JP7248209B2 - ３’－デオキシアデノシン－５’－ｏ－［フェニル（ベンジルオシキ－ｌ－アラニニル）］ホスフェート（ｎｕｃ－７７３８）の合成 - Google Patents
３’－デオキシアデノシン－５’－ｏ－［フェニル（ベンジルオシキ－ｌ－アラニニル）］ホスフェート（ｎｕｃ－７７３８）の合成 Download PDFInfo
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Description
本発明は、3’-デオキシアデノシン誘導体、及び特に、デオキシアデノシンの抗癌性ProTideであるNUC-7738（3’-デオキシアデノシン-5’-O-フェニル（ベンジルオシキ-L-アラニニル）］ホスフェート）の新規な製法に関する。
コルジセピンは、3’-デオキシアデノシン（3’dA）である。コルジセピンは、リボース部分における3’-ヒドロキシル基を欠くアデノシンのヌクレオシド類似体である。
3’-デオキシアデノシン（コルジセピン、3’dA）
3’-デオキシアデノシン（コルジセピン、3’dA）
コルジセピンは、抗ガン剤として、最も広範囲に研究されているが、特に効能があるとは認められていない。NUC-7738は、ある範囲の固体腫瘍、白血病、及びリンパ腫に対して、インビトロで優れた活性を示すコルジセピンのProTide誘導体である（国際公開第２０１６／０８３８３０号参照）。
NUC-7738
NUC-7738
本発明の特定の具体例の目的は、コルジセピンのプロドラッグ、及びコルジセピンホスフェートヌクレオシド（例えば、NUC-7738）のプロドラッグに転化される2’-保護デオキシアデノシンの利用を可能にすることにある。
本発明の特定の具体例の目的は、スケーラブルで、経済的及び／又は能率的である、例えば、公知の方法よりも、よりスケーラブルで、経済的及び／又は能率的であるコルジセピン誘導体を提供する方法を提供することにある。
本発明の特定の具体例の他の目的は、コルジセピン誘導体を、実質的に純粋な形で、及び同時に、合成及び分離から生ずる各種の微量不純物の量及び性質に関するUS FDAのような機関によって規定された必要な基準を満たす又は超える形で提供する方法を提供することにある。
本発明の特定の具体例は、上記目的のいくつか又は全てを満足する。
本発明の第１の態様によれば、NUC-7738
の製法が提供され、該方法は、工程ｄ）、ｅ）及びｆ）：
ｄ）式（II）
の化合物から保護基Ｐ１を除去して、式（I）
の2’-保護コルジセピンを提供し（ここで、Ｐ２は保護基であり、及びＰ３及びＰ４は、独立して、H及び保護基の中から選ばれる）；
ｅ）式（I）の化合物を、塩基（B1）の存在下、式（III）
（式中、LGは脱離基である）の化合物と反応させて、式（IV）
の化合物を提供し；
ｆ）保護基Ｐ２を除去し、及びＰ３及びＰ４が保護基である場合、Ｐ３及びＰ４を除去して、NUC-7738を提供する
ことを含んでなる。
ｄ）式（II）
ｅ）式（I）の化合物を、塩基（B1）の存在下、式（III）
ｆ）保護基Ｐ２を除去し、及びＰ３及びＰ４が保護基である場合、Ｐ３及びＰ４を除去して、NUC-7738を提供する
ことを含んでなる。
方法は、工程ｃ）：
ｃ）式（V）
の化合物の2’-ヒドロキシ基に、保護基Ｐ２を導入して、式（II）の化合物を提供すること
を含むことができる。
ｃ）式（V）
を含むことができる。
方法は、工程ｂ）：
ｂ）式（VI）
の化合物を、水素化物源と反応させて、式（V）の化合物を提供すること
を含むことができる。
ｂ）式（VI）
を含むことができる。
方法は、工程ａ）：
ａ）式（VII）
の化合物の5’-ヒドロキシ基に、保護基Ｐ１を導入して、式（VI）の化合物を提供すること
を含むことができる。
ａ）式（VII）
を含むことができる。
ヒドロキシル基用の保護基（例えば、Ｐ１及びＰ２）は、独立して、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール及び-C1-C4-アルキル-O-C1-C4-アルキルから選ばれる。
いくつかの具体例によれば、Ｐ１は、独立して、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール及び-C1-C4-アルキル-O-C1-C4-アルキルから選ばれる。
