や内外領域における層厚の相違を抑
えることができ、さらに架橋硬化の際の収縮により製造
中の光情報記録媒体が反ることもなくなるため、容易に
良好な光反射補助層を形成することができる。

【００７６】さらに、光反射層５に、不純物として０．
３重量％以上かつ３重量％以下のＳｉ、Ｍｎ、Ｍｇの少
なくとも一種を含むアルミニウム（９６．５〜９９．７
重量％）膜を用いることにより、光反射層５の物質自体
が硬くなり、ジッターが良好になる。

【００７７】すなわち、０．３重量％より少ないと、ジ
ッターが悪く、３重量％より多いと反射率が悪くなって
しまう。

【００７８】また、光反射層５は、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、
Ｚｎその他の不純物を０．０１重量％以上かつ０．５重
量％以下を含むものであってもよい。こうした不純物を
含むことにより光反射層５の硬さが向上するとともに、
結着性や成膜性が良好となる。また、こうした不純物を
含むアルミニウムを精製により得ることは容易である。

【００７９】すなわち、０．０１重量％より少ないと精
製および成膜が困難になり、また０．５重量％より多い
と光反射層５の反射率が悪くなる。

【００８０】さらに、光反射層５の厚さを１２０ｎｍ以
上と従来よりも厚くすることにより、膜としての硬さを
向上させることができる。また、ランド８領域における
冷却効果も向上するため、ジッターおよびクロストーク
が良好となる。

【００８１】なお、光反射層５に不純物として混合する
物質は、それぞれを耐腐触性や成膜性を考慮して選択す
るものとする。

【００８２】とくに、光吸収層と光反射補助層との間の
複素屈折率の実数部の差（ｎabs−ｎenh）が０．５以上
の場合には、これらの層の干渉効果により光反射率が上
がりやすく、安価なアルミニウム材料による光反射層と
しても、読み取り専用のＣＤとの間の互換性を十分に取
ることができる。

【００８３】なおこのとき、ｎenh≦１．６で、かつｎa
bs−ｎenh≧０．５であれば、アルミニウム材料による
光反射層を設けた場合でも、光反射率が７０％以上を十
分に得ることができる。

【００８４】

【実施例】つぎに本発明の実施例を説明する。幅０．５
μｍ、深さ２５０ｎｍ、ピッチ１．６μｍのスパイラル
状のプリグルーブを形成した厚さ１．２ｍｍ、外径１２
０ｍｍおよび内径１５ｍｍのポリカーボネート製基板上
に、ジアセトンアルコール１０ミリリットルに、１，
１’−ジブチル３，３，３’，３’テトラメチル４，
５，４’，５’−ジベンゾインドジカーボシアニンアイ
オダイド（日本感光色素（株）製ＮＫ−３２５１）４８
０ｍｇを溶解し、スピンコート法により塗布、成膜して
色素膜（光吸収層）を形成した。

【００８５】この色素膜の再生光の波長（λ）７８０ｎ
ｍにおける複素屈折率の実数部および虚数部は、それぞ
れｎabs＝２．６、ｋabs＝０．０７、およびｄabs＝１
３０ｎｍであった。

【００８６】この色素膜上に、モノメチルシロキサン
（信越化学工業（株）製、ＫＲ−２２０）１．２ｇをシ
クロヘキサン１００ミリリットルに溶解したものをスピ
ンコート法により塗布、成膜して光反射補助層を形成し
た。

【００８７】この光反射補助層の再生光の波長７８０ｎ
ｍにおける複素屈折率の実数部および虚数部は、それぞ
れｎenh＝１．４１、ｋenh＝０、およびｄenh＝５２ｎ
ｍであった。

【００８８】この光反射補助層に赤外線ランプを照射す
ることにより、温度８０℃で時間３０分間のキュアリン
グを行い、硬化させた。

【００８９】この光反射補助層の上にアルミニウムによ
る光反射層を厚さ１２０ｎｍでスパッタ法により設け、
さらにその上にＵＶ硬化性樹脂（大日本インキ（株）
製、ＳＤ−１７）を塗布し、ＵＶ光により硬化して、厚
さ７μｍの保護層を形成した。

