JP7320295B2 - 立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の構造及びその製造方法と使用 - Google Patents

立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の構造及びその製造方法と使用 Download PDF

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Description

本発明は、新規化合物及びその合成方法の分野に関し、具体的には、立体障害調節可能
な弱塩基光安定剤の構造及びその製造方法と使用に関する。
高分子材料は、簡単に一度成形された様々な工業用使い捨て製品から、宇宙空間でのハ
イテク部品の使用に至るまで、今日の先進国においてますます重要な役割を果たしている
。このような多様で複雑な使用では、高分子材料のさまざまな物理化学的特性が、特定の
使用に要求される多様性から生じる要件を満たす必要がある。そのため、高分子材料はま
すます複雑になり、様々なベースポリマーから構成されるだけでなく、高分子材料に特定
の特性を与えるために、決定的な役割を果たす様々な機能性添加剤を含む多様な添加剤を
加える必要がある。高分子添加剤の中でも、酸化防止安定剤は最も重要な一類であり、そ
の機能は、加工時や使用時に熱や他の環境中の酸化要因及び紫外線による劣化に対する抵
抗力を高分子ポリマーに効率的に与えることである。これは、高分子材料にとって特に重
要なことで、高分子酸化防止安定剤の品質が製品の寿命を直接左右し、製品の故障という
重大な悪影響を避けることができる。
光安定剤は、高分子材料酸化防止安定剤においてますます重要な位置を示し、それはポ
リマーの非常に効果的な熱分解及び光分解の二重保護を提供することができる。
光安定剤シリーズは、高分子の保護メカニズムの観点から、紫外線吸収剤（ｕｌｔｒａ
ｖｉｏｌｅｔ ａｂｓｏｒｂｅｒ、ＵＶＡ）、ヒンダードアミン系光安定剤（ｈｉｎｄ
ｅｒｅｄ ａｍｉｎｅ ｌｉｇｈｔ ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒ、ＨＡＬＳ）、クエンチャー
（Ｑｕｅｎｃｈｅｒｓ）の３つの主要なタイプがある。これら３つタイプの光安定剤は、
光の強さや実際に必要とされる保護レベルに応じて、単独又は組み合わせて使用すること
ができる。光吸収剤ＵＶＡは、有害な紫外線を吸収してろ過し、熱や電磁波、無害な長波
長光に変換することで、高分子材料の分解、特に光に敏感なコーティング剤や接着剤、シ
ーラントなどの変色や剥離を防止できる。
ヒンダードアミン系光安定剤は、１９７０年代に日本の三菱がＬＳ－７４４、すなわち
安息香酸２，２，６，６－テトラメチルピペリジンを開発し、１９７４年にスイスのＣｉ
ｂａ－Ｇｅｉｇｙ社も同じ製品を合成した。光安定剤の高分子材料の保護効果は、従来の
吸収型の４倍以上であり、良好な互換性を有し、国際的なヒンダードアミン光安定剤の年
間成長率は２０～３０％、総消費量がすべてのタイプの安定剤のトップに躍り出て、全体
の高分子安定剤の４４％を占めている。２０１９年の世界高分子安定剤市場のサードパー
ティ予測によると、２０１９年の光安定剤は７９００億米ドル市場に達し、２０２７年に
は１４１５４．７億米ドル市場にまで達すると予想され、年間成長率は約７．６％と報告
されている。ここ数十年、ヒンダードアミン系光安定剤の需要分野の拡大に伴い、革新的
な研究開発が盛んに行われており、低分子やオリゴマーの新製品が登場しているが、いず
れもヒンダードアミンの母核構造をベースにするものである。
ヒンダードアミン光安定剤の活性官能基の構造は下記の通りである。
上記のヒンダードアミン母核活性官能基一般的な構造式において、市場で最も一般的な
ヒンダードアミン光安定剤のうち、ヒンダードアミン母核構造－Ａ型光安定剤が最も低コ
ストであり、最も広く応用されており、一般的な市場製品のヒンダードアミン光安定剤は
以下である。
しかしながら、これらのヒンダードアミン母核構造のヒンダードアミン光安定剤は、Ｐ
ＶＣ、ＰＣ、ＰＵ、ポリエステルなどのポリマーには使用できない。その主な理由は、こ
れらのヒンダードアミン母核のＮ－Ｈ結合が比較的強い塩基性と求核性を示し、求核性の
窒素原子が加工や使用中にポリマー上の求電子性又は酸性の官能基と反応する傾向がある
からである。例えば、ＰＶＣの－ＣＨ２－Ｃｌとの求核反応でＰＶＣの特性が変わる。こ
のような求核反応は、ＰＣのカーボネート結合、ＰＵのアミドエステル結合、ポリエステ
ルのカルボキシレート結合でも起こる。そのため、これらの比較的塩基性の強いヒンダー
ドアミン系光安定剤は、酸性のポリマーや一定の求電子性を持つポリマーには使用できな
い。
ヒンダードアミンＨＡＬＳの母核の塩基性又は求核性を低下させることは、ヒンダード
アミン系光安定剤の応用範囲を広げる唯一の方法である。これまで、ヒンダードアミンＨ
ＡＬＳのピペリジンアミンの窒素原子の塩基性を下げる方法としては、下記の二つがある
。（１）ピペリジンアミンのＮ－Ｈ結合上でアルキル化してＮ－Ｒ結合を形成し、ピペリ
ジンアミンの窒素原子周辺の立体障害効果を高めて、ピペリジンアミンの塩基性を下げる
。（２）ピペリジンアミンのＮ－Ｈ結合にアルコキシ基を導入してＮ－ＯＲ結合を形成す
ることにより、ピペリジンアミン中の窒素原子の塩基性を、電子陰性度の低下と窒素原子
周辺の立体障害効果の増大の組み合わせから低下させる。
ヒンダードアミンＨＡＬＳ光安定剤は、フリーラジカル捕捉剤の一種で、その作用メカ
ニズムは非常に複雑で、主に以下のようなメカニズムの相乗効果によって光保護効果を発
揮する。
（１）フリーラジカルの捕捉：ヒンダードアミン官能基は脂環式アミン構造であり、酸
素の存在下で光エネルギーを吸収した後、窒素酸素フリーラジカルＮＯ•に変化す
ることができる。これらの窒素酸素フリーラジカルは、高分子材料の光酸化分解で生成し
たアルキルラジカルを捕捉するだけでなく、光安定化プロセスにおいて再生機能を持ち、
連鎖反応を抑制して保護の目的を達成することができる。
（２）ヒドロペルオキシドの分解：アミン基がヒドロペルオキシド中の水素と結合して
窒素酸素フリーラジカルに分解し、そして活性フリーラジカルと反応して安定したアルコ
ールやケトンに変換する。Ｃａｒｌｓｓｏｎの研究結果でも、ヒンダードアミンのヒドロ
ペルオキシド周辺への濃縮効果が確認されている[５］。
（３）重金属の捕捉：ピペリジンアミン中の窒素は金属に配位する孤立電子対を有して
おり、高分子材料中の金属イオンと効率的に配位することができ、高分子材料の保護剤と
して機能する。
２，２，６，６－テトラメチルピペリジンアミンとその誘導体である弱塩基型光安定剤
は、高分子材料エチルベンゼンを保護するメカニズムが文献に報告され、その中、Ｄｅｎ
ｉｓｏｖサイクル機構が広く認められている［７］。２，２，６，６－テトラメチルピペ
リジンアミン系光安定剤の光分解性ポリマーＤＥＮＩＳＯＶサイクル保護機構を以下に示
す。
ＤＥＮＩＳＯＶサイクル保護機構は、テトラメチルピペリジンアミンがその酸化物の形
式で、如何にしてＡ、Ｂ、Ｃの３つの可能な経路で分解し始めるフリーラジカルを高分子
から移動させ、高分子材料を保護するのピペリジンアミンモノオキシドのサイクル放出の
動作原理を示している。
このため、構造－Ｂ及び構造－Ｃ母核のピペリジナミン系ヒンダードアミン光安定剤は
、弱塩基性ヒンダードアミン光安定剤として知られており、以下のようにＮ－Ｒ型及びＮ
－ＯＲ型の光安定剤製品が市場に使用されているものがある。
上記の構造式のような弱塩基性ヒンダードアミンの構造は、従来のヒンダードアミンよ
りも複雑であり、実際、低分子の弱塩基性ヒンダードアミン光安定剤、オリゴマーの弱塩
基性ヒンダードアミン光安定剤ともに、これらの製品を得るためには、従来のヒンダード
アミンに比べて追加の合成工程を経る必要がある。そのため、コストや価格面で割高にな
り、さらに化学合成が加わることで緑の環境を圧迫することにもなる。
紫外線クエンチャーは、一般的に有機金属化合物又は錯体であり、エネルギー移動によ
って励起状態のポリマーを安定した基底状態に戻すことができ、使用量が少ないことが特
徴であるが、重金属の残留毒性の問題が考えられるため、その応用は広く普及していない
。
本発明は、立体障害調節可能な、窒素原子弱塩基性能制御可能な、２，２，６，６－テト
ラメチルピペリジンアミン構造断片を含有しない新規性構造光安定剤を初めて報告してい
る。本発明は、７つの革新的な立体障害調節可能な新型構造光安定剤シリーズを含む。
革新的な小分子光安定剤の一般式は下記である。
構造一般式１：
構造式１中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、又は他のアルキル基である。
Ｒは、Ｃ５～２２の直鎖アルキル基又は分枝鎖を有するアルキル基であってもよく、－
（ＣＨ２）ｎＳｉ（ＯＭｅ）３、又は－（ＣＨ２）ｎＳｉ（ＯＥｔ）３であってもよく、
式中ｎ＝２、３、４、５。
Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０の直鎖アルキル基であってもよく、又は分枝鎖を有するアルキル
基であってもよく、アリル基などの二重結合置換アルキル基であってもよく、ヒドロキシ
エチル基、ヒドロキシプロピル基などのヘテロ原子置換アルキル基あってもよく、ヒドロ
キシル基（－ＯＨ）又はアルコキシ基（ＯＲ）であってもよく、ｉ－Ｐｒ、ｉ－Ｂｕ、イ
ソペンチル基、イソオクチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペン
チル基、ベンジル基、置換ベンジル基、アリル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル
基、芳香置換含有アルキル基、
であってもよく、－（ＣＨ２）ｎ－ＮＲ４Ｒ５（Ｒ４とＲ５は、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基で
あり、例えば：－ＣＨ２ＣＨ２ＮＰｒｉＰｒｉ又は－ＣＨ２ＣＨ２ＮＭｅ２である）であ
ってもよい。
Ｒ１は、－（ＣＨ２）ｎ－Ｓｉ（ＯＥｔ）３（ｎ＝２、３、４、５）であってもよい。
Ｒ１は、－（ＣＨ２）ｎ－ＮＲ４Ｒ５及び－（ＣＨ２）ｎ－Ｓｉ（ＯＲ）３ではない場
合、ＲとＲ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
構造一般式２：
構造式２中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、エチル又は他のアルキル基側鎖である。
Ｒは、炭素数５～２２の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
Ｒ１とＲ２は、直鎖アルキル基（例えば、－（ＣＨ２）ｎＣＨ３、式中ｎ＝１－２０の
自然数）であってもよく、ｉ－Ｐｒ、ｉ－Ｂｕ、イソペンチル基、イソオクチル基、シク
ロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ベンジル基、置換ベンジル基
、アリル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル基、芳香置換含有アルキル基、
であってもよい。Ｒ１とＲ２は、
又は
とすることもできる。
Ｒ１とＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。Ｒ及びＲ１とＲ２は、同一であ
っても、異なっていてもよい。
Ｒ１とＲ２が異なる場合、Ｒ１＝Ｅｔ、ｉ－Ｐｒ、ｎ－Ｐｒ、Ｂｕ、ｉ－Ｂｕ、又はＣ
５～１２のアルキル基である。
Ｒ２＝
、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基である。
構造一般式３：
構造式３中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
ＹはＨ、メチル、エチル又は他のアルキル基である。
Ｒは、－（ＣＨ２）ｎ－（式中、ｎ＝２～２２）であってもよく、アルキル基又は芳香
基側鎖置換－（ＣＨ２）ｎ－であってもよく、又はジベンジルアミンであってもよい。
Ｒ１とＲ２は、アルキル基（例えば、－（ＣＨ２）ｎＣＨ３、式中ｎ＝０～２０の自然
数）であってもよく、ｉ－Ｐｒ、ｉ－Ｂｕ、イソペンチル基、イソオクチル基、シクロヘ
キシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ベンジル基、置換ベンジル基、ア
リル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル基、芳香置換含有アルキル基、
であってもよい。Ｒ１とＲ２は、
又は
とすることもできる。
Ｒ１及びＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。Ｒ１とＲ２が異なる場合、Ｒ
１＝Ｅｔ、ｉ－Ｐｒ、ｎ－Ｐｒ、Ｂｕ、ｉ－Ｂｕ、又はＣ５～１２のアルキル基である。
Ｒ２＝
、ヒドロキシエチル又はヒドロキシプロピルである。
構造一般式４：
構造式４中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、エチル又は他のアルキル基である。
ｎ＝Ｃ２～１８の直鎖アルカン－（ＣＨ２）ｎ－であってもよく、側鎖アルキル基又は
芳香基置換を有するアルカンであってもよい。
Ｒ１は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、ｉ－Ｐｒ、ｉ－
Ｂｕ、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ベンジル基、置換
ベンジル基、アリル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル基、芳香置換含有アルキル
基であってもよい。Ｒ１は、
であってもよい。
Ｒは、Ｃ５～Ｃ２０の直鎖又は分枝鎖アルキル基であってもよく、アルキル基側鎖及び