Ｐ１は、独立して、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3、任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル、及び任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリルから選ばれる。好ましくは、Ｐ１は、-C(O)O-tBu、-C(O)O-ベンジル及び-C(O)OCH2-アリルから選ばれる。このように、Ｐ１はC(O)OCH2-アリールでもよい。Ｐ１は-C(O)O-tBuでもよい。
或いは、Ｐ１は、独立して、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル及び任意に置換された-C(O)-アリールから選ばれてもよく、例えば、Ｐ１は、独立して、ベンゾイル及びアセチルから選ばれてもよい。
さらに、Ｐ１は任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3でもよい。Ｐ１は-Si(C1-C4-アルキル)3でもよい。アルキル基は未置換でもよい。Ｐ１はt-ブチルジメチルシリルでもよい。
いくつかの具体例によれば、Ｐ２は、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール及び-C1-C4-アルキル-O-C1-C4-アルキルから選ばれる。
Ｐ２は、独立して、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3、任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル及び任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリルから選ばれてもよい。好ましくは、Ｐ２は、-C(O)O-tBu、-C(O)O-ベンジル及び-C(O)OCH2-アリルから選ばれる。このように、Ｐ２は-C(O)OCH2-アリールでもよい。Ｐ２は-C(O)O-tBuでもよい。
或いは、Ｐ２は、独立して、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル及び任意に置換された-C(O)-アリールから選ばれてもよく、例えば、Ｐ２は、独立して、ベンゾイル及びアセチルから選ばれてもよい。
さらに、Ｐ２は任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3でもよい。Ｐ２は、-Si(C1-C4-アルキル)3でもよい。Ｐ２はt-ブチルジメチルシリルでもよい。
Ｐ１及びＰ２は、それぞれ、任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3であってもよい。Ｐ１及びＰ２は、それぞれ、任意に置換された-Si(C1-C4-アルキル)3であってもよい。アルキル基は未置換であってもよい。Ｐ１及びＰ２は、それぞれ、t-ブチルジメチルシリルでもよい。
発明者らは、2’及び5’の両方のシリル保護基（例えば、TBDMS）による保護が、NUC-7738の最大の全収率を提供するとの知見を得た。直交保護基戦略は、最適であろうと期待されていたが、これは事実ではないことが認められた。これは、一つには、他の保護基を使用する保護工程についての低収率によるものである。特に、TFAを使用する5’-TBDMSの選択的脱保護は、非常に効果的であることを示し、保護工程、例えば、工程ａ）及びｃ）について低収率を有する直交保護基を使用するアプローチよりも高い収率を提供する。
アミノ基用の保護基（例えば、Ｐ３及びＰ４）は、各場面において、独立して、-C(O)OC1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、-S(O)2-C1-C6-アルキル、任意に置換された-S(O)2-アリール、及び任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3から選ばれる。
Ｐ３は、独立して、-C(O)OC1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、-S(O)2-C1-C6-アルキル、任意に置換された-S(O)2-アリール、及び任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3から選ばれる。
Ｐ３は、独立して、-C(O)OC1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリル、任意に置換された-C(アリール)3、及び任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3から選ばれてもよい。好ましくは、Ｐ３は、-C(O)O-tBu、-C(O)O-ベンジル及び-C(O)OCH2-アリルから選ばれる。このように、Ｐ３は-C(O)OCH2-アリールでもよい。
