JP2839062B2 - 書き込み可能な光情報記録媒体 - Google Patents
書き込み可能な光情報記録媒体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、情報を重畳させた記
録用レーザ光を有機色素を含有する光吸収層に照射して
背景部分との間に光学的な位相差を有するピットを形成
させることのできる書き込み可能な光情報記録媒体に関
するものである。
録用レーザ光を有機色素を含有する光吸収層に照射して
背景部分との間に光学的な位相差を有するピットを形成
させることのできる書き込み可能な光情報記録媒体に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】書き込み可能な光情報記録媒体として
は、種々のものが提案されている。本件特許出願人は、
このような書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、Ｒ
ＯＭ型光情報記録媒体であるコンパクトディスク（Ｃ
Ｄ）の規格に適合させることができる書き込み可能な光
情報記録媒体として、特開平２−８７３４２号公報に開
示されているもの（四層形）を提案している。
は、種々のものが提案されている。本件特許出願人は、
このような書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、Ｒ
ＯＭ型光情報記録媒体であるコンパクトディスク（Ｃ
Ｄ）の規格に適合させることができる書き込み可能な光
情報記録媒体として、特開平２−８７３４２号公報に開
示されているもの（四層形）を提案している。
【０００３】この書き込み可能な光情報記録媒体は、光
吸収層と光反射層との間に再生用レーザ光の波長に対し
て透明（複素屈折率の虚数部ｋehs ＝０）なエンハンス
(enhance) 層を設けたことを特徴とするものである。こ
の書き込み可能な光情報記録媒体は光吸収層と光反射層
との間にこのようなエンハンス層を備えているので、再
生用レーザ光の反射率が７０％以上と高くできるという
特長を有している。
吸収層と光反射層との間に再生用レーザ光の波長に対し
て透明（複素屈折率の虚数部ｋehs ＝０）なエンハンス
(enhance) 層を設けたことを特徴とするものである。こ
の書き込み可能な光情報記録媒体は光吸収層と光反射層
との間にこのようなエンハンス層を備えているので、再
生用レーザ光の反射率が７０％以上と高くできるという
特長を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この書き込み
可能な光情報記録媒体は、記録用レーザ光を照射してピ
ットを形成させる場合、エンハンス層を有しないもの
（三層形）と比べると、ジッタが悪く、また記録された
信号の長さにアンバランスを生じることがあるという問
題点があった。
可能な光情報記録媒体は、記録用レーザ光を照射してピ
ットを形成させる場合、エンハンス層を有しないもの
（三層形）と比べると、ジッタが悪く、また記録された
信号の長さにアンバランスを生じることがあるという問
題点があった。
【０００５】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、ジッタをできるだけ低下させ、またピッ
トサイズのアンバランスをできるだけ少なくさせるよう
にした書き込み可能な光情報記録媒体を提供することを
目的とする。
されたもので、ジッタをできるだけ低下させ、またピッ
トサイズのアンバランスをできるだけ少なくさせるよう
にした書き込み可能な光情報記録媒体を提供することを
目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る書き込み
可能な光情報記録媒体は、上記課題を解決するために、
有機色素を含有する光吸収層の一方の面側に透光性基板
を有し、該光吸収層の他方の面側にエンハンス層を介し
て反射層を有し、該透光性基板の光吸収層側の面に案内
溝が形成されており、該案内溝内に光吸収層が入り込ん
でおり、該案内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層の
厚さが該案内溝外のランド部分に接している部位の光吸
収層の厚さより厚く、前記透光性基板の案内溝の深さｄ
s が１４０ｎｍ以上、該案内溝内の光吸収層を被覆する
エンハンス層の反射層側の面に形成された溝の深さｄe
が１００ｎｍ以下になっている。
可能な光情報記録媒体は、上記課題を解決するために、
有機色素を含有する光吸収層の一方の面側に透光性基板
を有し、該光吸収層の他方の面側にエンハンス層を介し
て反射層を有し、該透光性基板の光吸収層側の面に案内
溝が形成されており、該案内溝内に光吸収層が入り込ん
でおり、該案内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層の
厚さが該案内溝外のランド部分に接している部位の光吸
収層の厚さより厚く、前記透光性基板の案内溝の深さｄ
s が１４０ｎｍ以上、該案内溝内の光吸収層を被覆する
エンハンス層の反射層側の面に形成された溝の深さｄe
が１００ｎｍ以下になっている。
【０００７】ここで、透光性基板の案内溝内に入り込ん
でいる部位の光吸収層を被覆するエンハンス層の厚さは
該案内溝外のランド部分に接する部位の光吸収層を被覆
するエンハンス層の厚さより厚くしてもよい。また、案
