JPH0765412A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
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- JPH0765412A JPH0765412A JP5211785A JP21178593A JPH0765412A JP H0765412 A JPH0765412 A JP H0765412A JP 5211785 A JP5211785 A JP 5211785A JP 21178593 A JP21178593 A JP 21178593A JP H0765412 A JPH0765412 A JP H0765412A
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- Japan
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- recording medium
- information recording
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐食性を有する廉価な書換え可能情報記録媒
体を提供する。 【構成】 透明基板と、基板上に形成された光吸収層
と、光吸収層の上に形成された反射層とを有する、波長
７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用いて記録を行う光情
報記録媒体であって、反射層は２．５〜２５重量％のＭ
ｇを含むＡｌ合金薄膜からなる。
体を提供する。 【構成】 透明基板と、基板上に形成された光吸収層
と、光吸収層の上に形成された反射層とを有する、波長
７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用いて記録を行う光情
報記録媒体であって、反射層は２．５〜２５重量％のＭ
ｇを含むＡｌ合金薄膜からなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクなどの情報
記録媒体に関し、特に光透過性の基板の上に光吸収層と
反射層を有する書込み可能な追記型情報記録媒体に関す
る。
記録媒体に関し、特に光透過性の基板の上に光吸収層と
反射層を有する書込み可能な追記型情報記録媒体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクなどの情報記録媒体として、
いわゆるＣＤと呼ばれるコンパクトディスクすなわち、
予めデータが記録されているＲＯＭ（read only memor
y）タイプの媒体が存在し、音声記録と情報処理の分野
で広く実用化されている。ＣＤにおいては、再生される
べきデータに相当するプリピットはすでにプラスチック
基板の上にインジェクション成形によって形成され、こ
の上にＡ１等の金属からなる反射層が形成され、さらに
この上に保護層が形成されている。このＣＤの記録と読
み取りの信号の仕様は規格化されており、この規格に準
じて、ＣＤの再生装置がコンパクトディスクプレーヤ
（ＣＤプレーヤ）として広く使われている。
いわゆるＣＤと呼ばれるコンパクトディスクすなわち、
予めデータが記録されているＲＯＭ（read only memor
y）タイプの媒体が存在し、音声記録と情報処理の分野
で広く実用化されている。ＣＤにおいては、再生される
べきデータに相当するプリピットはすでにプラスチック
基板の上にインジェクション成形によって形成され、こ
の上にＡ１等の金属からなる反射層が形成され、さらに
この上に保護層が形成されている。このＣＤの記録と読
み取りの信号の仕様は規格化されており、この規格に準
じて、ＣＤの再生装置がコンパクトディスクプレーヤ
（ＣＤプレーヤ）として広く使われている。
【０００３】ところで、ＣＤ仕様の規格に適合し、ＣＤ
プレーヤにそのまま使える書込み可能な情報記録媒体
は、いわゆるＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＷＯと呼ばれ、基板上
に形成された光を吸収する光吸収層としての光吸収層
と、光吸収層の上に形成された反射層とを有している。
従来、ＣＤ−Ｒの光吸収層には例えばシアニン色素を用
い、反射膜には高い反射率で高耐久性のＡｕ（金）を使
用していることが、一般に良く知られている。
プレーヤにそのまま使える書込み可能な情報記録媒体
は、いわゆるＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＷＯと呼ばれ、基板上
に形成された光を吸収する光吸収層としての光吸収層
と、光吸収層の上に形成された反射層とを有している。
従来、ＣＤ−Ｒの光吸収層には例えばシアニン色素を用
い、反射膜には高い反射率で高耐久性のＡｕ（金）を使
用していることが、一般に良く知られている。
【０００４】そして、このような情報記録媒体の書込み
