JP7374770B2 - 表示基板、その製造方法、及び表示基板を含む表示パネル - Google Patents
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関連出願の相互参照
本願は、２０１８年１１月１４日に提出された中国特許出願２０１８１１３５３１６９．Ｘ号の優先権を主張し、そのすべての公開内容を本願の一部としてここに援用する。
本願は、２０１８年１１月１４日に提出された中国特許出願２０１８１１３５３１６９．Ｘ号の優先権を主張し、そのすべての公開内容を本願の一部としてここに援用する。
本開示は表示技術分野に関し、特に、表示基板、その製造方法、及び表示基板を含む表示パネルに関する。
表示技術が発展するに伴い、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイが液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を徐々に置き換わっていくであろう。
ウェアラブル技術の開発に伴い、伸縮可能なＯＬＥＤディスプレイが将来の開発の方向となっている。
本開示は、支持部と、前記支持部上に位置し、その中に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する画素と、前記支持部上に位置し、前記画素を囲み、トレンチにより前記画素から離間しているバリアとを含む表示基板であって、前記バリアは、前記支持部から延在し、水分及び酸素が前記画素に侵入するのを遮断するように構成された突起を含み、前記突起は、前記ＴＦＴの層と同一平面上にある層を含む、表示基板を提供する。
一実施形態において、前記支持部は、複数のアイランドと、前記アイランドを接続する複数のブリッジとを含み、前記画素は前記アイランドのうちの１つに位置する。
一実施形態において、前記バリアは、前記画素の外側から前記画素内に引き込まれる配線を収容するように構成されたギャップを有する。
一実施形態において、前記突起は、金属層、誘電層又はそれらの任意の組み合わせを含む。
一実施形態において、前記バリアは、前記画素内に延在する層を含まない。
一実施形態において、前記突起は、前記突起の側壁に凹部を有する。
一実施形態において、前記凹部は、前記突出部の第１の層と、第２の層と、第３の層とによって画定されるボリュームであり、前記第２の層は、前記第１の層と前記第３の層との間に挟まれ、前記第１の層及び前記第３の層は前記側壁まで延在しているが、前記第２の層は前記側壁まで延在していない。
一実施形態において、前記画素及び前記バリアは同一材料からなる層を各々含む。
本開示は、支持部と、前記支持部上に位置し、その中に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する画素と、前記支持部上に位置し、前記画素を囲むバリアとを含む表示基板であって、前記バリアは、前記支持部から延在し、水分及び酸素が前記画素に侵入するのを遮断するように構成された突起を含み、前記突起は、前記突起の側壁に凹部を有し、前記突起は、前記ＴＦＴの層と同一平面上にある層を含む、表示基板を提供する。
一実施形態において、前記支持部は、複数のアイランドと、前記アイランドを接続する複数のブリッジとを含み、前記画素は前記アイランドのうちの１つに位置する。
一実施形態において、前記バリアは、前記画素の外側から前記画素内に引き込まれる配線を収容するように構成されたギャップを有する。
一実施形態において、前記突起は、金属層、誘電層又はそれらの任意の組み合わせを含む。
一実施形態において、前記バリアは、前記画素内に延在する層を含まない。
一実施形態において、前記凹部は、前記突出部の第１の層と、第２の層と、第３の層とによって画定されるボリュームであり、前記第２の層は、前記第１の層と前記第３の層との間に挟まれ、前記第１の層及び前記第３の層は前記側壁まで延在しているが、前記第２の層は前記側壁まで延在していない。