内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層を被覆するエン
ハンス層は該案内溝側に突出していてもよい。
でいる部位の光吸収層を被覆するエンハンス層の厚さは
該案内溝外のランド部分に接する部位の光吸収層を被覆
するエンハンス層の厚さより厚くしてもよい。また、案
内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層を被覆するエン
ハンス層は該案内溝側に突出していてもよい。
【０００８】また、案内溝内の光吸収層のエンハンス層
側の面に形成された溝の深さｄa は、ｄs ＞ｄa ＞ｄe
となっているのが好ましい。
側の面に形成された溝の深さｄa は、ｄs ＞ｄa ＞ｄe
となっているのが好ましい。
【０００９】
【作用】この発明においては、案内溝内に入り込んでい
る部位の光吸収層の厚さが該案内溝外のランド部分に接
している部位の光吸収層の厚さより厚くなっているの
で、案内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層に吸収さ
れる記録用レーザ光の量が多くなり、案内溝内に入り込
んでいる部位の光吸収層に含有されている有機色素の変
化量が多くなり、光情報記録媒体の感度が向上する。
る部位の光吸収層の厚さが該案内溝外のランド部分に接
している部位の光吸収層の厚さより厚くなっているの
で、案内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層に吸収さ
れる記録用レーザ光の量が多くなり、案内溝内に入り込
んでいる部位の光吸収層に含有されている有機色素の変
化量が多くなり、光情報記録媒体の感度が向上する。
【００１０】また、この発明において、透光性基板の案
内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層を被覆するエン
ハンス層の厚さが該案内溝外のランド部分に接している
部位の光吸収層を被覆するエンハンス層の厚さより厚く
した場合は、記録用レーザ光の照射によって該案内溝内
に発生した熱が該案内溝内に閉じ込められ、ピットの広
がり（クロストーク）が防止されるとともに、光情報記
録媒体の感度が更に向上する。
内溝内に入り込んでいる部位の光吸収層を被覆するエン
ハンス層の厚さが該案内溝外のランド部分に接している
部位の光吸収層を被覆するエンハンス層の厚さより厚く
した場合は、記録用レーザ光の照射によって該案内溝内
に発生した熱が該案内溝内に閉じ込められ、ピットの広
がり（クロストーク）が防止されるとともに、光情報記
録媒体の感度が更に向上する。
【００１１】
【実施例】図１はこの発明に係る光情報記録媒体の一例
の一部切欠斜視図、図２は図１のＡ部拡大図である。こ
の光情報記録媒体１０では、同図に示すように、透光性
基板１２の一方の面に、光吸収層１４、エンハンス層１
６、反射層１８及び保護層２０がこの順に積層形成され
されている。
の一部切欠斜視図、図２は図１のＡ部拡大図である。こ
の光情報記録媒体１０では、同図に示すように、透光性
基板１２の一方の面に、光吸収層１４、エンハンス層１
６、反射層１８及び保護層２０がこの順に積層形成され
されている。
【００１２】ここで、透光性基板１２は光吸収層１４側
の面に形成されたスパイラル状の案内溝（プリグルー
ブ）を有している。この案内溝の深さｄs は１４０ｎｍ
以上とする必要があるが、より望ましくは１５０ｎｍ〜
２８０ｎｍの範囲がよい。なお、案内溝の深さｄs が深
すぎると成形の際の転写性が落ちる。
の面に形成されたスパイラル状の案内溝（プリグルー
ブ）を有している。この案内溝の深さｄs は１４０ｎｍ
以上とする必要があるが、より望ましくは１５０ｎｍ〜
２８０ｎｍの範囲がよい。なお、案内溝の深さｄs が深
すぎると成形の際の転写性が落ちる。
【００１３】透光性基板１２は射出成形等の成形手段に
より製造することができ、案内溝は透光性基板１２を製
造する際にスタンパを押し当てることにより形成させる
ことができるが、必ずしもこの方法に限られるものでは
ない。透光性基板１２の材料としては、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、ガ
ラス等を挙げることができるが、これら以外の材料であ
っても、レーザ光に対する屈折率が１．４〜１．６で、
耐衝撃性に優れたものであれば使用することができる。
より製造することができ、案内溝は透光性基板１２を製
造する際にスタンパを押し当てることにより形成させる
ことができるが、必ずしもこの方法に限られるものでは
ない。透光性基板１２の材料としては、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、ガ
ラス等を挙げることができるが、これら以外の材料であ
っても、レーザ光に対する屈折率が１．４〜１．６で、
耐衝撃性に優れたものであれば使用することができる。
【００１４】光吸収層１４は透光性基板１２の案内溝に
重なるスパイラル状の溝を有している。この溝の深さｄ
a は、透光性基板１２の案内溝の深さｄs と後述するエ
ンハンス層の溝の深さｄe との関係で、ｄs ＞ｄa ＞ｄ
e とするのがよい。光吸収層１４の溝の深さｄa は、透
光性基板１２の案内溝の望ましい深さと、エンハンス層
の望ましい深さとの関係で、結果として５０ｎｍ〜１５
０ｎｍの範囲が望ましい。