芳香基置換を有するアルキル基であってもよく、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＭｅ）
３又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＥｔ）３であってもよい。
構造一般式５：
構造式５中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、又は他のアルキル基である。
ｎ＝１、２、３、４、５。ｎ１＝１、２、３、４、５。
ｎは、ｎ１に等しくてもよく、ｎ１に等しくなくてもよい。
Ｒは、Ｃ５～Ｃ２０の直鎖又は分枝鎖アルキル基であってもよく、アルキル基側鎖及び
芳香基置換を有するアルキル基であってもよい。
Ｒは、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＭｅ）３又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｏ
Ｅｔ）３であってもよい。
革新的なオリゴマー光安定剤の構造一般式：
構造一般式６：
構造式６中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、エチル又は他のアルキル基である。
ｎ＝１、２、３、４、５。ｎ１＝１、２、３、４、５。
ｎは、ｎ１に等しくてもよく、ｎ１に等しくなくてもよい。
ｎ２＝２～１８。
ｎ３は、２～３５の範囲であることができ、それはオリゴマーの重合度である。
構造一般式７：
構造式７中、Ｘは、ＮＨ、ＮＲ３、又はＯである。
Ｙは、Ｈ、メチル、エチル又は他のアルキル基である。
ｎ１＝１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、
１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２。
ｎ＝１～１５、それはオリゴマーの重合度である。
ｎは、ｎ１に等しくてもよく、ｎ１に等しくなくてもよい。
Ｒは、Ｃ２～Ｃ１８の直鎖又は分枝鎖アルカン、例えば、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基
、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ノニル基、ｎ－オクチル基であってもよく、イ
ソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、イソヘキシル基、イソオクチル基、イソ
デシルなどであってもよい。
Ｒは、二重結合含有アルキル基（例えば、アリル基など）であってもよく、ヘテロ原子
含有置換基（例えば、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピルなど）であってもよく、－
ＯＨ、－ＯＲ１（Ｒ１は、アルコキシ基であり、当該アルキル基が直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基であってもよい）であってもよい。
上記立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の構造の製造方法は、その反応式が以下の通り
である。
構造一般式１
；
構造一般式２
；
構造一般式３
；
構造一般式４
；
構造一般式５
；
構造一般式６
；
構造一般式７
。
上記立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の構造の製造方法は、具体的なステップが以下
の通りである。
構造一般式１の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、メタノール又はエタノール又はアセトン又は酢酸エチル又はジクロロエタン
又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、触媒１を加え、前記触媒１は酢酸、酸性アルミ
ナ、シリカゲル、ｏ－メトキシヒドロキノン、４，４’－ベンゾフェノン、ｍ－ニトロフ
ェノール又は硫酸シリカゲルであり、５～１０℃まで降温し、次いで第１アミンをゆっく
り滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して攪拌し、加熱して反応を続ける。ＴＬＣで反
応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残
りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．
１～５％の触媒２を加え、触媒２がナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルす
ずオキシド又はイソオクチルアルコールアルミニウムであり、次いでｎ－ドデシルアミン
又はｎ－オクタデカナミン又はｎ－ドデカノール又はｎ－オクタデカノールを分割して加
え、投与終了後４０～７０℃まで昇温して５～１６時間反応し、８５～１２０℃まで昇温
し続けて３０～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡する。５～１
５％の水を含むエタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白
い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８５～９７％である。
構造一般式２の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、そして０
．０２～３０％の触媒１を加え、触媒１は酢酸、酸性アルミナ、シリカゲル、ｏ－メトキ
シヒドロキノン、４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールであり
、５～１０℃まで降温し、次いで第２アミンをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで
昇温して６～２４時間攪拌し、反応が必要な場合４０～８０℃まで加熱し続けて５～１８
時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメ
チルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用い
る。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．
１～５％の触媒２を加え、前記触媒２はナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチ
ルすずオキシド又はイソオクチルアルコールアルミニウムであってもよく、次いでｎ－ド
デシルアミン又はｎ－ヘキサデシルアミン又はｎ－オクタデカナミン又はｎ－ドデカノー
ル又はｎ－オクタデカノールを分割して加え、投与終了後４０～７０℃昇温して８～１６
時間反応し、８５～１４０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了
まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し、０．５～２０％の水を含むエタノールエタ
ノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉
末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８７～９６％である。
構造一般式３の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール或エタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタ
ン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで０．
０１～３０％の触媒１を加え、前記触媒１は酢酸、酸性アルミナ、シリカゲル、ｏ－メト
キシヒドロキノン、４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールであ
り、５～２０℃まで降温し、次いで第２アミンをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温ま
で昇温して５～２４時間攪拌し、反応が必要な場合４０～８０℃まで加熱し続けて５～１
８時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分な
メチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用
いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にアル
キルジアミン、例えばエチレンジアミン又はブチレンジアミン又はヘキサンジアミン又は
デカンジアミンを分割して加え、次いで０．１～５％の触媒２を加え、前記触媒２はナト
リウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルすずオキシド又はイソオクチルアルコール
アルミニウムであってもよく、投与終了後５０～７０℃まで昇温して６～１６時間反応し
、８５～１２０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プ
ロセスを追跡する。触媒を除去し、０．５～２０％の水を含むエタノールエタノール又は
メタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成
物を得る。乾燥後、収率は８５～９５％である。
構造一般式４の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１
００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェ
ノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、５～２０℃を降温し、次いで第２アミンをゆっく
り滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して８～３２時間攪拌し、反応が必要な場合４０
～６０℃まで加熱し続けて５～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセ
スをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさら
に精製することなく次の反応に用いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にドデ
シルアミン又はヘキサデシルアミン又はオクタデカナミン又はヘキサデカノール又はオク
タデカノール又はドデカノールを分割して加え、次いで０．０２～５％の触媒２を加え、
前記触媒２はナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又はイ
ソオクチルアルコールアルミニウムであり、投与終了後５０～７０℃まで昇温して８～１
０時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完
了まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し、０．５～２０％の水を含むエタノールエ
タノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い
粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８３～９６％である。
構造一般式５の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１
００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェ
ノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～２０℃まで降温し、次いでシクロアルキル
ジアミンをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して３～５時間攪拌し、４０～
６０℃まで加熱して１０～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを
モニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精
製することなく次の反応に用いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオク
タデカナミン又はドデシルアミン又はヘキサデシルアミンを分割して加え、次いで０．１
～０．５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投
与終了後５０～６０℃まで昇温して５～８時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて
４８～７２時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し、
５～１０％の水を含むエタノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体
生成物を得る。乾燥後、収率は８３～９２％である。
構造一般式６の製造方法：
（１）窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレートを反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１
００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェ
ノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～２０℃まで降温し、次いでアルキル環状ジ
アミンをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して５～８時間攪拌し、４５～７
０℃まで加熱して１０～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモ
ニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製
することなく次の反応に用いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にペン
タンジアミン又はヘキサンジアミン又はデカンジアミン又はヘキサンジオール又はオクタ
ンジオール又はデカンジオールを分割して加え、次いで０．０１～５％のナトリウムメト
キシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又はアルコキシアルミニウムを加え
、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃まで昇温して５～８時間反応し、８０～
１３０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを
追跡する。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノールを加えて再結
晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８３～９１％である。
構造一般式７の製造方法：
（１）窒素保護及び撹拌下でアルキルアミン又は芳香基置換アルキルアミン又はヒドロ
キシルアミン又はアルコキシアミン又は芳香基置換アルコキシアミンを反応瓶にを加え、
次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセ
トン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１００～１００
０ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－
ニトロフェノール又は０．１～５％のＮａＯＨ又はＫ２ＣＯ３又は１０～３０％のシリカ
ゲル又は酸性アルミナを加え、或いは触媒を加えず、５～１０℃まで降温し、メチルアク
リレート又はメチルメタクリレートをゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して
５～１８時間攪拌し、３０～７０℃まで加熱して５～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反
応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートと溶媒と触媒
とを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いる。
（２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にペン
タンジアミン又はヘキサンジアミン又はデカンジアミン又はヘキサンジオール又はオクタ
ンジオール又はデカンジオールを分割して加え、次いで０．０１～５％のナトリウムメト
キシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又はアルコキシアルミニウムを加え
、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃まで昇温して１０～１８時間反応し、８
０～１４０℃まで昇温し続けて２４～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセ
スを追跡する。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノール又は酢酸
エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、
収率は８０～９０％である。
本発明で設計・発明された立体障害調節可能な弱塩基光安定剤製品は、市場で広く使用
されているヒンダードアミン（ＨＡＬＳ）光安定剤製品と比較して、立体障害調節可能な
機能が優れており、弱塩基性で用途を広げている。それは高分子材料に異なる程度の耐候
性保護を与えることができるが、化学的官能基構造から見ると、ヒンダードアミン（ＨＡ
ＬＳ）は約半世紀にわたって使用されてきた光安定剤の一種であり、その構造的特徴は、
各ヒンダードアミン光安定剤製品の分子構造には２，２，６，６－テトラメチルピペリジ
ンアミン官能基構造（
）が含まれており、このヒンダードアミン官能基構造は、ポリマー上の光による分解から
生成された活性フリーラジカルを迅速に移動させることができるため、高分子材料に優れ
た耐候性を与えると同時に、ある程度の抗酸化作用を有する。
約半世紀前から広く使われているヒンダードアミンＨＡＬＳ光安定剤は、特異な化学構
造テトラメチルピペリジン自体の構造で規定されている塩基性と求核性の機能のため、Ｐ
ＶＣ、ＰＣ、ポリエステル、ＰＵなどの一部の高分子材料ではその使用が限られている。
求核性又は塩基性を有するテトラメチルピペリジンの窒素原子は、これらの酸性又は親電
子性高分子材料と反応し、それらを分解する。下記の反応式は、ヒンダードアミンＨＡＬ
ＳがＰ高分子材料の分解にどのように関与しているかを示している。
ヒンダードアミン系光安定剤の求核性や塩基性を低減するために、ヒンダードアミンの
窒素原子を修飾する方法として、（１）テトラメチルピペリジンアミンの窒素原子にメチ
ル基やアルキル基を導入して、ピペリジンアミンの周囲の立体障害を大きくして、塩基性
や求核性を低減する方法と、（２）テトラメチルピペリジンアミンの窒素原子にアルコキ
シ基を導入して、ピペリジンアミンの窒素原子の電気陰性度を低下させるとともに、窒素
原子の周囲の立体障害を大きくして、塩基性や求核性を低減する方法とがある。
塩基性又は求核性攻撃能の低減が、アルキル基を導入して立体障害を増加させることに
よって達成されるか、又はアルコキシ基を導入して立体障害を増加させながら窒素原子の
電気陰性度を低下させることによって達成されるかにかかわらず、１～３のステップを含
む追加の化学反応、特に酸化反応、還元反応又はアルキル化反応の必要があり、これらの
化学反応は環境に追加の負担をかけるだけでなく、追加の製品のコストを増加させるので
、弱塩基性ヒンダードアミン製品の市場価格は、一般的なヒンダードアミン製品に比べて
例外的に高い。
本発明の革新的な光安定構造では、従来から使用し続けている２，２，６，６－テトラ
メチルピペリジンアミン機能性構造断片の使用を避け、窒素原子周辺置換基立体障害と官
能基極性制御を全く異なる新しい視点から設計しており、窒素原子周辺置換基の大きさを
調整することで、窒素原子周辺の立体障害の大きさを調整・制御することができるため、
、窒素原子周辺の立体障害特性を制御することで、必要な低塩基性ヒンダードアミンを提
供することが可能となり、特定の親電子性を有する高分子材料の光分解防止に幅広く応用
することができる。また、本発明の原材料が入手しやすく、考案されたグリーン合成プロ
セスは、合成ステップを大幅に簡略化し、合成廃棄物を削減し、合成コストを低減する。
また、本発明の革新的に設計された構造は、高分子材料の光安定剤の選択に新たな機会を
提供する。
本発明の革新的な光安定剤は、上述の７つの構造式において、立体障害を発生させる置
換基の大きさを定めることで、窒素原子の立体障害を調整し、さらに、極性基の近接性を
調整することで、窒素原子の電気陰性度に影響を与え、その塩基性又は求核性を調整する
。窒素原子の環境下での立体障害や求核性又は塩基性を調整することにより、所望の効果
が得られるため、これらの革新的な光安定剤の適用範囲が広がり、ＰＣ、ポリエステル、
ＰＶＣなどの酸性又は親電性高分子材料の光安定化添加剤としての使用に適している。
また、本発明にかかる７つの一般式構造製品は、容易に入手可能な原材料を使用してお
り、環境に優しいグリーン合成プロセスを採用しており、廃棄物の発生も少なく、普及・
応用に最適な条件を備えている。
本発明の目的は、立体障害調節可能な弱塩基性光安定剤を設計・合成することであり、
ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）がこれまで、光安定性能保護添加剤として酸性
又は親電性の特性を有するポリマーに適用することが困難であったという欠点を解決し、
同時に、構造的な置換基の側鎖特性と、分子内の他の極性官能基の極性の調整可能な特性
により、高分子ポリマーとの相溶性が向上する。また、本発明は、光安定剤の活性官能基
としての２，２，６，６－テトラメチルピペリジンアミン固定構造の半世紀近い独占状態
を打破するものであり、その特徴的な構造は化学合成上避けることができず、特に従来の
ヒンダードアミン構造を弱塩基性ヒンダードアミン光安定剤に変換するための追加の化学
合成ステップが避けられず、コストと環境の両方を改善することができない。
本発明にかかる７つのシリーズの立体障害調節可能な弱塩基性光安定剤は、容易に入手
可能な原材料を使用しており、そして、それらはすべてグリーンプロセスで合成して目的
製品を製造することができるので、その製造と普及が大幅に容易になり、すべての高分子
材料（ＰＶＣ、ＰＣ、ＰＵ、ポリエステルなどを含む）の貴重な光安定性保護添加剤とな
る機会を与える。
本発明は、立体障害調節可能な、された窒素原子の弱塩基特性制御可能な、２，２，６
，６－テトラメチルピペリジンアミン構造断片を含有していない革新的な構造光安定剤を
初めて報告している。本発明は、７つの革新的な立体障害調節可能な新型構造光安定剤シ
リーズを含む。
本発明の革新的な化学構造製品は、高分子材料に直接適用して、効果的な光安定性保護
と抗酸化安定性保護を提供することができ、使用中の高分子材料製品の長期的な品質保持
、色の保持、機能維持の役割を果たすことができ、プラスチック、ゴム、繊維、フィルム
、コーティング、塗料、インク、石油などの一連の製品に適用することができ、その市場
は広大であるといえる。
本発明の目的は、下記である。（１）立体障害調節可能な弱塩基又は中性に近い光安定
剤を設計・合成し、すべての高分子材料（ＰＶＣ、ＰＣ、ＰＵ、ポリエステルなどを含む
）に適用できるようにして、価値ある光安定性保護をより広範囲に提供することである。
（２）光に安定した官能基構造を提供し、光安定官能基がテトラメチルピペリジンしかな
いという長年の国際市場の傾向を打破する。（３）よりグリーンで環境に優しい光安定剤
の合成法を市場に提供する。
本発明は、以下の問題を解決するものである。（１）従来の固定された立体障害光安定
剤である２，２，６，６－テトラメチルピペリジンアミンが、これまで唯一の選択肢であ
ったことを解決するものである。（２）本発明の光安定剤の新設計構造は、立体障害と光
安定剤の塩基性・求核性が必要に応じて調整可能であり、高分子材料における光安定剤の
採用範囲を広げることができる。（３）設計された弱塩基性かつ弱求核性の革新的な構造
の光安定剤は、現在ヒンダードアミン系光安定剤を使用することができないＰＶＣ、ＰＣ
、ポリエステル、ＰＵなどの高分子材料に新たな機会を提供し、これらの高分子材料の紫
外線保護剤のより良い選択を提供する。（４）テトラメチルピペリジンアミン系塩基性光
安定剤と酸性添加剤のミスマッチの問題を解決する。（５）市場に出回っている弱塩基性
光安定剤の複雑な合成方法を打破し、最適化されたシンプルなグリーン合成法により、新
型光安定剤を合成することができる。（６）本発明の立体障害節可能な弱塩基性光安定剤
は、高分子との互換性が良いため、熱老化黄変防止性能が向上し、寿命が延びる。
ＰＰ－Ｔ２０スプラインの熱老化と光老化との結果比較を示す図である。（注：（１）上列のスプラインは、１５０℃でオーブン熱老化１９２時間の結果であり、下列のスプラインは、在７０℃でＵＶＢ紫外線老化１５７時間の結果である。（２）試験比較の標準試料：Ｂ１は３８５３、Ｂ２は７７０、Ｂ３は６２２である。（３）Ｂ４～Ｂ１３は、本発明にかかる新規酸化防止剤及び立体障害調節可能な光安定剤） ＡＢＳスプラインの熱老化と光老化との結果比較を示す図である。（注：（１）上列のスプラインは、１１０℃でオーブン熱老化１７８時間の結果であり、下列のスプラインは、７０℃でＵＶＢ光老化１１３時間の結果である。（２）試験比較の標準試料：Ｃ１は３８５３、Ｃ２は７７０、Ｃ３は６２２である。（３）Ｃ４～Ｃ１２は、瑞康新規酸化防止剤和立体障害調節可能な光安定剤である。） ＰＣサンプルプレートＵＶＢ が７０℃でＵＶＢ紫外線４７時間老化の結果１を示す図である。（酸化防止剤ＡＯ＋光安定剤（２：１）：０．１％；ＵＶ老化試験デバイスはＱ－Ｌａｂである） ＰＣサンプルプレートＵＶＢ在７０℃／１７時間紫外線老化試験の結果２を示す図である。（（１）上列のスプラインは、１５０℃でオーブン熱老化１７時間の結果であり、下列のスプラインは、７０℃でＵＶＢ光老化４８時間の結果である。（２）試験比較の標準試料：Ｃ３は６２２、Ｃ５は２０２０である。（３）Ｃ１、Ｃ２、Ｃ４は、瑞康新規酸化防止剤及び立体障害調節可能な光安定剤である。（４）ＵＶＢ光老化試験デバイスは、Ｑ－Ｌａｂ ＵＶ光老化試験計蘇州广郡ＺＮ－ＰＢである） ＰＣサンプルプレートが７０℃でＵＶＢ紫外線老化の結果３を示す図である。（注：（１）下列のＰＣサンプルプレートは、老化前のＰＣサンプルプレートであり；（２）上列は、７０℃でＵＶＢ紫外線老化２４時間のサンプルプレートである。（３）比較標準試料：ＵＶ２０２０（＃３）和ＵＶ１１９（＃１））
表１： 立体障害調節可能な新規弱塩基光安定剤の実例構造
質量分析デバイス：Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｎｎｉｇａｎ ＬＣＱ Ａｄｖａｎｔａｇｅ、
Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｈｅｒ社
ＮＭＲデバイス：Ａｖａｎｃｅ ＩＩＩ ４００ＭＨｚ、スイスＢｒｕｋｅｒ社

