JP7291586B2 - ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents

ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7291586B2
JP7291586B2 JP2019170339A JP2019170339A JP7291586B2 JP 7291586 B2 JP7291586 B2 JP 7291586B2 JP 2019170339 A JP2019170339 A JP 2019170339A JP 2019170339 A JP2019170339 A JP 2019170339A JP 7291586 B2 JP7291586 B2 JP 7291586B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
linear scale
die
guide
bonding apparatus
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019170339A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021048285A (ja
JP2021048285A5 (ja
Inventor
浩 牧
政幸 望月
Original Assignee
ファスフォードテクノロジ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ファスフォードテクノロジ株式会社 filed Critical ファスフォードテクノロジ株式会社
Priority to JP2019170339A priority Critical patent/JP7291586B2/ja
Priority to TW109123687A priority patent/TWI743887B/zh
Priority to KR1020200111635A priority patent/KR102430824B1/ko
Priority to CN202010988125.5A priority patent/CN112530839B/zh
Publication of JP2021048285A publication Critical patent/JP2021048285A/ja
Publication of JP2021048285A5 publication Critical patent/JP2021048285A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7291586B2 publication Critical patent/JP7291586B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67121Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68354Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to support diced chips prior to mounting

Description

本開示はダイボンディング装置に関し、例えばリニアスケールを備えるダイボンダに適用可能である。
半導体装置の製造工程の一部に半導体チップ(以下、単にダイという。)を配線基板やリードフレーム等(以下、単に基板という。)に搭載してパッケージを組み立てる工程があり、パッケージを組み立てる工程の一部に、半導体ウェハ(以下、単にウェハという。)からダイを分割する工程と、分割したダイを基板の上に搭載するボンディング工程とがある。ボンディング工程に使用される半導体製造装置がダイボンダである。
ダイボンダは、はんだ、金メッキ、樹脂を接合材料として、ダイを基板または既にボンディングされたダイの上にボンディング(搭載して接着)する装置である。ダイを、例えば、基板の表面にボンディングするダイボンダにおいては、ボンディングヘッドの先端に設けられたコレットと呼ばれる吸着ノズルを用いてダイをウェハから吸着してピックアップし、基板上に搬送し、押付力を付与すると共に、接合材を加熱することによりボンディングを行うという動作(作業)が繰り返して行われる。
その際、ボンディングヘッドは下降してダイを真空吸着した後、上昇、水平移動、下降して基板に装着する。その場合、上昇、下降させるのが昇降駆動軸(Z駆動軸)であり、水平移動させるのがY駆動軸である(例えば、特開2017-69418号公報(特許文献1))。
特開2017-69418号公報
Y駆動軸はガイドレールを用いてボンディングヘッドを一軸で駆動するが、ヨーイングなどの測定はしていない。
本開示の課題はヨーイングなどのズレの測定が可能な技術を提供することにある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本開示のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、ダイボンディング装置は、(a)移動対象物を第一方向に駆動する一つの駆動軸と、第一方向に延在し移動対象物を第一方向に案内する第一ガイドと、駆動軸よりも下方に位置し第一方向に延在する第一リニアスケールと、第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有する一駆動軸テーブルと、(b)一駆動軸テーブルを制御する制御装置と、を備える。制御装置は、移動対象物の位置を第一リニアスケールにより検出して移動対象物の位置を制御し、第二リニアスケールにより検出した位置と第一リニアスケールにより検出した位置とのずれを移動対象物のヨーイングとして検出するよう構成される。
本開示によれば、ヨーイングなどのズレの測定が可能である。
図1は実施形態における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。 図2は実施形態の第一変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。 図3は実施形態の第二変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。 図4は実施例に係るダイボンダの概略を示す上面図である。 図5は図4において矢印A方向から見たときに、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。 図6は図4のダイ供給部の外観斜視図を示す図である。 図7は図4のダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。 図8は図4のボンディングヘッドテーブルの側面図である。 図9は図4のダイボンダによる半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。 図10は第二実施例に係るダイボンダの概略を示す上面図である。 図11は図10において矢印B方向から見たときに、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。
