JPH01100721A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH01100721A JPH01100721A JP25717087A JP25717087A JPH01100721A JP H01100721 A JPH01100721 A JP H01100721A JP 25717087 A JP25717087 A JP 25717087A JP 25717087 A JP25717087 A JP 25717087A JP H01100721 A JPH01100721 A JP H01100721A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- pattern
- coil
- forming
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 4
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 206010011732 Cyst Diseases 0.000 description 1
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜磁気ヘッドに係るもので、特にフロント
ギャップ部及びコア接続部形成が精度良くかつ安定にで
きる導体層パターンを有する薄膜磁気ヘッドに関する。
ギャップ部及びコア接続部形成が精度良くかつ安定にで
きる導体層パターンを有する薄膜磁気ヘッドに関する。
従来、特開昭６０−１１１３２１号公報に記載のように
多巻コイルを形成した薄膜磁気ヘッドにおいては、コイ
ルに起因する絶縁層上部の凸凹をレジストを塗布し、イ
オンビームを照射し平坦化する方法が取られていた。こ
の際、コア接続部となるコイルパターンの無い部分にお
いて、コイル巻線中央部のように周囲が包われている場
所と一方にコイルパターンがある場所（フロントギャッ
プ部）では下地の形状が異なるためにその上に塗布され
るし ′シストの膜厚が異なり、かつ、コイル
上の最大塗布膜厚より小さい、そのためこの上からイオ
ンビームでエツチングを行ない、コイル上の凸凹を平坦
化すると、コイルパターンのない部分では、絶縁層の高
さがコイル上の絶縁層上面より低くなり、かつ、フロン
トギャップ部となる部分とコア接続部となる部分の絶縁
層の膜厚は異なる。
多巻コイルを形成した薄膜磁気ヘッドにおいては、コイ
ルに起因する絶縁層上部の凸凹をレジストを塗布し、イ
オンビームを照射し平坦化する方法が取られていた。こ
の際、コア接続部となるコイルパターンの無い部分にお
いて、コイル巻線中央部のように周囲が包われている場
所と一方にコイルパターンがある場所（フロントギャッ
プ部）では下地の形状が異なるためにその上に塗布され
るし ′シストの膜厚が異なり、かつ、コイル
上の最大塗布膜厚より小さい、そのためこの上からイオ
ンビームでエツチングを行ない、コイル上の凸凹を平坦
化すると、コイルパターンのない部分では、絶縁層の高
さがコイル上の絶縁層上面より低くなり、かつ、フロン
トギャップ部となる部分とコア接続部となる部分の絶縁
層の膜厚は異なる。
このような、異なる膜厚の絶縁層部分にフロントギャッ
プ用及びコア接続用のスルーホールを精度良くまた安定
に形成するには次の問題があった。
プ用及びコア接続用のスルーホールを精度良くまた安定
に形成するには次の問題があった。
すなわち、コア接続用のスルーホール面は、コイルパタ
ーンで囲まれており、平坦になるが、フロントギャップ
部よりも高くなる。また、一方だけにコイルパターンが
あるフロントギャップ部に形成するスルーホール面は、
レジスト塗布面が傾いておりレジスト塗布されたままの
形状でエツチングされるため、コイルパターンから、遠
ざかるにつれて低くなるような傾斜のついたものとなる
。
ーンで囲まれており、平坦になるが、フロントギャップ
部よりも高くなる。また、一方だけにコイルパターンが
あるフロントギャップ部に形成するスルーホール面は、
レジスト塗布面が傾いておりレジスト塗布されたままの
形状でエツチングされるため、コイルパターンから、遠
ざかるにつれて低くなるような傾斜のついたものとなる
。
そして、その寸法は、コイルパターンに近い側とそうで
ない側では異なってくる。
ない側では異なってくる。
本発明の目的は、以上の問題を解決すべくフロントギャ
ップ用及びコア接続用スルーホールを形成する絶縁層の
厚さを同一にすることにある。
ップ用及びコア接続用スルーホールを形成する絶縁層の
厚さを同一にすることにある。
［問題点を解決するための手段］
上記目的は、コイルに起因する凸凹を平坦化する際のレ
ジスト膜厚をフロントギャップ用及びコア接続用スルー
ホール部分となる絶縁層上で同一にしてやることにより
達成される。すなわち、レジスト塗布前でのフロントギ
ャップ用及びコア接続用スルーホール部分となる絶縁層
の周囲の形状を同一にしてやることである。それには、
絶縁層形成前のコイルパターンでフロントギャップ用及
びコア接続用スルーホール部分となる周囲の形状を同一
状態にしてやることで達成される。
ジスト膜厚をフロントギャップ用及びコア接続用スルー
ホール部分となる絶縁層上で同一にしてやることにより