表１における有機化合物化学構造式は、本発明に列挙されている７種類の革新的な光安
定化剤構造一般式で表される構造の例を含み、その合成方法は無溶剤グリーン化学合成方
法であり、触媒はその反応活性化エネルギーを低下させ、目標生成物の合成がうまく完了
させる。
新型光安定剤の合成方法：
（一）新型光安定剤構造一般式１の合成方法
（１） 新規光安定剤構造一般式１の合成経路
（２） 構造一般式１の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（２．０５～３．５ｍ
ｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又はアセ
トン又は酢酸エチル又はジクロロエタン又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、０．０
５～３０％の触媒１（触媒１は、酢酸、酸性アルミナ、シリカゲル、ｏ－メトキシヒドロ
キノン、４，４’－ベンゾフェノン、ｍ－ニトロフェノール、硫酸シリカゲルである）を
加え、５～１０℃まで降温し、次いで第１アミン（１．０～１．５ｍｍｏｌ）をゆっくり
滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して３～５時間攪拌し、４０～８０℃まで加熱して
５～１８時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で
余分なメチルアクリレート除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応
に用いる。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～５％の触媒２（触媒２は、ナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルすずオキ
シド、イソオクチルアルコールアルミニウムであってもよい）を加え、次いでｎ－ドデシ
ルアミン又はｎ－オクタデカナミン又はｎ－ドデカノール又はｎ－オクタデカノール（２
．０ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後４０～７０℃まで昇温して５～１６時間反応
し、８５～１２０℃まで昇温し続けて３０～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応
プロセスを追跡する。５～１５％の水を含むエタノール又は酢酸エチル又は石油エーテル
を加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率が８５～９７％であ
る。
構造一般式１の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、メチルアクリレート（２．０２～３．５ｍｍｏｌ）を三口丸底反応瓶に加え、１～
３部のメタノール又はエタノール又はジクロロメタン又はジクロロエタン又はアセトン又
はアセトニトリルを加え、或いは溶媒を加えず、７℃～１５℃まで降温して、シリカゲル
５～３０％（ｗ／ｗ）を加え、窒素保護下で撹拌を開始し、ｎ－ブチルアミン（１．０～
１．５ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下完了後室温まで昇温して５～１０時間攪拌し、５０～７
０℃まで昇温し続けて５～１２時間攪拌し、必要に応じて８０～１００℃まで昇温し１０
～９６時間反応した。ＴＬＣで反応完了を確認した後、真空下で余分なメチルアクリレー
トを除去し、反応中間体をさらに精製することなく、そのまま第２ステップで使用した。
二、窒素保護下で第１ステップ反応中間体を含む反応瓶に０．１～１．０％のギ酸ナト
リウム又はナトリウムメトキシド又はトリエチルアミン又はＮ，Ｎ－ジメチルピリジンを
加え、撹拌を開始し、ｎ－オクタデカナミン（１．９～２．５ｍｍｏｌ）を分割して加え
、５０℃まで昇温して３時間攪拌し、次いで８０℃まで昇温し続けて５時間攪拌し、１０
６℃まで昇温し続けて４８時間反応した。ＴＬＣで完了まで反応を追跡した。石油エーテ
ルを加えて再結晶し、白い粉末固体を得、収率は９３％である。
ｍ．ｐ．７９－８０℃。
実例構造Ｂの合成方法：
一、メチルアクリレート（２．０～３．５ｍｍｏｌ）を三口丸底反応瓶に加え、次いで
１～３部のメタノール又はエタノール又はアセトン又はクロロエタン又はアセトニトリル
を加え、或いは溶媒を加えず、１０℃～３０℃まで降温し、２００ｐｐｍ～１０００ｐｐ
ｍのｐ-ジヒドロキシルベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノール又はｏ－メトキシヒド
ロキノンを加え、窒素保護下で撹拌を開始し、シクロヘキシルアミン（１．０ｍｍｏｌ～
１．５ｍｍｏｌ）滴下した。滴下完了後室温まで昇温して５～１０時間攪拌し、４０～７
０℃まで昇温し続けて５～１２時間攪拌し、必要に応じて８０～１００℃まで昇温して１
０～４８時間反応した。ＴＬＣで反応完了を確認した後真空下で余分なメチルアクリレー
トを除去し、反応中間体をさらに精製することなく、そのまま第２ステップで使用した。
二、窒素保護下で第１ステップ反応中間体を含む反応瓶に０．１～５％のギ酸ナトリウ
ム又はナトリウムメトキシド又はルイス酸ティン又は亜鉛の亜リン酸エステルリガンド錯
体を加え、撹拌を開始し、ｎ－オクタデカナミン（１．９０～２．５ｍｍｏｌ）を分割し
て加え、５０℃まで昇温して５時間攪拌し、次いで８０℃まで昇温し続けて５時間攪拌し
、１００～１３０℃まで昇温し続けて４８時間反応した。ＴＬＣで完了まで反応を追跡し
た。石油エーテルを加えて再結晶して白い粉末固体を得、収率は９５％である。
ｍ．ｐ．７９－８３℃、ＭＳ：１Ｈ ＮＭＲ：
実例構造Ｃの合成方法：
一、メチルアクリレート（２．０５～３．５ｍｍｏｌ）を三口丸底反応瓶に加え、次い
でエタノール又はアセトン又はメタノール又はアセトニトリル又はジクロロメタンを加え
、或いは溶媒を加えず、窒素保護下で撹拌を開始し、１０℃～２０℃まで降温し、２００
ｐｐｍ～１５００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフ
ェノンを加え、２－ジイソプロピルアミノエチルアミン（１．０～ｌ．５ｍｍｏｌ）を滴
下し、滴下完了後室温まで昇温して５～１０時間攪拌し、５０～７０℃まで昇温し続けて
５～１２時間攪拌し、必要に応じて８０～１００℃まで昇温し、ＴＬＣで反応完了を確認
した。真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、反応中間体をさらに精製することな
く、そのまま第２ステップで使用した。
二、攪拌を開始して窒素保護下で第１ステップ反応中間体を含む反応瓶にｎ－オクタデ
カナミン（１．９０～２．５ｍｍｏｌ）を分割して加え、７０℃まで昇温して５時間攪拌
し、次いで８５℃まで昇温し続けて５時間攪拌し、１００～１３０℃まで昇温し続けて４
８～９６時間反応した。ＴＬＣで完了まで反応を追跡した。石油エーテルを加えて再結晶
し、白い粉末固体を得、収率は９１．５％である。
ｍ．ｐ．：７４－７７℃
実例構造Ｄの合成方法：
第１ステップ合成方法及び第２ステップの合成方法は、上記と同じである。
収率：９０．６％。ｍ．ｐ．：
実例構造Ｅの合成方法：
一、攪拌及び窒素保護下で、メチルアクリレート（２．０～３．５ｍｍｏｌ）を三口丸
底反応瓶に加え、次いでエタノール又はアセトン又はメタノール又はジクロロエタンを加
え、或いは溶媒を加えず、６℃～１５℃まで降温し、１０～３０％のシリカゲル（４００
メッシュ）を加え、窒素保護下で撹拌を開始し、ＫＨ５５０（１．０～１．６ｍｍｏｌ）
を滴下し、滴下完了後室温まで昇温して５～７時間攪拌し、５０～７０℃まで昇温し続け
て１０～３６時間攪拌し、ＴＬＣで反応完了を確認した。真空下で余分なメチルアクリレ
ートを除去し、反応中間体をさらに精製することなく、そのまま第２ステップで使用した
。
二、攪拌を開始して窒素保護下で第１ステップ反応中間体を含む反応瓶にｎ－オクタデ
カナミン（１．９。２．５ｍｍｏｌ）を分割して加え、６０℃まで昇温５時間攪拌し、次
いで８０℃まで昇温し続けて５時間攪拌し、１００～１４０℃まで昇温し続けて４８～９
６時間反応した。ＴＬＣで完了まで反応を追跡した。シリカゲルろ過し、石油エーテルで
再結晶して白い粉末固体を得、収率は９０．１％である。
ｍ．ｐ．：６７－７０℃
実例構造Ｆの合成方法：
一、攪拌下及び窒素保護攪拌下で、ヒドロキシルアミン硫酸塩又はヒドロキシルアミン
塩酸塩（１．０～１．３ｍｍｏｌ）を水に溶解し、酢酸エチル又はジクロロエタン又はジ
クロロメタン又はエタノール又はメタノール又はアセトニトリル中（１～５部）に溶解し
ているか又は溶媒なしのメチルアクリレート又はエチルアクリレート（１．３～３．５ｍ
ｍｏｌ）、０．１～５％の相間移動触媒であるテトラブチルアンモニウムクロリド又はテ
トラブチルアンモニウムブロマイド又は１８－クラウン－６又は１５－クラウン－５又は
エチレングリコールエーテルを加え、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム又は炭酸カリ
ウム（１．０～３．０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１～５時間攪拌し、２８～５０℃まで
昇温して２～６時間反応を続けた。ヒドロキシルアミンが反応完了したまでに、ＴＬＣで
反応プロセスを追跡した。酢酸エチル又はジクロロメタン又はジクロロエタン又はメチル
ブチルエーテルで萃取し、乾燥後、ろ過して溶媒を除去し、さらに精製することなく、そ
のまま次のステップで使用した。
二、攪拌を開始して窒素保護下で、第１ステップ反応中間体を含む反応瓶にｎ－オクタ
デカナミン（１．９～２．５ｍｍｏｌ）分割して加え、５０～６０℃まで昇温５時間攪拌
し、次いで７０～９０℃まで昇温し続けて１５～３２時間攪拌し、９５～１４０℃まで昇
温し続けて４８～９６時間反応した。ＴＬＣで完了まで反応を追跡した。３～１５％の水
を含むエタノール又はメタノールで再結晶して白い粉末固体を得、収率は７．９％である
。
ｍ．ｐ．： ９７－９９℃
（二）新型光安定剤構造一般式２の合成方法
新規光安定剤構造一般式２の合成経路