以下、実施形態、変形例および実施例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明を省略することがある。なお、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
実施形態における一駆動軸テーブルについて図1を用いて説明する。図1は実施形態における一駆動軸テーブルの側面図である。
一駆動軸テーブル103は、一駆動軸テーブル103の装置本体に固定されたサーボモータ103aによりボールねじ103bを介して移動対象物101を図のY軸方向に移動させる駆動軸としての駆動部103cと、Y方向に水平に配設され、相互に平行に上下に配列されている第一ガイド103dおよび第二ガイド103eと、第一ガイド103dおよび第二ガイド103eに沿って近接して配設されている第一リニアスケール103fおよび第二リニアスケール103gと、から構成されている。本実施形態では、第一リニアスケール103fは第一ガイド103dの下方に、第二リニアスケール103gは第二ガイド103eの上方に配設されている。駆動部103cは、単一のモータと単一のボールねじとによる駆動方式に代えて、リニアモータによる駆動方式としてもよい。
第一ガイド103dおよび第二ガイド103eはボールねじ103bを挟んで配設され、第一ガイド103dとボールねじ103bとの距離は第二ガイド103eとボールねじ103bとの距離とほぼ同じである。第一ガイド103dおよび第二ガイド103eには、それぞれ移動対象物101に設けられた第一スライド部101dおよび第二スライド部101eが摺動自在に嵌合している。
第一リニアスケール103fおよび第二リニアスケール103gは、第一スライド部101dおよび第二スライド部101eのY軸方向の位置をそれぞれ検出する。したがって、第一スライド部101dおよび第二スライド部101eは、それぞれのY軸方向の位置を検出する第一検出ヘッド101fおよび第二検出ヘッド101gを備えている。第一リニアスケール103fおよび第二リニアスケール103gは、原点位置が厳密に一致するように設定され、機械座標系に対して正しいY軸方向の位置を検出できるようになっている。位置検出結果は、制御部107に送られる。制御部107は、これらの位置検出結果に基づいて、サーボモータ103aを制御する。
移動対象物101は上下方向(Z軸方向)にその長手方向が延在する。移動対象物101には移動体101aが装着されている。移動体101aを挿通して設けられたナット部材101bには、サーボモータ103aによって回転駆動されるボールねじ103bが螺合している。サーボモータ103aによりボールねじ103bを駆動することにより、移動対象物101はY軸方向に移動する。移動対象物101の下部側の先端部102は、図のZ軸方向の上下移動やZ軸を中心とした回転が可能であり、この動作によって作業面100に対するアクセス、例えば、部品の取り出しや載置を行う。
一駆動軸テーブル103は、サーボモータ103aにより回転駆動されるボールねじ103bに沿って、移動対象物101を所定の方向に移動させるとともに、所定位置に位置決め停止させる位置決め制御装置を備えている。この位置決め制御装置における移動対象物101の位置検出は、移動対象物101が移動する方向に平行に取り付けられた第一リニアスケール103fの位置を移動対象物101に取り付けられたリニア位置検出装置としての第一検出ヘッド101fで検出する。
実作業を行う移動対象物101の先端部102に近い側の第一リニアスケール103fを位置決め制御装置の制御用スケールとして用いる。これは、実際の作業精度に影響するためである。先端部102から遠い側の第二リニアスケール103gは制御用スケールの位置に対してのずれをヨーイングとして検出する診断用スケールとして用いる。ここで、一般に、ヨーイング(yawing)とは、移動対象物101の移動テーブル面を垂直方向から見たときに直動運動する際の進行方向に対し左右のどちらかに旋回する挙動のことである。移動対象物101のヨーイングに伴い、第一リニアスケール103fにより検出する移動対象物101の位置と第二リニアスケール103gにより検出する移動対象物101の位置とにズレが生ずる。ヨーイングは第一ガイド103d、第二ガイド103eまたはボールねじ103bの故障前兆となるので、第二リニアスケール103gでヨーイングを監視する。
検出したヨーイングの角度または2本のリニアスケールの位置(カウント値)の差が指定値または初期値からの変化閾値を超えた場合やその発生頻度が増加した場合、故障の前触れと判断する(自己診断を行う)。第一ガイド103dおよび第二ガイド103eが故障する場合は制御用スケールとしての第一リニアスケール103fでは判断できないが、診断用スケールとしての第二リニアスケール103gでの初期との違いは判断できるので、ある一定以上の違いは規格外となり故障を疑うことができる。一駆動軸でのガイド破損の予知が行え、高精度化も行える。また、ボールねじ駆動であればボールねじ故障の予知も行える。これにより、故障前に第一ガイド103d、第二ガイド103e、ボールねじ103bなどを事前に準備することが可能になる。
故障するまでは、第二リニアスケール103gでヨーイングを測定し位置補正(先端位置補正)を行う。より具体的には、第一リニアスケール103fの測定位置と第二リニアスケール103gの測定位置との差異(スケールピッチ)からヨーイング角度を算出する。ここで、第一リニアスケール103fの測定位置をmp1、第二リニアスケール103gの測定位置をmp2、第一リニアスケール103fと第二リニアスケール103gとの間隔をdとすると、ヨーイング角度θは、
θ=arctan((mp2-mp1)/d)
の式により算定される。実際に作業する先端部102と制御用スケールとしての第一リニアスケール103f距離から先端部102のずれを算出する。算出した結果から先端部102の位置を補正し、停止精度を改善する。
本実施形態の移動対象物101は、例えば、実装ヘッドとしてのボンディングヘッドやピックアップヘッド、ピックアップフリップヘッド、トランスファヘッド、認識カメラ等である。なお、第一ガイド103dおよび第二ガイド103eの二つのガイドがある例を説明したが、ガイドは一つであってもよい。
<変形例>
以下、実施形態の代表的な変形例について、幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成および機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における説明が適宜援用され得るものとする。また、上述の実施形態の一部、および、複数の変形例の全部または一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、複合的に適用され得る。
