JP7358988B2 - 液状封止樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、半導体素子を配線基板(以下、単に「基板」ともいう)上に直接バンプ接続してなるフリップチップ型の半導体装置では、バンプ接続した半導体素子と配線基板との間隙(ギャップ)に充填するアンダーフィル材として、液状封止樹脂組成物が使用されている。この液状封止樹脂組成物は、電子部品を温湿度及び機械的な外力から保護する重要な役割を果たしている。
<1> エポキシ樹脂と、アミン系硬化剤と、環状カルボジイミドと、を含む液状封止樹脂組成物。
<2> 前記環状カルボジイミドの含有率が、0.05質量%~20質量%である、<1>に記載の液状封止樹脂組成物。
<3> 前記環状カルボジイミドの平均粒径が、200μm以下である、<1>又は<2>に記載の液状封止樹脂組成物。
<4> 前記環状カルボジイミドの最大粒径が、2mm以下である、<1>~<3>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物。
<5> 無機充填材をさらに含有する<1>~<4>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物。
<6> 前記無機充填材の含有率が、20質量%~90質量%である、<5>に記載の液状封止樹脂組成物。
<7> 前記エポキシ樹脂が、ビスフェノール型エポキシ樹脂及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも1種を含む、<1>~<6>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物。
<8> 前記エポキシ樹脂は、3官能以上の多官能エポキシ樹脂を含まないか、多官能エポキシ樹脂を含む場合には、多官能エポキシ樹脂の含有率は、前記エポキシ樹脂の総量に対して48質量%以下である、<1>~<7>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物。
<9> 溶剤を含まないか、又は溶剤を含む場合には溶剤の含有率が5質量%以下である、<1>~<8>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物。
<10> 支持部材と、
前記支持部材上に配置される電子部品と、
前記支持部材と前記電子部品との間の空隙の少なくとも一部を封止している<1>~<9>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。
<11> 前記支持部材と前記電子部品との間の距離が、200μm以下である、<10>に記載の電子部品装置。
<12> 支持部材と、前記支持部材上に配置される電子部品との間の空隙の少なくとも一部を<1>~<9>のいずれか1項に記載の液状封止樹脂組成物を用いて封止する工程を備える、電子部品装置の製造方法。
<13> 前記支持部材と前記電子部品との間の距離が、200μm以下である、<12>に記載の電子部品装置の製造方法。
本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示の液状封止樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、アミン系硬化剤と、環状カルボジイミドと、を含む。液状封止樹脂組成物は、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。
これに対して、本開示の液状封止樹脂組成物は、環状カルボジイミドを用いるため、高Tg化が図られる。その理由は、環状カルボジイミドは剛直な環状骨格を持ち、この骨格が架橋の隙間を埋めることで架橋鎖の動きを抑制するためであると考えられる。そのため、環状カルボジイミドを用いることで、架橋密度を高くせずに高Tg化できる。よって、環状カルボジイミドの使用により、高Tg化しつつもC-N結合を増やさずにすみ、熱分解を抑えることが可能となる。熱分解による重量減少が抑制されることで、封止部分でのクラックの発生等が抑えられる傾向にある。
環状カルボジイミドは、分子内にカルボジイミド基(-N=C=N-)を1個以上有し、そのカルボジイミド基を構成する2つの窒素が連結基により結合された環状構造を有する化合物である。環状カルボジイミドは、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
Xで表される連結基は、炭素原子及び水素原子を含み、さらにヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子等が挙げられる。
環状カルボジイミドが粒子状である場合、その粒子の平均粒径は、200μm以下であることが好ましく、100μm以下であることがより好ましく、20μm以下であることがさらに好ましく、10μm以下であることが特に好ましく、8μm以下であることが極めて好ましい。
また、環状カルボジイミドの平均粒径は、0.1μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であることがより好ましく、0.8μm以上であることがさらに好ましい。
また、環状カルボジイミドの最大粒径(Dmax)は、1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましく、5μm以上であることがさらに好ましい。
エポキシ樹脂は特に制限されず、例えば、電子部品装置の封止材の成分として一般的に使用されているエポキシ樹脂を用いることができる。充分な硬化性を得る観点からは、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
また、エポキシ樹脂が脂肪族エポキシ樹脂を含む場合、硬化物の信頼性、特に接着性を確保する観点から、その使用する量を制限することが好ましい。
液状のエポキシ樹脂と固体のエポキシ樹脂の組み合わせは、これらのエポキシ樹脂の混合物が全体として液状となる組み合わせであることが好ましく、常温で液状となる組み合わせであることがより好ましい。
液状封止樹脂組成物が固体のエポキシ樹脂を含む場合、良好な流動性を維持する観点から、その含有率はエポキシ樹脂全体の20質量%以下であることが好ましい。
また、ガラス転移温度をより高める観点からは、3官能以上の多官能エポキシ樹脂の含有率は、エポキシ樹脂全体の2質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、4質量%以上であることがさらに好ましい。
