JPH04245040A

JPH04245040A - 光学記録媒体

Info

Publication number: JPH04245040A
Application number: JP3010594A
Authority: JP
Inventors: Mitsuo Katayose; 光雄片寄; Seiji Tai; 誠司田井
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1991-01-31
Filing date: 1991-01-31
Publication date: 1992-09-01

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光によって情
報を記録、再生することが可能な光学記録媒体に関する
。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスク（以下、ＣＤと略す
）あるいはビデオディスク等の再生専用の光ディスクは
、主に７８０ｎｍ付近の波長をもつ半導体レーザー等の
光ビームを用いて情報の再生が行われており、該波長帯
域における光ディスクの反射率は、７０〜８０％と高反
射率である。一方、追記型あるいは書き換え型光ディス
クにおいては、７８０ｎｍ付近あるいは８３０ｎｍ付近
の波長をもつ半導体レーザー等の光ビームを用いて情報
の記録再生が行われており、該波長帯域における光ディ
スクの反射率は低く、７０％未満である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のように追記型デ
ィスクにおいては７８０ｎｍ付近における反射率が７０
％未満であるためＣＤプレーヤ等の再生専用光ディスク
装置で再生することは困難であった。このような欠点を
克服するシステムとして、例えば案内溝の構造（案内溝
の幅及び深さ）を適当に設定することにより、レーザー
光の回折干渉効果による反射率の低下を回避し、５５〜
６５％の比較的高い反射率をもつ追記型光ディスクをＣ
Ｄプレーヤで再生可能とすることを狙った提案がなされ
ているが（特開平２−１０８２５０号公報）、従来使用
されている追記型光ディスクの反射率は２０〜５０％と
低く、このような低い反射率をもつ追記型光ディスクに
ついて単に案内溝の構造を最適化しても、市販のＣＤプ
レーヤ等の再生専用光ディスク装置で再生することは不
可能であった。

【０００４】また、このような手法を使用しなくてもＣ
Ｄプレーヤで再生可能な追記型光ディスクとして、特定
範囲の熱変形温度をもつ透明基板上に、特定範囲の光学
定数及び熱分解温度を示す光吸収層を設け、さらに該光
吸収層上に必要に応じて反射率を高める為のエンハンス
層を設け、さらに該エンハンス層上に特定範囲の光学定
数を示す反射層を設け、さらに該反射層上に特定範囲の
硬度を有する保護層を設けてなる構造の光ディスクが提
案されている（特開平２−８７３３９号公報、特開平２
−８７３４０号公報、特開平２−８７３４２号公報、特
開平２−８７３４１号公報、特開平２−７９２３５号公
報、特開平２−８７３４３号公報、特開平２−８６４８
９号公報、特開平２−８７３４５号公報）が、該追記型
光ディスクでは反射層に至る前に吸収層にレーザービー
ムが照射される為に７８０ｎｍの吸収係数が大きい材料
を用いることは反射率の低下を招く為に不可能であり、
また記録が基板の熱変形により行われるために、市販さ
れる基板の中でごくわずかの、限られた特定の基板しか
適用不可能であるという問題があった。

【０００５】また該ディスクのような構造を用いた場合
、使用する基板を透過する波長帯域の光は全て使用する
光吸収層に照射されるため、環境光により徐々に光吸収
層の劣化が進行するという問題があった。

【０００６】また、消去可能型光学記録媒体として、異
なる材質からなる２つのポリマ層間に中間反射層を介挿
した構成の記録層を有する光学記録媒体が提案されてい
る（特開平２−１１３８５号公報）が、反射層の上下に
位置する層がポリマ層であるので層境界面において充分
な屈折率変化が得られないという問題及び消去可能媒体
を目的とするためその記録形態がポリマの熱膨張による
反射層の変位に基づくものであることから十分な変位即
ち反射率変化を得ることができないという問題があった
。さらに、本質的に可逆性を有する光学記録媒体である
ことから、再生レーザー光の長時間照射又は強い再生レ
ーザー光照射によりポリマ層の温度がガラス転移温度（
Ｔｇ）以上となり、記録部が消失してしまうという問題
があった。