重なるスパイラル状の溝を有している。この溝の深さｄ
a は、透光性基板１２の案内溝の深さｄs と後述するエ
ンハンス層の溝の深さｄe との関係で、ｄs ＞ｄa ＞ｄ
e とするのがよい。光吸収層１４の溝の深さｄa は、透
光性基板１２の案内溝の望ましい深さと、エンハンス層
の望ましい深さとの関係で、結果として５０ｎｍ〜１５
０ｎｍの範囲が望ましい。
【００１５】光吸収層１４の材料としては、光吸収性の
有機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては、具
体的には、例えば、シアニン色素、トリアリールメタン
色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデ
ヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン
色素、アズレニウム系色素等を挙げることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても使用するこ
とができる。
有機色素が好ましい。光吸収性の有機色素としては、具
体的には、例えば、シアニン色素、トリアリールメタン
色素、ピリリウム色素、フェナンスレン色素、テトラデ
ヒドロコリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリ
リウム色素、クロコニックメチン色素、フタロシアニン
色素、アズレニウム系色素等を挙げることができるが、
これら以外の光吸収性の有機色素であっても使用するこ
とができる。
【００１６】光吸収層１４には、他の色素、樹脂（例え
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラス
トマー）、液ゴム等を含んでいてもよい。光吸収層１４
は、上記の色素及び任意の添加剤を有機溶剤（例えばア
ルコール、アセチルアセトン、メチルセロソルブ、トル
エン等）で溶解したものを案内溝が形成された透光性基
板１２、または、透光性基板１２の上にコーティングし
た他の層の上に被覆される。
ばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラス
トマー）、液ゴム等を含んでいてもよい。光吸収層１４
は、上記の色素及び任意の添加剤を有機溶剤（例えばア
ルコール、アセチルアセトン、メチルセロソルブ、トル
エン等）で溶解したものを案内溝が形成された透光性基
板１２、または、透光性基板１２の上にコーティングし
た他の層の上に被覆される。
【００１７】光吸収層１４の被覆方法としては、蒸着
法、ＬＢ法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収
層１４の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することに
より層厚を制御できるために、スピンコート法が好まし
い。
法、ＬＢ法、スピンコート法等が挙げられるが、光吸収
層１４の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することに
より層厚を制御できるために、スピンコート法が好まし
い。
【００１８】エンハンス層１６は、例えば、ＳｉＯ2 、
アモルファスＳｉＯ、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ｚ
ｎＳ等の無機誘電体、或はシリコン樹脂、オリゴスチレ
ン等の有機誘電体等により形成できる。エンハンス層１
６を無機誘電体によって形成する場合は原料を光吸収層
１４の上に直接又は他の層を介してスパッタリングす
る。エンハンス層１６を有機誘電体によって形成する場
合は原料液を光吸収層１４の上に直接又は他の層を介し
てスピンコートする。
アモルファスＳｉＯ、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＮ、ＡｌＮ、Ｚ
ｎＳ等の無機誘電体、或はシリコン樹脂、オリゴスチレ
ン等の有機誘電体等により形成できる。エンハンス層１
６を無機誘電体によって形成する場合は原料を光吸収層
１４の上に直接又は他の層を介してスパッタリングす
る。エンハンス層１６を有機誘電体によって形成する場
合は原料液を光吸収層１４の上に直接又は他の層を介し
てスピンコートする。
【００１９】スピンコートによりエンハンス層１６を形
成すると、エンハンス層１６にも必然的に反射層１８側
にスパイラル状の溝が形成される。この溝の深さｄe は
１００ｎｍ以下、より望ましくは８０ｎｍ以下がよい。
成すると、エンハンス層１６にも必然的に反射層１８側
にスパイラル状の溝が形成される。この溝の深さｄe は
１００ｎｍ以下、より望ましくは８０ｎｍ以下がよい。
【００２０】エンハンス層１６の膜厚ｄehs は、光吸収
層１４の複素屈折率の実数部ｎabs、光吸収層１４の膜
厚ｄabs 、エンハンス層１６の複素屈折率の実数部ｎ
ehs 、エンハンス層１６の膜厚ｄehs 及び再生用レ−ザ
光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎabs ・ｄabs
＋ｎehs ・ｄehs ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６にな
るように設定する。また、光吸収層１４の複素屈折率の
虚部ｋabs は０．０４以下となるようにする。