実施形態では第二リニアスケール103gは第二ガイド103eに沿って近接して配設されているが、これに限定されるものではなく、第二リニアスケール103gは作業面100に対して第一リニアスケール103fよりも遠くに配設されればよい。
(第一変形例)
実施形態の第一変形例における一駆動軸テーブルについて図2を用いて説明する。図2は実施形態の第一変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。
第一変形例の一駆動軸テーブル103では、第二リニアスケール103gは第一リニアスケール103fと一体構造に構成されて、第一ガイド103dに沿って近接して配設される。第二リニアスケール103gは第一ガイド103dと第一リニアスケール103fとの間に配設される。第一変形例の第二リニアスケール103gは第一リニアスケール103fと一体構造であるので、第二リニアスケール103gの配設が容易になる。
(第二変形例)
実施形態の第二変形例における一駆動軸テーブルについて図3を用いて説明する。図3は実施形態の第二変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。
第二変形例の一駆動軸テーブル103では、第一リニアスケール103fは第一ガイド103dに内蔵され、第二リニアスケール103gは第二ガイド103eに内蔵される。これにより、第一リニアスケール103fおよび第二リニアスケール103gの配設が容易になる。
図4は第一実施例に係るダイボンダの概略を示す上面図である。図5は図4において矢印A方向から見たときに、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。
ダイボンダ10は、大別して、ダイ供給部1と、ピックアップ部2、中間ステージ部3と、ボンディング部4と、搬送部5、基板供給部6Kと、基板搬出部6Hと、各部の動作を監視し制御する制御部7と、を有する。Y軸方向がダイボンダ10の前後方向であり、X軸方向が左右方向である。ダイ供給部1がダイボンダ10の手前側に配置され、ボンディング部4が奥側に配置される。
まず、ダイ供給部1は一つ又は複数の最終1パッケージとなる製品エリア(以下、パッケージエリアPという。)をプリントした基板Sに実装する部品としてのダイDを供給する。ダイ供給部1は、分割されたウェハ11を保持するウェハ保持台12と、ウェハ11からダイDを突き上げる点線で示す突上げユニット13と、を有する。ダイ供給部1は図示しない駆動手段によってXY軸方向に移動し、ピックアップするダイDを突上げユニット13の位置に移動させる。ウェハリング供給部19はウェハリングが収納されたウェハカセットを有し,順次ウェハリングをダイ供給部1に供給し、新しいウェハリングに交換する。ダイ供給部1は、所望のダイをウェハリングからピックアップできるように、ピックアップポイントに、ウェハリングを移動する。ウェハリングは、ウェハが固定され、ダイ供給部1に取り付け可能な治具である。
ピックアップ部2は、ダイDをピックアップするピックアップヘッド21と、ピックアップヘッド21をY軸方向に移動させるピックアップヘッド21の一駆動軸テーブルとしてのY駆動部23と、ウェハ保持台12上のダイDを認識するためのウェハ認識カメラ24と、を有する。ピックアップヘッド21は、突き上げられたダイDを先端に吸着保持するコレット22(図5も参照)を有し、ダイ供給部1からダイDをピックアップし、中間ステージ31に載置する。ピックアップヘッド21は、コレット22を昇降、回転およびX軸方向移動させる図示しない各駆動部を有する。
中間ステージ部3は、ダイDを一時的に載置する中間ステージ31と、中間ステージ31上のダイDを認識するためのステージ認識カメラ32と、を有する。
ボンディング部4は、中間ステージ31からダイDをピックアップし、搬送されてくる基板SのパッケージエリアP上にボンディングし、または既に基板SのパッケージエリアPの上にボンディングされたダイの上に積層する形でボンディングする。ボンディング部4は、ピックアップヘッド21と同様にダイDを先端に吸着保持するコレット42(図5も参照)を備えるボンディングヘッド41と、ボンディングヘッド41をY軸方向に移動させる一駆動軸テーブルとしてのY駆動部43と、基板SのパッケージエリアPの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディング位置を認識する基板認識カメラ44と、を有する。このような構成によって、ボンディングヘッド41は、ステージ認識カメラ32の撮像データに基づいてピックアップ位置・姿勢を補正し、中間ステージ31からダイDをピックアップし、基板認識カメラ44の撮像データに基づいて基板SにダイDをボンディングする。
搬送部5は、基板Sを掴み搬送する基板搬送爪51と、基板Sが移動する搬送レーン52と、を有する。基板Sは、搬送レーン52に設けられた基板搬送爪51の図示しないナットを搬送レーン52に沿って設けられた図示しないボールネジで駆動することによって移動する。このような構成によって、基板Sは、基板供給部6Kから搬送レーン52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後、基板搬出部6Hまで移動して、基板搬出部6Hに基板Sを渡す。
制御部7は、ダイボンダ10の上述した各部の動作を監視し制御するプログラム(ソフトウェア)を格納するメモリと、メモリに格納されたプログラムを実行する中央処理装置(CPU)と、を備える。
次に、ダイ供給部1の構成について図6、7を用いて説明する。図6は図4のダイ供給部の外観斜視図を示す図である。図7は図4のダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。
ダイ供給部1は、水平方向(XY軸方向)に移動するウェハ保持台12と、上下方向に移動する突上げユニット13と、を備える。ウェハ保持台12は、ウェハリング14を保持するエキスパンドリング15と、ウェハリング14に保持され複数のダイDが接着されたダイシングテープ16を水平に位置決めする支持リング17と、を有する。突上げユニット13は支持リング17の内側に配置される。