【００９０】かくして製造した光情報記録媒体（ディス
クＡとする）は、波長７８０ｎｍにおけるグルーブの反
射率Ｒg＝７１％、ＲＣ（ＲａｄｉａｌＣｏｎｔｒａ
ｓｔ）＝０．０５、記録前のプッシュプル＝０．０８で
あった。

【００９１】また、波長７８０ｎｍの再生用レーザー光
により、記録パワー７．２ｍＶにてＥＦＭ信号を線速
１．４ｍ／ｓｅｃで記録し、再生パワー０．５ｍＶで再
生したところ、Ｉ3／Ｉtop＝０．３５、Ｉ11／Ｉtop＝
０．７０、記録後のプッシュプル＝０．０８、反射率Ｒ
top＝７０％の良好な信号が得られた。

【００９２】なお、図６は、上述のような実施例におい
て、光吸収層３の複素屈折率の実数部ｎabsを固定した
場合の、光反射補助層４の複素屈折率の実数部ｎenhに
対するグルーブ反射率Ｒgのグラフである。

【００９３】このグラフから判明するように、ｎabsお
よびｎenhを適宜選択することにより、たとえばｎenh≦
１．６で、かつｎabs−ｎenh≧０．５であれば、アルミ
ニウム材料による光反射層５を設けた場合でも、グルー
ブ光反射率を７０％以上とすることができる。

【００９４】［比較例］上述の実施例と同様の基板上
に、同様の色素を用いて、同様に色素による光吸収層を
設けた二枚の光吸収層付き基板を作成した。

【００９５】この一方の基板には、上述の実施例と同様
のシリコン樹脂を同様に成膜し、熱硬化させずに、その
上に同様にしてアルミニウム材料による光反射層、さら
にはＵＶ硬化性樹脂層を設けて、これをディスクＢとし
た。

【００９６】また、もう一方の基板には、オリゴスチレ
ン１８０ｍｇを四塩化炭素１０ミリリットルに溶解し、
スピンコート法により光吸収層上に塗布、成膜し、以
下、実施例と同様にアルミニウム材料による光反射層、
さらにはＵＶ樹脂層を設けてディスク化し、ディスクＣ
とした。

【００９７】実施例で作成したディスクＡと、これらデ
ィスクＢ、Ｃについて温度７０℃、湿度８５％ＲＨで、
高温高湿試験を行い、グルーブ反射率Ｒgの経時変化を
プロットし、その結果を図７に示した。

【００９８】図７の結果よりディスクＡが、ディスク
Ｂ、Ｃと比較して、グルーブ反射率の特性劣化が明らか
に少ないことがわかる。

【００９９】また、この試験後のディスクＡ、Ｂ、Ｃの
光反射補助層をＴＨＦ溶媒に溶解抽出し、ＧＰＣ（ゲル
パーミトクロマトグラフィー）を用いて分子量を測定し
たところ、ディスクＢ、Ｃには重量平均分子量１０００
０以下の比較的低分子量の化合物がみられたが、ディス
クＡにはみられず、ディスクＡの光反射補助層は分解・
低分子量化されていないことを確認した。

【０１００】［検討例］光反射層として成膜するアルミ
ニウムについて、その膜厚をそれぞれ５０ｎｍ、１００
ｎｍ、１２０ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎ
ｍ、３００ｎｍになるようにするとともに、それぞれの
膜は、Ａｌを９７．２９重量％、Ｓｉを０．８８重量
％、Ｍｎを０．６２重量％、Ｍｇを０．８９重量％（Ｓ
ｉ、Ｍｎ、Ｍｇの合計２．３９重量％）、さらにＦｅを
０．２４重量％、Ｃｕを０．０２重量％、Ｃｒを０．０
１重量％、Ｚｎを０．０３重量％、Ｔｉを０．０２重量
％（Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｚｎその他の不純物の合計０．
３２重量％）の反射膜とし、かつ他の構成については上
述の実施例と同様にしたものを８種を作成した（これを
ディスクＤとする）。