層１４の複素屈折率の実数部ｎabs、光吸収層１４の膜
厚ｄabs 、エンハンス層１６の複素屈折率の実数部ｎ
ehs 、エンハンス層１６の膜厚ｄehs 及び再生用レ−ザ
光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎabs ・ｄabs
＋ｎehs ・ｄehs ）÷λが、０．０５≦ρ≦１．６にな
るように設定する。また、光吸収層１４の複素屈折率の
虚部ｋabs は０．０４以下となるようにする。
【００２１】反射層１８は、例えば、金、銀、銅、アル
ミニウムあるいはこれらを含む合金等の金属膜が好まし
い。金属膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により
形成することができる。なお、反射層１８にはその酸化
を防止するために耐酸化層を被覆させてもよい。
ミニウムあるいはこれらを含む合金等の金属膜が好まし
い。金属膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により
形成することができる。なお、反射層１８にはその酸化
を防止するために耐酸化層を被覆させてもよい。
【００２２】また、反射層１８を保護するために、反射
層１８の上に直接または他の層を介して保護層２０を形
成するのが好ましい。保護層２０は例えばポリアクリレ
ート樹脂のような耐衝撃性の優れた合成樹脂によって形
成されることが望ましい。保護層２０の形成は、この樹
脂をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して硬
化させることにより行うことができる。
層１８の上に直接または他の層を介して保護層２０を形
成するのが好ましい。保護層２０は例えばポリアクリレ
ート樹脂のような耐衝撃性の優れた合成樹脂によって形
成されることが望ましい。保護層２０の形成は、この樹
脂をスピンコート法により塗布し、紫外線を照射して硬
化させることにより行うことができる。
【００２３】実施例１ まず、スパイラル状の案内溝が形成された円板状の透光
性基板１２を射出成形法により形成した。ここで、透光
性基板１２の材料としてはポリカーボネートを使用し
た。透光性基板１２のサイズは、厚さ１．２ｍｍ、外径
１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφとした。案内溝は、幅
０．５μｍ、深さ１４０ｎｍ、ピッチ１．６μｍとし、
透光性基板１２の直径４６〜１１７ｍｍφの範囲に形成
した。
性基板１２を射出成形法により形成した。ここで、透光
性基板１２の材料としてはポリカーボネートを使用し
た。透光性基板１２のサイズは、厚さ１．２ｍｍ、外径
１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφとした。案内溝は、幅
０．５μｍ、深さ１４０ｎｍ、ピッチ１．６μｍとし、
透光性基板１２の直径４６〜１１７ｍｍφの範囲に形成
した。
【００２４】次に、透光性基板１２の上に，１，１’ジ
ブチル３，３，３’，３’テトラメチル４，５，４’
５’ジベンゾインドジカーボシアニンパークロレート
（株式会社日本感光色素研究所製：ＮＫ３２１９）６０
％、ニトロソジフェニルアミン４０％からなる溶液をス
ピンコート法により塗布し、膜厚１１０ｎｍ、溝の深さ
ｄa が５０ｎｍの光吸収層１４を形成した。
ブチル３，３，３’，３’テトラメチル４，５，４’
５’ジベンゾインドジカーボシアニンパークロレート
（株式会社日本感光色素研究所製：ＮＫ３２１９）６０
％、ニトロソジフェニルアミン４０％からなる溶液をス
ピンコート法により塗布し、膜厚１１０ｎｍ、溝の深さ
ｄa が５０ｎｍの光吸収層１４を形成した。
【００２５】次に、光吸収層１４の上にシリコーン樹脂
をスピンコート法により塗布し、膜厚５０ｎｍ、溝の深
さｄe が４０ｎｍのエンハンス層１６を形成した。
をスピンコート法により塗布し、膜厚５０ｎｍ、溝の深
さｄe が４０ｎｍのエンハンス層１６を形成した。
【００２６】次に、エンハンス層１６の上にＡｕをスパ
ッタリングし、膜厚６０ｎｍの反射層１８を形成した。
ッタリングし、膜厚６０ｎｍの反射層１８を形成した。
【００２７】次に、反射層１８の上にポリアクリレート
樹脂をスピンコート法により塗布し、これに紫外線を照
射して硬化させ、膜厚１０μｍの保護層２０を形成し
た。
樹脂をスピンコート法により塗布し、これに紫外線を照
射して硬化させ、膜厚１０μｍの保護層２０を形成し
た。
【００２８】次に、このようにして得られた光情報記録
媒体に、波長７８０ｎｍのレーザ光を線速１．２ｍ／ｓ
ｅｃ、記録パワー７．４ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録した。そして、この光情報記録媒体についてジッタを
求めたところ、表１に示すように、２６ｎｓであった。
媒体に、波長７８０ｎｍのレーザ光を線速１．２ｍ／ｓ
ｅｃ、記録パワー７．４ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記
録した。そして、この光情報記録媒体についてジッタを
求めたところ、表１に示すように、２６ｎｓであった。
【００２９】実施例２ 透光性基板１２の案内溝の深さｄs を１８０ｎｍ、光吸
収層１４の溝の深さｄa を８０、エンハンス層１６の溝
