JPH024582A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野Ｊ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の書き込みおよび／または読み取りが可能な情報記
録媒体とその製造方法に関するもピットを有する上記情
報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属：またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。

また、記録層を保護するためのディスク構造として、二
枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に記録
層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置し、
かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサとリン
グ状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサンド
イッチ構造が提案されている。このようなエアーサンド
イッチ構造を有する光ディスクでは、記録層は直接外気
に接することがなく、情報の記録、再生は基板を透過す
るレーザー光で行なわれるために、記録層が物理的また
は化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃が
付着して情報の記録、再生の障害となることがないとの
利点がある。

光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りは、通常
は下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ビットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生゛され
る。

上記のように光ディスクへの情報の書き込みおよび読み
取りは１通常ディスク表面の所定の位置にレーザビーム
を照射することにより行なわれている。

一方、光ディスクへの情報記録量の増加が強く望まれて
いるところから、ビットなどの記録部位の密度の増大が
図られている。そして、このような記録部位の密度の増
大により、レーザビームを正しく所定の位置に照射する
ことが困難になるため、最近ではレーザビームを案内し
て正確に照射予定位置をたどる（一般にトラッキングと
呼ばれる）ようにするために、トラッキング案内溝（プ
レグルーブ）あるいはトラッキング用のマーク（サーボ
ビット）がディスク表面に設けられることが多くなって
いる。前者のトラッキング案内溝をディスクに予め設け
る方法を連続溝方式、後者のトラックのところどころに
トラッキング用のマークをつける方法をサンプル・サー
ボ方式と言い、特に、最近、光学系や信号処理系が簡単
になる、あるいは焦点信号に案内溝の影響がでない等の
理由からサンプル・サーボ方式が注目されている。この
サンプル・サーボ方式のためのサーボピットの他に、セ
クター、アドレス、同期マークあるいはクロックビット
などを含めてプレピットと呼んでいる。そして、このプ
レピットには、光ディスクへの情報の書き込みおよび読
み取りを行なうために必要な情報が予め記録されている
。

一方、記録材料として色素を用いた情報記録媒体は、高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。しかしな
がら、記録層を塗布時の問題点として、シアニン系色素
など多くの色素は一般に溶解性が低いことから、塗布液
をＷ製する際には通常色素に対して溶解度の高い溶剤と
してジクロロメタン、ジクロロエタンなどの塩素化炭化
水素が使用されている。これらの塩素化炭化水素系溶剤
に対してプラスチック基板は耐溶剤性が悪く、塗布液を
塗布した場合に基板表面が溶解して、基板表面に設けら
れている上記サーボピット等のプレピットやトラッキン
グ用グループなどの凹凸が消失したり、基板材料の記録
層への混入により記録層の反射率が低下するなどの問題
がある。このような問題を解決するために、たとえば特
開昭５９−２１７２４１号公報には、予めプラスチック
基板に塩素化炭化水素溶剤に対する不溶化処理を施すこ
とが記載されている。

［発明の目的］ 本発明は、表面にプレピットを有するポリカーボネート
基板上に色素記録層が設けられた、トラッキング特性お
よび記録再生特性の優れた情報記録媒体を提供すること
を目的とする。

また本発明は、情報記録媒体を製造するに際して、塗布
法により、基板上に形成されたプレピットを溶解するこ
となく、上記色素記録層を形成する方法を提供すること
もその目的とする。

さらに本発明は、上記情報記録媒体を簡易に製造する方
法を提供することもその目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、表面にプレピットを有するポリカーボネート
樹脂基板の上に、レーザによる情報の書き込みおよび／
または読み取りが可能なシアニン系色素を含む記録層が
設けられてなる情報記録媒体、および； 弗素含有化合物系溶剤を含む溶剤にシアニン系色素を溶
解して塗布液を調製をした後、表面にプレピットを有す
るポリカーボネート樹脂基板の上に該塗布液を塗布し、
そして乾燥することにより色素記録層を形成させること
からなる情報記録媒体の製造方法にある。

上記本発明の情報記録媒体および情報記録媒体の製造方
法の好ましい態様は以下のとおりである。

ｌ）上記シアニン系色素は下記の一般式％式％（） ［ただし、Φおよび重はそれぞれ芳香族環が縮合してい
てもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキ
サゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環
残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基、イ
ミダゾキノキサリン環残基またはアミン残基であり、互
いに同一でも異なっていてもよく、 Ｌはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカル
ボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するため
の連結基であり、 Ｘトは１価の陰イオンであり、ｍは１または２であり、 そして、Ｘ・−はΦ、Ｌまたはψ上に置換して分子内塩
を形成しても良く、またΦとＬ、またはＬとψとはさら
に連結して環を形成しても良い］で表わされることを特
徴とする上記情報記録媒体および上記情報記録媒体の製
造方法。