【０００７】さらに、本質的に可逆性を有する光学記録
媒体であることから、再生レーザー光の長時間照射又は
強い再生レーザー光照射によりポリマ層の温度がＴｇ以
上となり、記録部が消失してしまうという問題があった
。また、特開平２−１２８３３１号公報には、基板上に
第一層として低融点金属層を、第二層としてナフタロシ
アニン色素層を積層することにより、７８０ｎｍにおい
て７０％以上の反射率が得られることが開示されている
が、該構成の光学記録媒体では、少なくとも２００℃以
上の融点を示し、かつ熱伝導率が大きい金属層を融解さ
せて凹部を形成する記録機構である為、入射光量の７０
％が反射されてしまう７８０ｎｍの波長で記録を行うた
めにはかなり高出力のレーザーを用いなければならず、
該公報で示されるように反射光量が低い波長（６００ｎ
ｍ）のレーザー光を使用する必要性、即ち記録レーザー
の波長と再生レーザーの波長を変える必要性があり煩雑
であるという問題があった。

【０００８】本発明は、以上の従来技術の問題点に鑑み
、ＣＤプレーヤ等の再生専用光ディスク装置で再生を可
能とする反射率を示し、広範囲の熱変形温度をもつ基板
及び広範囲の光学定数をもつ光吸収材料が適用可能であ
り、また記録感度と耐環境光性に優れた追記型光ディス
クを提供することを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板１の上に
、レーザー光に対する反射率が４０％以上７０％以下で
、かつ透過率が１０％以上４０％未満であるハーフミラ
ー層３と、該ハーフミラー層３の上に、透過光を吸収す
る吸収層４と、該吸収層４の上に、保護層５が順次積層
されてなることを特徴とする光学記録媒体に関する。以下、本発明を詳細に説明する。

【００１０】まず、図１として示される本発明の一態様
である光学記録媒体の断面の模式図に、レーザー光６を
照射して記録を行った場合（記録後）を示した模式図で
ある図２を用いて説明する。第２図において、基板１側
から照射されたレーザービーム６は基板１を透過し、こ
の透過光は、ハーフミラー層３と光吸収層４との界面で
反射される。一方、界面で反射されずに透過したレーザ
ー光は、光吸収層４に吸収され、該吸収層を昇温し爆発
又は分解などの物理変化を生ぜしめ極部的に圧力を増大
させる。該吸収層には変形しにくい保護層５が隣接する
為、局部的に発生した圧力は延性や展性を合せもつハー
フミラー層３を変形させ、これに対応して基板１を変形
させる。レーザー光照射後は、温度低下により、ハーフ
ミラー層３及び基板１はこのような変位を保持した状態
となる。すなわち、レーザー光照射部位においては、色
素の分解又は昇華による反射率低下と反射率の大部分を
発生させるハーフミラー層が変形による反射率低下が起
こり高反射率を有するレーザー光未照射部と低反射率を
有するようになったレーザー光照射部との間に反射率の
差ができるので、高感度で信号が記録できる。

【００１１】次に、図３として示される本発明の前記の
ものより好ましい別の一態様である光学記録媒体に、レ
ーザー光６を照射して記録を行った場合（記録後）を示
した模式図である図４を用いて説明する。図３として示
される光学記録媒体は、前記図１として示される光学記
録媒体において、基板１とハーフミラー層３との間に、
さらに、ポリマ層２を設けたものである。図４において
、基板１側から照射されたレーザービーム６は、基板１
、ついでポリマ層２を透過し、この透過光は、ハーフミ
ラー層３と光吸収層４との界面で反射される。これ以降
については前記図１として示される光学記録媒体につい
て前述したのと同様である。変形しやすいポリマ層２を
設けたことにより、光吸収層４及びハーフミラー層３の
変形がよりスムーズとなる。ポリマ層２がレーザー光吸
収性物質を含む場合には、該ポリマ層２によりレーザー
光が吸収され、熱に変換され、これにより該ポリマ層２
は発生した熱により容易に昇温されより変形しやすくな
るので光吸収層４及びハーフミラー層３の変形が極めて
スムーズとなり特に好ましい。