一実施形態において、前記画素及び前記バリアは同一材料からなる層を各々含む。
本開示では、上記の任意の表示基板と、前記画素及び前記バリアを覆う封止層とを含む、表示パネルを提供する。
一実施形態において、前記表示パネルは、前記突起を少なくとも部分的に覆うコーティングをさらに含む。
一実施形態において、前記コーティングは、前記コーティングの２つの不連続部分を離間させる不連続部を含む。
一実施形態において、前記不連続部は、前記バリアの全長にわたり延在する。
本開示では、上記の表示パネルを含むシステムであって、電子書籍リーダ、ラップトップコンピュータ、コンピュータモニタ、ＯＬＥＤパネル、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、表示画面、デジタルフォトフレーム又は携帯ＧＰＳシステムであるシステムを提供する。
本開示では、表示パネルの表示基板を作製する方法を提供し、この方法は支持部上にバリアを形成することを含み、前記バリアは前記支持部上の画素を囲み、前記バリアは、前記支持部から延在し、水分及び酸素が画素に侵入するのを遮断するように構成された突起を含む。
一実施形態において、この方法は、前記画素及び前記バリアを覆う封止層を形成することをさらに含む。
一実施形態において、前記バリアを形成することは、前記突起上にコーティングを形成することを含む。
一実施形態において、前記バリアを形成することは、前記突起の側壁に凹部を有することを含む。
一実施形態において、前記画素は発光体と薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）とを含み、前記バリアを形成することは、同一の材料を積層して、前記バリアの層及び前記発光体又はＴＦＴの層を同時に形成することを含む。
一実施形態において、この方法は、前記バリアの層と前記発光体又は前記ＴＦＴの層とを切り離すことをさらに含む。
本開示において、ある部分が第１の部分と第２の部分との間に位置すると記載されている場合、当該部分と第１の部分又は第２の部分との間には中間部分があってもなくてもよい。ある部分が他の部分に接続されていると記載されている場合、当該部分は中間部分なしに他の部分に直接接続されても、又は中間部分により他の部分に間接的に接続されてもよい。
発光層への水分及び酸素の侵入が発光層の性能に悪影響を及ぼすため、伸縮可能なＯＬＥＤディスプレイは表示品質において比較的劣る傾向にある。
図１Ａは、本開示の一実施形態における表示パネルの上面図である。図１Ｂは、本開示の一実施形態におけるアイランドの断面図である。具体的には、図１Ｂは、図１Ａの線Ｂ－Ｂ’で切り取った断面図である。
図１Ａに示すように、表示基板１００は、複数のアイランド１０１と、アイランド１０１を接続する複数のブリッジ１０２とを含む。ブリッジ１０２は配線に用いられ、ブリッジ１０２を配置することで表示基板１００を伸長可能にしている。表示基板１００における複数のアイランド１０１のうちの少なくとも１つは、図１Ｂに示すアイランド１０１であってよい。
図１Ｂに示すように、アイランド１０１は、支持部１１１（例えば、ポリイミドからなる伸縮可能な支持部）と、支持部１１１上に位置する画素領域１２１と、支持部１１１上に位置し、画素領域１２１を囲むバリア領域１３１とを含む。図１Ｂでは、バリア領域１３１の断面の一部のみを示す。画素領域１２１は少なくとも１つの画素１０３を含み、バリア領域１３１はバリア１０４を含む。アイランド１０１は、画素１０３及びバリア１０４を覆う封止層１４１をさらに含む。例えば、封止層１４１は、有機層と無機層を交互に含んでもよい。封止層１４１は、さらに画素１０３とバリア１０４との間のトレンチを充填してもよい。