【０１０１】また、光反射層として成膜するアルミニウ
ムについて、その膜厚をそれぞれ５０ｎｍ、１００ｎ
ｍ、１２０ｎｍ、１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２５０ｎ
ｍ、３００ｎｍになるようにするとともに、それぞれの
膜はＡｌを９９．８５重量％、Ｓｉを０．１重量％、Ｍ
ｎを０．０２重量％、Ｍｇを０．０２重量％、合計２．
３９重量％の反射膜（Ａｌ９９．８５重量％）の反射膜
とし、かつ他の構成については上述の実施例と同様にし
たものを８種を作成した（これをディスクＥとする）。

【０１０２】こうして構成したディスクＤ、Ｅについ
て、上述の比較例におけるディスクＢ、Ｃとともに、光
反射層の膜厚に対するジッター（パルス幅３Ｔにおける
σ値）を計測したところ、図８に示すように、上記８種
の反射膜についてディスクＢ、Ｃではジッターが３０ｎ
ｓ以上となってしまうのに対し、ディスクＤ、Ｅについ
てはこの膜厚が１２０ｎｍ以上で、ジッターが３０ｎｓ
以下と良好な値を示すことがわかった。

【０１０３】なお、光反射層の主体となるアルミニウム
に対して他の不純物を用いても同様の効果を得ることが
できた。

【０１０４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光反射補
助層を設けることにより、耐候性などについて信頼性が
高く諸特性が良好で、また光吸収層の色素材料の選択の
幅を広げることができるなど設計の自由度を大きく、か
つジッターを良好とすることができる光情報記録媒体を
提供することができる。

【０１０５】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による光情報記録媒体１の要部
縦断面図である。

【図２】同、光反射補助層４を構成するオリゴモノアル
キルシロキサンが脱水縮合する化学式を示す図である。

【図３】同、光反射補助層４を構成するオリゴモノアル
キルシロキサンが脱アルコール縮合する化学式を示す図
である。

【図４】同、ρ（＝（ｎabs・ｄabs(av)＋ｎenh・ｄenh
(av)）／λ）と反射率との関係のグラフである。

【図５】同、光吸収層３の複素屈折率の虚部ｋabsと反
射率との関係のグラフである。

【図６】同、光吸収層３の複素屈折率の実数部ｎabsを
固定した場合の、光反射補助層４の複素屈折率の実数部
ｎenhに対するグルーブ反射率Ｒgのグラフである。

【図７】同、高温高湿試験によるグルーブ反射率Ｒgの
経時変化をプロットしたグラフである。

【図８】同、光反射層の膜厚に対するジッターの関係を
示すグラフである。

【符号の説明】

１光情報記録媒体２透光性の基板３光吸収層４光反射補助層５光反射層６保護層７プリグルーブ８ランド９第１の層界１０第２の層界１１第３の層界１２第４の層界１３ピットｎenh 光反射補助層４の複素屈折率の実数部ｎabs 光吸収層３の複素屈折率の実数部ｋabs 光吸収層３の複素屈折率の虚数部ｄabs(av) 光吸収層３の平均膜厚ｄenh(av) 光反射補助層４の平均膜厚Ｌ１記録用レーザー光Ｌ２再生用レーザー光（再生光） λ 再生光Ｌ２の波長

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透光性基板と、色素を含む光吸収層と、透光性樹脂からなる光反射補助層と、アルミニウムを主体とする光反射層と、保護層とを積層してなる光情報記録媒体であって、前記光反射補助層は、架橋硬化させた樹脂膜からこれを
構成するとともに、前記光反射層は、この光反射補助層にこれを直接被着す
ることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】前記光反射層の厚さは、これを１２０
ｎｍ以上としたことを特徴とする請求項１記載の光情報
記録媒体。
【請求項３】前記光反射層は、前記アルミニウム以
外の不純物の含有量が０．３〜３．５重量％であること
を特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒
体。
【請求項４】前記アルミニウム以外の不純物は、Ｓ
ｉ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｂ、Ｇ
ｄ、Ｓｍ、Ｌａ、Ｔｍ、Ｃｅ、Ｚｒ、Ｇｅの少なくとも
１種を含むものであることを特徴とする請求項３記載の
光情報記録媒体。