JP7257211B2 - セラミックヒータ - Google Patents
セラミックヒータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP7257211B2 JP7257211B2 JP2019058269A JP2019058269A JP7257211B2 JP 7257211 B2 JP7257211 B2 JP 7257211B2 JP 2019058269 A JP2019058269 A JP 2019058269A JP 2019058269 A JP2019058269 A JP 2019058269A JP 7257211 B2 JP7257211 B2 JP 7257211B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminals
- diameter portion
- ceramic plate
- resistance heating
- heating element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Surface Heating Bodies (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Description
ウエハ載置面を有する円盤状のセラミックプレートと、
小径部と大径部とを有し、前記セラミックプレートのうち前記ウエハ載置面とは反対側の裏面に前記大径部の端面が接合された筒状シャフトと、
前記セラミックプレートに埋設された第1抵抗発熱体と、
前記第1抵抗発熱体の両端のそれぞれに接続され、前記セラミックプレートの前記裏面に前記筒状シャフトを投影したときの前記小径部と前記大径部とによって囲まれた環状領域に露出するように設けられた一対の第1端子と、
を備えたものである。
Claims (6)
- ウエハ載置面を有する円盤状のセラミックプレートと、
小径部と大径部とを有し、前記セラミックプレートのうち前記ウエハ載置面とは反対側の裏面に前記大径部の端面が接合された筒状シャフトと、
前記セラミックプレートに埋設された第1抵抗発熱体と、
前記第1抵抗発熱体の両端のそれぞれに接続され、前記セラミックプレートの前記裏面に前記筒状シャフトを投影したときの前記小径部と前記大径部とによって囲まれた環状領域に露出するように設けられた一対の第1端子と、
を備え、
前記第1抵抗発熱体は、一対の前記第1端子の一方から端を発し、一筆書きの要領で複数の折り返し部で折り返されつつ前記セラミックプレートのほぼ全域に配線されたあと一対の前記第1端子の他方に至るように形成され、前記第1抵抗発熱体の両端の間には端子を有しておらず、
前記大径部の内径は、前記ウエハ載置面に載置されるウエハの直径より大きく、
一対の前記第1端子は、前記環状領域のうち前記ウエハの外側に設けられ、
前記筒状シャフトは、前記大径部のうち前記第1端子に対向する位置に、貫通穴をセラミックで埋めた穴埋め部を有する、
セラミックヒータ。 - 前記第1端子は、引き出し線を用いることなく前記第1抵抗発熱体の端部に接続されている、
請求項1に記載のセラミックヒータ。 - 前記大径部は、放熱フィンを備えている、
請求項1又は2に記載のセラミックヒータ。 - 請求項1~3のいずれか1項に記載のセラミックヒータであって、
前記第1端子に接続され、前記筒状シャフトの内部空間を経由して外部に引き出されるフレキシブルな第1端子用給電線
を備えたセラミックヒータ。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載のセラミックヒータであって、
前記セラミックプレートの前記環状領域に取り付けられた温度センサと、
前記温度センサに接続され、前記筒状シャフトの内部空間を経由して外部に引き出されるフレキシブルな信号線と、
を備えたセラミックヒータ。 - 請求項1~4のいずれか1項に記載のセラミックヒータであって、
直線部と該直線部の先端に設けられたS字部とを有する筒状の熱電対ガイドと、
前記熱電対ガイドに挿通された熱電対と、
を備え、
前記熱電対ガイドは、前記小径部の内部に前記直線部が配置され、前記小径部の内部から前記環状領域に向かって前記S字部が配置され、
前記熱電対は、前記セラミックプレートの前記環状領域の温度を測定する、
セラミックヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019058269A JP7257211B2 (ja) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | セラミックヒータ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019058269A JP7257211B2 (ja) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | セラミックヒータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020161284A JP2020161284A (ja) | 2020-10-01 |
JP7257211B2 true JP7257211B2 (ja) | 2023-04-13 |
Family
ID=72639682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019058269A Active JP7257211B2 (ja) | 2019-03-26 | 2019-03-26 | セラミックヒータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7257211B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7376753B1 (ja) | 2023-02-10 | 2023-11-08 | 日本碍子株式会社 | マルチゾーンヒータ |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000347523A (ja) | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Ricoh Co Ltd | 定着ローラ及び画像形成装置 |
JP2001168023A (ja) | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Tokyo Electron Ltd | 加熱処理装置 |
JP2002056954A (ja) | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Tokyo Electron Ltd | 熱板の製造方法及び熱板 |