【００１２】上記のような光学記録媒体を構成した場合
、光吸収層４に使用される材料及び必要に応じて使用さ
れるポリマ層２中の色素を適宜選択することにより使用
するレーザー光波長帯域で７０％以上の反射率を達成す
ることが可能であり、レーザー光波長帯域で大きな吸収
係数を示す色素でも吸収層材料として適用可能である。また、本発明の光学記録媒体では、ハーフミラー層３に
より環境光がある程度反射される為、光吸収層４に隣接
する保護層５に環境光を透過しない材質のものを使用す
ることにより、何ら記録再生特性に影響を与えることな
く耐環境光性を向上させることができる。さらに、本発
明の光学記録媒体は、特開平２−１１３８５号公報に開
示されるような可逆的記録形態とは異なる非可逆的記録
形態を採用するので、再生レーザー光の長時間照射によ
っても形成された記録部が消失しにくいという利点を有
する。また、金属層の融解に基づく記録方式とは異なる
金属反射膜の変位及び色素膜の変形に基づく記録方式で
あるため、７０％以上の反射率を示す７８０ｎｍにおい
ても高感度で記録が行えるという特長を有する。

【００１３】次に、本発明の光学記録媒体を構成する材
料及び各層の必要特性について具体的に説明する。（１）支持体本発明において用いられる支持体とは、記録及び再生用
のレーザー光に対し透明な、板状、シート状、フィルム
状のもので、その上にポリマ層やハーフミラー層を形成
せしめうるものであればその材質には特に制限はなく、
例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリ
ル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂
、ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルエステル系樹脂、
ポリブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリ
レート系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、フェノキシ樹脂、不飽和ポリエステ
ル系樹脂、セルロース系樹脂などの有機系樹脂や、ガラ
スなどが挙げられる。このような支持体表面には、トラ
ッキング用の案内溝や案内ピット、さらにアドレス信号
などのプレフォーマットが形成されていてもよい。

【００１４】（２）ポリマ層（必要に応じて設けられる
）ポリマ層としては、前記支持体に使用される有機系樹脂
材料に加え紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂が適用可能であ
るが、再生時の劣化を防止する目的からＴｇが６０℃以
上の樹脂が好ましく、Ｔｇが８０℃以上の樹脂がより好
ましく、Ｔｇが１００℃以上の樹脂が特に好ましい。該
ポリマ層に必要に応じて用いられる色素としては、再生
レーザー光により劣化せず、レーザー光を吸収して熱を
発生するものであれば特に制限はなく、例えば、レーザ
ー光吸収色素として、フタロシアニン系色素、ナフタロ
シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン
系色素、フェナンスレン系色素、トリフェノチアジン系
色素、チオキサジン系色素、シアニン系色素、メロシア
ニン系色素、ピリリウム系色素、キサンテン系色素、テ
トラヒドロコリン系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、アントラキノン
系色素などが挙げられる。これらの色素の樹脂に対する
比率はポリマ層の膜厚にも依存するが樹脂９０重量部に
対して１０重量部以下が好ましい。またポリマ層の膜厚
としては、記録時においてハーフミラー層に十分な反射
率変化を生ぜしめるに足る変位置以上であれば特に制限
はないが、２００Å〜５０００Åが好ましい。また、レ
ーザー光吸収性の色素を含有する場合には、変位域以外
のポリマ層でレーザー光が吸収されることにより反射率
のロスが生じるので、変位量に近く、かつ変位量を越え
る膜厚を２００Å〜５０００Åの間で設定することが好
ましい。ポリマ層を形成する方法としては、スピナーコ
ーティング、スプレーコーティング、カーテンコーティ
ング、浸漬コーティング等を用いることができる。上記
コーティング方法の他に２Ｐ法を用いて光吸収性色素を
含有する案内溝や案内ピットを形成して、該ポリマ層を
代用することができる。