ダイ供給部1は、ダイDの剥離時に、ウェハリング14を保持しているエキスパンドリング15を下降させる。その結果、ウェハリング14に保持されているダイシングテープ16が引き伸ばされダイDの間隔が広がり、突上げユニット13がダイD下方よりダイDに作用することにより、ダイDのピックアップ性を向上させている。なお、ダイを基板に接着する接着剤は、液状からフィルム状となり、ウェハ11とダイシングテープ16との間にダイアタッチフィルム(Die Attach Film:DAF)18と呼ばれるフィルム状の接着材料を貼り付けている。ダイアタッチフィルム18を有するウェハ11では、ダイシングは、ウェハ11とダイアタッチフィルム18に対して行なわれる。従って、剥離工程では、ウェハ11とダイアタッチフィルム18をダイシングテープ16から剥離する。なお、ダイアタッチフィルム18はダイDの裏面に貼付されているが、ダイDを省略して剥離工程を説明することがある。
次に、Y駆動部43について図8を用いて説明する。図8は図4のボンディングヘッドテーブルの側面図である。
Y駆動部43はボンディングヘッドテーブルともいい、Y駆動部43の装置本体に固定されたサーボモータ43aによりボールねじ43bを介してボンディングヘッド41を図のY軸方向に移動させる駆動部43cと、Y軸方向に水平に配設され、相互に平行に上下に配列されている第一ガイドレール43dおよび第二ガイドレール43eと、第一ガイドレール43dおよび第二ガイドレール43eに沿って近接して配設されている第一リニアスケール43fおよび第二リニアスケール43gと、から構成されている。
第一ガイドレール43dおよび第二ガイドレール43eはボールねじ43bを挟んで配設され、ボールねじ43bは第一ガイドレール43dと第二ガイドレール43eとのほぼ中間に配設されている。第一ガイドレール43dおよび第二ガイドレール43eには、それぞれボンディングヘッド41に設けられた第一スライド部41dおよび第二スライド部41eが摺動自在に嵌合している。
第一リニアスケール43fおよび第二リニアスケール43gは、第一スライド部41dおよび第二スライド部41eのY軸方向の位置をそれぞれ検出する。したがって、第一スライド部41dおよび第二スライド部41eは、それぞれの第1方向としてのY軸方向の位置を検出する第一検出ヘッド41fおよび第二検出ヘッド41gを備えている。第一リニアスケール43fおよび第二リニアスケール43gは、原点位置が厳密に一致するように設定され、機械座標系に対して正しいY軸方向の位置を検出できるようになっている。位置検出結果は、制御部7に送られる。制御部7は、これらの位置検出結果に基づいて、サーボモータ43aを制御する。
ボンディングヘッド41には移動ブロック41aが装着されている。移動ブロック41aを挿通して設けられたナット部材41bには、サーボモータ43aによって回転駆動されるボールねじ43bが螺合している。サーボモータ43aを駆動することにより、ボンディングヘッド41はY軸方向に移動する。
ボンディングヘッド41の先端には、コレット42が装着されている。コレット42は、図のZ軸方向の上下移動とZ軸を中心とした回転が可能であり、この動作によって部品としてダイDのピックアップと載置(ボンディング)とを行う。
Y駆動部43は、サーボモータ43aにより回転駆動されるボールねじ43bに沿って、ボンディングヘッド41を所定の方向に移動させるとともに、所定位置に位置決め停止させる位置決め制御装置を備えている。この位置決め制御装置におけるボンディングヘッド41の位置検出は、ボンディングヘッド41が移動する方向に平行に取り付けられた第一リニアスケール43fおよび第二リニアスケール43gの位置をボンディングヘッド41に取り付けられたリニア位置検出装置としての検出ヘッドで検出する。
ボンディングヘッド41の先端であるコレット42に近い側の第一リニアスケール43fを制御用スケールとする。これは、実際の精度としてのボンディング精度に影響するためである。コレット42から遠い側の第二リニアスケール43gは制御用スケール位置に対してのずれをヨーイングとして検出する診断用スケールとする。ヨーイングは第一ガイドレール43d、第二ガイドレール43eまたはボールネジ43bの故障前兆となるので、第二リニアスケール43gでヨーイングを監視する。
検出したヨーイングが指定値または初期値からの変化閾値を超えた場合、故障の前触れと判断する(自己診断を行う)。第一ガイドレール43dおよび第二ガイドレール43eが故障する場合は制御用スケールとしての第一リニアスケール43fでは判断できないが、診断用スケールとしての第二リニアスケール43gでの初期との違いは判断できるので、ある一定以上の違いは規格外となり故障を疑うことができる。1軸駆動でのガイドレール破損の予知が行え、高精度化も行える。また、ボールねじ駆動であればボールねじ故障の予知も行える。これにより、故障前に第一ガイドレール43d、第二ガイドレール43e、ボールネジ43bなどを事前に準備することが可能になる。
故障するまでは、第二リニアスケール43gでヨーイングを測定し位置補正(先端位置補正)を行う。より具体的には、第一リニアスケール43fの測定位置と第二リニアスケール43gの測定位置との差異(スケールピッチ)からヨーイング角度を算出する。実際に作業する先端部であるコレット42と制御側スケールとしての第一リニアスケール43f距離からコレット42のずれを算出する。算出した結果からコレット42の位置を補正し、停止精度を改善する。なお、Y駆動部23はY駆動部43と同様な構成であってもよい。
次に、第一実施例におけるダイボンダを用いた半導体装置の製造方法について図9を用いて説明する。図9は図4のダイボンダによる半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。
(ステップS11:ウェハ・基板搬入工程)
ウェハ11から分割されたダイDが貼付されたダイシングテープ16を保持したウェハリング14をウェハリング供給部19のウェハカセット(不図示)に格納し、ダイボンダ10に搬入する。制御部7はウェハリング14が充填されたウェハカセットからウェハリング14をダイ供給部1に供給する。また、基板Sを準備し、ダイボンダ10に搬入する。制御部7は基板供給部6Kで基板Sを基板搬送爪51に取り付ける。
(ステップS12:ピックアップ工程)
制御部7は上述したようにダイDを剥離し、剥離したダイDをウェハ11からピックアップする。このようにして、ダイアタッチフィルム18と共にダイシングテープ16から剥離されたダイDは、コレット22に吸着、保持されて次工程(ステップS13)に搬送される。そして、ダイDを次工程に搬送したコレット22がダイ供給部1に戻ってくると、上記した手順に従って、次のダイDがダイシングテープ16から剥離され、以後同様の手順に従ってダイシングテープ16から1個ずつダイDが剥離される。
(ステップS13:ボンディング工程)
制御部7はピックアップしたダイを基板S上に搭載または既にボンディングしたダイの上に積層する。制御部7はウェハ11からピックアップしたダイDを中間ステージ31に載置し、ボンディングヘッド41で中間ステージ31から再度ダイDをピックアップし、搬送されてきた基板Sにボンディングする。
(ステップS14:基板搬出工程)
制御部7は基板搬出部6Hで基板搬送爪51からダイDがボンディングされた基板Sを取り出す。ダイボンダ10から基板Sを搬出する。
