JP7336986B2 - 熱可塑性エンジニアリングプラスチックの層を備えた積層体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)生産方向の引張破断強度が115MPa以上、引張破断伸びが190%以下の剥離フィルムの一方の面に、厚さが250μm以下、厚み精度が15%以下の熱可塑性エンジニアリングプラスチックの層が積層された積層体。
(2)前記エンジニアリングプラスチックの層がポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリベンゾイミダゾール、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする前記(1)に記載の積層体。
(3)前記剥離フィルムがポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドからなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の積層体。
(4)前記エンジニアリングプラスチックの層の、前記剥離フィルムと接触する側の面の算術平均表面粗さが1.0μm以下であることを特徴とする前記(1)~(3)のいずれか1項に記載の積層体。
(5)前記(1)から(4)のいずれか1項に記載の積層体の前記エンジニアリングプラスチックの層からなる薄膜フィルム。
(6)フィルムコンデンサ用のフィルムである前記(5)に記載の薄膜フィルム。
(7)スピーカー振動板用のフィルムである前記(5)に記載の薄膜フィルム。
(8)回路基板用のフィルムである前記(5)に記載の薄膜フィルム。
(9)ヒーター絶縁材用のフィルムである前記(5)に記載の薄膜フィルム。
(10)ガラス保護用のフィルムである前記(5)に記載の薄膜フィルム。
(11)生産方向の引張破断強度が115MPa以上、引張破断伸びが190%以下の剥離フィルムの一方の面に、熱可塑性エンジニアリングプラスチック溶融体を押出し、厚さ250μm以下、厚み精度15%以下の熱可塑性エンジニアリングプラスチックの層を積層する積層体の製造方法であって、前記熱可塑性エンジニアリングプラスチック溶融体が前記剥離フィルムに接触する際の温度をTx、前記剥離フィルムのガラス転移温度をTg1、及び前記剥離フィルムの融点をTmとした時、Tg1≦Tx≦Tg1+180℃≦Tmの関係を満たすことを特徴とする前記積層体の製造方法。
(12)前記エンジニアリングプラスチックの層がポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリベンゾイミダゾール、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする前記(11)に記載の前記積層体の製造方法。
(13)前記剥離フィルムがポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドからなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする前記(11)又は(12)に記載の前記積層体の製造方法。
(14)前記エンジニアリングプラスチックの層の、少なくとも前記剥離フィルムと接触する側の面の算術平均表面粗さが1.0μm以下であることを特徴とする前記(11)~(13)のいずれか1項に記載の前記積層体の製造方法。
(15)前記(11)~(14)のいずれか1項に記載の積層体の製造方法によって前記積層体を得た後に、前記積層体から前記剥離フィルムを剥離して除去することを特徴とする、薄膜エンジニアリングプラスチックフィルムの製造方法。
(16)熱水、薬品、滅菌、オゾンの何れかの処理を行った(5)に記載の薄膜フィルム。
(17)プレッシャークッカー条件で120℃×100%RHの環境下、96時間のプレッシャークッカー試験前後での引張伸度保持率が35%以上である(5)に記載の薄膜フィルム。
(18)電子線照射、ガンマ線照射の何れかの処理を行った(5)に記載の薄膜フィルム。
(19)家電製品部材用フィルムである(5)に記載の薄膜フィルム。
(20)自動車部品部材用フィルムである(5)に記載の薄膜フィルム。
熱可塑性のエンジニアリングプラスチックフィルムを構成する熱可塑性樹脂としては、結晶性、非晶性を問わず、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリベンゾイミダゾール、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物を好適に用いることができる。
剥離フィルムの生産方向の引張破断強度は、押出コート後の積層体の破断を防止するために好ましくは115MPa以上であり、より好ましくは120MPa以上であり、さらに好ましくは130MPa以上であり、特に好ましくは140MPa以上であり、最も好ましくは150MPa以上である。