【００１５】（３）ハーフミラー層ハーフミラー層はレ−ザ−光に対する反射率４０％以上
７０％以下で、かつ透過率が１０％以上４０％未満とさ
れる。この反射率及び誘過率とは、基板上にハーフミラ
ー層を設けた時点又は基板上にポリマ層、次いでハーフ
ミラー層を設けた時点における基板側から光を入射して
測定した値を意味する。この反射率が４０％未満である
と、光学記録媒体の反射率が７０％以上とならず、十分
な再生感度が得られない。一方、この反射率が７０％を
越えると、記録の際、吸収層へ透過していくレーザー光
量が少なくなり、十分な記録感度が得られない。また、
この透過率が１０％未満であると、記録の際、吸収層へ
透過していくレーザー光量が少なくなり、十分な記録感
度が得られない。一方、この透過率が４０％以上である
と、光学記録媒体の反射率が７０％以上とならず、十分
な再生感度が得られない。なお、ハーフミラー層自体が
光を吸収するため、反射率の上限（７０％）と透過率の
下限（１０％）との和、反射率の下限（４０％）と透過
率の上限（４０％）との和は１００％とはならない。上
記の条件を満たす材料としては、例えば、膜厚５０〜５
００ÅのＡｕ、Ａｇ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、
Ｃｒ、Ｓｅなどの金属薄膜が挙げられる。ハーフミラー
層を形成する方法としては真空蒸着、スパッタリング、
イオンプレーティング、メッキなどによって形成するこ
とができる。

【００１６】（４）光吸収層光吸収層としては、前記ポリマ層のレーザー光吸収色素
がそのまま適用可能であるが、十分な反射率を得る為と
記録感度を向上させるという目的から、使用するレーザ
ー光波長帯域で前記ハーフミラー層と隣接した状態にお
いて高い反射率を示す物質、言い換えれば前記ハーフミ
ラー層が示す反射率を補助する物質が好ましい。また、
該吸収物質としては、このような有機系物質に限らず、
ハーフミラー層の反射率を補助し、かつレーザー光を吸
収して瞬間的に圧力を発生させる能力を有する物質であ
れば特に制限はない。このようなものとしては、例えば
、Ｔｅ−Ｃ、Ｔｅ−スチレン、Ｔｅ−テフロン、Ｔｅ−
Ｎ、Ｔｅ−Ｈ、Ｓｉ−Ｈなども適用できる。光吸収層の
膜厚としては３００Å〜５０００Åが好ましく、３００
Å以下であると記録的にハーフミラー層及びポリマ層を
変形させるのに充分な圧力が得られず、一方５０００Å
以上であると記録時に該光吸収層で生じた圧力が該光吸
収層自身に吸収されてしまい記録感度が低下するので好
ましくない。

【００１７】（５）保護層保護層は、（ａ）記録層の保存安定性向上、（ｂ）記録
感度の向上等を目的として使用される。該保護層として
は、前記ポリマ層又は支持体に使用可能な材料又は金属
、金属酸化物系の材料が適用可能であるが、記録感度向
上の為には、前記ポリマ層又は支持体に用いられる材料
よりも硬度及び熱変形温度が高いものとすることが好ま
しく、例えば、シリコン系、アクリル系、メラミン系、
エポキシ系などの熱硬化型樹脂、アルキルトリアルコキ
シシラン、テトラアルコキシシラン等の部分共加水分解
物や、それらにコロイダルシリカを配合したシリコーン
系ハードコーティング剤、およびアクリレート系、エポ
キシ系等の光重合系フォトポリマ、光架橋性フォトポリ
マ、アジド系フォトポリマ等の光反応性ポリマなどが使
用可能である。市販品としては、藤倉化成社製のフジハ
ード（商品名）等がある。有機系材料を用いた場合の該
保護膜層の膜厚は、１μｍ〜３００μｍ、好ましくは２
〜１５０μｍである。又、金属，セラミックス等の無機
系材料を用いた場合の該保護層の膜厚は４００Å以上が
好ましい。該保護層の形成方法としては、スピナーコー
ティング、スプレーコーティング、カーテンコーティン
グ、ローラーコーティング等の他に、ドライフィルムを
熱ロール圧着し光硬化する方法、真空蒸着、スパッタリ
ング、イオンプレーティング等も適用可能である。保護層を湿式塗布により形成する場合には、光吸収層に
影響を与えない溶媒を選択する必要がある。

【００１８】このような有機溶媒としては、例えばペン
タン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、３−メチル−ペン
タン、ネオヘキサン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘ
プタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、３
−エチルペンタン、２，２−ジメチルペンタン、２，３
−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、などの飽和脂肪族
炭化水素、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、ジ
メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン、シクロヘプタンなどの飽和脂環式炭化水素、シク
ロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキセン等
の不飽和脂環式炭化水素、ジエチルエーテル、ジプロピ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、ジイソブチルエーテル、ジペンチルエーテルなどの
鎖状エーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酢酸アミル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテートなどのエステル系溶剤、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、イソホロン等のケトン系溶剤、エチルアルコール
、プロピルアルコール、ブチルアルコール、アミルアル
コール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール系
溶剤、クロロホルム、四塩化炭素、塩化メチレン、メチ
ルクロロホルム、トリクレン、テトラクロロエチレン、
ジクロルエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メチルホルムアミド等があげられるが、上記のように光
吸収層に影響を与えないものであれば特に制限はない。