上述したように、ダイDは、ダイアタッチフィルム18を介して基板S上に実装され、ダイボンダから搬出される。その後、ワイヤボンディング工程でAuワイヤを介して基板Sの電極と電気的に接続される。続いて、ダイDが実装された基板Sがダイボンダに搬入されて基板S上に実装されたダイDの上にダイアタッチフィルム18を介して第二のダイDが積層され、ダイボンダから搬出された後、ワイヤボンディング工程でAuワイヤを介して基板Sの電極と電気的に接続される。第二のダイDは、前述した方法でダイシングテープ16から剥離された後、ダイボンディング工程に搬送されてダイDの上に積層される。上記工程が所定回数繰り返された後、基板Sをモールド工程に搬送し、複数個のダイDとAuワイヤとをモールド樹脂(図示せず)で封止することによって、積層パッケージが完成する。
第一実施例ではダイボンディング装置の一例であるダイボンダについて説明したが、ダイボンディング装置の一例であるフリップチップボンダにも適用することができる。なお、フリップチップボンダは、例えばチップ面積を超える広い領域に再配線層を形成するパッケージであるファンアウト型ウェハレベルパッケージ(Fan Out Wafer Level Package:FOWLP)やファンアウト型パネルレベルパッケージ(Fan Out Panel Level Package:FOPLP)等の製造に用いられる。また、本開示はこれらに限定されるものではなく、パッケージされた半導体装置等を基板に実装するチップマウンタ(表面実装機)にも適用することができる。
図10は第二実施例のフリップチップボンダの概略を示す上面図である。図11は図10において矢印B方向から見たときに、ピックアップフリップヘッド、トランスファヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。
フリップチップボンダ10Aは、大別して、ダイ供給部1と、ピックアップ部2A、トランスファ部8と、中間ステージ部3Aと、ボンディング部4Aと、搬送部5Aと、基板供給部6Kと、基板搬出部6Hと、各部の動作を監視し制御する制御部7と、を有する。
第二実施例のダイ供給部1は、第一実施例のダイ供給部1と同様の構成であり同様の動作を行う。
ピックアップ部2Aは、ダイDをピックアップして反転するピックアップフリップヘッド21Aと、コレット22Aを昇降、回転、反転及びX方向移動させる図示しない各駆動部と、を有する。このような構成によって、ピックアップフリップヘッド21Aは、ダイをピックアップし、ピックアップフリップヘッド21Aを180度回転させ、ダイDのバンプを反転させて下面に向け、ダイDをトランスファヘッド81に渡す姿勢にする。
トランスファ部8は、反転したダイDをピックアップフリップヘッド21Aから受けとり、中間ステージ31Aに載置する。トランスファ部8は、ピックアップフリップヘッド21Aと同様にダイDを先端に吸着保持するコレット82を備えるトランスファヘッド81と、トランスファヘッド81をY軸方向に移動させるY駆動部83と、を有する。Y駆動部83はY駆動部43と同様な構成であってもよい。
中間ステージ部3Aは、ダイDを一時的に載置する中間ステージ31Aおよびステージ認識カメラ34Aを有する。中間ステージ31Aは図示しない駆動部によりY軸方向に移動可能である。
ボンディング部4Aは、中間ステージ31AからダイDをピックアップし、搬送されてくる基板S上にボンディングする。ボンディング部4Aは、ピックアップフリップヘッド21Aと同様にダイDを先端に吸着保持するコレット42Aを備えるボンディングヘッド41Aと、ボンディングヘッド41AをY軸方向に移動させる一駆動軸テーブルとしてのYビーム43Aと、基板Sの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディング位置を認識する基板認識カメラ44Aと、二つのX支持台45と、を有する。Yビーム43AはY駆動部43と同様な構成である。このような構成によって、ボンディングヘッド41Aは、中間ステージ31AからダイDをピックアップし、基板認識カメラ44Aの撮像データに基づいて基板SにダイDをボンディングする。二つのX支持台45は基板Sの幅よりも離れて平行に配置されている。二つのX支持台45の上にYビーム43AをX軸方向に摺動自在に案内する二つのガイド45aが設けられている。
搬送部5Aは、基板SがX方向に移動する搬送レーン52を備える。搬送レーン52は平行に配設される二つの搬送レールで構成されている。このような構成によって、基板供給部6Kから基板Sを搬出し、搬送レーン52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後基板搬出部6Hまで移動して、基板搬出部6Hに基板Sを渡す。基板SにダイDをボンディング中に、基板供給部6Kは新たな基板Sを搬出し、搬送レーン52上で待機する。
制御部7は、フリップチップボンダ10Aの各部の動作を監視し制御するプログラム(ソフトウェア)やデータを格納する記憶装置(メモリ)と、メモリに格納されたプログラムを実行する中央処理装置(CPU)と、を備える。
第二実施例におけるフリップチップダイボンダを用いた半導体装置の製造方法は第一実施例と同様である。
以上、本発明者らによってなされた発明を実施形態、変形例および実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態、変形例および実施例に限定されるものではなく、種々変更可能であることはいうまでもない。
例えば、実施例では、Y駆動部43に実施形態の一駆動軸テーブル103を用いた例を説明したが、第一変形例または第二変形例の一駆動軸テーブル103を用いてもよい。
また、第一実施例では、ピックアップ部2、中間ステージ部3およびボンディング部4が一つの例を説明したが、ピックアップ部2、中間ステージ部3およびボンディング部4はそれぞれ二組あってもよい。
また、第二実施例では、ピックアップ部2A、トランスファ部8、中間ステージ部3Aおよびボンディング部4Aが一つの例を説明したが、ピックアップ部2A、トランスファ部8、中間ステージ部3Aおよびボンディング部4Aはそれぞれ二組あってもよい。
また、実施例では、ダイ供給部からダイをピックアップヘッドでピックアップして中間ステージに載置し、中間ステージに載置されたダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダについて説明したが、これに限定されるものではなく、ダイ供給部からダイをピックアップする半導体製造装置に適用可能である。例えば、中間ステージとピックアップヘッドがなく、ダイ供給部のダイをボンディングヘッドで基板にボンディングするダイボンダにも適用可能である。
101・・・移動体対象物
103・・・一駆動軸テーブル
103c・・・駆動部(駆動軸)
103d・・・第一ガイド
103f・・・第一リニアスケール
103g・・・第二リニアスケール