熱可塑性エンジニアリングプラスチック及び剥離フィルムには、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、滑剤、帯電防止剤、無機フィラー、着色剤、結晶核剤、難燃剤、可塑剤等の添加剤を含有してもよい。これらの添加剤の配合量は、熱可塑性のエンジニアリングプラスチック或いは剥離フィルムを構成する樹脂成分100質量%に対して、40質量%以下が好ましく、より好ましくは30質量%以下であり、さらに好ましくは30質量%以下であり、特に好ましくは20質量%以下であり、最も好ましくは10質量%以下である。添加剤の配合量が40質量%を超えると、フィルムの外観や成形性が著しく低下する恐れがある。
本発明の熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルムは、剥離フィルムを剥がした後の厚みが好ましくは250μm以下、より好ましくは150μm以下であり、さらに好ましくは50μm以下であり、特に好ましくは30μm以下であり、最も好ましくは20μm以下であることを特徴とする。
厚み精度(%)=((dmax-dmin)/dave)×100
本発明の熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルムを成形する方法としては、押出コート法を用いることが好ましい。熱可塑性のエンジニアリングプラスチック溶融体を構成する樹脂或いは樹脂組成物を個別の単軸押出機或いは二軸押出機から、単層あるいはマルチマニホールドダイやフィードブロック方式によって二層以上に積層された状態で剥離フィルム上に押出し、積層体とした後に剥離フィルムを剥離することで、薄膜の熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルムを得ることができる。
本発明の薄膜のエンジニアリングプラスチックフィルムの用途としては、フィルムコンデンサ、スピーカー振動板、回路基板、ヒーター絶縁材、ガラス保護フィルム、家電製品部材、自動車部品部材が挙げられる。
スルホン系樹脂フィルムを構成するスルホン系樹脂組成物としては、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上を80質量%以上含有する樹脂組成物が好ましい。
ポリエーテルエーテルケトン(PEEK); ダイセル・エボニック社製、ガラス転移温度140℃、融点345℃
ポリフェニレンサルファイド(PPS); 東レ社製、ガラス転移温度90℃、融点280℃
ポリエーテルスルホン(PES); BASF社製、ガラス転移温度225℃、融点なし
ポリフェニルスルホン(PPSU):BASF社製、ガラス転移温度220℃、融点なし
ポリスルホン(PSU):BASF社製、ガラス転移点187℃、融点なし
二軸延伸ポリアミドフィルム(O-Ny1);ユニチカ社製、引張破断強度200MPa、引張破断伸び100%、ガラス転移温度120℃、融点305℃、厚み25μm
二軸延伸ポリアミドフィルム(O-Ny2);東洋紡社製、引張破断強度200MPa、引張破断伸び110%、ガラス転移温度70℃、融点230℃、厚み25μm
二軸延伸ポリプロピレンフィルム(O‐PP);三井化学東セロ社製、引張破断強度130MPa、引張破断伸び170%、ガラス転移温度-20℃、融点170℃、厚み40μm
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(O-PET);東レ社製、引張破断強度153MPa、引張破断伸び105%、ガラス転移温度69℃、融点263℃、厚み16μm
無延伸ポリアミドフィルム(C-Ny);三菱樹脂社製、引張破断強度140MPa、引張破断伸び300%、ガラス転移温度70℃、融点230℃、厚み25μm
無延伸ポリプロピレンフィルム(C-PP);三井化学東セロ社製、引張破断強度80MPa、引張破断伸び700%、ガラス転移温度-20℃、融点170℃、厚み40μm
JIS K 7127に準じて、東洋精機社製の引張試験装置を用いてフィルム生産方向に対し測定を行い、得られた応力-ひずみ曲線より、引張破断強度及び引張破断伸びを求めた。
熱可塑性エンジニアリングプラスチック及び剥離フィルムのガラス転移温度及び融点を、ブルカー社製の示差走査熱量計「DSC3100SA」を用い、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分で室温から370℃までDSC(Differential scanning calorimetry, 示差走査熱量)測定を行い、ガラス転移点は、DSC曲線において、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移の段階状変化部分の曲線とが交わる点とした。
熱可塑性エンジニアリングプラスチックであるポリエーテルエーテルケトン(PEEK)を径40mmの単軸押出機から押出し、二軸延伸ポリアミドフィルム(O‐Ny)に対して接触する温度が175℃となるように、ダイスの温度、樹脂吐出量、ライン速度、ダイス口とロール間の距離を調整し、金属ロールの温度を90℃に制御して積層体を得た。この積層体から二軸延伸ポリアミドフィルムを剥離し、厚みが50μmのエンジニアリングプラスチックフィルムを作製した。