【００１９】本発明において使用するレ−ザ−光の波長
は、５８０ｎｍ〜８８０ｎｍの範囲が好ましく、７３０
〜８４０ｎｍの範囲がより好ましく、７７０〜８３０ｎ
ｍの範囲が特に好ましく、７７０〜７９０ｎｍの範囲が
極めて好ましい。

【００２０】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。実施例１直径４６〜１１７ｍｍφの範囲に、幅０．８μｍ、深さ
８０ｎｍ、ピッチ１．６μｍのスパイラル状プレグルー
ブが形成された厚さ１．２ｍｍ、外径１２０ｍｍφの射
出成形ポリカーボネート樹脂基板上（前記プレグループ
の形成された側）に、ＥＰ−４０８０（油化シェル（株
）製、エポキシ樹脂）１ｇ、テトラ（ｔ−ブチル）亜鉛
ナフタロシアニン０．０５ｇ及び４，４′−ジ−ｔ−ブ
チルジフェニルヨードニウムフルオロホスフェート０．
０５ｇをメチルシクロヘキサン／エタノール（９／１）
混合溶媒１５ｍｌに溶解した溶液をスピンコート法によ
り塗布後、ＵＶランプ（高圧水銀灯、照射面上０．１Ｊ
／ｃｍ２）を用いて硬化して、厚さ１０００Åのレーザ
ー光吸収色素含有ポリマ層を形成した。さらに、該ポリ
マ層上に真空蒸着法により２００ÅのＡｕハーフミラー
層（７８０ｎｍのレーザー光に対する反射率５０％、透
過率３５％）を形成した後、該Ａｕ膜上に膜厚５００Å
のビス（トリ−ｎ−ヘキシルシロキシ）シリコンナフタ
ロシアニンからなる厚さ５００Åの光吸層を溶媒として
四塩化炭素を用いてスピナーコーティングにより形成し
た。さらに、保護層として、紫外線硬化型ハードコート
樹脂（商品名フジハード、藤倉化成社製）をメタノール
を用いてスピンコートし光硬化させ、厚さ５μｍの硬質
保護層を形成し、光学情報記録媒体を作製した。このようにして作製された光学情報記録媒体の基板側か
ら分光光度計によって測定した反射スペクトルを第３図
に示した７８０ｎｍにおける反射率は７８％であり、極
めて高感度な再生が行えることが分かった。次に、波長
７８０ｎｍの半導体レーザーを線速１．２ｍ／ｓｅｃ、
記録パワー６．０ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号を記録し、
市販のＣＤプレーヤで再生したところ、Ｉ１１／Ｉｔｏ
ｐが０．６９、Ｉ３／Ｉｔｏｐｔが０．３５、ブロック
エラーレートＢＬＥＲが２．３×１０−２であった。こ
れらの値はＣＤ規格を満足している。記録後のＡｕ膜表
面を観察するため、保護層をはく離し、さらにナフタロ
シアニン色素を溶解した後ＳＴＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　
　Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ　　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、Ｎａ
ｎｏ　　Ｓｃｏｐｅ　　ＩＩ、Ｄｉｇｉｔａｌ　　Ｉｕ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いて測定したところ、変
位量（深さ）２５０Åの凹部が形成されていた。なお記
録後の７８０ｎｍでの反射率は２８％であった。

【００２１】実施例２実施例１の光学記録媒体において、色素を含まないをポ
リマ層、Ａｕ膜の厚さを１５０Åとした以外は同様な光
学記録媒体を作製した。７８０ｎｍにおける反射率は７
３％であった。実施例１と同様な方法により記録再生性
能を評価したところ、Ｉ１１／Ｉｔｏｐが０．６３、Ｉ
３／Ｉｔｏｐが０．３７、ブロックエラーレートＢＬＥ
Ｒが２．６×１０−２であり、ＣＤ規格値を満足してい
た。記録部の変位量は１５０Å、記録後の反射率は３０
％であった。