Claims (17)

  1. 上下方向にその長手方向が延在する移動対象物と、
    前記移動対象物を水平方向の第一方向に駆動する一つの駆動軸と、前記第一方向に延在し前記移動対象物を前記第一方向に案内する第一ガイドと、前記駆動軸よりも下方に位置し前記第一方向に延在する第一リニアスケールと、前記第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有する一駆動軸テーブルと、
    前記一駆動軸テーブルを制御する制御装置と、
    を備え、
    制御装置は、
    前記移動対象物の位置を前記第一リニアスケールにより検出して前記移動対象物の位置を制御し、
    前記第二リニアスケールにより検出した位置と前記第一リニアスケールにより検出した位置とのずれをヨーイングとして検出する
    よう構成されるダイボンディング装置。
  2. 請求項1のダイボンディング装置において、
    前記制御装置は、検出した前記ヨーイングが所定値または初期値からの変化閾値を超える場合、故障の前触れと判断するよう構成されるダイボンディング装置。
  3. 請求項1のダイボンディング装置において、
    前記移動対象物の下部側の先端部にダイを吸着するコレットが設けられ、
    前記制御装置は、
    前記第一リニアスケールにより検出した位置と前記第二リニアスケールにより検出した位置との差からヨーイング角度を算出し、
    前記コレットと前記第一リニアスケールとの距離から前記コレットのずれを算出し、
    算出した結果から前記移動対象物の位置を補正する
    よう構成されるダイボンディング装置。
  4. 請求項1のダイボンディング装置において、
    前記一駆動軸テーブルは、さらに、前記第一ガイドと所定の距離離れて前記第一方向に延在し前記移動対象物を前記第一方向に案内する第二ガイドを有し、
    前記駆動軸は前記第一ガイドと前記第二ガイドとの間に設けられるダイボンディング装置。
  5. 請求項4のダイボンディング装置において、
    前記第一リニアスケールは前記第一ガイドに近接して設けられ、
    前記第二リニアスケールは前記第二ガイドに近接して設けられるダイボンディング装置。
  6. 請求項4のダイボンディング装置において、
    前記第一リニアスケールは前記第一ガイドの中に設けられ、
    前記第二リニアスケールは前記第二ガイドの中に設けられるダイボンディング装置。

