JPS59177161A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPS59177161A JPS59177161A JP5019183A JP5019183A JPS59177161A JP S59177161 A JPS59177161 A JP S59177161A JP 5019183 A JP5019183 A JP 5019183A JP 5019183 A JP5019183 A JP 5019183A JP S59177161 A JPS59177161 A JP S59177161A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- tank
- liquid
- upper edge
- inclined surface
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- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塗布槽内に収容されている塗布液内に被塗布
物を浸漬し、次いで該被塗布物を所要の速度で引き上げ
ることによって塗布液を塗布する塗布装置に関するもの
で、特には、円筒形の電子写真感光体を光導電材塗料の
中に浸漬し、これを引き上げることによって電子写真感
光体を製造するのに使用される塗布装置に関するもので
ある。
物を浸漬し、次いで該被塗布物を所要の速度で引き上げ
ることによって塗布液を塗布する塗布装置に関するもの
で、特には、円筒形の電子写真感光体を光導電材塗料の
中に浸漬し、これを引き上げることによって電子写真感
光体を製造するのに使用される塗布装置に関するもので
ある。
一般に、塗布方法には、ナイフコート、ワイヤーバーコ
ード、浸漬塗布、スプレー塗布、ローラー塗布などの種
々の方法がある。この中で円筒状の被塗布物にできるだ
け均一な塗膜を製造するには、浸漬塗布が有利である。
ード、浸漬塗布、スプレー塗布、ローラー塗布などの種
々の方法がある。この中で円筒状の被塗布物にできるだ
け均一な塗膜を製造するには、浸漬塗布が有利である。
しかしながら被塗布物が電子写真用感光体素材の場合、
光導電層及び、場合によっては中間層、絶縁層も含めて
その塗膜は０．１〜数十ミクロンという極めて薄いもの
が通常であシ、このような薄膜を円筒状素材上にムラな
く一様な感光特性を付与するように塗布するためには、
さらに高度な技術を要する。
光導電層及び、場合によっては中間層、絶縁層も含めて
その塗膜は０．１〜数十ミクロンという極めて薄いもの
が通常であシ、このような薄膜を円筒状素材上にムラな
く一様な感光特性を付与するように塗布するためには、
さらに高度な技術を要する。
そのため、浸漬塗布法においても、溶剤蒸発による塗布
液の濃度ムラを防止するために、塗布液を塗布槽から常
にあふれ出させる、いわゆるオーバーフロ一方法がある
。
液の濃度ムラを防止するために、塗布液を塗布槽から常
にあふれ出させる、いわゆるオーバーフロ一方法がある
。
しかしながら、この方法においても、オー／？ −フロ
ーが均一でないことによる円周方向の塗布ムラが生じる
ことがある。オーバーフローが不均一になる理由として
塗布液供給口の位置、塗布装置の政少な水平度、塗布槽
中の被塗布物の中心位置からのずれ、塗布液供給ポンダ
の脈流などがあげられる。このような塗布液の流れが不
均一となると、被塗布物を一定速度で上昇塗布させても
、塗布液と被塗布物の相対速度が、場所により（特に周
方向において）異るため、塗膜の不均一を生じさせるも
のである０ 本発明は上記した如き欠点、すなわちオー／４−フロー
の不均一にもとすく塗膜の周方向ムラを防止できる塗布
装置を提供することを目的とするものである。
ーが均一でないことによる円周方向の塗布ムラが生じる
ことがある。オーバーフローが不均一になる理由として
塗布液供給口の位置、塗布装置の政少な水平度、塗布槽
中の被塗布物の中心位置からのずれ、塗布液供給ポンダ
の脈流などがあげられる。このような塗布液の流れが不
均一となると、被塗布物を一定速度で上昇塗布させても
、塗布液と被塗布物の相対速度が、場所により（特に周
方向において）異るため、塗膜の不均一を生じさせるも
のである０ 本発明は上記した如き欠点、すなわちオー／４−フロー