方法としては、光吸収層の微小面積にレーザビームを集
光させ、それを熱エネルギーに変換し、光吸収層の性状
を変えて記録（黒色ピット形成）を行っている。このよ
うなタイプの情報記録媒体に用いられる書込み用のレー
ザビームは、透明基板側から照射され、光吸収層の中に
光読取り可能なピットを形成する。記録されたデータを
再生するための読取り用のレーザビームは、書込み用の
それとは弱い出力であり、ピットが形成された部分と、
そうでない部分のコントラストは電気信号として読み取
られる。
方法としては、光吸収層の微小面積にレーザビームを集
光させ、それを熱エネルギーに変換し、光吸収層の性状
を変えて記録（黒色ピット形成）を行っている。このよ
うなタイプの情報記録媒体に用いられる書込み用のレー
ザビームは、透明基板側から照射され、光吸収層の中に
光読取り可能なピットを形成する。記録されたデータを
再生するための読取り用のレーザビームは、書込み用の
それとは弱い出力であり、ピットが形成された部分と、
そうでない部分のコントラストは電気信号として読み取
られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ＣＤ−ＷＯでは、Ａｕ反射膜を使用して製造コストが高
くなる。本発明の目的は、上記の問題点を解決し、耐久
性ある書込み可能な情報記録媒体を提供することにあ
る。
ＣＤ−ＷＯでは、Ａｕ反射膜を使用して製造コストが高
くなる。本発明の目的は、上記の問題点を解決し、耐久
性ある書込み可能な情報記録媒体を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の情報記録媒体
は、透明な基板と、前記基板上に形成された光吸収層
と、前記光吸収層の上に形成された反射層とを有する、
波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用いて記録を行う
光情報記録媒体であって、前記反射層は、２．５〜２５
重量％のＭｇを含むＡｌ合金薄膜からなることを特徴と
する。
は、透明な基板と、前記基板上に形成された光吸収層
と、前記光吸収層の上に形成された反射層とを有する、
波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用いて記録を行う
光情報記録媒体であって、前記反射層は、２．５〜２５
重量％のＭｇを含むＡｌ合金薄膜からなることを特徴と
する。
【０００７】
【作用】反射層にＡｕの代わりにのＡｌＭｇ（アルミニ
ウムマグネシウム）合金を使用すると、特定波長の記録
用レーザ光を用いる場合、情報記録媒体の製造コストは
安くなり、反射膜の材料を代えるだけでそれ以外の工程
の変更はいらない。
ウムマグネシウム）合金を使用すると、特定波長の記録
用レーザ光を用いる場合、情報記録媒体の製造コストは
安くなり、反射膜の材料を代えるだけでそれ以外の工程
の変更はいらない。
【０００８】
【実施例】以下、本発明による実施例を図を参照しつつ
さらに詳細に説明する。図１は本実施例の情報記録媒体
の概略部分断面図を示す。この情報記録媒体１は、基板
１１の上に光透過性の光吸収層１２が設層され、この光
吸収層１２の上に反射層１３が設層され、この反射層１
３の上に保護層１４が設層される。基板１１の上に予め
プリグルーブを設けてもよい。
さらに詳細に説明する。図１は本実施例の情報記録媒体
の概略部分断面図を示す。この情報記録媒体１は、基板
１１の上に光透過性の光吸収層１２が設層され、この光
吸収層１２の上に反射層１３が設層され、この反射層１
３の上に保護層１４が設層される。基板１１の上に予め
プリグルーブを設けてもよい。
【０００９】具体的に、光吸収層１２は、上記シアニン
色素として、例えば下記化学式１及び２、
色素として、例えば下記化学式１及び２、
【００１０】
【化１】
【００１１】のシアニン色素の混合物が用いられる。こ
こで、光吸収層１２の複素屈折率はその実数部の屈折率
と虚数部の屈折率（消衰係数）とからなることが知られ
ているが、その消衰係数と反射率との関係において消衰
係数が０．０１〜０．０４好ましくは０．０２の色素の
混合物が用いられる。消衰係数が低いほど反射率が上が
り一方記録感度が下がるから、かかる消衰係数範囲が選
ばれる。さらに、他の条件としてその複素屈折率の実数
部が２．２〜２．７好ましくは２．４である色素の混合
物が用いられる。
こで、光吸収層１２の複素屈折率はその実数部の屈折率
と虚数部の屈折率（消衰係数）とからなることが知られ
ているが、その消衰係数と反射率との関係において消衰
係数が０．０１〜０．０４好ましくは０．０２の色素の
混合物が用いられる。消衰係数が低いほど反射率が上が
り一方記録感度が下がるから、かかる消衰係数範囲が選
ばれる。さらに、他の条件としてその複素屈折率の実数
部が２．２〜２．７好ましくは２．４である色素の混合
物が用いられる。
【００１２】また、光吸収層１２には、上記シアニン色
素混合物の他に、例えば遷移金属キレート化合物からな