２）上記シアニン系色素が、分子中にインドレニン環残
基またはイミダゾキノキサリン環残基を有することを特
徴とする上記情報記録媒体および上記情報記録媒体の製
造方法。

３）上記弗素含有化合物系溶剤が、弗素化アルコール、
弗素置換ケトン、弗素置換エステル、弗素置換アミド、
弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化エーテ
ルからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であ
ることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

４）上記弗素含有化合物系溶剤が、一般式（）： ％式％（） ［ただし、ＡはＦ（ＣｎＦ２ｎ）　　ま　た　はＨ（Ｃ
ｎ　Ｆ　２１１）であり、ｎは１乃至６の整数である］ で表わされる弗素化アルコールであることを特徴とする
上記情報記録媒体の製造方法。

尚、本発明でいうプレピットとは、トラッキング制御方
式であるサンプル・サーボ方式のためのサーボビットを
少なくとも指し、この他にセクター、アドレス、同期マ
ークおよびクロックビットなどの記録再生するために必
要な情報としてのビットも意味している。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は１表面にプレピットを有するポ
リカーボネート基板上に、シアニン系色素を含む記録層
が設けられている。すなわち、ポリカーポネト基板は光
学的特性、透明性および平面性が優れていることからレ
ーザーによる記録再生に好適であり、またシアニン系色
素の記録層は高い反射率と高Ｃ／Ｎを有するものであり
、さらに基板上に形成されたプレピットは、その信号の
コントラストも顕著に向上しているためトラッキング性
が優れたそして信号の読み誤りが少ないものとなってい
る。従って、本発明の情報記録媒体は、記録再生特性の
極めて優れたものであるということができる。

また、上記情報記録媒体は、シアニン系色素を弗素含有
化合物系溶剤に溶解しプレピットを有するポリカーボネ
ート基板に塗布乾燥することにより有利に得ることがで
きる。

すなわち、上記シアニン系色素は、通常の溶剤には溶は
難く、また溶解させることができる溶剤は情報記録媒体
のポリカーボネート基板をも溶解させるとの問題がある
０本発明で用いられる弗素含有化合物系溶剤は、上記シ
アニン系色素に対する溶解度が高いため、記録層形成の
ための塗布液を容易に調製することができる。また、こ
の化合物はポリカーボネート基板に対して不溶性である
ため、塗布過程で基板を溶解することことから、基板表
面に形成されたプレピットの形を溶解により変形させる
ことはない。

従って１本発明の製造方法を用いることにより上記記録
再生特性の極めて優れた情報記録媒体を得ることができ
る。

［発明の詳細な記述］ 情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発明の
方法により製造することができる。

本発明において使用するプラスチック基板は、ポリカー
ボネート樹脂から製造されたものである。基板の光学的
特性１寸度安定性、透明性、平面性、経時安定性および
製造コストなどの点から好などの点で、上記ポリカーボ
ネート樹脂基板は極めて優れたものである。ポリカーボ
ネート樹脂は溶剤に侵されやすい欠点を有しているので
、本発明の製造方法が有効である。

上記ポリカーボネート樹脂基板には、トラッキング制御
方式であるサンプル・サーボ方式のためのサーボビット
、さらにセクター、アドレス、同期マークおよびクロッ
クビットなどからなるプレピットが形成されている。上
記プレピットの構成は任意であるが、少なくともサーボ
ビットが形成されていることが必要である。また、基板
上にはプレピットとともにプレグルーブが形成されてい
ても差しつかえない、プレピットの設けられる場所は、
ディスクのプレーンな平面に設けられたプレピットは勿
論、プレグルーブとプレグルーブとの間（ランド面）に
設けられたプレピット等も含んでいる。

一般に、プレピットは逆台形などの形状の断面を有する
溝からなるものであり、その寸法、形状などについて、
レーザ光の特性および基板の屈折率との関係において研
究が進められており、特にビットの深さ（ｈ）について
は、 ｈ＝λ／　４　ｎ ［ただし、入はレーザ光の波長、モしてｎは基板の屈折
率である。］を満足することが望ましいことが既に知ら
れている。そして、そのように設計されたプレピットを
有する光ディスクが主に利用されている。