の深さｄe を４０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌとし
た他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、
記録用レーザ光のパワーを７．６ｍＷとして信号を記録
し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、表１
に示すように、２４ｎｓであった。
収層１４の溝の深さｄa を８０、エンハンス層１６の溝
の深さｄe を４０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌとし
た他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、
記録用レーザ光のパワーを７．６ｍＷとして信号を記録
し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、表１
に示すように、２４ｎｓであった。
【００３０】実施例３ 基板の材料としてアクリル樹脂を用い、エンハンス層１
６の材料としてオリゴスチレンを用い、透光性基板１２
の案内溝の深さｄs を１８０ｎｍ、光吸収層１４の溝の
深さｄa を３０、エンハンス層１６の溝の深さｄe を１
０ｎｍとし、反射層４の材料をＣｕとした他は実施例１
と同様にして光情報記録媒体を作成し、記録用レーザ光
のパワーを６．５ｍＷとして信号を記録し、実施例１と
同様にしてジッタを求めたところ、表１に示すように、
２８ｎｓであった。
６の材料としてオリゴスチレンを用い、透光性基板１２
の案内溝の深さｄs を１８０ｎｍ、光吸収層１４の溝の
深さｄa を３０、エンハンス層１６の溝の深さｄe を１
０ｎｍとし、反射層４の材料をＣｕとした他は実施例１
と同様にして光情報記録媒体を作成し、記録用レーザ光
のパワーを６．５ｍＷとして信号を記録し、実施例１と
同様にしてジッタを求めたところ、表１に示すように、
２８ｎｓであった。
【００３１】実施例４ エンハンス層１６の材料としてオリゴスチレンを用い、
透光性基板１２の案内溝の深さｄs を２８０ｎｍ、光吸
収層１４の溝の深さｄa を１１０、エンハンス層１６の
溝の深さｄe を３０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌと
した他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成
し、記録用レーザ光のパワーを６．５ｍＷとして信号を
記録し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、
表１に示すように、２３ｎｓであった。
透光性基板１２の案内溝の深さｄs を２８０ｎｍ、光吸
収層１４の溝の深さｄa を１１０、エンハンス層１６の
溝の深さｄe を３０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌと
した他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成
し、記録用レーザ光のパワーを６．５ｍＷとして信号を
記録し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、
表１に示すように、２３ｎｓであった。
【００３２】比較例１ エンハンス層１６の材料としてＳｉＯ2 を用い、透光性
基板１２の案内溝の深さｄs を１８０ｎｍ、光吸収層１
４の溝の深さｄa を１１０、エンハンス層１６の溝の深
さｄe を１１０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｕとした
他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、記
録用レーザ光のパワーを９．０ｍＷとして信号を記録
し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、表１
に示すように、３４ｎｓであった。
基板１２の案内溝の深さｄs を１８０ｎｍ、光吸収層１
４の溝の深さｄa を１１０、エンハンス層１６の溝の深
さｄe を１１０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｕとした
他は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、記
録用レーザ光のパワーを９．０ｍＷとして信号を記録
し、実施例１と同様にしてジッタを求めたところ、表１
に示すように、３４ｎｓであった。
【００３３】比較例２ 透光性基板１２の材料としてオレフィン樹脂を用い、エ
ンハンス層１６の材料としてシリコーンを用い、透光性
基板１２の案内溝の深さｄs を７０ｎｍ、光吸収層１４
の溝の深さｄa を３０、エンハンス層１６の溝の深さｄ
e を０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌとした他は実施
例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、記録用レー
ザ光のパワーを８．８ｍＷとして信号を記録し、実施例
１と同様にしてジッタを求めたところ、表１に示すよう
に、５０ｎｓであった。
ンハンス層１６の材料としてシリコーンを用い、透光性
基板１２の案内溝の深さｄs を７０ｎｍ、光吸収層１４