或いは、画素領域１２１の縁部とアイランド１０１の縁部との間の距離は、１０ミクロン～５０ミクロン、例えば、２０ミクロン、４０ミクロンであってよい。
図１Ｃは、本開示の一実施形態におけるアイランド内のバリアの上面図である。
図１Ｃに示すように、特定の実施形態では、バリア１０４は画素１０３内に配線するためのギャップＶを有し、ギャップはブリッジ１０２とバリア１０４との接合部に配置されてもよい。或いは、バリア１０４と画素領域１２１との間の距離は、１ミクロン～５ミクロン、例えば、２ミクロン、４ミクロン等であってよい。例えば、バリア１０４とアイランド１０１の縁部との間の距離は、３ミクロン～１５ミクロン、例えば、５ミクロン、１０ミクロン等であってよい。
一実施形態では、少なくとも１つのアイランドが画素領域を囲むバリアを含む。バリアはアイランドの周囲の水分及び酸素が画素領域に侵入するのを遮断して、画素領域における画素の性能への悪影響を軽減し、これにより表示パネルの表示品質が改善される。
特定の実施形態では、図１Ｂに示すように、バリア１０４は、バリア本体１１４と、バリア本体１１４を覆うコーティング１２４とを含む。バリア本体１１４は、支持部１１１から延在する突起である。バリア１０４と支持部１１１との間に積層体を設けることができる。例えば、積層体は、支持部１１１から離れる方向に向かって順に積層された第１の誘電層１１と、金属層１２と、第２の誘電層１３とを含む。第１の誘電層１１及び第２の誘電層１３は、シリコン酸化層（例えば、ＳｉＯ２）、シリコン窒化層（例えば、ＳｉＮｘ）、又はシリコン酸化層とシリコン窒化層との積層体を含んでもよく、その厚みが１０００～５０００オングストローム、例えば、２０００オングストローム、３０００オングストローム等であってもよい。
バリア本体１１４及びコーティング１２４の詳細は以下のとおりである。
特定の実施形態では、バリア本体１１４は、支持部１１１から離れる方向（つまり、下から上）に向かって、順に重ねられた第１の金属層１４と、第１の層間絶縁層１５と、第２の金属層１６と、第１の平坦化層１７とのうちの１つ以上を含む。例えば、一実施形態では、バリア本体１１４は、下から上に向かって重ねられた、第１の金属層１４と、第１の層間絶縁層１５と、第１の平坦化層１７とを含む。別の実施形態では、バリア本体１１４は、下から上に向かって重ねられた、第１の金属層１４と、第２の金属層１６とを含む。或いは、第１の金属層１４は、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔｉ又はＣｕの層を含み、その厚みが１０００～５０００オングストロームの範囲にあり、例えば、２０００オングストローム、４０００オングストローム等であってもよい。例えば、第１の平坦化層１７の材料には、樹脂等の有機材料を含んでもよい。
特定の実施形態では、コーティング１２４は、支持部１１１から離れる方向（つまり、下から上）に向かって、バリア本体１１４を順に覆う第１の電極層１８と、第１の発光層１９と、第２の電極層２０とのうちの１つ以上を含む。コーティング１２４は、バリア本体１１４の最上層の上面と、バリア本体１１４の各層の側面を覆ってもよい。
一実施例として、第１の電極層１８はＯＬＥＤアノードの材料として使用することができ、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）／Ａｇ／ＩＴＯを含む積層体等であり、その厚みが１０００～５０００オングストローム、例えば、２０００オングストローム、３０００オングストローム、４０００オングストローム等であってもよい。例えば、第１の発光層１９は、有機発光材料層を含んでもよく、第１の発光層１９は、電子輸送層と、正孔輸送層と、電子注入層と、正孔注入層のうちの１つ以上をさらに含んでもよい。第２の電極層２０は、ＯＬＥＤカソードの材料として使用することができ、例えば、Ｍｇ－Ａｇ合金等であってよい。