るクエンチャ（光酸化防止剤）、紫外線吸収剤が混合さ
れて成膜されてもよい。上記シアニン色素および光劣化
防止剤などを含有する光吸収層１２は、例えばスピンコ
ート法等の常用手段により塗設される。
素混合物の他に、例えば遷移金属キレート化合物からな
るクエンチャ（光酸化防止剤）、紫外線吸収剤が混合さ
れて成膜されてもよい。上記シアニン色素および光劣化
防止剤などを含有する光吸収層１２は、例えばスピンコ
ート法等の常用手段により塗設される。
【００１３】塗設される光吸収層１２の厚さは、１２０
０〜１６００オングストローム、好ましくは、１４００
オングストロームである。この値が１２００オングスト
ローム未満となると吸収が少なくなるため半導体レーザ
波長域の感度が低下し、信号が記録出来なくなるという
不都合が生じ、この値が１６００オングストロームを越
えると色素が厚くなりすぎ、吸収が増加する結果、反射
率が低下するという不都合が生じる。
０〜１６００オングストローム、好ましくは、１４００
オングストロームである。この値が１２００オングスト
ローム未満となると吸収が少なくなるため半導体レーザ
波長域の感度が低下し、信号が記録出来なくなるという
不都合が生じ、この値が１６００オングストロームを越
えると色素が厚くなりすぎ、吸収が増加する結果、反射
率が低下するという不都合が生じる。
【００１４】なお、塗布に用いる溶媒としては、公知の
種々のものが用いられ、例えばジアセトンアルコール、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、イソホロン、メ
タノール、テトラフルオロプロパノール等が挙げられ
る。このような光吸収層１２が塗設される基板１１は、
通常、ディスク形状をしており、この基板１１は、生産
性向上の観点から、いわゆる一体的に形成された射出成
形樹脂基板を用いることが好ましく、このものは、例え
ばポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メ
チル樹脂（ＰＭＭＡ）等の透明材料から形成される。特
に、平均分子量32000〜40000のポリカーボネート樹脂
（ＰＣ）を用いることが好ましい。また、一体的に形成
された射出成形樹脂基板に限らず、いわゆる２Ｐ（phot
o-polymer）法で形成した基板であってもよい。このよ
うな基板１１の厚さは１．０〜１．５ｍｍ程度とされ
る。
種々のものが用いられ、例えばジアセトンアルコール、
エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、イソホロン、メ
タノール、テトラフルオロプロパノール等が挙げられ
る。このような光吸収層１２が塗設される基板１１は、
通常、ディスク形状をしており、この基板１１は、生産
性向上の観点から、いわゆる一体的に形成された射出成
形樹脂基板を用いることが好ましく、このものは、例え
ばポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メ
チル樹脂（ＰＭＭＡ）等の透明材料から形成される。特
に、平均分子量32000〜40000のポリカーボネート樹脂
（ＰＣ）を用いることが好ましい。また、一体的に形成
された射出成形樹脂基板に限らず、いわゆる２Ｐ（phot
o-polymer）法で形成した基板であってもよい。このよ
うな基板１１の厚さは１．０〜１．５ｍｍ程度とされ
る。
【００１５】この基板１１の上に塗設される光吸収層１
２の上には、反射層１３が設けられる。反射層１３はＡ
ｕではなく安価なＡｌ1-xＭｇx合金から構成され、これ
は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等
で成膜される。このような反射層１３の厚さは、２００
〜２００００オングストローム程度とされる。反射層１
３の上には、通常、光吸収層１２と反射層１３を保護す
るために保護層１４が設層される。保護層１４は、一般
に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして塗設した後、
紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。この他、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタ
ン樹脂等が保護層１の材質として用いられる。このよう
な保護層１４の厚さは、通常、０．１〜１００μｍ程度
である。
２の上には、反射層１３が設けられる。反射層１３はＡ
ｕではなく安価なＡｌ1-xＭｇx合金から構成され、これ
は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等
で成膜される。このような反射層１３の厚さは、２００
〜２００００オングストローム程度とされる。反射層１
３の上には、通常、光吸収層１２と反射層１３を保護す
るために保護層１４が設層される。保護層１４は、一般