の不均一にもとすく塗膜の周方向ムラを防止できる塗布
装置を提供することを目的とするものである。
本発明による塗布装置は、塗布槽の上端部をこえて溢流
する塗布液の流れを制御し、溢流する塗布液をむらなく
流れ出るようにするために、上記の塗布槽の上縁を水平
とし、この塗布槽の上級の周りに、溢流した塗布液が流
下する傾斜面を設けたことを特徴とする。この傾斜面は
連続的な傾斜面としてもよいし、或いは、不連続的な段
状の傾斜面としてもよい。
する塗布液の流れを制御し、溢流する塗布液をむらなく
流れ出るようにするために、上記の塗布槽の上縁を水平
とし、この塗布槽の上級の周りに、溢流した塗布液が流
下する傾斜面を設けたことを特徴とする。この傾斜面は
連続的な傾斜面としてもよいし、或いは、不連続的な段
状の傾斜面としてもよい。
以下、図面を参照して説明する。
第１図は従来型の塗布装置を示し、図中、１は塗布槽、
２は該塗布槽内に収容されている塗布液、３は塗布槽の
上級の周シに設けられた受は皿、４は該塗布槽の中に塗
布液を供給する供給口、５は該受は皿内に溢流した塗布
液を排出する排出口、６は被塗布物を示す。塗布の際、
被塗布物６は塗布液２の中に浸漬され、次いで所要の速
度で引き上げられて、塗布液全塗布される。塗布液２は
、外部の供給手段により供給口４から塗布槽１内に流入
し、塗布槽ｌの上縁から溢流して、受は皿３内に集めら
れ、排出口から排出される。ここで、塗布槽１の上縁か
ら溢れ出る液は前記した種々の理由によって、一部分に
集中することがち９、このように塗布液の流れが不均一
となると塗布むらを生ずることになる。
２は該塗布槽内に収容されている塗布液、３は塗布槽の
上級の周シに設けられた受は皿、４は該塗布槽の中に塗
布液を供給する供給口、５は該受は皿内に溢流した塗布
液を排出する排出口、６は被塗布物を示す。塗布の際、
被塗布物６は塗布液２の中に浸漬され、次いで所要の速
度で引き上げられて、塗布液全塗布される。塗布液２は
、外部の供給手段により供給口４から塗布槽１内に流入
し、塗布槽ｌの上縁から溢流して、受は皿３内に集めら
れ、排出口から排出される。ここで、塗布槽１の上縁か
ら溢れ出る液は前記した種々の理由によって、一部分に
集中することがち９、このように塗布液の流れが不均一
となると塗布むらを生ずることになる。
本発明はこのような塗布液の不均一な流れによって生ず
る塗布むらの発生を防止するために、塗布槽１の上縁を
正しく水平に保つとともに、該塗布槽１の上縁の周りに
、溢流した塗布液が流下する傾斜面を設ける。第２図は
、このような傾斜面を設けた本発明塗布装置の一実施態
様を示す。第２図中、第１図に示す部分と同じ部分は同
じ符号によって指示する。
る塗布むらの発生を防止するために、塗布槽１の上縁を
正しく水平に保つとともに、該塗布槽１の上縁の周りに
、溢流した塗布液が流下する傾斜面を設ける。第２図は
、このような傾斜面を設けた本発明塗布装置の一実施態
様を示す。第２図中、第１図に示す部分と同じ部分は同
じ符号によって指示する。
第２図に示す実施態様においては、塗布槽１の上縁の周
りに、溢流した塗布液が流下する傾斜面７が形成される
。８は塗布槽１の上部を覆う蓋を示す。
りに、溢流した塗布液が流下する傾斜面７が形成される
。８は塗布槽１の上部を覆う蓋を示す。
第２図に示す塗布装置においては塗布槽１の上級をこえ
てあふれ出る塗布液は、傾斜面７に沿って流れるので、
液の流れに適当な抵抗が加わシ、流速が弱められ、従っ
て、液の流れが一部分に集中することがなくなって、液
を円周方向に均一に流すことができる。
てあふれ出る塗布液は、傾斜面７に沿って流れるので、
液の流れに適当な抵抗が加わシ、流速が弱められ、従っ
て、液の流れが一部分に集中することがなくなって、液
を円周方向に均一に流すことができる。
第２図に示す傾斜面は不連続ｉ段状のものとして示しで
あるが、これは連続的なものとしてもよい。第３図（ａ
） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は傾斜面の種々の変型態様
を示し、（、）は階段状の不連続な斜面、（ｂ）は連続
的な斜面、（Ｃ）は曲線状の連続的な斜面である〇この
ような斜面を形成するには、塗布槽上部に加工して斜面
をもうけてもよいし、また、このような形状のリングを