特定の実施形態では、図１Ｂに示すように、画素１０３は発光体１１３を含む。発光体１１３は、支持部１１１の一方の側に位置する第３の電極層２８と、第３の電極層２８の支持部１１１から離れた側に位置する第２の発光層２９と、第２の発光層２９の第３の電極層２８から離れた側に位置する第４の電極層３０とを含む。画素１０３内の第４の電極層３０は、バリア１０４内の第２の電極層２０から離間している。このような構造は、アイランド１０１の周囲の水分及び酸素が第２の電極層２０を通って画素領域１２１に侵入するのをよりよく遮断し、これにより画素１０３の性能への悪影響が軽減され、表示パネルの表示品質が改善される。
特定の実施形態では、第２の発光層２９を第１の発光層１９から離間することができ、第３の電極層２８を第１の電極層１８から離間させることができる。
特定の実施形態では、第３の電極層２８と第１の電極層１８、第２の発光層２９と第１の発光層１９、及び第４の電極層３０と第２の電極層２０の３つの群のうちの少なくとも１つの群の２層は、同一のコンポジション工程で製造される。例えば、第３の電極層２８と第１の電極層１８は、同一のコンポジション工程で同一の材料層をパターニングして形成される。
特定の実施形態では、図１Ｂに示すように、画素１０３は、支持部１１１の一方の側に位置する活性層１０と、活性層１０の支持部１１１から離れた側に位置するゲート層２４と、ゲート層２４の活性層１０から離れた側に位置する第２の層間絶縁層２５と、第２の層間絶縁層２５を貫通し、活性層１０に接続されるソース２６及びドレイン２６’と、第２の層間絶縁層２５のゲート層２４から離れた側に位置する第２の平坦化層２７とを含む。特定の実施形態では、第１の金属層１４とゲート層２４、第１の層間絶縁層１５と第２の層間絶縁層２５、第２の金属層１６とソース２６、及び第１の平坦化層１７と第２の平坦化層２７の４つの群のうちの少なくとも１つの群の２層は、同一のコンポジション工程で製造される。
さらに、画素１０３は、活性層１０とゲート層２４との間に下から上へそれぞれ積層された誘電層２１と、金属層２２と、誘電層２３とをさらに含んでもよい。
画素１０３のいくつかの層は、画素１０３の駆動トランジスタ、蓄積コンデンサ及びその他の部品を構成する。例えば、駆動トランジスタは、活性層１０と、（ゲート誘電層としての）誘電層２１と、ゲート層２４と、ソース２６と、ドレイン２６’とを含む。例えば、蓄積コンデンサは、金属層２２と、誘電層２３と、ゲート層２４とを含む。
図２は、本開示の別の実施形態におけるアイランドの断面図である。図２と図１の違いは以下のとおりである。その他の関連する点については、上記を参照することができる。
図２に示すように、バリア本体１１４は第２の金属層１６を含む。第２の金属層１６は、第１の層１６１と、第２の層１６２と、第１の層１６１と第２の層１６２との間に位置する第３の層１６３とを含む。第１の層１６１及び第２の層１６２はＴｉ層であってよく、第３の層１６３はＡｌ層であってよい。
支持部１１１上における第１の層１６１、第２の層１６２及び第３の層１６３の投影は、それぞれ第１の投影、第２の投影及び第３の投影である。ここで、第１の投影及び第２の投影は第３の投影を覆い、第１の投影及び第２の投影の面積は第３の投影の面積より大きい。言い換えれば、第３の層１６３の少なくとも一方の側面は、第１の層１６１及び第２の層１６２の側面より第３の層１６３の中央に近い。即ち、バリア本体１１４はバリア本体１１４の側壁に凹部を有する。したがって、コーティング１４２は凹部に不連続部を有してもよく、この不連続部はコーティング１４２の２つの不連続部分を離間させている。この不連続部はバリア１０４の全長に沿って延在してもよい。
さらに、図２に示すように、コーティング１２４は、バリア本体１１４を覆う第１の発光層１９と、第１の発光層１９を覆う第２の電極層２０とを含み、第１の電極層１８を含まない。