  7. 請求項4のダイボンディング装置において、
    前記第二リニアスケールは前記第一リニアスケールの上方に前記第一リニアスケールと一体的に形成されて前記第一ガイドに近接して設けられるダイボンディング装置。
  8. 請求項1から7の何れか一つのダイボンディング装置において、
    前記移動対象物はダイをピックアップして基板に載置するボンディングヘッドであるダイボンディング装置。
  9. 請求項8のダイボンディング装置において、
    前記移動対象物はウェハからダイをピックアップして中間ステージに載置するピックアップヘッドであるダイボンディング装置。
  10. 請求項9のダイボンディング装置において、
    さらに、前記一駆動軸テーブルを水平方向の第二方向に移動せるガイドを有する二つの支持台を備えるダイボンディング装置。
  11. ダイを吸着するコレットが設けられるボンディングヘッドと、前記ボンディングヘッドを水平方向の第一方向に駆動する一つの駆動軸と、前記第一方向に延在し前記ボンディングヘッドを前記第一方向に案内する第一ガイドと、前記駆動軸よりも下方に位置し前記第一方向に延在する第一リニアスケールと、前記第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有するボンディングテーブルと、を備えるダイボンディング装置に基板を搬入する工程と、
    前記ボンディングヘッドがダイをピックアップし、ピックアップした前記ダイを前記基板にボンディングする工程と、
    を備え、
    前記ボンディングする工程では、
    前記ボンディングヘッドの位置が前記第一リニアスケールにより検出されて前記ボンディングヘッドの位置が制御され、
    前記第二リニアスケールにより検出した位置と前記第一リニアスケールにより検出した位置とのずれをヨーイングとして検出される半導体装置の製造方法。
  12. 請求項11の半導体装置の製造方法において、
    前記ボンディングする工程では、検出された前記ヨーイングが所定値または初期値からの変化閾値を超える場合、故障の前触れと判断される半導体装置の製造方法。
  13. 請求項11の半導体装置の製造方法において、
    前記ボンディングする工程では、
    前記第一リニアスケールにより検出された位置と前記第二リニアスケールにより検出された位置との差からヨーイング角度が算出され、
    前記コレットと前記第一リニアスケールとの距離から前記コレットのずれが算出され、
    算出された結果から前記ボンディングヘッドの位置が補正される半導体装置の製造方法。
  14. 請求項11から13のいずれか一つの半導体装置の製造方法において、
    前記ボンディングテーブルは、さらに、前記第一ガイドと所定の距離離れて前記第一方向に延在し前記ボンディングヘッドを前記第一方向に案内する第二ガイドを有し、
    前記駆動軸は前記第一ガイドと前記第二ガイドとの間に設けられる半導体装置の製造方法。
  15. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記第一リニアスケールは前記第一ガイドに近接して設けられ、
    前記第二リニアスケールは前記第二ガイドに近接して設けられる半導体装置の製造方法。
  16. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記第一リニアスケールは前記第一ガイドの中に設けられ、
    前記第二リニアスケールは前記第二ガイドの中に近接して設けられる半導体装置の製造方法。
  17. 請求項14の半導体装置の製造方法において、
    前記第二リニアスケールは前記第一リニアスケールの上方に前記第一リニアスケールと一体的に形成されて前記第一ガイドに近接して設けられる半導体装置の製造方法。
JP2019170339A 2019-09-19 2019-09-19 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 Active JP7291586B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019170339A JP7291586B2 (ja) 2019-09-19 2019-09-19 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
TW109123687A TWI743887B (zh) 2019-09-19 2020-07-14 晶粒接合裝置及半導體裝置的製造方法
KR1020200111635A KR102430824B1 (ko) 2019-09-19 2020-09-02 다이 본딩 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
CN202010988125.5A CN112530839B (zh) 2019-09-19 2020-09-18 芯片贴装装置以及半导体器件的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019170339A JP7291586B2 (ja) 2019-09-19 2019-09-19 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021048285A JP2021048285A (ja) 2021-03-25
JP2021048285A5 JP2021048285A5 (ja) 2022-07-14
JP7291586B2 true JP7291586B2 (ja) 2023-06-15