の溝の深さｄa を３０、エンハンス層１６の溝の深さｄ
e を０ｎｍとし、反射層４の材料をＡｌとした他は実施
例１と同様にして光情報記録媒体を作成し、記録用レー
ザ光のパワーを８．８ｍＷとして信号を記録し、実施例
１と同様にしてジッタを求めたところ、表１に示すよう
に、５０ｎｓであった。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【発明の効果】この発明によれば、ピット幅が均一で、
ピットサイズの影響が少なく、ジッタも良い書き込み可
能な光記録媒体を提供することができるという効果があ
る。
ピットサイズの影響が少なく、ジッタも良い書き込み可
能な光記録媒体を提供することができるという効果があ
る。
【図１】図１はこの発明に係る光情報記録媒体の一例の
一部切欠斜視図である。
一部切欠斜視図である。
【図２】図２は図１のＡ部拡大図である。
１０ 光情報記録媒体 １２ 透光性基板 １４ 光吸収層 １６ エンハンス層 １８ 反射層 ２０ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−111241（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−87342（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/24
Claims (4)
- 【請求項１】 有機色素を含有する光吸収層の一方の面
側に透光性基板を有し、該光吸収層の他方の面側にエン
ハンス層を介して反射層を有し、該透光性基板の光吸収
層側の面に案内溝が形成されており、該案内溝内に光吸
収層が入り込んでおり、該案内溝内に入り込んでいる部
位の光吸収層の厚さが該案内溝外のランド部分に接して
いる部位の光吸収層の厚さより厚く、前記透光性基板の
案内溝の深さｄs が１４０ｎｍ以上、該案内溝内の光吸
収層を被覆するエンハンス層の反射層側の面に形成され
た溝の深さｄe が１００ｎｍ以下であることを特徴とす
る書き込み可能な光情報記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１記載の書き込み可能な光情報記
録媒体において、前記透光性基板の案内溝内に入り込ん
でいる部位の光吸収層を被覆するエンハンス層の厚さは
該案内溝外のランド部分に接している部位の光吸収層を
被覆するエンハンス層の厚さより厚くなっていることを
特徴とする書き込み可能な光情報記録媒体。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の書き込み可能な光
情報記録媒体において、前記案内溝内に入り込んでいる
部位の光吸収層を被覆するエンハンス層は該案内溝側に
突出していることを特徴とする書き込み可能な光情報記
録媒体。 - 【請求項４】 請求項１〜３記載の書き込み可能な光情
報記録媒体において、案内溝内の光吸収層のエンハンス
層側の面に形成された溝の深さｄa が、ｄs ＞ｄa ＞ｄ
e であることを特徴とする書き込み可能な光情報記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095361A JP2839062B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5095361A JP2839062B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06282871A JPH06282871A (ja) | 1994-10-07 |
| JP2839062B2 true JP2839062B2 (ja) | 1998-12-16 |
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ID=14135499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5095361A Expired - Fee Related JP2839062B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | 書き込み可能な光情報記録媒体 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2839062B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1548709A4 (en) | 2002-07-10 | 2008-05-07 | Pioneer Corp | INFORMATION RECORDING MEDIUM AND INFORMATION RECORDER |
| JP2005190616A (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体 |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP5095361A patent/JP2839062B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
| JPH06282871A (ja) | 1994-10-07 |
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