アミン系硬化剤は特に制限されず、例えば、電子部品装置の封止材の成分として一般的に使用されているものを用いることができる。
液状封止樹脂組成物が固体の硬化剤を含む場合、良好な流動性を維持する観点から、その含有率は硬化剤全体の20質量%以下であることが好ましい。
本開示の液状封止樹脂組成物は無機充填材を含有してもよい。無機充填材は特に制限されず、例えば、電子部品装置の封止材の成分として一般的に使用されている無機充填材を用いることができる。
本開示の液状封止樹脂組成物はカップリング剤を含有してもよい。カップリング剤としては特に制限されず、例えば、電子部品装置の封止材の成分として一般的に使用されているカップリング剤を用いることができる。液状封止樹脂組成物がカップリング剤を含むことで、樹脂成分と無機充填材又は電子部品の構成部材との界面における接着性の向上、充填性の向上等の効果が期待できる。
液状封止樹脂組成物は、上述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、染料、カーボンブラック等の着色剤、希釈剤、レベリング剤、消泡剤などが挙げられる。
液状封止樹脂組成物の調製方法は特に制限されず、上記各種成分を分散混合できる手法であればよい。液状封止樹脂組成物は、例えば、所定の配合量の前記各成分を秤量し、擂潰機、ミキシングロール、プラネタリミキサ等の混合機を用いて混合及び混練し、必要に応じて脱泡することによって得ることができる。混合及び混練の条件は、原料の種類等に応じて適宜決定すればよく、各成分が均一に混合及び分散する条件を選択することが好ましい。
液状封止樹脂組成物は、EHD型回転粘度計を用いて測定される25℃における粘度が、例えば、1000Pa・s以下であることが好ましく、500Pa・s以下であることがより好ましく、100Pa・s以下であることがさらに好ましく、30Pa・s以下であることが特に好ましい。
1000Pa・s以下の粘度であると、電子部品の小型化、半導体素子の接続端子のファインピッチ化、配線基板の微細配線化等に対応可能な流動性及び浸透性が確保される傾向にある。
液状封止樹脂組成物の粘度の下限は特に制限はなく、実装性の観点からは、例えば、1.0Pa・s以上であることが好ましく、5Pa・s以上であることがより好ましい。
すなわち、液状封止樹脂組成物の熱による重量減少(質量%)={(加熱前のサンプル質量-加熱後のサンプル質量)/加熱前のサンプル質量}×100で求められる。
本開示の液状封止樹脂組成物は、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板(リジッド又はフレキシブル)、ガラス、シリコーンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、抵抗アレイ、コイル、スイッチ等の受動素子などの電子部品を搭載した電子部品装置の製造に適用することができる。
また、本開示の液状封止樹脂組成物は、支持部材と電子部品のバンプ接続面間の距離が小さい場合でも良好な流動性及び充填性を示し、耐湿性、耐熱衝撃性等の信頼性に優れる電子部品装置を製造することができる。具体的には、バンプ接続面間の距離は、200μm以下であってもよく、100μm以下であってもよく、50μm以下であってもよい。
本開示の電子部品装置は、支持部材と、前記支持部材上に配置される電子部品と、前記支持部材と前記電子部品との間の空隙の少なくとも一部を封止している本開示の液状封止樹脂組成物の硬化物と、を備える。
本開示の電子部品装置の製造方法は、支持部材と、前記支持部材上に配置される電子部品との間の空隙の少なくとも一部を本開示の液状封止樹脂組成物を用いて封止する工程を備える。
下記成分を表1に示す質量部(但し、無機充填材の数値は「質量%」を示す)で配合し、三本ロール及び真空擂潰機にて混練分散して、実施例1~6及び比較例1~3の液状封止樹脂組成物を調製した。なお表中の「-」は無配合を表す。
・エポキシ樹脂2:アミノフェノールをエポキシ化して得られるエポキシ当量95g/molの3官能液状エポキシ樹脂(三菱ケミカル株式会社、商品名「jER630」)
・エポキシ樹脂3:ジヒドロキシナフタレン型でエポキシ当量143g/molの液状エポキシ樹脂(DIC株式会社、商品名「HP-4032D」)
・硬化剤2:活性水素当量63g/molのジエチルジアミノジフェニルメタン(日本化薬株式会社、商品名「カヤハードA-A」)
・カルボジイミド2:鎖状カルボジイミド、日清紡ケミカル株式会社、商品名「カルボジライト(登録商標)LA-1」
・着色剤:カーボンブラック(三菱ケミカル株式会社、商品名「MA-100」)
・無機充填材:平均粒径0.5μmの球状溶融シリカ(株式会社アドマテックス、商品名「SO-24H/25C」)
調製した液状封止樹脂組成物から60mm×10mm×3mmの大きさのサンプルを作製し、このサンプルを150℃に設定した恒温槽で2000時間加熱し、加熱前後のサンプルの質量から下記式により計算して求めた。
液状封止樹脂組成物の熱による重量減少(質量%)={(加熱前のサンプル質量-加熱後のサンプル質量)/加熱前のサンプル質量}×100
調製した液状封止樹脂組成物を、150℃、2時間で硬化処理して硬化物を得た。この硬化物を直径8mm、長さ20mmのサイズに切り出して、測定サンプルを作製した。
熱機械分析装置(TMA2940、TA instruments社製)を用いて、圧縮法にて0℃から300℃まで5℃/minで昇温したときの測定サンプルの長さの変化を測定し、50℃と200℃における接線の交点に対応する温度をガラス転移温度として求めた。結果を表1に示す。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (11)
- エポキシ樹脂と、アミン系硬化剤と、環状カルボジイミドと、を含み、前記エポキシ樹脂はビスフェノール型エポキシ樹脂とグリシジルアミン型エポキシ樹脂とを含むアンダーフィル用液状封止樹脂組成物であり、
硬化剤の総量に対する前記アミン系硬化剤の含有率が50質量%以上であり、