仮に、第３の層１６３の支持部１１１から離れた側に位置するバリア本体１１４の部分を第１の部分とし、第３の層１６３の支持部１１１に近い側に位置するバリア本体１１４の部分を第２の部分とする。第１の部分を覆う第２の電極層２０の領域は、第２の部分の少なくとも一方の側を覆う領域から離間している。
ここで、第２の部分を覆う第２の電極層２０の領域は、第２の部分の両側を覆う２つの領域（つまり、第３の層１６３の下方の左右の領域）を含む。第１の部分を覆う第２の電極層２０の領域は、この２つの領域の少なくとも１つから離間している。図２は、第１の部分を覆う第２の電極層２０の領域がこの２つの領域の両方から離間していることを示している。
上述した実施形態では、バリア内の第２の電極層は不連続であり、水分及び酸素の移動経路を遮断するように複数の離間された領域に分割される。アイランドの周囲の水分及び酸素が第２の電極層２０に侵入しても、水分及び酸素は第２の電極層２０を通って画素領域１２１の画素１０３に侵入しにくい。このような構造は、表示パネルの表示品質をさらに改善することができる。
本開示は、表示基板の製造方法をさらに提供する。この方法は、ブリッジを介して接続される複数のアイランドを形成することを含む。図３に示すフローチャートにしたがって少なくとも１つのアイランドを形成することができる。
図３は、本開示の一実施形態における表示パネルの表示基板のアイランドの形成方法のフローチャートである。
３０２では、例えば、伸縮可能な支持部等の支持部を提供する。
３０４では、支持部上に位置する画素領域と、支持部上に位置し画素領域を囲むバリア領域とを形成する。画素領域は画素を含み、バリア領域は画素領域を囲むバリアを含む。
特定の実施形態では、異なる処理で画素及びバリアを形成することができる。例えば、第１の画素及びバリアを形成した後で第２の画素及びバリアを形成することができる。
特定の実施形態では、画素を形成する工程でバリアを形成してもよい。
３０６では、画素及びバリアを覆う封止層を形成する。
一実施形態では、アイランドは画素領域を囲むバリアを含む。このバリアはアイランドの周囲の水分及び酸素が画素領域に侵入するのを遮断して、画素領域における画素の性能への悪影響を軽減し、これにより表示パネルの表示品質が改善される。
以下では、本開示の特定の実施形態によりバリアを形成する工程について述べる。
まず、バリア本体を形成する。このバリア本体は、支持部から離れる方向に向かって、順に重ねられた第１の金属層と、第１の層間絶縁層と、第２の金属層と、第１の平坦化層とのうちの１つ以上を含む。
本開示の特定の実施形態では、支持部１１１上における第１の金属層と、第１の層間絶縁層と、第２の金属層と、第１の平坦化層の投影の面積は、徐々に増大する。例えば、バリア本体は台形である。例えば、台形の側面と支持部の表面との間の角度は、６５度、６０度、５０度等、７０度未満である。このような構造は、積層体を形成するのに有利である。
次に、コーティングを形成する。このコーティングは、支持部から離れる方向に向かって、バリア本体を順に覆う第１の電極層と、第１の発光層と、第２の電極層とのうちの１つ以上を含む。
本開示の特定の実施形態では、支持部から離れる方向に向かって、バリア本体を覆う第１の電極層と、第１の発光層と、第２の電極層とを順に形成して、コーティングを形成する。
本開示の特定の実施形態では、第２の金属層は、第１の層と、第２の層と、第１の層と第２の層との間に位置する第３の層とを含む。この場合、バリア本体の表面を覆う第１の電極層を形成し、エッチング処理を施して第１の電極層と第３の層の露出部分とを除去し、バリア本体の表面を覆う第１の発光層と、第１の発光層を覆う第２の電極層とを形成して、コーティングを形成する。ここで、第３の層のバリア領域から離れた側に位置するバリア本体の部分を第１の部分とし、第３の層のバリア領域に近い側に位置するバリア本体の部分を第２の部分とする。第１の部分を覆う第２の電極層の領域は、第２の部分の少なくとも一方の側を覆う領域から離間している。