構造一般式２の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（１．０５～３．３ｍ
ｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又
は酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或
いは溶媒を加えず、０．０２～３０％の触媒１（触媒１は、酢酸、酸性アルミナ、シリカ
ゲル、ｏ－メトキシヒドロキノン、４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、ｍ－ニトロフ
ェノールである）、５～１０℃まで降温し、次いで第２アミン（１．０～１．５ｍｍｏｌ
）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して６－２４時間攪拌し、反応が必要
な場合４０－８０℃まで加熱し続けて５～１８時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで
反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中
間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～５％の触媒２（触媒２はナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルすずオキシ
ド、イソオクチルアルコールアルミニウムなどであってもよい）を加え、次いでｎ－ドデ
シルアミン又はｎ－ヘキサデシルアミン又はｎ－オクタデカナミン又はｎ－ドデカノール
又はｎ－オクタデカノール（０．９～１．２ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後４０
～７０℃まで昇温して８～１６時間反応し、８５～１４０℃まで昇温し続けて４８～９６
時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、０．５～２
０％の水を含むエタノールエタノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを
加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は８７～９６％である
。
（３）構造一般式２の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．０５～３．３ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、
撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロ
エタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、１００
～１０００ｐｐｍの触媒ｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェ
ノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～１５℃まで降温し、次いで４－メチルピペ
リジンアミン（０．９～１．５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇
温して１０～２０時間攪拌し、４０～５０℃まで加熱して５～７時間反応を続けた。ＴＬ
Ｃで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去
し、残りの反応中間体をさらに精製することなく、そのまま次のステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、次いでｎ－オクタデカナミン
（０．９～１．２ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後５０～７０℃まで昇温して１２
～１８時間反応し、８５～１４０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反
応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水含有エタノール又はメタノ
ールを加えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９１．２％である。
ｍ．ｐ．
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．３～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、３０％の
シリカゲル（４００メッシュ）を加え、１５～２０℃まで降温し、次いでジイソブチルア
ミン（０．９～１．５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１
５－２０時間攪拌し、４０～５０℃まで加熱して３～５時間反応を続けた。ＴＬＣで反応
完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残り
の反応中間体をさらに精製することなく、そのまま次のステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、次いでｎ－オクタデカナミン
（０．９～１．２ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後６０～７０℃まで昇温して１０
～１３時間反応し、８０～１４０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反
応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、０．５％の水含有石油エーテルを加
えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は８９．３％である。
ｍ．ｐ．７９－８１℃
実例構造Ｃの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．３～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、３００～
７００ｐｐｍの４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノンを加え、１０～１５℃まで降温し
、次いでジベンジルアミン（０．９～１．５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後
、室温まで昇温して１８～２０時間攪拌し、５０～６０℃まで加熱して５～７時間反応を
続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリ
レートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく、そのまま次のステップで
使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、次いで
ｎ－オクタデカナミン（０．９～１．２ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後５０～７
０℃まで昇温して１５～１８時間反応し、８５～１４０℃まで昇温し続けて２４～９６時
間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水含有
エタノールを加えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９２％である
。
ｍ．ｐ．１４０－１４３℃。
実例構造Ｄの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．３～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、２００～
６００ｐｐｍの４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノンを
加え、１５～１８℃まで降温し、次いでメチルシクロヘキシルアミン（０．９５～１．２
ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１５～２０時間攪拌し、
５０～６０℃まで加熱して２～３時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセス
をモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに
精製することなく、そのまま次のステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、次いで
ｎ－オクタデカナミン（０．９５～１．０ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後５０～
６０℃まで昇温して５～８時間反応し、８５～１４０℃まで昇温し続けて２４～７２時間
反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水
含有エタノールを加えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は８７％で
ある。
ｍ．ｐ．６７－７０℃。
実例構造Ｅの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．５～３．０ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、１００～
６００ｐｐｍの４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノンを
加え、室温でモルホリン（０．９７～１．３ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。室温（２５
℃）で１８～３６時間攪拌し、４０～６０℃加熱して３～６時間反応を続けた。ＴＬＣで
反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、
残りの反応中間体をさらに精製することなく、そのまま次のステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１
～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、次いで
ｎ－オクタデカナミン（０．９０～１．１０ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後５５
～７０℃まで昇温して６～８時間反応し、８０～１４０℃まで昇温し続けて２４～７２時
間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水含有
エタノールを加えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は８９．３％で
ある。
ｍ．ｐ．
実例構造Ｆの合成方法：
一、窒素保護及び撹拌下でｎ－ブチルアミン（１．２～１．５ｍｍｏｌ）を反応瓶にを
加え、１～３部のメタノール又はエタノール又はジクロロエタン又はアセトニトリルを加
え、次いで１５～３０％のシリカゲル又は酸性アルミナ又は０．０３～０．７％の４，４
－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－ヒドロキシルハイドロキノンを加え、室温でアク
リロニトリル（１．０ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下完了後室温で２～５時間攪拌し、次いで
３０～６５℃まで昇温して６～１５時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセ
スを追跡した。真空下で余分なｎ－ブチルアミンを除去し、残りの油状物がさらに精製な
しでそのまま第２ステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で上記ステップの油状物（１．０ｍｍｏｌ）に１～３部のメタ
ノール又は酢酸エチル又はジクロロエタンを加え、次いでメチルアクリレート（１．５～
３．０ｍｍｏｌ）を反応瓶に滴下した。室温下（２５℃）で１０～３６時間攪拌し、４０
～６０℃まで加熱して５～１５時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを
モニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体油状物さら
に精製することなく、そのまま次のステップで使用した。
第３ステップ反応：
窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第２ステップ反応で得られた中間体油状物に０．
１～１％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、次い
でｎ－オクタデカナミン（０．９０～１．１０ｍｍｏｌ）を分割して加え、投与終了後５
５～７５℃まで昇温して８～１６時間反応し、８０～１４０℃まで昇温し続けて２４～７
２時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水
含有エタノールを加えて再結晶し、白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は８６．５
％である。
ｍ．ｐ．
（三）新型光安定剤構造一般式３の合成方法
（１） 新規光安定剤構造一般式３の合成経路