に、紫外線硬化性樹脂をスピンコートして塗設した後、
紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成する。この他、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタ
ン樹脂等が保護層１の材質として用いられる。このよう
な保護層１４の厚さは、通常、０．１〜１００μｍ程度
である。
【００１６】なお、基板１１と光吸収層１２との間に
は、基板１１を溶媒から保護するための中間層を設けて
もよい。また、光吸収層１２と反射層１３との間には、
光吸収の効率を挙げるための中間層を設けてもよい。な
お、本発明の場合における情報の記録および再生に用い
られる光の波長は、７７０〜８３０ｎｍ程度である。以
上の発明は、ＣＤ−ＷＯの反射層のための金属として安
価なＡｌを主とする合金の使用を検討した結果、図２に
示すように、Ａｌ単体の反射率が７７５〜８３０ｎｍ波
長域に波長依存性を有し、このままでは反射層への応用
は不可能であるが、この実用波長域の反射率特性の改善
をめざして、開発された。このＡｌ単体の反射率特性に
おいて、Ａｌ反射率が波長７８０ｎｍの光に対してＡｕ
のそれに対し約１０％低いので、その反射率を１．１倍
以上とすることで達成される。
は、基板１１を溶媒から保護するための中間層を設けて
もよい。また、光吸収層１２と反射層１３との間には、
光吸収の効率を挙げるための中間層を設けてもよい。な
お、本発明の場合における情報の記録および再生に用い
られる光の波長は、７７０〜８３０ｎｍ程度である。以
上の発明は、ＣＤ−ＷＯの反射層のための金属として安
価なＡｌを主とする合金の使用を検討した結果、図２に
示すように、Ａｌ単体の反射率が７７５〜８３０ｎｍ波
長域に波長依存性を有し、このままでは反射層への応用
は不可能であるが、この実用波長域の反射率特性の改善
をめざして、開発された。このＡｌ単体の反射率特性に
おいて、Ａｌ反射率が波長７８０ｎｍの光に対してＡｕ
のそれに対し約１０％低いので、その反射率を１．１倍
以上とすることで達成される。
【００１７】発明者は、主にＡｌからなる反射膜へ種々
の金属を添加し種々の合金反射膜を形成し、Ｍｇを所定
の割合で添加したＡｌ合金反射膜において、Ａｌ単体反
射膜に比較して７７０〜８３０ｎｍ波長域の反射率を向
上できることを知見した。図３に示すように、ＡｌＭｇ
反射膜は、Ｍｇ添加量の２．５〜２５重量％の範囲すな
わちＡｌ1-xＭｇxにおいて0.025≦Ｘ≦0.25の範囲で、
反射膜としてＡｕの他に使用される高い反射率のＡｇＭ
ｇ反射膜よりも、相対反射率が略１．１倍向上して、高
い反射率が得られた。尚、図３に示すＡｌＭｇ合金の相
対反射率は、ＡｇＭｇ合金を基準としてその反射率割合
を示し、●はＡｌＭｇの、□はＡｇＭｇのそれぞれの特
性を示す。
の金属を添加し種々の合金反射膜を形成し、Ｍｇを所定
の割合で添加したＡｌ合金反射膜において、Ａｌ単体反
射膜に比較して７７０〜８３０ｎｍ波長域の反射率を向
上できることを知見した。図３に示すように、ＡｌＭｇ
反射膜は、Ｍｇ添加量の２．５〜２５重量％の範囲すな
わちＡｌ1-xＭｇxにおいて0.025≦Ｘ≦0.25の範囲で、
反射膜としてＡｕの他に使用される高い反射率のＡｇＭ
ｇ反射膜よりも、相対反射率が略１．１倍向上して、高
い反射率が得られた。尚、図３に示すＡｌＭｇ合金の相
対反射率は、ＡｇＭｇ合金を基準としてその反射率割合
を示し、●はＡｌＭｇの、□はＡｇＭｇのそれぞれの特
性を示す。
【００１８】具体的には、基板１１に屈折率ｎ＝１．５
８のＰＣを用い、光吸収層１２に上記化学式１〜４で示
される色素混合物からなりその膜厚が１２００〜１６０
０オングストローム好ましくは１４００オングストロー
ムの薄膜を用い、反射膜１３にＡｌ：Ｍｇ＝０．９３
４：０．０６６(Ａｌ1-xＭｇx（Ｘ＝0.066））からなる
膜厚１０００オングストロームの薄膜を用い、保護膜１
４に２Ｐの１０〜２０μｍの膜を用いて光ディスクを作
製した。この場合、図４に示すように、この光ディスク
において、反射膜の７７０〜８３０ｎｍ波長域の反射率
が向上した。
８のＰＣを用い、光吸収層１２に上記化学式１〜４で示
される色素混合物からなりその膜厚が１２００〜１６０
０オングストローム好ましくは１４００オングストロー
ムの薄膜を用い、反射膜１３にＡｌ：Ｍｇ＝０．９３
４：０．０６６(Ａｌ1-xＭｇx（Ｘ＝0.066））からなる
膜厚１０００オングストロームの薄膜を用い、保護膜１
４に２Ｐの１０〜２０μｍの膜を用いて光ディスクを作
製した。この場合、図４に示すように、この光ディスク
において、反射膜の７７０〜８３０ｎｍ波長域の反射率
が向上した。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、透明基板と、基板上に
形成された光吸収層と、光吸収層の上に形成された反射
層とを有する、波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用