図４Ａ～図４Ｉは、本開示の実施形態におけるバリアを形成する各段階で得られた構造を示したものである。
まず、図４Ａに示すように、支持部１１１上に、例えば、多結晶シリコン層又はアモルファスシリコン層等の、トランジスタを駆動するように構成された活性層１０を形成する。
特定の実施形態では、活性層１０を形成する前に、支持部１１１上に、例えば、シリコン酸化層及びシリコン窒化層の積層体等のバッファ層を形成してもよい。
次に、図４Ｂに示すように、支持部１１１上に、第１の誘電材料層と、第１の金属材料層と、第２の誘電材料層とを順次形成する。
バリア領域１３１に位置する第１の誘電材料層と、第１の金属材料層と、第２の誘電材料層は、それぞれ第１の誘電層１１と、金属層１２と、第２の誘電層１３である。画素領域１２１に位置する第１の誘電材料層と、第１の金属材料層と、第２の誘電材料層は、それぞれ誘電層２１と、金属層２２と、誘電層２３である。
さらに、図４Ｃに示すように、第２の誘電層１３上に位置する第１の金属層と、誘電層２３上に位置するゲート層２４とを形成する。ここで、金属層２２と、誘電層２３と、ゲート層２４とは蓄積コンデンサを構成する。
例えば、図４Ｂに示す構造上に、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔｉ又はＣｕ等の第２の金属材料層を積層することができる。そして、積層された第２の金属材料層をパターニングして、第１の金属層１４及びゲート層２４を得る。
図４Ｄに示すように、第１の金属層１４上に位置する第１の層間絶縁層１５と、活性層１０まで延在する開口２５１を有する第２の層間絶縁層２５とを形成する。
例えば、図４Ｃに示す構造上に絶縁材料層を積層することができ、積層された絶縁材料層をパターニングして、第１の層間絶縁層１５と、第２の層間絶縁層２５とを得ることができる。絶縁材料層は、例えば、シリコン窒化層及びシリコン酸化層を含む積層体を含んでもよい。
図４Ｅに示すように、第１の層間絶縁層１５上に位置する第２の金属層１６と、開口２５１を充填するように構成されたソース２６及びドレイン２６’とを形成する。
例えば、図４Ｄに示す構造上に第３の金属材料層を積層することができ、積層された第３の金属材料層をパターニングして、第２の金属層１６と、ソース２６と、ドレイン２６’とを得ることができる。第３の金属材料層は、Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉの積層体等を含むことができる。
図４Ｆに示すように、第２の金属層１６上に位置する第１の平坦化層１７と、第２の層間絶縁層２５上に位置する第２の平坦化層２７とを形成する。第２の平坦化層２７は、ソース２６及びドレイン２６’まで延在する開口を含む。
例えば、図４Ｆに示す構造上に平坦化材料層を積層し、パターニングして、第１の平坦化層１７と、第２の平坦化層２７とを得ることができる。平坦化材料層には、例えば、樹脂材料層を含んでもよい。
以下の説明の便宜上、第１の金属層１４と、第１の層間絶縁層１５と、第２の金属層１６と、第１の平坦化層１７とを含む積層体をバリア本体１１４という。
図４Ｇに示すように、バリア本体１１４の表面を覆う第１の電極層１８と、第２の平坦化層２７上に位置する第３の電極層２８とを形成する。
特定の実施形態では、第３の電極層２８は開口２７１を充填することができる。他の実施形態では、導電性材料により開口２７１を充填して、ソース２６又はドレイン２６’に接続される接続部を形成することができる。
