JPH01118140A - 電子写真感光体の製造装置 - Google Patents

電子写真感光体の製造装置

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JPH01118140A
JPH01118140A JP62277000A JP27700087A JPH01118140A JP H01118140 A JPH01118140 A JP H01118140A JP 62277000 A JP62277000 A JP 62277000A JP 27700087 A JP27700087 A JP 27700087A JP H01118140 A JPH01118140 A JP H01118140A
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coating
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substrate
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黒川 誠
Yoshihide Shimoda
下田 嘉英
Shuhei Tsuchimoto
修平 土本
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、浸漬塗工法によって電子写真感光体を製造す
るにあたり導電性支持体の浸漬及びオーバーフロー時の
塗布液の流動を制御することによ・す、塗工ムラなどの
塗膜欠陥を防止するようにした電子写真感光体の製造装
置に関するものである。
〈従来の技術及びその問題点〉 近年、有機光導電性材料音用いて電子写真感光体を製造
する方法が種々提案されている。上記の電子写真感光体
の一般的な製造方法としては、感光性素材を含有する塗
布液に導電性支持体を浸漬塗工して導電性支持体上に感
光@を形成する方法が知られている。
従来の浸漬塗工の場合、塗布液の沈澱防止及び導電性支
持体の浸漬長さを常に一定にするなどの理由からオーバ
ーフロー装置を設ける必要がある。
ところが第3図に示す様に従来の構造では単にオーバー
フロー型塗工機にした場合、支持体を塗布液に浸漬した
シ引き抜いたシする際塗布液がオーバーフローすること
によシ支持体表面に沿って塗布液の流動が起きたシ又液
面の波立ちなどが起りそのため均一な塗膜を得ることが
できないといった不都合が生じる。なお、第3図におい
て、1は円筒状支持体、3は浸漬塗工用タンク、5は塗
布液供給口、6はオーバーフロー塗布液受皿、7は塗布
液、9は浸漬塗工用タンク3のオーバーフロ一部である
一方、塗布液のオーバーフローによる不都合全解消する
ために、予め支持体を装着した塗工用タンク内に塗布液
を供給し塗布液面を上昇させ支持体の浸漬を行い、次い
で塗工用タンクより塗布液を抜き塗布液面を下降させて
塗布を行う方法も考えられるが、この場合、塗布液面の
下降時槽内に溶剤蒸気が充満し、塗膜がその溶剤蒸気に
浸され均一な塗膜が得られなかったシ特性の劣化が起こ
ったりするなどの問題点が生じる。
本発明は上記の点に鑑みて創案されたものであり、塗布
時の塗布液の流動を制御することによシムラの無い均一
な塗膜を得ることができる電子写真感光体の製造装置を
提供することを目的としている。
く問題点を解決するための手段〉 上記の目的を達成するため、本発明は塗布液を所定量溝
たした塗工用タンクに導電性支持体の浸漬を行い、次い
で導電性支持体を引き抜いて支持体上に塗布液を塗布す
る電子写真感光体の製造装置において、塗布時に起こる
導電性支持体付近の塗布液の流動を防止するために上記
の塗工用クンクの内面と導電性支持体との間に仕切り部
材を設けるように構成している。
本発明に従って、導電性支持体上に浸漬塗布方法によっ
て樹脂層又は感光層を形成する電子写真感光体の製造に
あたり、好ましくは塗工用タンク内に導電性支持体の外
径より大きく塗工用タンクの内径よシ小さい円筒状の仕
切シ部材を塗工用タンクのオーバーフロ一部より少し高
い位置に設けることにより、塗布液がオーバーフローす
る隙に起こる支持体表面付近の塗布液の流動が防止され
る。
本発明において使用される円筒状の仕切り部材としては
、長さは特に限定されないが導電性支持体よシ長いもの
が好ましく、その上端部は、使用する塗布液の表面張力
に合せ取9付は位置を調整し、塗工用タンクのオーバー
フロ一部よシ少し高い位置になるようにセットする。又
、この仕切り部材下部には塗液の流出入孔を設け、仕切
シ部村内部の塗布液の出入は、ここから行ない仕切り部
材の外側でのみオーバーフローするよう°に構成するの
が好ましい。
また上記の塗布液の流出入孔にメッシニナトノフィルタ
ーを設けることにより仕切り部材内部への異物混入を防
止するように成しても良い。
く作 用〉 本発明の電子写真感光体の製造装置では、塗工用タンク
の支持体付近の塗布液流動を防止するための仕切シ部材
を設けた構造であり、仕切り部材の上端部は、塗工用タ
ンクのオーバーフロ一部より高い位置にセットされる。
次いで、塗工用タンクに円筒状支持体を浸漬する際に、
円筒状支持体の体積分の塗布液は、仕切り部材下部の流
出入孔から押し出されてこの仕切り部材の外側でのみオ
ーバー70−が行われ、オーバーフロー時発生スる塗布
液表面の流動も仕切り部材の外側で起こる。
又円筒状支持体を塗布液から引き抜く際、引き抜かれた