US20020158060A1 (en) | 2000-02-28 | 2002-10-31 | Kyoji Uchiyama | Wafer heating apparatus and ceramic heater, and method for producing the same |
JP2004296532A (ja) | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Ibiden Co Ltd | ホットプレートユニット |
JP2010177595A (ja) | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体製造装置用ウエハ保持体、及びそれを備えた半導体製造装置 |
JP2017162878A (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板支持装置 |
US20180337081A1 (en) | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Applied Materials, Inc. | Electrical feeds with low loss coating materials for high temperature electrostatic chucks |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06105634B2 (ja) * | 1990-08-14 | 1994-12-21 | 日本碍子株式会社 | 半導体ウエハー加熱装置 |
JP2579809Y2 (ja) * | 1991-10-04 | 1998-09-03 | 国際電気株式会社 | 枚葉式cvd装置 |
-
2019
- 2019-03-26 JP JP2019058269A patent/JP7257211B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000347523A (ja) | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Ricoh Co Ltd | 定着ローラ及び画像形成装置 |
JP2001168023A (ja) | 1999-09-30 | 2001-06-22 | Tokyo Electron Ltd | 加熱処理装置 |
US20020158060A1 (en) | 2000-02-28 | 2002-10-31 | Kyoji Uchiyama | Wafer heating apparatus and ceramic heater, and method for producing the same |
JP2002056954A (ja) | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Tokyo Electron Ltd | 熱板の製造方法及び熱板 |
JP2004296532A (ja) | 2003-03-25 | 2004-10-21 | Ibiden Co Ltd | ホットプレートユニット |
JP2010177595A (ja) | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体製造装置用ウエハ保持体、及びそれを備えた半導体製造装置 |
JP2017162878A (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板支持装置 |
US20180337081A1 (en) | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Applied Materials, Inc. | Electrical feeds with low loss coating materials for high temperature electrostatic chucks |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020161284A (ja) | 2020-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7173219B2 (en) | Ceramic heaters | |
JP3897563B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP4640842B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP7216710B2 (ja) | マルチゾーンヒータ | |
JP2017157617A (ja) | 加熱部材及び静電チャック | |
JP3182120U (ja) | セラミックヒーター | |
TWI827619B (zh) | 靜電夾盤及基板固定裝置 | |
JP2012080103A (ja) | サセプター及びその製法 | |
CN113170539A (zh) | 陶瓷加热器 | |
JP2004171834A (ja) | 加熱装置 | |
JP7257211B2 (ja) | セラミックヒータ | |
JP4098112B2 (ja) | ヒータユニット | |
JP7248607B2 (ja) | セラミックヒータ | |
JP7123181B2 (ja) | セラミックヒータ | |
US20210242046A1 (en) | Ceramic heater | |
US11924929B2 (en) | Ceramic heater and thermocouple guide | |
JP5272485B2 (ja) | 基板支持部材 | |
JP2019220645A (ja) | 保持装置 | |
JP6775099B1 (ja) | セラミックヒータ | |
JP2020004928A (ja) | 静電チャック | |
TWI837264B (zh) | 陶瓷加熱器 | |
JP7477371B2 (ja) | 保持装置 | |
JP6789081B2 (ja) | 保持装置 | |
JP2022175819A (ja) | 保持装置 | |
JP2004193114A (ja) | 金属ヒータ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220826 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220930 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230328 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230403 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7257211 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |