JPS62205509A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS62205509A JPS62205509A JP4615286A JP4615286A JPS62205509A JP S62205509 A JPS62205509 A JP S62205509A JP 4615286 A JP4615286 A JP 4615286A JP 4615286 A JP4615286 A JP 4615286A JP S62205509 A JPS62205509 A JP S62205509A
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- substance layer
- magnetic substance
- magnetic
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- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野Ｊ
本発明は、磁気・＼ラドに係シ、特シ′ζコンター効果
低誠に好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
低誠に好適な薄膜磁気ヘッドに関する。
〔従来の技術Ｊ
薄膜磁気ヘッドにおいては、例えばｔ位開昭５５−８７
３２３号公報に示されるように、ヘッド摺動面での磁気
コアのギヤツブ１小独面の反対ｌ１１１１の聞Ｉｆｉ、
ギャップに対して平行になっている。
３２３号公報に示されるように、ヘッド摺動面での磁気
コアのギヤツブ１小独面の反対ｌ１１１１の聞Ｉｆｉ、
ギャップに対して平行になっている。
上記従来例では、ギャップと接していない側の面で形成
される擬似キャップによるコンタ−効果については配慮
されていなかった。
される擬似キャップによるコンタ−効果については配慮
されていなかった。
すなわち、積層方式の薄膜磁気ヘッドでは、磁気コアと
なる磁性体層金成狡する際、該磁性体層の躾の上面と下
面が平行とをジ、ギャップ面と反対側の面において擬似
ギャップが形成され、ここから擬似信号が再生されると
いう問題があった。
なる磁性体層金成狡する際、該磁性体層の躾の上面と下
面が平行とをジ、ギャップ面と反対側の面において擬似
ギャップが形成され、ここから擬似信号が再生されると
いう問題があった。
この発明は、上記した擬似信号のレベルを低減させて、
いわゆるコンタ−効果を低減させた＃膜磁気ヘッドを提
供することを目的とする。
いわゆるコンタ−効果を低減させた＃膜磁気ヘッドを提
供することを目的とする。
上記問題点は、薄膜磁気ヘッドの磁気コアを形成する磁
性体層のギャップ面と接して員ない側の面を荒して粗面
とすることにより解決される。
性体層のギャップ面と接して員ない側の面を荒して粗面
とすることにより解決される。
〔作用ｊ
磁気コアのギャップ面と接していない面を粗面とするこ
と釦より、形成される擬似ギャップの能率が低下し、擬
似信号のレベルが本来のギャップによる再生信号レベル
よシも極端Ｖζ低くなる。
と釦より、形成される擬似ギャップの能率が低下し、擬
似信号のレベルが本来のギャップによる再生信号レベル
よシも極端Ｖζ低くなる。
以下、図面を参照してこの発明の一実施例について説明
する。
する。
第１図は木兄Ｆ！Ａｐζよる＃膜磁気ヘッドの摺動面（
記録媒体との接触面）を示す平面図であって、１は非磁
性基板、２はギャップ材、４は保護膜、５１は下部磁性
体層、５４は上部磁性体層である。
記録媒体との接触面）を示す平面図であって、１は非磁
性基板、２はギャップ材、４は保護膜、５１は下部磁性
体層、５４は上部磁性体層である。
同図忙おいて、磁気コアは下部磁性体層５１と上部磁性
体層５４にょシ構成され、ギャップ材２の部分において
ギャップを形成している。磁気コアを構成する下部磁性
体層５１と上部磁性体層５４とはギャップ材に接触する
面、すなわちギャップ接触面は平行に成膜されておル、
このギャップ接触面とけ反対側の面もまた互いに平行に
なっている。
体層５４にょシ構成され、ギャップ材２の部分において
ギャップを形成している。磁気コアを構成する下部磁性
体層５１と上部磁性体層５４とはギャップ材に接触する
面、すなわちギャップ接触面は平行に成膜されておル、
このギャップ接触面とけ反対側の面もまた互いに平行に
なっている。
上記ギャップ接触面とけ反対側の各面、すなわち下部磁
性体層５１の下面と上部磁性体層５４の上面は粗面に形
成されて層る。
性体層５１の下面と上部磁性体層５４の上面は粗面に形
成されて層る。
なお、図示していないが、コイル導体、コイル絶縁層、
等の磁気ヘッド構成部分も成膜技術にょシ所定形状に形
成される。
等の磁気ヘッド構成部分も成膜技術にょシ所定形状に形
成される。
第２図（ａ）〜（ｄ）は第１図に示した薄膜磁気ヘッド
の製造工程図であって、５２は上部磁性体膜、５３は上
部磁性体層パターン、６１はホトレジストパターン、６
２はホトレジストであシ、第１図と同一部分は同一符号
を付しである。
の製造工程図であって、５２は上部磁性体膜、５３は上
部磁性体層パターン、６１はホトレジストパターン、６
２はホトレジストであシ、第１図と同一部分は同一符号
を付しである。
同図において、先ず（ａ）に示すように、非磁性基板１
に下部磁性体層５１を埋込み、その上にギャップ材２の
層を形成する。下部磁性体層５１と非磁性基板１との界
面は、非磁性基板１にダイシングソーを用＾で溝を形成
する際にｉ度の粗さをつける。
に下部磁性体層５１を埋込み、その上にギャップ材２の
層を形成する。下部磁性体層５１と非磁性基板１との界
面は、非磁性基板１にダイシングソーを用＾で溝を形成
する際にｉ度の粗さをつける。
次に、ギャップ材２の上に、下部磁性体層の膜を形成し
、上部磁性体層のパターン形成のためのポトノジストパ
ターン６１を形成して、イオンビームエツチングを行っ
て同図（ｂ）に示すような上部磁性体ハ４パターン５３
を得る。
、上部磁性体層のパターン形成のためのポトノジストパ
ターン６１を形成して、イオンビームエツチングを行っ
て同図（ｂ）に示すような上部磁性体ハ４パターン５３
を得る。
次に、同図（ｃ）に示すように、形成された上部磁性体
パターン５３を覆ってホトレジスト６２を塗布する。す
ると、上部磁性体パターン５３の段差の影響を受けて上
部磁性体パターン５５上のホトレジストのＨ厚は、該パ
ターンのない部分よｐ薄くなる。この状態でイオンビー
ムエツチングを行う。イオンビームエツチングが進行す
ると、上部磁性体層パターン５３の上にあるホトレジス
トの方か、該パターンのない部分にあるホトレジストよ
り早くなくなシ、下部磁性体層パターンの上面が露出す
る。イオンビームエツチングをさらに行うと、露出した
上部磁性体層５３の上面がエツチングされ、このエツチ
ングが進むと共に面の荒 ｌれが生じ、同図（ｄ）忙示
すような、上面が粗面となった上部磁性体ｊビｉ５４が
形成される。この上に保峡膜４を形成して第１図に示す
ような薄膜磁気ヘッドを得る。
パターン５３を覆ってホトレジスト６２を塗布する。す
ると、上部磁性体パターン５３の段差の影響を受けて上
部磁性体パターン５５上のホトレジストのＨ厚は、該パ
ターンのない部分よｐ薄くなる。この状態でイオンビー
ムエツチングを行う。イオンビームエツチングが進行す
ると、上部磁性体層パターン５３の上にあるホトレジス
トの方か、該パターンのない部分にあるホトレジストよ
り早くなくなシ、下部磁性体層パターンの上面が露出す
る。イオンビームエツチングをさらに行うと、露出した
上部磁性体層５３の上面がエツチングされ、このエツチ
ングが進むと共に面の荒 ｌれが生じ、同図（ｄ）忙示
すような、上面が粗面となった上部磁性体ｊビｉ５４が
形成される。この上に保峡膜４を形成して第１図に示す
ような薄膜磁気ヘッドを得る。
ＷＪ３図は上記のようにして得た本発明による薄膜磁気
ヘッドの擬似信号レベルと上部磁性体層の面粗さの関係
を示す特性図であって、横軸は而粗さ、縦軸は本来のギ
ャップで再生される信号りと擬似ギャップにより再生さ
れる信号（ｕ）との比（Ｄ ／ ｕ ）で表わす擬似信
号レベル（ｄＢ）を示す。
ヘッドの擬似信号レベルと上部磁性体層の面粗さの関係
を示す特性図であって、横軸は而粗さ、縦軸は本来のギ
ャップで再生される信号りと擬似ギャップにより再生さ
れる信号（ｕ）との比（Ｄ ／ ｕ ）で表わす擬似信
号レベル（ｄＢ）を示す。
同図において、面粗さを０．５Ｓ以上にすると擬似信号
レベルは２０ｄＢ小さくなシ、本来のギャップによう再
生される信号にほとんど影響を与えなくなることがわか
る。
レベルは２０ｄＢ小さくなシ、本来のギャップによう再
生される信号にほとんど影響を与えなくなることがわか
る。
〔発明の効果」
本発明によれば、磁気コアを構成する上部磁性体層上聞
を粗面とすることにより擬似信号レベルを低下でき、上
記従来技術の欠点を除すて優れた機能の薄膜磁気ヘッド
を提供することができる。
を粗面とすることにより擬似信号レベルを低下でき、上
記従来技術の欠点を除すて優れた機能の薄膜磁気ヘッド
を提供することができる。
第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
ヘッド摺動面の平面図、第２図（ａ）〜（ｄ）は第１図
に示した＊ｇ磁気ヘッドの製造工程図、第３図は本発明
による薄膜磁気ヘッドの擬似信号レベルと上部磁性体層
の而粗さの関係を示す特性図である。 １・・非磁性基板、２・・・ギャップ材、４・・・保護
膜１．５１・・・下部磁性体層、５２・・・上部磁性体
膜、５３・・・上部磁性体層パターン、５４・・・上部
磁性体層、６１・・・ホトレジストパターン、６２・・
・ホトレジスト。
ヘッド摺動面の平面図、第２図（ａ）〜（ｄ）は第１図
に示した＊ｇ磁気ヘッドの製造工程図、第３図は本発明
による薄膜磁気ヘッドの擬似信号レベルと上部磁性体層
の而粗さの関係を示す特性図である。 １・・非磁性基板、２・・・ギャップ材、４・・・保護
膜１．５１・・・下部磁性体層、５２・・・上部磁性体
膜、５３・・・上部磁性体層パターン、５４・・・上部
磁性体層、６１・・・ホトレジストパターン、６２・・
・ホトレジスト。
Claims (1)
- 下部磁性体層が埋込まれた非磁性基板上に、ギャップ材
、コイル導体層、コイル絶縁層、及び前記下部導体層と
共に磁気コアを構成する上部磁性体層をそれぞれ所定形
状に積層してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁
性体層の、ギャップ接触面とは反対側の面の面粗さを０
．５Ｓ以上とすることにより、擬似信号レベルを低減す
るように構成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4615286A JPS62205509A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4615286A JPS62205509A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62205509A true JPS62205509A (ja) | 1987-09-10 |
Family
ID=12739008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4615286A Pending JPS62205509A (ja) | 1986-03-05 | 1986-03-05 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62205509A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02267711A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Sharp Corp | 薄膜磁気ヘッド |
-
1986
- 1986-03-05 JP JP4615286A patent/JPS62205509A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02267711A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Sharp Corp | 薄膜磁気ヘッド |
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