剥離フィルムの種類、熱可塑性エンジニアリングプラスチックの種類及び厚み、押出された溶融樹脂が剥離フィルムに接触する温度、及び積層体を冷却する金属ロール温度を表1、3に記載したように変更した以外は、実施例1と同様にしてエンジニアリングプラスチックフィルムを作製した。
熱可塑性エンジニアリングプラスチックであるポリフェニルスルホン(PPSU)を径40mmの単軸押出機から押出し、二軸延伸ポリアミドフィルム(O‐Ny)に対して接触する温度が190℃となるように、ダイスの温度、樹脂吐出量、ライン速度、ダイス口とロール間の距離を調整し、金属ロールの温度を115℃に制御して積層体を得た。この積層体から二軸延伸ポリアミドフィルムを剥離し、厚みが25μmのエンジニアリングプラスチックフィルムを作製した。
剥離フィルムの種類、熱可塑性エンジニアリングプラスチックの種類及び厚み、押出された溶融樹脂が剥離フィルムに接触する温度、及び積層体を冷却する金属ロール温度を表2に記載したように変更した以外は、実施例1と同様にしてエンジニアリングプラスチックフィルムを作製した。
剥離フィルムを使用せず、熱可塑性のエンジニアリングプラスチックであるポリエーテルエーテルケトン(PEEK)またはポリフェニレンサルファイド(PPS)、またはポリエーテルスルホン(PES)を用いて径40mmの単軸押出機から押出し、表3に記載したように押出された溶融樹脂を冷却する金属ロール温度を変更した以外は、実施例1と同様にして単層のエンジニアリングプラスチックフィルムを作製した。
各実施例及び各比較例で作製した耐熱性フィルムについて下記に示す評価を行った。これらの結果をそれぞれ表1~表3にまとめて示す。
JIS K 7130に準じて、1μmまで測定可能なミツトヨ社製のダイヤルゲージで等間隔に20点測定して平均値をとった。
JIS K 7130に準じて、1μmまで測定可能なミツトヨ社製のダイヤルゲージで等間隔に20点測定して平均値(d ave)、最大値(d max)及び最小値(d min)をとり、下記式にて厚み精度(%)を算出した。
厚み精度(%)=((d max-d min)/d ave)×100
積層体から試験片(長軸100mm×短軸10mm)を生産方向に対して切り出し、バンガードシステムズ社製の剥離テスターを用いて剥離角度180度で剥離した際の力から求めた。この時の剥離強度が10g以上100g未満/cmのものを「優」、3g以上10g未満または100g以上1000g以下/cmのものを「良」、0g以上3g未満/cmまたは1000g/cmを超えるものを「不良」とした。
エンジニアリングプラスチックフィルムの剥離フィルムが接触していた面に対し、キーエンス社製のレーザー顕微鏡にて倍率1000倍で表面観察を実施し、JIS B 0601:1994に準じて算術平均表面粗さを算出した。
エンジニアリングプラスチック溶融体と剥離フィルムの接点の温度は安立計器社製の接触式温度計を用いて幅方向3点を測定し、その平均値を算出した。
金属ロールの表面温度は理化工業社製の接触式温度計を用いて、金属ロールの幅方向3点を測定し、その平均値を算出した。
積層体を巻取機にて100m巻取った後に全幅を確認し、外観上、巻取シワが確認されたものを「あり」、確認されないものを「なし」とした。
積層体を100m分巻取るまでに工程内で破断が発生した場合を「あり」、発生しない場合を「なし」とした。
薄膜フィルム(積層体から剥離フィルムを剥がした熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルム)をA4サイズに切り出し、プレッシャークッカー試験機(アルプ社製 SPY-4016)を用いて、120℃、100%RHの環境下に96時間保持した。その後、23℃×50%RHの環境下で、JIS K 7127に準拠し、引張試験を実施し、伸度保持率が35%以上であれば、実使用上問題ないと判断した。
伸度保持率は下記式で算出した。
伸度保持率=[(プレッシャークッカー試験後の引張伸度)/(プレッシャークッカー試験前の引張伸度)]×100
薄膜フィルム(積層体から剥離フィルムを剥がした熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルム)をA4サイズに切り出し、恒温漕を用いて90℃に温調した熱水に、168時間浸漬した。その後、23℃×50%RHの環境下で、JIS K 7127に準拠し、引張試験を実施し、伸度保持率が50%以上であれば、良好と判断した。
伸度保持率は下記式で算出した。
伸度保持率=[(温水浸漬後の引張伸度)/(温水浸漬前の引張伸度)]×100
薄膜フィルム(積層体から剥離フィルムを剥がした熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルム)をA4サイズに切り出し、硫酸(20%濃度)に2時間浸漬した。その後、
フィルムサンプルを取り出し、「白化」、「クラック」などの発生の有無を外観で判断した。発生しない場合は「〇」、発生した場合は「×」とした。