（２） 構造一般式３の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（２．５～４．５ｍｍ
ｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は
酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或い
は溶媒を加えず、次いで０．０１～３０％の触媒１（触媒１は、酢酸、酸性アルミナ、シ
リカゲル、ｏ－メトキシヒドロキノン、４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、ｍ－ニト
ロフェノールである）を加え、５～２０℃まで降温し、次いで第２アミン（１．９０～２
．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して５～２４時間攪拌
し、反応が必要な場合４０～８０℃まで加熱し続けて５～１８時間反応を続ける。ＴＬＣ
で反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し
、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いる。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にアルキ
ル基ジアミンを分割して加え、例えばエチレンジアミン又はブチレンジアミン又はヘキサ
ンジアミン又はデカンジアミン（１．０～１．２ｍｍｏｌ）であり、次いで０．１～５％
の触媒２（触媒２は、ナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルすずオキシド、
イソオクチルアルコールアルミニウムなどであってもよい）を加え、投与終了後５０～７
０℃まで昇温して６～１６時間反応し、８５～１２０℃まで昇温し続けて４８～９６時間
反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し、０．５～２０％
の水を含むエタノールエタノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加え
て再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８５～９５％である。
構造一般式３の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．２～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又
はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで３０％の
シリカゲル（４００メッシュ）を加え、１５～２０℃まで降温し、次いで３－甲基ピペリ
ジンアミン（１．９５～２．０１ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで
昇温して５～７時間攪拌し、４０～５０℃まで加熱し続けて５－１０時間反応を続けた。
ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを
除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（１．０～１．０５ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウム
メトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、投与終了後５０～６０℃まで昇温して１０～１５
時間反応し、８５～１２０℃昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで
反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、含０．５～５％の水含有メタノール又は酢酸エ
チル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収
率は８３．９％である。
ｍ．ｐ．
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．５～４．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又
はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１００～
６００ｐｐｍの４、４’－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノン又
はｍ－ニトロフェノールを加え、２０℃まで降温し、次いでジベンジルアミン（１．９６
～２．０３ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で５時間攪拌し、４０～６
０℃まで昇温して１０～３２時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモ
ニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製
することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温向第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（１．０５～１．１５ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウ
ムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃
まで昇温して８～１０時間反応し、８０～１２５℃まで昇温し続けて３２～７２時間反応
し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水含有エタノ
ール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得
た。乾燥後、収率は９０．３％である。
ｍ．ｐ．１４０－１４３℃。
実例構造Ｃの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．５～３．８ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又
はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで２００～
７００ｐｐｍの４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノン又
はｍ－ニトロフェノールを加え、次いで室温でジベンジルアミン（１．９６～２．０３ｍ
ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で１８時間攪拌し、必要に応じて４０～
６０℃まで昇温して５～１５時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモ
ニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製
することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（１．０５～１．１５ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウ
ムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃
まで昇温して６～８時間反応し、８０～１２５℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し
、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５％の水含有エタノー
ル又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た
。乾燥後、収率は９２．６％である。
ｍ．ｐ．１２２－１２５℃。
実例構造Ｄの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．８０～４．８ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、
撹拌を開始し、１－３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン
又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで２００
～７００ｐｐｍの４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノン
又はｍ－ニトロフェノールを加え、次いで室温でジイソプロピルアミン（１．９５～２．
０１ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で１８時間攪拌し、５０～６０℃
まで昇温して１８～３２時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニタ
ーし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製する
ことなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（１．０５～１．１５ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウ
ムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後６０～７０℃
まで昇温して８～１０時間反応し、８０～１２５℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応
し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、含０．５％の水含有
酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥
後、収率は８６％である。
ｍ．ｐ．１１５－１１８℃
実例構造Ｅの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．８～３．８ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又
はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで２０％の
酸性アルミナを加え、次いで室温でジ（２－ヒドロキシルエチル）アミン（１．９７～２
．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下。滴下終了後、室温で５時間攪拌し、３５～６０℃まで昇
温して１５～２４時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、
真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することな
く次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（１．０～１．１ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウムメ
トキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃まで
昇温して６～８時間反応し、８０～１２５℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し、Ｔ
ＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、含５～１０％の水含有エタ
ノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で无色油状液体生成物を得た。乾燥後、収
率は９５．６％である。
ｍ．ｐ．：１４７－１５１℃
実例構造Ｆの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．６～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又
はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで４、４－
ジヒドロキシベンゾフェノン又はｏ－メトキシヒドロキノンを加え、或いは触媒を加えな
かった。室温でジイソブチルアミン（１．９８～２．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。
滴下終了後、室温で５時間攪拌し、３０～６０℃まで昇温して１５～２４時間反応を続け
た。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレー
トを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（０．９５～１．１ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１％のナトリウム
メトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃ま
で昇温して６～８時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し、
ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、含５～１５％の水含有エ
タノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、
収率は９３．５％である。
ｍ．ｐ．１０５－１０７℃。
（四）新型光安定剤構造一般式４の合成方法
新規光安定剤構造一般式４の合成経路
（１） 構造一般式４の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（２．５～４．５ｍｍ
ｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は
酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或い
は溶媒を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４、４
－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、５～２０℃まで降温し
、次いで二第２アミン（０．９０～１．１５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下する。滴下終了後
、室温まで昇温して８～３２時間攪拌し、反応が必要な場合４０～６０℃まで加熱し続け
て５～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下
で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の
反応に用いる。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にドデシ
ルアミン又はヘキサデシルアミン又はオクタデカナミン又はヘキサデカノール又はオクタ
デカノール又はドデカノール（１．９５～２．２０ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０
．０２～５％の触媒２（触媒２はナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウム又はジエチル
すずオキシド又はイソオクチルアルコールアルミニウムなどであってもよい）を加え、投
与終了後５０～７０℃まで昇温して８～１０時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続け
て４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し
、０．５～２０％の水を含むエタノールエタノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石
油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８３～
９６％である。
（２）構造一般式４の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（２．５～３．８ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで３
００～７００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノ
ン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１５～２０℃まで降温し、Ｎ、Ｎ’－ジメチルエチ
レンジアミン（１．０～１．１ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇
温して８～１０時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱し続けて１０～２４時間反応を続けた
。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレート
を除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオクタ
デカナミン（１．９５～２．０ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．０２～５％のナト
リウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、投与終了後５０～６０℃まで昇温して５～
８時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し、ＴＬＣで反応完
了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、０．５～２０％の水を含むエタノールエ
タノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い
粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９３％である。
ｍ．ｐ．９０－９３℃
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護下でシクロプロピルメチルアクリレート（１．１～１．５ｍｍｏｌ）を反
応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部の酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセト
ン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで２００～６００ｐ
ｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニト
ロフェノールを加え、２０℃まで降温し、Ｎ、Ｎ’－ジメチルエチレンジアミン（０．９
５～１．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１０～１８
時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱し続けて１０～２０時間反応を続けた。ＴＬＣで反応
完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なシクロプロピルメチルアクリレート
を除去し、油状生成物を得、収率は９６％である。
実例構造Ｃの合成方法：
一、窒素保護及び撹拌下でヘキサンジアミン（１．０～１．０５ｍｍｏｌ）を含む反応
瓶にアクリロニトリル（１．９５～１．９８ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１０～１８時間
攪拌し、４０～７０℃まで昇温して８～１５時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反
応プロセスを追跡した。余分なヘキサンジアミンを除去し、油状中間体を得た。精製なし
でそのまま第２ステップで使用した。
二、窒素保護及び撹拌下で上記ステップで得られた中間体（０．９５～１．０ｍｍｏｌ
）に１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はアセトニトリル又はジクロ
ロメタンを加え、次いで３００～７００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－
ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、メチルアクリレート（２
．６～３．９ｍｍｏｌ）を反応瓶に滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１０～１８
時間攪拌し、４０～７０℃まで加熱し続けて２４～３６時間反応を続けた。ＴＬＣで反応
完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残り
の反応油状中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
三．窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第２ステップ反応で得られた油状中間体（０
．９５～１．０ｍｍｏｌ）にオクタデカナミン（１．９３～１．９７ｍｍｏｌ）をバッチ
で加え、次いで０．０２～５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、投与
終了後５０～６０℃まで昇温して５～８時間反応し、８０～１３０℃まで昇温し続け４８
～７２時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、０．
５～２０％の水を含むエタノールエタノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エー
テルを加えて再結晶し、ろ過して白い粉末固体生成物を得て、乾燥後、その収率は８９．
６％である。
ｍ．ｐ．９６－９９℃
（五）新型光安定剤構造一般式５の合成方法
（１） 新規光安定剤構造一般式５の合成経路
（２） 構造一般式５の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（１．５～３．５ｍｍ
ｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は
酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或い
は溶媒を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４
－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～２０℃まで降温
し、次いでシクロアルキルジアミン（０．９０～１．１５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下する
。滴下終了後、室温まで昇温して３～５時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱して１０～２
４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分な
メチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用
いる。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオクタ
デカナミン又はドデシルアミン又はヘキサデシルアミン（１．９５～２．２０ｍｍｏｌ）
を分割して加え、次いで０．１～０．５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを
加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～６０℃まで昇温して５～８時間反応し、８
０～１２０℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセ
スを追跡する。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノールを加えて
再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８３～９２％である。
（３）構造一般式５の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．５～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、２００～
６００ｐｐｍの４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、
１５～２０℃まで降温し、次いでピペラジン（０．９０～１．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり
滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して３～５時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱して
１５～２４時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下
で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の
反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオクタ
デカナミン（２．０～２．０５ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．１～０．５％のナ
トリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～
６０℃まで昇温して６～８時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～７２時間
反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水
を含むエタノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。
乾燥後、収率は９１％である。
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護下で３－（トリメトキシリカ）プロピルアクリレート（２．０３～２．５
ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール
を加え、或いは溶媒を加えず、１００～７００ｐｐｍの４，４－ジヒドロキシベンゾフェ
ノン又はｍ－ニトロフェノール又はｏ－メトキシヒドロキノンを加え、２０℃まで降温し
、次いでピペラジン（０．９５～１．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室
温まで昇温して５～７時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱して２４～４８時間反応を続け
た。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分な丙烯酸３－
（三甲氧基丙酯）を除去し、油状生成物を得、収率は９３％である。
（六）新型光安定剤構造一般式６の合成方法
（１）新規光安定剤構造一般式６の合成経路
（２）構造一般式６の一般的な合成方法
一、窒素保護下でメチルアクリレート又はメチルメタクリレート（１．５～３．５ｍｍ
ｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は
酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或い
は溶媒を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４
－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～２０℃まで降温
し、次いでアルキル環状ジアミン（０．９０～１．１５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下する。
滴下終了後、室温まで昇温して５～８時間攪拌し、４５～７０℃まで加熱して１０～２４
時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメ
チルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用い
る。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にペンタ
ンジアミン又はヘキサンジアミン又はデカンジアミン又はヘキサンジオール又はオクタン
ジオール又はデカンジオール（１．９５～２．２０ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０
．０１～５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又は
アルコキシアルミニウムを加え、又は触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃まで昇温し
て５～８時間反応し、８０～１３０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで
反応完了まで反応プロセスを追跡する。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール
又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８
３～９１％である。
（３）構造一般式６の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．５～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで２
００～７００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノ
ン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１５～２０℃まで降温し、次いでピペラジン（０．
９７～１．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して５～８時
間攪拌し、４５～６０℃まで加熱して１５～２４時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了ま
で反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応
中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にプロパ
ンジアミン又はペンタンジアミン又はヘキサンジアミン又はデカンジアミン（０．９５～
１．０２ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０．０１～５％のナトリウムメトキシド又は
ギ酸ナトリウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～６０℃まで昇温して５～
６時間反応し、８０～１１０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完
了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメ
タノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９１％で
ある。
ｍ．ｐ．
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護下でメチルアクリレート（１．８～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹
拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエ
タン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで３
００～７００ｐｐｍの４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノール又
はｏ－メトキシヒドロキノンを加え、１８～２０℃まで降温し、次いでピペラジン（０．
９７～１．０５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して５～６時
間攪拌し、４５～６０℃まで加熱して１８～２４時間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了ま
で反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応
中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にプロパ
ンジオール又はペンタンジオール又はヘキサンジオール又はデカンジオール（０．９５～
１．０２ｍｍｏｌ）を分割して加、次いでジエチルすずオキシド及びアルコキシアルミニ
ウム（３：１）を触媒として加え、投与終了後８０～９０℃まで昇温して５～６時間反応
し、そして負圧で生成したメタノール小分子を除去し、９０～１３０℃まで昇温し続けて
４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、
５～１０％の水を含むエタノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体
生成物を得た。乾燥後、収率は８７．７％である。
ｍ．ｐ．
（七）新型光安定剤構造一般式７の合成方法
（１）新規光安定剤構造一般式７の合成経路
（２）構造一般式７の一般的な合成方法
一、窒素保護及び撹拌下でアルキルアミン又は又は芳香基置換アルキルアミン又はヒド
ロキシルアミン又はアルコキシアミン又は芳香基置換アルコキシアミン（０．９０～１．
１５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、次いで１－３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エ
チル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒
を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒ
ドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノール又は０．１～５％のＮａＯＨ又はＫ２
ＣＯ３又は１０～３０％のシリカゲル又は酸性アルミナを加え、或いは触媒を加えず、５
～１０℃まで降温し、メチルアクリレート又はメチルメタクリレート（２．１～４．５ｍ
ｍｏｌ）をゆっくり滴下する。滴下終了後、室温まで昇温して５～１８時間攪拌し、３０
～７０℃まで加熱して５～２４時間反応を続ける。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを
モニターし、真空下で余分なメチルアクリレートと溶媒と触媒とを除去し、残りの反応中
間体をさらに精製することなく次の反応に用いる。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にペンタ
ンジアミン又はヘキサンジアミン又はデカンジアミン又はヘキサンジオール又はオクタン
ジオール又はデカンジオール（１．９５～２．２０ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いで０
．０１～５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又は
アルコキシアルミニウムを加え、或いは触媒を加えず、投与終了後５０～７０℃まで昇温
して１０～１８時間反応し、８０～１４０℃まで昇温し続けて２４～９６時間反応し、Ｔ
ＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタ
ノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉
末固体生成物を得る。乾燥後、収率は８０～９０％である。
（３）構造一般式７の生成物実例の合成方法
実例構造Ａの合成方法：
一、窒素保護及び撹拌下でｎ－ブチルアミン（１．５～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加
え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジク
ロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次
いで１００～７００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾ
フェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、或いは触媒を加えず、１０～２０℃まで降温
し、次いでメチルアクリレート（２．１～４．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終
了後、室温まで昇温して１０～１８時間攪拌し、３５～６０℃まで加熱して１５～２４時
間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチ
ルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた
。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温向第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジオール（０．９５～１．０２ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いでジブチル酸化スズ又
はテトラブトキシアルミニウムを加え、投与終了後５０～８０℃まで昇温して８～１２時
間反応し、９０～１５０℃まで昇温し続けて２４～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了ま
で反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノ
ール又はエタノール又はメチルブチルエーテル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過
で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９０．６％である。
実例構造Ｂの合成方法：
一、窒素保護及び撹拌下でｎ－ブチルアミン（１．５～３．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加
え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジク
ロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次
いで１００～７００ｐｐｍ的ｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾ
フェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、或いは触媒を加えず、１０～２０℃まで降温
し、次いでメチルアクリレート（２．１～４．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終
了後、室温まで昇温して１０～１８時間攪拌し、３５～６０℃まで加熱して１５～２４時
間反応を続けた。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチ
ルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた
。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（０．９５～１．０２ｍｍｏｌ）を分割して加え、次いでギ酸ナトリウム又は
ナトリウムメトキシドを加え、次いで６０～８０℃まで昇温して１８～２４時間反応し、
９０～１３０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロ
セスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノール又はエ
タノール又はメチルブチルエーテル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末
固体生成物を得た。乾燥後、収率は８９．３％である。
実例構造Ｃの合成方法：
一、窒素保護及び撹拌下で、ヒドロキシルアミン塩酸塩又はヒドロキシルアミン硫酸塩
（１．１～１．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノー
ル水溶液又はエタノール水溶液（２：１）を加え、次いで５～１５℃で水酸化ナトリウム
又は炭酸カリウム（１．２～２ｍｍｏｌ）を加え、次いでメチルアクリレート（２．１～
４．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１５～２４時間攪
拌した。ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、酢酸エチル又はジクロロメタ
ン又はメチルブチルエーテルを加えて目的中間体を抽出し、乾燥後、真空下で余分なメチ
ルアクリレート及び溶媒を除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応
に用いた。
二、窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサ
ンジアミン（０．９５～１．０２ｍｍｏｌ）を分割して加え、０．１～２％ギ酸ナトリウ
ム又はナトリウムメトキシドを加え、次いで５０～７０℃まで昇温して１５～２４時間反
応し、７０～１３０℃まで昇温し続けて７２～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反
応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノール
又はエタノール又はメチルブチルエーテル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白
い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９２．５％である。
実例構造Ｄの合成方法：
第１ステップ反応：
窒素保護及び撹拌下で、ヒドロキシルアミン塩酸塩又はヒドロキシルアミン硫酸塩（１
．１～１．５ｍｍｏｌ）を反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール水
溶液又はエタノール水溶液（２：１）又は酢酸エチル又はジクロロエタンを加え、或いは
溶媒を加えず、次いで５～１５℃で水酸化ナトリウム又は炭酸カリウム（１．２～２ｍｍ
ｏｌ）又はトリエチルアミンを加え、次いでメチルアクリレート（２．０～４．０ｍｍｏ
ｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温まで昇温して１５～２４時間攪拌した。ＴＬ
Ｃで反応完了まで反応プロセスをモニターし、酢酸エチル又はジクロロメタン又はメチル
ブチルエーテルを加えて目的中間体を抽出し、乾燥後、真空下で余分なメチルアクリレー
トと溶媒とを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用いた。
第２ステップ反応：
窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にヘキサンジ
オール（０．９８～１．３ｍｍｏｌ）を分割して加え、０．１～５％のトリオクチルオキ
シアルミニウム及びジブチル酸化スズを加え、次いで７０～９０℃まで昇温して１５～２
４時間反応し、１００～１５０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応
完了まで反応プロセスを追跡した。触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又は
メタノール又はエタノール又はメチルブチルエーテル又は石油エーテルを加えて再結晶し
、ろ過で白い粉末固体生成物を得た。乾燥後、収率は９０．１％である。
本発明の革新的な光安定剤は、様々な高分子材料で熱老化性能、ＵＶＢ及び３００Ｗの
紫外線老化性能を測定し、国際市場で一般的に使用されているブランドの光安定剤との比
較試験を行い、これらの測定はＰＰ、ＡＢＳ、ＰＣの高分子材料で完成した。
（１）本発明の立体障害調節可能な光安定剤のＰＰ－Ｔ２０における熱老化及び紫外線
老化性能の比較試験
ａ．二軸延伸加工押出成形による粒状化
粒状化は、二軸延伸押出成形機（南京科亜ＡＫ３６）で完成した。
押出成形機のパラメータ：
ゾーン１～１０の温度（℃）：１６０，１９０，２１０，２２０，２２０，２２０，２
１０，２１０，２１０，２００
回転数：３００ｒｐｍ
表２：ＰＰ－Ｔ２０の配合方法
主抗：０．２％；（ブランドは図１に示す）
光安定剤：０．１％（ブランドは図１に示す）