前記環状カルボジイミドの含有率は、前記アンダーフィル用液状封止樹脂組成物全体の0.05質量%~20質量%である、アンダーフィル用液状封止樹脂組成物。 - 前記環状カルボジイミドの平均粒径が、200μm以下である、請求項1に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 前記環状カルボジイミドの最大粒径が、2mm以下である、請求項1又は請求項2に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 無機充填材をさらに含有する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 前記無機充填材の含有率が、20質量%~90質量%である、請求項4に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 前記エポキシ樹脂は、3官能以上の多官能エポキシ樹脂を含まないか、多官能エポキシ樹脂を含む場合には、多官能エポキシ樹脂の含有率は、前記エポキシ樹脂の総量に対して48質量%以下である、請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 溶剤を含まないか、又は溶剤を含む場合には溶剤の含有率が5質量%以下である、請求項1~請求項6のいずれか1項に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物。
- 支持部材と、
前記支持部材上に配置される電子部品と、
前記支持部材と前記電子部品との間の空隙の少なくとも一部を封止している請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物の硬化物と、
を備える電子部品装置。 - 前記支持部材と前記電子部品との間の距離が、200μm以下である、請求項8に記載の電子部品装置。
- 支持部材と、前記支持部材上に配置される電子部品との間の空隙の少なくとも一部を請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のアンダーフィル用液状封止樹脂組成物を用いて封止する工程を備える、電子部品装置の製造方法。
- 前記支持部材と前記電子部品との間の距離が、200μm以下である、請求項10に記載の電子部品装置の製造方法。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014005345A (ja) | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 高分子量エポキシ樹脂、それを用いた樹脂組成物および硬化物 |
WO2014077216A1 (ja) | 2012-11-13 | 2014-05-22 | Jnc株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
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WO2014181754A1 (ja) | 2013-05-08 | 2014-11-13 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 硬化性樹脂組成物及びその硬化物、光半導体用封止材及びダイボンディング材、並びに光半導体発光素子 |
WO2015079917A1 (ja) | 2013-11-29 | 2015-06-04 | 東レ株式会社 | 強化繊維織物基材、プリフォームおよび繊維強化複合材料 |
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---|---|---|---|---|
JP5588631B2 (ja) * | 2009-06-12 | 2014-09-10 | 帝人株式会社 | 環状カルボジイミドを含有する樹脂組成物 |
JP2016204530A (ja) * | 2015-04-23 | 2016-12-08 | 三菱電機株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、固定子コイル及び回転電機 |
JP6766360B2 (ja) * | 2016-01-15 | 2020-10-14 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物 |
JP6080064B2 (ja) * | 2016-03-03 | 2017-02-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Uv硬化性樹脂組成物、光学部品用接着剤および封止材 |
WO2017168732A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 日立化成株式会社 | 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂シート及び積層板 |
-
2018
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2019
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014005345A (ja) | 2012-06-22 | 2014-01-16 | Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd | 高分子量エポキシ樹脂、それを用いた樹脂組成物および硬化物 |
WO2014077216A1 (ja) | 2012-11-13 | 2014-05-22 | Jnc株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
WO2014136693A1 (ja) | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 日本化薬株式会社 | 多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂用硬化剤組成物、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物 |
WO2014181754A1 (ja) | 2013-05-08 | 2014-11-13 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 硬化性樹脂組成物及びその硬化物、光半導体用封止材及びダイボンディング材、並びに光半導体発光素子 |
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