プレピット（プレグルーブがあっても良い）付きポリカ
ーボネート樹脂基板は、そのポリカーボネート樹脂を射
出成形、押出し成形等を行なって製造する方法、ポリカ
ーボネート樹脂基板にプレピットを有する樹脂層を積層
させる方法などによって製造することができ、これらの
方法は既に一般的に知られている０本発明では、ポリカ
ーボネート樹脂を射出成形して製造する方法を用いるこ
とが効果的である。

本発明のプレピットを有するポリカーボネート樹脂基板
の上にはシアニン系色素からなる記録層が設けられるこ
とが必要である。

記録層は、実質的に色素からなる層であるか、あるいは
色素等とこれを分散含有する結合剤からなる層である。

本発明に使用される色素は、下記の一般式（Ｉ）を有す
るシアニン系色素であることが好ましい。

Φ”　　Ｌ　＝　’ｌ’　　（Ｘ”−）１／＠　（Ｉ　
）［ただし、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合して
いてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オ
ギサゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール
環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基、
イミダゾキノキサリン環残基またはアミン残基であり、
互いに同一でも異なっていてもよく、 Ｌはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカル
ボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するため
の連結基であり。

Ｘ−は鵬価の陰イオンであり、ｍは１または２であり、 そして、ｘトはΦ、Ｌまたは！上に置換して分子内塩を
形成しても良く、またΦとり、またはＬと！とはさらに
連結して環を形成しても良いＪ上記シアニン系色素とし
ては、一般式（Ｉ）における、Φおよび！がそれぞれ芳
香族環が縮合していてもよいインドレニン環残基または
イミダゾキノキサリン環残基であるものが、得られる記
録層の反射率およびＣ／Ｎが高い点で好ましい。

上記ｘトで表わされる陰イオンとしては、Ｃ１−、Ｅｒ
−１Ｉ　−、ＣＨ３０Ｓ０３−　、パラトルエンスルホ
ン酸イオン、Ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、メ
タンスルホン酸イオン、ブタンスルホン酸イオン、ナフ
タレン−１，５−ジスルホン酸イオン、トリフルオロメ
タンスルホン酸イオン、ＢＦ６−　、ＢＦ４−　、Ｃｌ
ｏｇ−等を挙げることができ、好ましくはトリフルオロ
メタンスルホン酸イオン、ＢＦｂ　−、Ｃｌｏ４−であ
る。

上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｈ）等が挙げられる。

ＣＨ３ ０文０４ ２Ｈ５ ［ｊｌ ＋５ｏ−Ｌｆ）１９ １；見Ｕ４ １５０−［；４Ｈ９ Ｃ２ＨｓＯＣＨ３Ｃｌｏ４ Ｃ２Ｈ５ＯｃＨ３ ［ｋ］ ［１１ ［ｍｌ ｒｓｏ−Ｃ４Ｈｑ　　　ＰＦ６−　　　１ｓａ−ＣａＨ
ｑ本発明において上記本発明の特定のシアニン系色素と
併用して、従来より情報記録媒体の記録材料として知ら
れている任意の色素を用いてもよい、たとえば、フタロ
シアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素
、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、
Ｏｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系拳ジインモニウム系色素および
ニトロソ化合物を挙げることができる。これらのうちで
も記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体
レーザーの利用が実用化されている点から、７００〜９
００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収率が高い色素が
好ましい。

記録層の形成は、上記シアニン系色素、さらに所望によ
り結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの
塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥す
ることにより行なうことができる。

本発明の記録層形成用の塗布液を調製するための溶剤に
は、弗素を含有する化合物が用いられることが必要であ
る０本発明に用いられる弗素含有化合物系溶剤の例とし
ては、弗素化アルコール、弗素置換ケトン、弗素置換エ
ステル、弗素化カルボン酸、弗素置換アミド、弗素置換
ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化エーテルを挙げ
ることができる。

■）弗素化アルコールとしてはたとえば、一般式（■）
： Ａ−ＣＨ２０Ｈ（ｍ　） （ただし、ＡはＦ（ＣｎＦ２ｎ）　　ま　た　はＨ（Ｃ
ＩＩＦ２！１）　　であり、ｎはｌ乃至６の整数である
） で表わされる化合物を挙げることができ、Ａは直鎖であ
っても分岐していてもどちらでもよい、その具体例とし
ては下記化合物が挙げられる。

Ｈ−１１１：Ｆｚ−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ、Ｈ−ＣＦ２−
ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ１ＧＦ３−ＣＨｚ
ＯＨ、Ｆ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨｚＯＨ。