ｂ． ＰＰ－Ｔ２０スプラインの製造
ＰＰ－Ｔ２０スプラインは、海天射出成形機ＳＡ１２００で完成した。
射出成形機加工パラメータ：
段階１～５の温度（℃）、２００，２１０，２１０，２０５，１９０；
射出成形圧力：５８ｂａｒ

ｃ． １５０℃でのオーブン熱老化試験
オーブン熱老化は、ＧＢ／Ｔ ７１４１－２００８ プラスチックの熱老化試験方法に
準拠して熱老化オーブンで完成した。

ｄ． ＵＶＢ光老化試験
ＵＶＢ光老化は、ＧＢ／Ｔ １６４２２．１－２００６ プラスチックの実験室光源暴
露試験方法第１部分総則及びＧＢ／Ｔ １６４２２．３－２０１４ プラスチックの実験
室光源暴露試験方法第３部分蛍光紫外灯原則に準拠してＵＶＢ紫外線老化試験箱（Ｑ－Ｌ
ａｂ蘇州广郡）で完成した。

ｅ． １５０℃でのオーブン熱老化及びＵＶＢ紫外線老化試験の結果（図１）

ｆ． 結果の考察
本発明の立体障害調節可能な弱塩基性光安定剤は、高分子材料とのより良い相溶性を示
すので、光安定性に対するより良い保護を提供するだけでなく、熱老化や黄変に対するよ
り良い保護を提供することができる。
機械的特性試験の結果：
表３：瑞康新規光安定剤のＰＰ－Ｔ２０における引張性能の比較試験
（比較サンプル：３８５３，７７０，６２２）
バッチ番号：ＰＰＴ２０ ＲＫ－ＰＴ－Ｔ２０２０１０１４





試験条件：
実験環境：温度２３℃、湿度４５％ＲＨ；状態調整：２３℃、５０％ＲＨ；
実行標準：ＧＢ／Ｔ１０４０．２－２００６／ＩＳＯ ５２７－２：１９９３；
引張速度：５０ｍｍ／ｍｉｎ
注：ＲＫブランドの末尾にLが付く光安定剤は、液体酸化防止剤である。
総合的な機械的引張データ：表１の機械的引張性能試験の結果から、本発明の一部のブ
ランドは、主要な国際企業の市販品と比較して、機械的特性を維持する上で優れた性能を
示すことがわかる。
（１）市場のベストチョイスであるＰＰの光安定剤３８５３、７７０、６２２との熱老
化及び光老化前後の引張強度の比較から、本発明の光安定剤の一部のブランドは、平行老
化比較試験中の機械的特性の変動が少ないものがあり、例えば、ＲＫ－ＡＢ７５Ｓ、ＲＫ
－ＡＢ－７６Ｓ、ＲＫ－ＡＢ７７、ＲＫ－ＡＢＵＶ７２１、ＲＫ－ＡＢ７１Ｌの引張強度
保持率は、２８８時間の熱老化と２０７時間の光老化で極めて良好な引張強度保持率を示
し、データからは有意な老化の影響は見られず、引張強度保持率にも本質的に大きな変化
はなく、熱老化の結果では比較標準試料よりも良好な保持率を示す。
（２）老化前後のジュラスと引張伸び率では、本発明の光安定剤製品の方がわずかに有
利な結果を示す。
（２）本発明の立体障害調節可能な光安定剤のＡＢＳにおける熱老化及び紫外線老化性能
の比較試験
ａ．二軸延伸加工押出成形による粒状化
粒状化は、二軸延伸押出成形機（南京科亜ＡＫ３６）で完成した。
押出成形機のパラメータ：
ゾーン１～１０の温度：２００，２０５，２１５，２１５，２１５，２１５，２１０，
２１０，２０５，２００
回転数：３００ｍ／ｓ
主抗：０．２％；光安定剤：０．１％
標准比較サンプル：Ｃ１スプライン：３８０８、Ｃ２スプライン７７０、Ｃ３スプライ
ン：６２２。

ｂ． ＡＢＳスプラインの製造
ＡＢＳスプラインは、海天射出成形機ＳＡ１２００で完成した。
射出成形機加工パラメータ：
段階１～５の温度、２０５，２２０，２２０，２１５，２００；
射出成形圧力：６２ｂａｒ

ｃ． １１０℃でのオーブン熱老化試験
すべてのＡＢＳスプラインは、１１０℃でＧＢ／Ｔ ７１４１－２００８ プラスチッ
クの熱老化試験方法に準拠して熱老化オーブンで完成した。

ｄ． ＵＶＢ光老化試験
ＵＶＢ光老化は、ＧＢ／Ｔ １６４２２．１－２００６ プラスチックの実験室光源暴
露試験方法第１部分総則及びＧＢ／Ｔ １６４２２．３－２０１４ プラスチックの実験
室光源暴露試験方法第３部分蛍光紫外灯原則に準拠してＵＶＢ紫外線老化試験箱（Ｑ－Ｌ
ａｂ蘇州广郡）で完成した。