図４Ｈに示すように、第１の電極層１８を覆う第１の発光層１９と、第３の電極層２８を覆う第２の発光層２９とを形成する。特定の実施形態では、第１の発光層１９を第２の発光層２９から離間させることができる。
例えば、図４Ｇに示す構造上に発光材料層を積層した後、発光材料層をパターニングして、互いに離間している第１の発光層１９と、第２の発光層２９とを形成することができる。例えば、バリア本体１１４と画素領域との間の距離を制御することで、図４Ｇに示す構造上に発光材料層を積層したとき、積層された発光材料層が自ずとクラックして第１の発光層１９と第２の発光層２９となるようにすることができる。
図４Ｉに示すように、第１の発光層１９を覆う第２の電極層２０と、第２の発光層２９を覆う第４の電極層３０とを形成する。
ここで、第１の電極層１８と、第１の発光層１９と、第２の電極層２０とを含む積層体をコーティング１２４という。
図４Ａ～図４Ｉに示す処理によりバリア１０４を得ることができる。画素１０３を形成する工程においてバリア１０４も同時に形成することができ、作業が簡素化されコストが節約される。
上述したバリアの製造工程は１つの例にすぎず、本開示を制限することを意図しない。
本開示は、上述したいずれかの実施形態における表示パネルを含む表示システムも提供する。特定の実施形態では、このシステムは、例えば、携帯端末、テレビ、表示画面、タブレットコンピュータ、デジタルフォトフレーム、携帯ＧＰＳ、電子ペーパー等の表示機能を有する製品又は部品を含んでもよい。
以上、様々な態様及び実施形態を開示したが、当業者にはその他の態様及び実施形態も明らかであろう。本明細書において開示した様々な態様及び実施形態は説明のためのものにすぎず、制限することを意図せず、その実際の範囲及び趣旨は後に付す特許請求の範囲に示すとおりである。
１０ 活性層
１１ 第１の誘電層
１２ 金属層
１３ 第２の誘電層
１４ 第１の金属層
１５ 第１の層間絶縁層
１６ 第２の金属層
１７ 第１の平坦化層
１８ 第１の電極層
１９ 第１の発光層
２０ 第２の電極層
２１ 誘電層
２２ 金属層
２３ 誘電層
２４ ゲート層
２５ 第２の層間絶縁層
２６ ソース
２６’ ドレイン
２７ 第２の平坦化層
２８ 第３の電極層
２９ 第２の発光層
３０ 第４の電極層
１００ 表示基板
１０１ アイランド
１０２ ブリッジ
１０３ 画素
１０４ バリア
１１１ 支持部
１１３ 発光体
１１４ バリア本体
１２１ 画素領域
１２４ コーティング
１３１ バリア領域
１４１ 封止層
１６１ 第１の層
１６２ 第２の層
１６３ 第３の層
２５１ 開口
２７１ 開口
１１ 第１の誘電層
１２ 金属層
１３ 第２の誘電層
１４ 第１の金属層
１５ 第１の層間絶縁層
１６ 第２の金属層
１７ 第１の平坦化層
１８ 第１の電極層
１９ 第１の発光層
２０ 第２の電極層
２１ 誘電層
２２ 金属層
２３ 誘電層
２４ ゲート層
２５ 第２の層間絶縁層
２６ ソース
２６’ ドレイン
２７ 第２の平坦化層
２８ 第３の電極層
２９ 第２の発光層
３０ 第４の電極層
１００ 表示基板
１０１ アイランド
１０２ ブリッジ
１０３ 画素
１０４ バリア
１１１ 支持部
１１３ 発光体
１１４ バリア本体
１２１ 画素領域
１２４ コーティング
１３１ バリア領域
１４１ 封止層
１６１ 第１の層
１６２ 第２の層
１６３ 第３の層
２５１ 開口
２７１ 開口
Claims (18)
- 支持部と、
前記支持部上に位置し、その中に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する画素と、
前記支持部上に位置し、前記画素を囲み、トレンチにより前記画素から離間しているバリアとを含む表示基板であって、
前記バリアは、前記支持部から延在し、水分及び酸素が前記画素に侵入するのを遮断するように構成された突起を含み、コーティングが前記突起を少なくとも部分的に覆い、