Family

ID=74878730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019170339A Active JP7291586B2 (ja) 2019-09-19 2019-09-19 ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7291586B2 (ja)
KR (1) KR102430824B1 (ja)
CN (1) CN112530839B (ja)
TW (1) TWI743887B (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001267335A (ja) 2000-03-21 2001-09-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法
JP2006313839A (ja) 2005-05-09 2006-11-16 Juki Corp 部品実装装置
JP2010135363A (ja) 2008-12-02 2010-06-17 Panasonic Corp 部品実装装置および部品実装装置におけるツール配列データ作成方法
US20130298391A1 (en) 2012-05-11 2013-11-14 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Working apparatus for component or board and component mounting apparatus

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0951007A (ja) * 1995-08-09 1997-02-18 Mitsubishi Electric Corp ダイボンド装置および半導体装置の製造方法
KR100326757B1 (en) 2001-08-09 2002-03-13 Justek Corp Method for correcting error of scaler according to variation of temperature in linear motor
KR20070016098A (ko) * 2004-06-03 2007-02-07 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 부품 실장 방법 및 장치
JP2006041260A (ja) 2004-07-28 2006-02-09 Juki Corp 電子部品搭載装置のノズル位置補正方法
JP4130838B2 (ja) * 2006-06-19 2008-08-06 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
JP2008117968A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ
KR20130117191A (ko) * 2012-04-18 2013-10-25 한미반도체 주식회사 작업유닛 이송장치
TWI545663B (zh) * 2014-05-07 2016-08-11 新川股份有限公司 接合裝置以及接合方法
JP6510838B2 (ja) * 2015-03-11 2019-05-08 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法
CN107615465B (zh) * 2015-03-31 2020-05-12 株式会社新川 引线接合装置以及引线接合方法
JP6573813B2 (ja) * 2015-09-30 2019-09-11 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダおよび半導体装置の製造方法
JP6667326B2 (ja) * 2016-03-17 2020-03-18 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダおよびボンディング方法
WO2018088094A1 (ja) * 2016-11-09 2018-05-17 東京エレクトロン株式会社 接合装置、接合システム、接合方法及びコンピュータ記憶媒体
TWI684235B (zh) * 2017-07-12 2020-02-01 日商新川股份有限公司 相對於第二物體來定位第一物體的裝置和方法
CN111213225B (zh) * 2017-08-28 2023-07-18 株式会社新川 相对于对象物使第一和第二移动体直线移动的装置及方法
JP7033878B2 (ja) * 2017-10-16 2022-03-11 ファスフォードテクノロジ株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001267335A (ja) 2000-03-21 2001-09-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法
JP2006313839A (ja) 2005-05-09 2006-11-16 Juki Corp 部品実装装置
JP2010135363A (ja) 2008-12-02 2010-06-17 Panasonic Corp 部品実装装置および部品実装装置におけるツール配列データ作成方法
US20130298391A1 (en) 2012-05-11 2013-11-14 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Working apparatus for component or board and component mounting apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
CN112530839A (zh) 2021-03-19
KR20210033896A (ko) 2021-03-29
JP2021048285A (ja) 2021-03-25
KR102430824B1 (ko) 2022-08-09
TWI743887B (zh) 2021-10-21
TW202114105A (zh) 2021-04-01
CN112530839B (zh) 2024-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8991681B2 (en) Die bonder and bonding method
TWI702660B (zh) 黏晶裝置及半導體裝置的製造方法
JP6692376B2 (ja) 電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法
JP7102113B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP5996983B2 (ja) 電子部品装着装置
JP2010135574A (ja) 移載装置
JP2019160948A (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
KR20180088261A (ko) 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
EP2059112B1 (en) Electronic component taking out apparatus, surface mounting apparatus and method for taking out electronic component
CN108666238B (zh) 芯片贴装装置及半导体器件的制造方法
JP7291586B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP2021158166A (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP7010638B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
US20220045029A1 (en) Bonding apparatus and bonding method
JP7285162B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
KR100312743B1 (ko) 반도체 다이본다용 위치 인식과 검사장치 및 그 방법
JP2020141114A (ja) 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
JP6093610B2 (ja) ダイボンダ及びボンディング方法
WO2022004151A1 (ja) 物品の製造装置、物品の製造方法
US11705426B2 (en) Bonding apparatus and bonding method
JP5576219B2 (ja) ダイボンダおよびダイボンディング方法
JP2023042715A (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
KR20100079521A (ko) 반도체 공정용 자재 운반장치 및 자재 운반방법
JP2022110551A (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP2024024567A (ja) 半導体製造装置および半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220706

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220706

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230512

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230516

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230605

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7291586

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150