いて記録を行う光情報記録媒体であって、反射層は、
２．５〜２５重量％のＭｇを含むＡｌ合金薄膜からなる
ので、Ａｌ−Ｍｇ合金は、Ａｕ反射膜に比べれば極めて
単価が安く、ディスク製作コストを低く抑えることがで
きる。またＭｇの添加によりＡｌ反射膜の反射率及び耐
食性を向上させることもできる。
形成された光吸収層と、光吸収層の上に形成された反射
層とを有する、波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用
いて記録を行う光情報記録媒体であって、反射層は、
２．５〜２５重量％のＭｇを含むＡｌ合金薄膜からなる
ので、Ａｌ−Ｍｇ合金は、Ａｕ反射膜に比べれば極めて
単価が安く、ディスク製作コストを低く抑えることがで
きる。またＭｇの添加によりＡｌ反射膜の反射率及び耐
食性を向上させることもできる。
【図１】本発明の情報記録媒体の部分拡大断面図であ
る。
る。
【図２】Ａｌ反射膜の照射光波長に対する分光反射率の
特性を示すグラフである。
特性を示すグラフである。
【図３】Ａｌ−Ｍｇ合金におけるＭｇ添加量に対する相
対反射率の特性を示すグラフである。
対反射率の特性を示すグラフである。
【図４】Ａｌ−Ｍｇ反射膜の照射光波長に対する分光反
射率の特性を示すグラフである。
射率の特性を示すグラフである。
１ 情報記録媒体 １１ 基板 １２ 光吸収層 １３ 反射層 １４ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 滝下 俊彦 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイ オニアビデオ株式会社内 (72)発明者 鈴木 健二 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイ オニアビデオ株式会社内 (72)発明者 小笠原 清秀 山梨県中巨摩郡田富町西花輪2680番地パイ オニアビデオ株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 透明な基板と、前記基板上に形成された
光吸収層と、前記光吸収層の上に形成された反射層とを
有する、波長７７０〜８３０ｎｍのレーザ光を用いて記
録を行う光情報記録媒体であって、前記反射層は、２．
５〜２５重量％のＭｇを含むＡｌ合金薄膜からなること
を特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】 前記光吸収層は、その屈折率が２．２〜
２．７で、かつ消衰係数が０．０１〜０．０４でかつ、
膜厚が１２００〜１６００オングストロームの有機色素
からなることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211785A JPH0765412A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211785A JPH0765412A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0765412A true JPH0765412A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16611569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5211785A Pending JPH0765412A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0765412A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013242359A (ja) * | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
-
1993
- 1993-08-26 JP JP5211785A patent/JPH0765412A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013242359A (ja) * | 2012-05-18 | 2013-12-05 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
| US9389412B2 (en) | 2012-05-18 | 2016-07-12 | Seiko Epson Corporation | Variable-wavelength interference filter, optical filter device, optical module and electronic apparatus |
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