前記突起は、前記ＴＦＴの層と同一平面上にある層を含み、
前記コーティングは、前記突起を覆う第２の電極層を含み、
前記突起は、前記突起の側壁に凹部を有する、表示基板。 - 前記支持部は、複数のアイランドと、前記アイランドを接続する複数のブリッジとを含み、
前記画素は前記アイランドのうちの１つに位置する、請求項１に記載の表示基板。 - 前記バリアは、前記画素の外側から前記画素内に引き込まれる配線を収容するように構成されたギャップを有し、前記ギャップは前記ブリッジと前記バリアとの接合部に配置される、請求項２に記載の表示基板。
- 前記突起は、金属層、誘電層又はそれらの任意の組み合わせを含む、請求項１から３のいずれか１項に記載の表示基板。
- 前記バリアは、前記画素内に延在する層を含まない、請求項１から４のいずれか１項に記載の表示基板。
- 前記凹部は、前記突起の第１の層と、第２の層と、第３の層とによって画定されるボリュームであり、
前記第２の層は、前記第１の層と前記第３の層との間に挟まれ、
前記第１の層及び前記第３の層は前記側壁まで延在しているが、前記第２の層は前記側壁まで延在していない、請求項１に記載の表示基板。 - 前記画素及び前記バリアは同一材料からなる層を各々含む、請求項１から６のいずれか１項に記載の表示基板。
- 支持部と、
前記支持部上に位置し、その中に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を有する画素と、
前記支持部上に位置し、前記画素を囲むバリアとを含む表示基板であって、
前記バリアは、前記支持部から延在し、水分及び酸素が前記画素に侵入するのを遮断するように構成された突起を含み、コーティングが前記突起を少なくとも部分的に覆い、
前記突起は、前記突起の側壁に凹部を有し、
前記突起は、前記ＴＦＴの層と同一平面上にある層を含み、
前記コーティングは、前記突起を覆う第２の電極層を含む、表示基板。 - 前記支持部は、複数のアイランドと、前記アイランドを接続する複数のブリッジとを含み、
前記画素は前記アイランドのうちの１つに位置する、請求項８に記載の表示基板。 - 前記バリアは、前記画素の外側から前記画素内に引き込まれる配線を収容するように構成されたギャップを有し、前記ギャップは前記ブリッジと前記バリアとの接合部に配置される、請求項９に記載の表示基板。
- 前記突起は、金属層、誘電層又はそれらの任意の組み合わせを含む、請求項８から１０のいずれか１項に記載の表示基板。
- 前記バリアは、前記画素内に延在する層を含まない、請求項８から１１のいずれか１項に記載の表示基板。
- 前記凹部は、前記突起の第１の層と、第２の層と、第３の層とによって画定されるボリュームであり、
前記第２の層は、前記第１の層と前記第３の層との間に挟まれ、
前記第１の層及び前記第３の層は前記側壁まで延在しているが、前記第２の層は前記側壁まで延在していない、請求項８から１２のいずれか１項に記載の表示基板。 - 前記画素及び前記バリアは同一材料からなる層を各々含む、請求項８から１３のいずれか１項に記載の表示基板。
- 請求項１から１４のいずれか１項に記載の表示基板と、前記画素及び前記バリアを覆う封止層とを含む、表示パネル。
- 前記コーティングは、前記コーティングの２つの不連続部分を離間させる不連続部を含む、請求項１５に記載の表示パネル。
- 前記不連続部は、前記バリアの全長にわたり延在する、請求項１６に記載の表示パネル。
- 請求項１５から１７のいずれか１項に記載の表示パネルを含むシステムであって、電子書籍リーダ、ラップトップコンピュータ、コンピュータモニタ、ＯＬＥＤパネル、携帯電話、タブレットコンピュータ、テレビ、表示画面、デジタルフォトフレーム又は携帯ＧＰＳシステムであるシステム。
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