塗布槽に取シ付けてもよい。
あるが、これは連続的なものとしてもよい。第３図（ａ
） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は傾斜面の種々の変型態様
を示し、（、）は階段状の不連続な斜面、（ｂ）は連続
的な斜面、（Ｃ）は曲線状の連続的な斜面である〇この
ような斜面を形成するには、塗布槽上部に加工して斜面
をもうけてもよいし、また、このような形状のリングを
塗布槽に取シ付けてもよい。
このように、あふれ出る液を傾斜面に沿って流れ出るよ
うにしたことＫよシ、塗液の流れが均一化し、円周方向
の塗布ムラのない塗膜を形成することができるようにな
った。この塗布装置は、特に、電子写真用感光体素材に
、光導電層および場合によっては中間層および絶縁層を
含めて、０．１〜叔１０ミクロンという極めて薄い塗膜
全均一に塗布して、ムラなく一様な感光特性をもつ電子
写真用感光体を製造するのに好適である。
うにしたことＫよシ、塗液の流れが均一化し、円周方向
の塗布ムラのない塗膜を形成することができるようにな
った。この塗布装置は、特に、電子写真用感光体素材に
、光導電層および場合によっては中間層および絶縁層を
含めて、０．１〜叔１０ミクロンという極めて薄い塗膜
全均一に塗布して、ムラなく一様な感光特性をもつ電子
写真用感光体を製造するのに好適である。
以下、本発明装置を電子写真用感光体の製造について実
施した実施例につき説明する。
施した実施例につき説明する。
実施例
被塗布部材としては、外径８０咽、長さ３６０爺の円筒
状アルミシリンダーよシ成る電子写真感光体素材を用い
た。塗布液として、以下の組成の塗料全ロールミルによ
シ分散させたものを用いた。
状アルミシリンダーよシ成る電子写真感光体素材を用い
た。塗布液として、以下の組成の塗料全ロールミルによ
シ分散させたものを用いた。
光導電性ＣｄＳ粉末 １００部（Ｍ量部、以下間）塩
ビー酢ビ共重合体樹脂 １４部 メチルエチルケト７ ３０部 メチルイソブチルケトン ３０部 この塗料を第２図に示した塗布装置を用いて、１０Ｃｒ
ｒＬ／分の速度で引き上げて被塗布部材上に塗布し、８
０℃で２０分乾燥全行った。この塗布槽上部には第３図
（ａ）のようなオーバーフローリングを取り付けである
。この塗膜の膜厚を周方向について測定したところ、シ
リンダーの上部、下部にかかわらず、２５±０．５μと
非常に均ニな値を示した。一方この感光層上に２０μ厚
の円筒形熱収縮ポリエチレンテレフタレートフィルム（
商品名：Ｈｏ５ｔａｐｈａｖｓｈｒｉｎｋ Ｆｉｌｍ
＋ ＫＡＬＬＥ製）９０℃Ｍｎφをかぶせて１００℃、
３０分熱収縮を行い絶縁層を形成した。この感光体に一
次■ＤＣ帯電、２次ＡＣ除電同時像露光、全面照射のプ
ロセスで潜像を形成させ、次いで現像、転写、クリーニ
ングをくり返し実施する電子写真法で、画像評価を行っ
たが、濃度ムラのない良好な画質であった。
ビー酢ビ共重合体樹脂 １４部 メチルエチルケト７ ３０部 メチルイソブチルケトン ３０部 この塗料を第２図に示した塗布装置を用いて、１０Ｃｒ
ｒＬ／分の速度で引き上げて被塗布部材上に塗布し、８
０℃で２０分乾燥全行った。この塗布槽上部には第３図
（ａ）のようなオーバーフローリングを取り付けである
。この塗膜の膜厚を周方向について測定したところ、シ
リンダーの上部、下部にかかわらず、２５±０．５μと
非常に均ニな値を示した。一方この感光層上に２０μ厚
の円筒形熱収縮ポリエチレンテレフタレートフィルム（
商品名：Ｈｏ５ｔａｐｈａｖｓｈｒｉｎｋ Ｆｉｌｍ
＋ ＫＡＬＬＥ製）９０℃Ｍｎφをかぶせて１００℃、
３０分熱収縮を行い絶縁層を形成した。この感光体に一
次■ＤＣ帯電、２次ＡＣ除電同時像露光、全面照射のプ
ロセスで潜像を形成させ、次いで現像、転写、クリーニ
ングをくり返し実施する電子写真法で、画像評価を行っ
たが、濃度ムラのない良好な画質であった。
一方比較試料としてオーバーフローリングをはずした装
置で同様に塗料を塗布したところ、周方向の塗膜ムラは
２５±２μと、かなり不均一な結果となった。この感光
体を同様に画像評価を行うと、膜厚ムラに応じた表面電
位ムラによシ、濃度の不均一な低品位な画質であった。
置で同様に塗料を塗布したところ、周方向の塗膜ムラは
２５±２μと、かなり不均一な結果となった。この感光
体を同様に画像評価を行うと、膜厚ムラに応じた表面電