薄膜フィルム(積層体から剥離フィルムを剥がした熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルム)を、電子線照射装置(岩崎電気社製)を用いて、加速電圧:200kV、線量:50kGy、100kGyの照射条件で電子線照射した。その後、23℃×50%RHの環境下で、JIS K 7127に準拠し、引張試験を実施し、伸度保持率が50%以上であれば実使用上問題ないと判断した。
伸度保持率は下記式で算出した。
伸度保持率=[(電子線照射後の引張伸度)/(電子線照射前の引張伸度)]×100
薄膜フィルム(積層体から剥離フィルムを剥がした熱可塑性エンジニアリングプラスチックフィルム)に対し、日本照射サービス社において、ガンマ線照射を実施した。線量:50kGy、100kGyの照射条件でガンマ線照射した。その後、23℃×50%RHの環境下で、JIS K 7127に準拠し、引張試験を実施し、伸度保持率が50%以上であれば、実使用上問題ないと判断した。
伸度保持率は下記式で算出した。
伸度保持率=[(ガンマ線照射後の引張伸度)/(ガンマ線照射前の引張伸度)]×100
Claims (9)
- 生産方向の引張破断強度が115MPa以上、引張破断伸びが190%以下の剥離フィルムの一方の面に、厚さが250μm以下、厚み精度が15%以下の熱可塑性エンジニアリングプラスチックの押出コート層が積層された積層体であって、
前記剥離フィルムが、一軸延伸または二軸延伸された、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドからなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなり、かつ、厚みが12μm以上100μm以下であり、
前記エンジニアリングプラスチックの押出コート層の、少なくとも前記剥離フィルムと接触する側の面の算術平均表面粗さが1.0μm以下である、積層体。 - 前記エンジニアリングプラスチックの押出コート層がポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリベンゾイミダゾール、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする請求項1に記載の積層体。
- 請求項1または2に記載の積層体の前記エンジニアリングプラスチックの押出コート層からなる薄膜フィルム。
- フィルムコンデンサ用、スピーカー振動板用、回路基板用、ヒーター絶縁材用、ガラス保護用、家電製品部材用、または自動車部品部材用のフィルムである請求項3に記載の薄膜フィルム。
- 生産方向の引張破断強度が115MPa以上、引張破断伸びが190%以下の剥離フィルムの一方の面に、熱可塑性エンジニアリングプラスチック溶融体を押出し、厚さ250μm以下、厚み精度15%以下の熱可塑性エンジニアリングプラスチックの層を積層する積層体の製造方法であって、前記熱可塑性エンジニアリングプラスチック溶融体が前記剥離フィルムに接触する際の温度をTx、前記剥離フィルムのガラス転移温度をTg1、及び前記剥離フィルムの融点をTmとした時、Tg1≦Tx≦Tg1+180℃≦Tmの関係を満たし、
前記剥離フィルムが、一軸延伸または二軸延伸された、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドからなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなり、かつ、厚みが12μm以上100μm以下であり、
前記エンジニアリングプラスチックの層の、少なくとも前記剥離フィルムと接触する側の面の算術平均表面粗さが1.0μm以下である、前記積層体の製造方法。 - 前記エンジニアリングプラスチックの層がポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイドポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルケトン、ポリベンゾイミダゾール、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー及びこれらの変性体からなる群から選択される1種以上のポリマー又は前記の群から選択される2種以上のポリマーの混合物からなることを特徴とする請求項5に記載の前記積層体の製造方法。
- 請求項5または6に記載の積層体の製造方法によって前記積層体を得た後に、前記積層体から前記剥離フィルムを剥離して除去することを特徴とする、薄膜エンジニアリングプラスチックフィルムの製造方法。
- 熱水、薬品、滅菌、オゾン、電子線照射、ガンマ線照射の何れかの処理を行った請求項3に記載の薄膜フィルム。
- 120℃×100%RHの環境下、96時間のプレッシャークッカー試験前後での引張伸度保持率が35%以上である請求項3に記載の薄膜フィルム。
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