円筒状支持体の体積分の塗布液は、仕切り部材下部の流
出入孔から流れ込み塗布液面は常に一定になり、塗工時
の円筒状支持体付近の塗布液の波立ちも制御できる。し
たがって円筒状支持体付近の塗布液の流動及び波立ちに
よる塗工ムラなどの塗膜欠陥が解消される。
又、塗布液流動防止用仕切り部材下部の流出入孔に異物
混入防止用のメツシュフィルターを設けることにより、
更に均一で再現性のある塗布が可能となる。
〈実施例〉 以下、本発明の好ましい実施例を添付図面に基づき説明
する。
(実施例1) 第1図は本発明の一実施例の構成を示す概略断面図であ
り、1は円筒状支持体、2は塗布液流動防止用仕切り部
材、3は浸漬塗工用タンク、4は塗布液流出入孔、5は
塗布液供給口、6はオーバーフロー塗布液受皿、7は塗
布液、8は塗布液流動防止用仕切り部材上端部、9は浸
漬塗工用タンク3のオーバーフロ一部であり、本実施例
に使用する支持体付近の塗布液流動を防止するための円
筒状仕切り部材2の内径は、第1図に示すように円筒状
支持体1の外径より大きく、又仕切シ部材2の外径は、
浸漬塗工用タンク3の内径より小さくし、この仕切り部
材上端部8の取り付は位置は浸漬塗工用タンク3のオー
バーフロ一部9よりも少し高い位置にセットする。この
ようにセットされた塗工用タンク下部の供給口5より、
例えばクロルダイアングルー顔料2重量部;フェノキシ
樹脂(ユニオンカーバイト社製)1重量部と1・4−ジ
オキサ797重を部を混合したものをステンレス製ボー
ルミルで15時間分散作製した電荷発生層用塗布液が常
時オーバーフローするよう送液する。次いでアルミニウ
ム製の円筒状支持体1を塗布液7に浸漬するのであるが
、浸漬される円筒状支持体1の体積分の塗布液7は仕切
り部材2の下部より押し出され仕切り部材2の外側でオ
ーバーフローが行われる。したがって支持体付近の塗布
液7の流動は制御される。又、円筒状支持体、1を塗布
液7から引き抜き塗布する際も塗布液7の流動の影’!
受けず、ム°うの無い均一な感光層が形成される。この
ようにして得られた塗膜を室温にて30分間自然乾燥し
た後、90℃の雰囲気中で10分間の加熱乾燥全行い、
乾燥膜厚が0.5μmの電荷発生層を設けた。この上に
ヒドラゾン系電荷移送剤(4−ジエチルアミノベンズア
ルデヒド−N−フェニル−α−ナフチルヒドラゾン)1
重量部;ポリカーボネート樹脂(三菱ガス化学社製ニー
ピロン)xffi−1部とジクロルメタン8重着部を混
合したものを分散溶解させてできた電荷移送層用の塗布
液で電荷発生層作製時と同様の方法にて浸漬塗工全行っ
て塗膜化し、室温にて30分間自然乾燥した後、90℃
の雰囲気中で30分間の加熱乾燥を行い乾燥膜厚が20
μmの電荷移送層を形成し電子写真感光体を作製した。
上記の製造方法によって得られた電子写真感光体を実際
の複写機にセットし、実写試験を行った結果、ムラのな
い鮮明な画像を得ることができた。
(実施例2) 第2図に示すように実施例1で使用した塗布液流動防止
用仕切り部材2の下部にある塗布液流出入孔4にメツシ
ュフィルターを取り付けた塗布液流出入孔10を用いた
以外は実施例1と同様に浸漬塗工を行い電子写真感光体
全作製した。この場合も同様に実写試験を行った結果、
ムラのない鮮明な画像を得ることができた。
(比較例) 第3図に示すように実施例で使用した円筒状支工 、/傘行ったところ、円筒状支持体1を浸漬する時のオ
ーバーフローにより塗布液7の流動が起り、引き続き感
光体を塗布する際、それが原因で塗膜にムラが生じ均一
な塗膜の電子写真感光体を得ることができなかった。こ
の場合も実施例と同様に実写試験を行ったが塗膜のムラ
が帯電ムラとなり鮮明な画像を得ることができなかった
〈発明の効果〉 以上のように、未発明によれば円筒状支持体、と浸漬塗
工用タンクの内面との間に円筒状の仕切り部材?設ける
ことにより、塗布時に起る支持体付近の塗布液の流動を
防止することができ、均一でムラの無い電子写真感光体
全得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は未発明の一実施例で、支持体全塗布液に浸漬さ
せた状態を示す概略断面図、第2図は他の実施例を示す
概略断面図、第3図は、従来の装置を示す概略断面図で
あり、また図中の矢印は塗布液の流れを示すものである
。 1・・・円筒状支持体、2・・・塗布液流動防止用仕切
り部材、3・・・浸漬塗工用タンク、4・・・塗布液流
出入孔、5・・・塗布液供給口、6・・・オーバーフロ
ー塗布液受皿、7・・・塗布液、8・・・塗布液流動防
止用仕切り部材上端部、9・・・浸漬塗工用タンクのオ
ーバーフロ一部、10・・・メツシュフィルター付塗布
i流出入孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、塗布液を所定量満たした塗工用タンクに導電性支持
    体の浸漬を行い、次いで導電性支持体を引き抜き支持体
    表面に塗布液を塗布する電子写真感光体の製造装置にお
    いて、 上記塗工用タンクの内面と導電性支持体との間に仕切り
    部材を設けてなることを特徴とする電子写真感光体の製
    造装置。
JP62277000A 1987-10-30 1987-10-30 電子写真感光体の製造装置 Granted JPH01118140A (ja)

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