位ムラによシ、濃度の不均一な低品位な画質であった。
実施例２
塗布液として次のものを用意した。
まず第１層塗布液として、Ｎ−メトキシメチル化ナイロ
ン樹脂１０部全メタノール７０部）、、Ｉ＋／エン２０
部で均一に溶解したものを塗料とする。第２層としては
下記構造式のビスアゾ顔料１０部を結着剤としてポリビ
ニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ１．積水化学）５
部およびシクロへキサノン３０部メチルエチルケトン４
０ｓを１ｍ径のガラスピーズを用いたサンドミル装置で
２時間処理しこの顔料分散液全使用する。
ン樹脂１０部全メタノール７０部）、、Ｉ＋／エン２０
部で均一に溶解したものを塗料とする。第２層としては
下記構造式のビスアゾ顔料１０部を結着剤としてポリビ
ニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ１．積水化学）５
部およびシクロへキサノン３０部メチルエチルケトン４
０ｓを１ｍ径のガラスピーズを用いたサンドミル装置で
２時間処理しこの顔料分散液全使用する。
（４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノスチリル）−５−（４−
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンｌＯｉ＆
ｌＪサル７オンｍ脂（ニーｙ”ルＰ−１７００、ＵＣＣ
社製） １０部モノクロルベンゼン４０部トルエン１０
部メチルエチルケトン２０部を均一に溶解したものを用
いる。
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリンｌＯｉ＆
ｌＪサル７オンｍ脂（ニーｙ”ルＰ−１７００、ＵＣＣ
社製） １０部モノクロルベンゼン４０部トルエン１０
部メチルエチルケトン２０部を均一に溶解したものを用
いる。
まず、これらの−塗布液を実施例１と同一のシリンダー
に、それぞれ単独で塗布し、膜厚を調べたところ、下記
の表に示す如くであった。
に、それぞれ単独で塗布し、膜厚を調べたところ、下記
の表に示す如くであった。
一方比較例としてオーバーフロー制御リングをはずした
場合の膜厚ムラも同時に示した。
場合の膜厚ムラも同時に示した。
このように実施例１よりさらに薄厚の系においてもオー
バーフローリングの効果は著しく、塗膜の均一化に非常
に有効である。
バーフローリングの効果は著しく、塗膜の均一化に非常
に有効である。
次に、この塗布液を、第１から順に積層塗布して感光体
試料を作成し、これを（１）帯電（５，７ｋＶ）（１１
）像露光（２５Ｌｕｘ−ａｅｃ ） ｌｊ）現像（磁気
ブラシ法）０ｖ）転写帯電５．４ｋＶ、（ψブラシクリ
ーニング、がら成るプロセスによって画像出し評価を行
なったところ、比較試料は、各層のムラが重なりあい、
非常に乱れた画像となったが、本発明によって作成した
試料は濃度ムラがほとんど見られなかった。
試料を作成し、これを（１）帯電（５，７ｋＶ）（１１
）像露光（２５Ｌｕｘ−ａｅｃ ） ｌｊ）現像（磁気
ブラシ法）０ｖ）転写帯電５．４ｋＶ、（ψブラシクリ
ーニング、がら成るプロセスによって画像出し評価を行
なったところ、比較試料は、各層のムラが重なりあい、
非常に乱れた画像となったが、本発明によって作成した
試料は濃度ムラがほとんど見られなかった。
第１図は従来の塗布装置を示す断面図、第２図は本発明
に係る塗布装置の一実施態様を示す断面図、第３図（ａ
） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は第２図に示す傾斜面の種
々の変型態様を示す側面図である。 １・・・塗布槽 ２・・・塗布液３・・・受
は皿 ４・・・供給口５・・・排出口
６・・・被塗布物７・・・傾斜面 ８
・・・蓋し、・−ユ、１： 鎮１図
に係る塗布装置の一実施態様を示す断面図、第３図（ａ
） 、 （ｂ） 、 （ｃ）は第２図に示す傾斜面の種
々の変型態様を示す側面図である。 １・・・塗布槽 ２・・・塗布液３・・・受
は皿 ４・・・供給口５・・・排出口
６・・・被塗布物７・・・傾斜面 ８
・・・蓋し、・−ユ、１： 鎮１図
Claims (6)
- （１） 塗布槽内に収容されている塗布液内に被塗布
物を浸漬し、次いで該被塗布物を所要の速度で引き上げ