Ｆ−ＧＦｚ−ＣＦ２−ＣＦｚ−ＣＦｚ−ＣＨ２０Ｈ１２
）弗素置換ケトンおよびエステルとしては、たとえば一
般式（■）： Ａ−ｃ−ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
ＩＴ　）（ただし、ＡおよびＢはそれぞれ置換または無
置換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基またはフ
ェノキシ基であり、かっＡおよびＢのうち少なくとも一
方は少なくとも一つの弗素原子で置換されている） で表わされる化合物を挙げることができる。上記一般式
（ｆｆ）において、ＡもしくはＢ上の置換基としては塩
素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、置換または無置
換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、カルボアルコキシ基、カルボフェノキシ基、アル
コキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基が挙げら
れる。

ＡおよびＢはそれぞれ好ましくは、　−ＣＦ３　、　Ｃ
Ｆ３−ＣＣＦ２ＣＦ２）ｈ−１Ｈ−（ＣＦ２０Ｆ２）＋
−，Ｈ−（ＣＦ２ＣＦ２）ｒｃＨ２−。

−０ＣＦ３、ＣＦ　！−（ＣＦ　２ＣＦ　２）　ｈ−０
−１Ｈ−ＣＣＦ２ＣＦ２）　１−０−　ｔ　タはＨ−Ｃ
ＣＦ２ＣＦ２）　ｊ−ＣＨ２０−であり、ここでり、ｉ
およびｊはそれぞれ１〜３の整数である。また、該化合
物の分子量は４００以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

ＣＦ　３ｃＯｃＦ　３、ＣＦ３Ｃ０（ｌＧＨ３，ＣＦ３
ＣＯ０Ｃ２Ｈｓ　。

ＣＦ３Ｃ０ＣＨｚＣＯＣＦ３．　ＣＦ３ＣＯＣＨ２ＣＯ
ＣＨ３、ＣＨｚＣＯＯＣＨ２ＣＦｓ　、　ＣＦ３ＧＯＯ
ＣＨ２ＣＦ３、で表わされる化合物を挙げることができ
る。上記一般式（Ｖ）において、Ｒ２−Ｒ６は好ましく
は水素原子、弗素原子、塩素原子またはシアノ基である
。また、該化合物の分子量は４００以下であるのが好ま
しい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

３）弗素置換ベンゼンとしてはたとえば、一般式（Ｖ）
： （ただし、Ｒ１は弗素原子であり、Ｒ２−Ｒ６はそれぞ
れ水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ニトロ基
、水酸基、シアン基、置換または無置換のアルキル基、
フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アシル基ま
たはアシルオキシ基である） Ｆ　　　　　　　　　　ＯＣＨ３ ４）弗素化アルカンおよびエーテルとしては。

炭素数１〜８のアルカンおよびエーテルであって、かつ
少なくとも一つの弗素原子で置換されている化合物を挙
げることができる。これらの化合物には直鎖状、環状お
よび分校状のものが含まれる。また、該化合物は弗素原
子の他にさらに、塩素原子、臭素原子、シアン基、ニト
ロ基、置換または無置換のアルコキシ基、アルキルスル
ホニル基、アルキルフィニル基で置換されていてもよい
、置換基は好ましくは塩素原子、炭素数１〜４の置換ま
たは無置換のアルコキシ基である。また、該化合物の分
子量は４００以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

ＣＣ見２Ｆ２　、　ＣＣｆＬ３Ｆ　、　ＣＩＦ２Ｇ−Ｇ
ＣＩＦ２、Ｆ２ＧＨＧＨ３、ＣＨＣ！；Ｌ２ｃＦ２０ｃ
Ｈ３，Ｈ（ＧＦｚ）ａＯＧＨ３゜ＯＨ ＣＦ３ＣＯ０２Ｈｓ　、ＣＦ３ＣＨ２０Ｃ２Ｈ５、ＣＦ
２Ｈ−ＣＧ見Ｆ−ＯＣＲ３Ｆ　　　Ｆ）Ｉ ５）弗素化カルボン酸としてはたとえば、一般式（■）
： ＣＦ、（ＣＦ２）　ｎＣ０ＯＨ（Ｖｌ　）（ただし、ｎ
は２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。

６）弗素化カルボンアミドとしてはたとえば、一般式（
■）： ＣＦ３（ＣＦ２）　ｎｃＯＮｉ（２（■）（ただし、ｎ
は２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。

ただし、本発明に用いられる弗素含有化合物系溶剤は上
記化合物に限定されるものではなく、分子中に少なくと
も一つの弗素原子を含む有機化合物であって、色素に対
して溶剤として機能しうる限り任意の化合物を用いるこ
とができる。