達成される。すなわち、レジスト塗布前でのフロントギ
ャップ用及びコア接続用スルーホール部分となる絶縁層
の周囲の形状を同一にしてやることである。それには、
絶縁層形成前のコイルパターンでフロントギャップ用及
びコア接続用スルーホール部分となる周囲の形状を同一
状態にしてやることで達成される。
コイルパターンと同一に形成するフロントギャップ部ス
ルーホール部分周囲のパターンは、その上に形成する絶
縁層でもそのまま転写され、コア接続用スルーホール部
分となる絶縁層の周囲形状と同一になる。それによって
、平坦化時それぞれの部分に塗布されるレジストのたま
り方、塗布膜厚は同一になるので、コイル凸凹の平坦化
後、それぞれのスルーホール形成部分の絶縁層膜厚は同
一になる。
ルーホール部分周囲のパターンは、その上に形成する絶
縁層でもそのまま転写され、コア接続用スルーホール部
分となる絶縁層の周囲形状と同一になる。それによって
、平坦化時それぞれの部分に塗布されるレジストのたま
り方、塗布膜厚は同一になるので、コイル凸凹の平坦化
後、それぞれのスルーホール形成部分の絶縁層膜厚は同
一になる。
以下、本発明の一実施例を第１図を用いて説明する。第
１図において基板１に下部磁気コア２を形成後ラップし
平坦化を行ない１次にコイルパターン３を形成すると同
一工程において本発明の特徴であるコイルパターンとは
何ら関係ないパターン４が形成されている。このパター
ン４は１図（ｂ）中に点線で示したフロントギャップ形
成部５と距離したけ離れており、コア接続形成部６と周
囲のコイルパターン３との距離Ｌ′に等しい。
１図において基板１に下部磁気コア２を形成後ラップし
平坦化を行ない１次にコイルパターン３を形成すると同
一工程において本発明の特徴であるコイルパターンとは
何ら関係ないパターン４が形成されている。このパター
ン４は１図（ｂ）中に点線で示したフロントギャップ形
成部５と距離したけ離れており、コア接続形成部６と周
囲のコイルパターン３との距離Ｌ′に等しい。
この上に、絶縁層７を形成後レジスト８を塗布し絶縁層
７上のコイルによる凸凹を平坦化した後、イオンビーム
でエツチングを行ない、絶縁層７を平坦化する。と同時
にスルーホール部分を均等にエツチングする。エツチン
グ終了面即ち、スルーホール形成前の絶縁層面は図（ａ
）中に点線で示しである様になる。そして、フロントギ
ャップ部５′とコア接続部６′を形成し、ギャップ層９
を形成後、上部磁気コアｌＯを形成、パターニングして
、薄膜磁気ヘッドが完成する。
７上のコイルによる凸凹を平坦化した後、イオンビーム
でエツチングを行ない、絶縁層７を平坦化する。と同時
にスルーホール部分を均等にエツチングする。エツチン
グ終了面即ち、スルーホール形成前の絶縁層面は図（ａ
）中に点線で示しである様になる。そして、フロントギ
ャップ部５′とコア接続部６′を形成し、ギャップ層９
を形成後、上部磁気コアｌＯを形成、パターニングして
、薄膜磁気ヘッドが完成する。
本発明によれば、フロントギャップ部及びコア接続部ス
ルーホール周囲の下地形状、即ち、導体層における段差
を、ダミーパターンを設けることにより、同一状態にし
たので、コイルパターンに起因する絶縁層の平坦化工程
で塗布するレジストのたまり方が同一になり、平坦化後
の絶縁層の膜厚も同一になるので、高精度で安定したス
ルーホールの形成ができる。
ルーホール周囲の下地形状、即ち、導体層における段差
を、ダミーパターンを設けることにより、同一状態にし
たので、コイルパターンに起因する絶縁層の平坦化工程
で塗布するレジストのたまり方が同一になり、平坦化後
の絶縁層の膜厚も同一になるので、高精度で安定したス
ルーホールの形成ができる。
第１図（ａ）は本発明の一実施例を示す断面図で、図（
ｂ）は図（ａ）をＡ−Ａ’断面とした平面図、図（ｃ）
は、完成された薄膜磁気ヘッドの断面図である。 に基板、２：下部磁気コア、３：コイル、４：ダミーパ
ターン、５：フロントギャップ形成部分。 ５′：フロントギャップ部、６：コア接続部形成部分、
６′：コア接続部、７：絶縁層、８ニレジスト、９：ギ
ャップ層、ｌＯ：上部磁気コア。
ｂ）は図（ａ）をＡ−Ａ’断面とした平面図、図（ｃ）
は、完成された薄膜磁気ヘッドの断面図である。 に基板、２：下部磁気コア、３：コイル、４：ダミーパ
ターン、５：フロントギャップ形成部分。 ５′：フロントギャップ部、６：コア接続部形成部分、
６′：コア接続部、７：絶縁層、８ニレジスト、９：ギ
ャップ層、ｌＯ：上部磁気コア。
Claims (1)
- １、基板上に下部磁気コア層、絶縁層、導体層、ギャッ
プ層、上部磁気コア層等を積層し、所定のパターンを形
成して成る薄膜磁気ヘッドにおいて、摺動面として切断
される側のコア接続部の周囲に、前記接続部と導体パタ
ーンをはさんで位置するコア接続部の周囲にある導体パ
ターンのうちで最も接続部に近いものとの距離Ｌだけ離
れ、かつ導体パターンとは接続していないパターンが同
一導体層で形成されることを特徴とする薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25717087A JPH01100721A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25717087A JPH01100721A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01100721A true JPH01100721A (ja) | 1989-04-19 |