【００２２】実施例３実施例２の光学記録媒体において、ポリマ層を設けない
こと以外は同様な光学記録媒体を作製した。７８０ｎｍ
における反射率は７５％を示し、実施例１と同様な方法
により記録再生性能を評価したところ、Ｉ１１／Ｉｔｏ
ｐが０．６５、Ｉ３／Ｉｔｏｐが０．３５、ブロックエ
ラーレートＢＬＥＲが２．４×１０−２でありＣＤ規格
値を満足することが分かった。記録部位の変位量は１３
０Å、記録後の反射率は２５％であった。

【００２３】比較例１実施例１〜３の光学記録媒体において、保護層を省いた
構造と同様な３種の光学記録媒体を作製した。それぞれ
の光学記録媒体は７０％以上の反射率を示したが、実施
例１〜３と同様の記録条件では十分な記録が不可能であ
った。記録後のＡｕ膜表面を観察したところ、凹部は形
成されておらず平坦であった。

【００２４】実施例４実施例１で示した光学記録媒体において、スピンコート
により硬質保護層を形成する代わりに、ドライフィルム
（ＰＨＴ１５２ＦＴ−５０、日立化成工業（株）製）を
１００℃、０．６ｍ／ｍｉｎで真空ラミネートし５０μ
ｍの光硬化（８０ｍｊ／ｃｍ２）保護膜を形成した光学
記録媒体を作製した。７８０ｎｍの反射率は７８％、記
録後のＩ１１／Ｉｔｏｐが０．６８、Ｉ３／Ｉｔｏｐが
０．３４、ブロックエラーレートＢＬＥＲが２．２×１
０−２であり、ＣＤ規格値を満足していることが分かっ
た。

【００２５】実施例５実施例１で作製した光学記録媒体の環境光に対する安定
性を評価する目的で基板側から太陽光が入射するように
太陽光に爆露し経時変化を調べたところ５００時間経過
後でも初期と同様な記録再生性能を示し、スペクトルの
変化も認められなかった。また、保護膜側から同様に太
陽光を照射したが、５００時間経過後でも全く変化が認
められなかった。

【００２６】比較例２実施例１同様なポリカーボネート基板上に、１，１′−
ジブチル−３，３，３′，３′−テトラメチル−４，５
，４′，５′−ジベンゾインドジカーボシアニンパーク
ロレート（日本感光色素（株）製、品番ＮＫ３２１９）
をジアセトンアルコールを用いてスピンコート法により
塗布し、１３００Åの色素膜を形成した。次にこの色素
膜上にスパッタリング法により膜厚４００ÅのＡｕ反射
膜を形成し、さらに、この反射膜上に紫外線硬化性樹脂
をスピンコートし、紫外線照射により厚さ５μｍの保護
膜を形成して光学記録媒体を作製した。この光学記録媒
体について実施例５と同様な条件で環境光に対する安定
性を評価したところ、約５０時間後には色素膜が退色し
、初期状態において可能であった記録が不可能となった
。

【００２７】

【発明の効果】本発明を適用すればＣＤ規格に準拠した
反射率７０％以上の再生信号が得られ、記録感度、耐環
境光性等に優れる光学記録媒体を提供することができる
。

【００２８】

【図面の簡単な説明】

図１及び図３は、本発明の光学記録媒体の構成を示す断
面の模式図、図２及び図４は記録後の状態を示す模式図
並びに図５は本発明光学記録媒体の反射スペクトルを示
したグラフである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　基板１の上に、レーザー光に対する反
射率が４０％以上７０％以下で、かつ透過率が１０％以
上４０％未満であるハーフミラー層３と、該ハーフミラ
ー層３の上に、透過光を吸収する光吸収層４と、該光吸
収層４の上に、保護層５が順次積層されてなることを特
徴とする光学記録媒体。
【請求項２】　　基板１とハーフミラー層３との間に、
さらにポリマ層２が積層されてなる請求項１記載の光学
記録媒体。
【請求項３】　　ポリマ層２がレーザー光吸収能を有す
る化合物を含む請求項２記載の光学記録媒体。
【請求項４】　　光吸収層４がテトラアザポルフィン骨
格を有する色素からなる層である請求項１、２又は３記
載の光学記録媒体。