これらの弗素含有化合物系溶剤中で、本発明に好ましく
用いられるものしては、弗素化アルコールを挙げること
ができる。

本発明において、上記弗素含有化合物は単独で溶剤とし
て用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用することに
より混合溶剤として用いてもよい。

そのような溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタ
ン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタ
ノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−ブ
タメールなどの溶剋を挙げることができる。なかでも、
上記弗素含有化合物系溶剤との併用溶剤として好ましい
のは、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツー
ルおよびｎ−ブタノールであり、特に好ましくはインプ
ロパツールである。上記併用溶剤との混合比率は、弗素
含有化合物系溶剤と併用溶剤との総量に対して、７０重
量％以下が好ましく、特に好ましくは、６０重量％以下
である。

塗布液中には、さらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤
、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい
。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることがで
きる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重量比）の
範囲にある。また、溶剤が弗素含有溶剤と他の溶剤との
混合系である場合には、その組合せ、色素および基板の
種類によっても異なるが、一般には弗素含有溶剤は溶剤
全体の５〜９５％（重量比）の範囲で使用され、好まし
くは３０〜９０％（重量比）の範囲にある。このように
して調製される塗布液の濃度は一般に０．０１−１０％
（重量比）の範囲にあり、好ましくは０６１〜５％（重
量比）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１〜１０ＩＬｍの範囲にあり、好ましくは０．０２
〜Ｉｇｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

さらに、記録層の上には、情報の再生時におけるＳ／Ｎ
比の向上および記録時における感度の向上の目的で、反
射層が設けられてもよい。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ見、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ
、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属およ
び半金属を挙げることができる。これらのうちで好まし
いものはＡ９．、ＣｒおよびＮｉである。これらの物質
は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで
または合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００Ｘの範囲にあ
る。

なお１反射層は基板と記録層との間に設けられてもよく
、この場合には情報の記録再生は記録層側（基板とは反
対の側）から行なわれる。

また、記録層（または反射層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。

保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ，ＳｉＯ
，、ＭｇＦ、、５ｎ０２等の無機物質；熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層（または銀塩層あるい
は反射層）上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００　ｇｍの鍼囲に
ある。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。

以下に、本発明の実施例を記載する。ただし、これらの
各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ シアニン系色素（前記構造式【ａ］： このようにして、基板および記録層からなる情報記録媒
体を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、シアニン系色素を下記のものに変え
た以外は実施例１と同様にして基板および記録層からな
る情報記録媒体を製造した。

シアニン系色素（前記構造式［ｋ］： １．４ｇを、２，２，３．３−テトラフロロプロピルア
ルコール（構造式：　ＨＧＦ２ＣＦ２０Ｈ２０Ｈ）およ
びイソプロピルアルコール［重量比で４０　：　６０１
１４０ｃｃに溶解して塗布液（濃度：１．４重量％）を
調製した。

サーボビットが設けられた円盤状のポリカーボネート基
板（外径：１３０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：１．２
ｍｍ、トラックピッチ：１　、６　ｐｍ、　　ピットの
深さ：８００Ｘ）上に、塗布液ラスピンコート法により
回転数８５０　ｒｐ層の速度で塗布した後、７０℃の温
度で１０分間乾燥して膜厚が０．０６４ｍの記録層を形
成した。

ｊｓａ−ＣａＨｑ　　　Ｃｌ０ａ−ｒｓａ−Ｃ；ａＨｑ
　　　　　　　）［情報記録媒体の評価］ 上記で得られた情報記録媒体の記録および再生を以下の
条件で行なった。

半導体レーザー：波長８３０ｎｍ 線速度　　　　：５．０ｍ７秒 変調周波＠　　　：２−５ＭＨｚ 記録パワー　　：８．ＯｍＷ 再生パワー　　：１．ＯｍＷ 実施例１および２の光ディスクについて、上記条件での
記録および再生が、トラッキングエラーを生じることな
く良好に行なうことができた。また再生時のＣ／Ｎが共
に５０ｄＢという高い値であった。

従って、得られた情報記録媒体は、サンプルサーボ用の
サーボピットに大きな変形が生じていないこと、および
記録再生特性が優れていることが分かる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、表面にプレピットを有するポリカーボネート樹脂基
   板の上に、レーザによる情報の書き込みおよび／または
   読み取りが可能なシアニン系色素を含む記録層が設けら
   れてなる情報記録媒体。 ２、弗素含有化合物系溶剤を含む溶剤にシアニン系色素
   を溶解して塗布液を調製をした後、表面にプレピットを
   有するポリカーボネート樹脂の上に該塗布液を塗布し、
   そして乾燥することにより色素記録層を形成させること
   からなる情報記録媒体の製造方法。