Family
ID=17302659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25717087A Pending JPH01100721A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01100721A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5261595A (en) * | 1991-08-12 | 1993-11-16 | The Procter & Gamble Company | Collapsible refill container for granular products adapted to be inserted into an outer box-type package |
-
1987
- 1987-10-14 JP JP25717087A patent/JPH01100721A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5261595A (en) * | 1991-08-12 | 1993-11-16 | The Procter & Gamble Company | Collapsible refill container for granular products adapted to be inserted into an outer box-type package |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20060115918A1 (en) | Method for manufacturing a magnetic field detecting element | |
| JPS63173213A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62245509A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH01100721A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS59149013A (ja) | ロ−タリトランスの製造方法 | |
| JP2730467B2 (ja) | 磁気センサ | |
| JP2747099B2 (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH064829A (ja) | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS5860421A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS62165718A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH02105307A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH07105507A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造プロセス | |
| JPS63285716A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2001210571A (ja) | アライメントマークの形成方法 | |
| JPS6322646Y2 (ja) | ||
| JPH08194918A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPH09134505A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH03207005A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2574260B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS6111915A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0289208A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62205509A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0473917A (ja) | インダクタンス部品の製造方法 | |
| JPH0749609Y2 (ja) | 多層配線薄膜コイル | |
| JPS6271006A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 |