ることによって塗布液を塗布する装置において、上記の
塗布槽の上縁を水平とし、塗布液が常に塗布槽上縁をこ
えて溢流するように塗布液を塗布槽内に供給し、且つ上
記の塗布槽の上縁の周りに、溢流した塗布液が流下する
傾斜面を設けたことを特徴とする塗布装置。 - （２）上記の傾斜面は連続した傾斜面である特許請求の
範囲第（１）項に記載の塗布装置。 - （３） 上記の傾斜面は不連続な段状の傾斜面である
特許請求の範囲第（０項に記載の塗布装置。 - （４）塗布槽は円筒形で、その上縁の周シに連続的傾斜
をもつ環状体を設けた特許請求の範囲第（２）項に記載
の塗布装置。 - （５） 塗布槽は円筒形で、その上縁の周りに不連続
な段状の傾斜をもつ環状体を設けた特許請求の範囲第（
３）項に記載の塗布装置。 - （６） 円筒形の電子写真感光体素材の周シに光導電
材を塗布することによって電子写真感光体を製造するの
に使用される特許請求の範囲第（１）項に記載の塗布装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5019183A JPS59177161A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5019183A JPS59177161A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177161A true JPS59177161A (ja) | 1984-10-06 |
Family
ID=12852263
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5019183A Pending JPS59177161A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177161A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2420324A1 (en) * | 2010-08-17 | 2012-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus, method for producing electrophotographic photosensitive member and method for mass-producing electrophotographic photosensitive members |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP5019183A patent/JPS59177161A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2420324A1 (en) * | 2010-08-17 | 2012-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus, method for producing electrophotographic photosensitive member and method for mass-producing electrophotographic photosensitive members |
| JP2012061460A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-29 | Canon Inc | 塗布装置、電子写真感光体の製造方法および電子写真感光体の量産方法 |
| US9146578B2 (en) | 2010-08-17 | 2015-09-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus, method for producing electrophotographic photosensitive member and method for mass-producing electrophotographic photosensitive members |
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