ｅ． ＡＢＳスプラインの１１０℃での熱老化及びＵＶＢ光老化試験の結果（図２）

ｆ． 結果の考察
ＡＢＳは光老化による黄変に敏感な樹脂であり、ＡＢＳスプラインの１１０℃でのオー
ブン熱老化とＵＶＢ紫外線老化の上記試験の結果から、ＲＫ－ＡＢ７９光安定剤と主抗Ｒ
Ｋ－７０１を使用したスプラインＣ７が耐黄変性の点で最も優れており、次いでスプライ
ンＣ４（本発明のＲＫ－ＡＢ６５Ｓ光安定剤を使用した）であり、次に優れているのはＣ
９、Ｃ８、Ｃ５で、比較試験スプラインに比べて熱老化や黄変に対する耐性が大幅に向上
している。これらを総合すると、本発明の立体障害調節可能な弱塩基性酸化防止剤は、黄
変に敏感なＡＢＳの熱黄変や光による黄変に対して、依然として大きな性能上の利点を示
している。
（３）本発明の立体障害調節可能な光安定剤のＰＣにおける熱老化及びＵＶＢ紫外線老化
性能の比較試験
ａ． サンプルプレートの製造
ＰＣ樹脂材料：ＰＣ２８０５上海科思創
ＰＣサンプルプレートの製造は、海天射出成形機ＳＡ１２００で完成した。
ｂ． ＰＣサンプルプレートの加工パラメータ
ＰＣサンプルプレートの製造は、海天射出成形機ＳＡ１２００で完成した。
加工パラメータ：段階１～５の温度（℃）２６６，２７３，２７３，２６８，２６５
圧力：９０ｂａｒ
速度：４４ｒｐｍ

ｃ． ＰＣサンプルプレートの老化試験
（Ｉ）１５０℃でのオーブン熱老化試験結果

表４：ＰＣ板の１５０℃熱老化４日間（９６時間）の結果

（ＩＩ）ＵＶＢ紫外線老化試験
ＰＣサンプルプレートＵＶＢの７０℃でのＵＶＢ紫外線老化４７時間の結果１ （図３
）
ＰＣプレート光老化後の黄変度合いは、以下のように小さいものから大きいものまでラ
ンク付けされている。
Ｃ２（ＰＣ－０３）＆Ｃ１（ＰＣ－０２）＜Ｃ３（６２２）＜Ｃ５（ＰＣ－０６）＜Ｃ
４（２０２０）
ＰＣサンプルプレートＵＶＢの７０℃／１７時間紫外線老化試験の結果２（図４）
表５：光安定剤を添加したＰＣプレートの７０℃でのＵＶＢ紫外線老化１７時間のデータ

ＰＣサンプルプレートの７０℃でのＵＶＢ紫外線老化の結果３ （図５）
表６：ＰＣ板１５０℃熱老化４天（９６時間）結果


表６データの結果：
色差：ＰＣ－１０＜ＰＣ－０８＜ＰＣ－０７＜ＵＶ１１９＜ＵＶ２０２０＜ＰＣ－１１
＜ＰＣ－０６＜ＰＣ－０９
ＹＩ：１３．２４（ＰＣ－０８）＜１４．３１（ＰＣ－０７）＜１４．３３（ＰＣ－１
０）＜１５．２３（ＵＶ１１９）＜１５．６６（ＰＣ－１１）＜１５．８７（ＵＶ２０２
０）＜１７．０５（ＰＣ－０９）＜１８．１４（ＰＣ－０６）

ｄ． 結果の考察
ポリカーボネート（ＰＣ）は、光による黄変に最も敏感な材料であり、上記のようにＰ
Ｃサンプルプレートを１５０℃でのオーブンで４日間（９６時間）熱老化させた場合（表
４～６を参照）、色差は１～２．６の間であり、３を超えることはなかった。しかし、４
日間（９６時間）のＵＶＢ光老化試験結果では、色差が著しく大きくなり、すべて１４～
１６の間にである。本発明のＰＣ－１０、ＰＣ－０８、ＰＣ－０７の３つのブランドは、
国際的なブランドであるＵＶ１１９やＵＶ２０２０と比較して、光による黄変に対して優
れた耐性を持っている。図８の老化前後の各プレートの視覚的な色の比較では、これら３
つのブランドのＰＣサンプルプレートは、光老化後に色が薄くなっていることがわかる。
これらを総合すると、こ発明の新規立体障害調節可能な構造の光安定剤は、構造的な立
体障害に大きな利点があり、窒素原子周辺の電気陰性度環境も調整でき、製造プロセスは
グリーンで操作が簡単であり、低コストの高分子耐候性製品の多様な選択を提供すること
ができる。

Claims (1)

  1. 反応式が以下の通りである立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の製造方法であって、
    前記立体障害調節可能な弱塩基光安定剤は、下記の構造式１、４、５のいずれかで表される立体障害調節可能な弱塩基性光安定剤であり、
    構造一般式１：
    構造式１中、Ｘは、ＮＨ、又はＯであり、
    Ｙは、Ｈであり、
    Ｒは、Ｃ５～２２の直鎖アルキル基又は分枝鎖を有するアルキル基であり、又は－（ＣＨ２）ｎＳｉ（ＯＭｅ）３、－（ＣＨ２）ｎＳｉ（ＯＥｔ）３（式中ｎ＝２、３、４、５）であり、
    Ｒ１は、Ｃ１～Ｃ２０の直鎖アルキル基であり、又は分枝鎖を有するアルキル基であり、又は二重結合置換アルキル基であり、又はヘテロ原子置換アルキル基であり、又はヒドロキシル基、アルコキシ基であり、又はｉ－Ｐｒ、ｉ－Ｂｕ、イソペンチル基、イソオクチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ベンジル基、置換ベンジル基、アリル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル基、芳香置換含有アルキル基であり、又は－（ＣＨ２）ｎ－ＮＲ４Ｒ５（Ｒ４とＲ５は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基である）であり、又は
    であり、又は－（ＣＨ２）ｎ－Ｓｉ（ＯＥｔ）３（ｎ＝２，３，４，５）であり、
    構造一般式４：
    構造式４中、Ｘは、ＮＨであり、
    Ｙは、Ｈであり、
    ｎ＝Ｃ２～１８の直鎖アルカン－（ＣＨ２）ｎ－であり、側鎖アルキル基又は芳香基置換を有するアルカンであり、
    Ｒ１は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であり、又はｉ－Ｐｒ、ｉ－Ｂｕ、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ベンジル基、置換ベンジル基、アリル基、置換アリル基、二重結合含有アルキル基、芳香置換含有アルキル基であり、又は
    であり、
    Ｒは、Ｃ１８の直鎖アルキル基であり、
    構造一般式５：
    構造式５中、Ｘは、ＮＨであり、
    Ｙは、Ｈであり、
    ｎ＝１、２、３、４、５であり、ｎ１＝１、２、３、４、５であり、
    ｎは、ｎ１に等しく、又はｎ１に等しくなく、
    Ｒは、Ｃ１８の直鎖アルキル基であり、
    反応式が以下の通りである立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の製造方法であり、
    構造一般式１
    構造一般式１の製造方法：
    （１）窒素保護下でメチルアクリレートを反応瓶に加え、撹拌を開始し、メタノール又はエタノール又はアセトン又は酢酸エチル又はジクロロエタン又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、触媒１を加え、前記触媒１は酢酸、酸性アルミナ、シリカゲル、ｏ－メトキシヒドロキノン、４，４'－ベンゾフェノン、ｍ－ニトロフェノール又は硫酸シリカゲルであり、５～１０℃まで降温し、次いで第１アミンをゆっくり滴下し、滴下終了後、室温まで昇温して攪拌し、加熱して反応を続け、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用い、
    （２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体に０．１～５％の触媒２を加え、触媒２がナトリウムメトキシド、ギ酸ナトリウム、ジエチルすずオキシド又はイソオクチルアルコールアルミニウムであり、次いでｎ－ドデシルアミン又はｎ－オクタデカナミン又はｎ－ドデカノール又はｎ－オクタデカノールを分割して加え、投与終了後４０～７０℃まで昇温して５～１６時間反応し、８５～１２０℃まで昇温し続けて３０～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡し、５～１５％の水を含むエタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得、乾燥後、収率は８５－９７％であり、
    構造一般式４の製造方法：
    （１）窒素保護下でメチルアクリレートを反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、５～２０℃を降温し、次いで第２アミンをゆっくり滴下し、滴下終了後、室温まで昇温して８～３２時間攪拌し、反応が必要な場合４０～６０℃まで加熱し続けて５～２４時間反応を続け、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用い、
    （２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオクタデカナミンを分割して加え、次いで０．０２～５％の触媒２を加え、前記触媒２はナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウム又はジエチルすずオキシド又はイソオクチルアルコールアルミニウムであり、投与終了後５０～７０℃まで昇温して８～１０時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～９６時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡し、触媒を除去し、０．５～２０％の水を含むエタノールエタノール又はメタノール又は酢酸エチル又は石油エーテルを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得、乾燥後、収率は８３－９６％であり、
    構造一般式５の製造方法：
    （１）窒素保護下でメチルアクリレートを反応瓶に加え、撹拌を開始し、次いで１～３部のメタノール又はエタノール又は酢酸エチル又はジクロロエタン又はアセトン又はアセトニトリル又はＤＭＦを加え、或いは溶媒を加えず、次いで１００～１０００ｐｐｍのｏ－メトキシヒドロキノン又は４，４－ジヒドロキシベンゾフェノン又はｍ－ニトロフェノールを加え、１０～２０℃まで降温し、次いでシクロアルキルジアミンをゆっくり滴下し、滴下終了後、室温まで昇温して３～５時間攪拌し、４０～６０℃まで加熱して１０～２４時間反応を続け、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスをモニターし、真空下で余分なメチルアクリレートを除去し、残りの反応中間体をさらに精製することなく次の反応に用い、
    （２）窒素保護及び撹拌下で、まず、室温で第１ステップ反応で得られた中間体にオクタデカナミンを分割して加え、次いで０．１～０．５％のナトリウムメトキシド又はギ酸ナトリウムを加え、投与終了後５０～６０℃まで昇温して５～８時間反応し、８０～１２０℃まで昇温し続けて４８～７２時間反応し、ＴＬＣで反応完了まで反応プロセスを追跡し、触媒を除去し、５～１０％の水を含むエタノール又はメタノールを加えて再結晶し、ろ過で白い粉末固体生成物を得、乾燥後、収率は８３－９２％である、
    ことを特徴とする立体障害調節可能な弱塩基光安定剤の製造方法。
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