或いは、Ｐ３は、独立して、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル及び任意に置換された-C(O)-アリールから選ばれ、例えば、Ｐ３は、独立して、ベンゾイル及びアセチルから選ばれる。
或いは、Ｐ３はＨである。
Ｐ４は、独立して、Ｈ、-C(O)OC1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)OCH2-アリール、-C(O)-O-アリル、-C(O)-O-CH2-フルオレニル、任意に置換された-C(アリール)3、任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール、任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル、任意に置換された-C(O)-アリール、-S(O)2-C1-C6-アルキル、任意に置換された-S(O)2-アリール、及び任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3から選ばれる。
好ましくは、Ｐ４はHである。
Ｐ３及びＰ４は、それぞれ、Hであってもよい。
Ｐ３及びＰ４が、それぞれ、Hであり、及びＰ２がt-ブチルジメチルシリルであってもよい。
Ｐ３及びＰ４が、それぞれ、Ｈであり、及びＰ１及びＰ２が、それぞれ、t-ブチルジメチルシリルであってもよい。
工程ｄ）
Ｐ１が酸感受性である（例えば、トリチル、C(O)OtBu、MOM、MEM、2,4-ジメトキシベンジル、2,3-ジメトキシベンジル、-C(Me)2-）場合、工程ｄ）は、好適な酸を使用して行われる。酸は、ブレンステッド酸（例えば、TsOH、TFA、リン酸、HCl、又はギ酸）又はルイス酸（例えば、ZnBr2、CeCl3）である。ルイス酸（例えば、ZnBr2）はあまり好ましくない。同様に、HClもあまり好ましくない。酸はTFAである。
Ｐ１が酸感受性である（例えば、トリチル、C(O)OtBu、MOM、MEM、2,4-ジメトキシベンジル、2,3-ジメトキシベンジル、-C(Me)2-）場合、工程ｄ）は、好適な酸を使用して行われる。酸は、ブレンステッド酸（例えば、TsOH、TFA、リン酸、HCl、又はギ酸）又はルイス酸（例えば、ZnBr2、CeCl3）である。ルイス酸（例えば、ZnBr2）はあまり好ましくない。同様に、HClもあまり好ましくない。酸はTFAである。
Ｐ１が、シリル基（例えば、トリエチルシリル、又はt-ブチルジメチルシリル）である場合、工程ｄ）は、好適な酸（例えば、CAN、TsOH、TFA、AcOH、PTSA、PPTS、クエン酸）を使用して、又は好適なフッ素源（例えば、フッ化テトラブチルアンモニウム、フルオロケイ酸、HF）を使用して行われる。酸はTFAである。
Ｐ１及びＰ２は、それぞれ、シリル（例えば、TBDMS）であってもよい。このような場面では、2’シリル保護基の存在下における2’保護基を選択的に除去するための好適な試薬はTFAである。
反応は、アセトニトリル及び水の混合物中で行われる。反応は、アセトニトリル：水の比が、２：１～１０：１の範囲内である混合物中で行われる。反応は、アセトニトリル：水の比が、３：１～６：１の範囲内である混合物中で行われる。反応は、０～２０℃の範囲の温度において行われる。
式（II）の化合物は、親のヌクレオシド（コルジセピン）から、ヒドロキシ及び任意にアミノ基を、好適な保護基にて保護することによって合成される。保護基（例えば、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３及び／又はＰ４）は、通常は、例えば、「有機化学における保護基」，J W F McOmie編(1973)；「有機合成における保護基」，２版，T W Greene (1991)；及び「保護基」，３増補版，P. J Koscienski (1995)に記載されているように、一般的な保護基方法論を使用して付加及び除去される。
初めに、親ヌクレオシドの5’-ヒドロキシ基を、3’及び／又は2’-ヒドロキシ及び／又はアミノ基を保護するために使用されるものに対してオルト位の保護基（すなわち、所望の2’-ヒドロキシル及び／又はアミノ保護基を除去することなく5’-ヒドロキシル基から除去される基）にて保護することによって、式（ＩＩ）の化合物を調製することが必要である。同時に又は続いて、2’-ヒドロキシル及び／又はアミノ基を、所望の保護基にて保護する。特定の保護基（例えば、TBDMS）は、同時に、2’-ヒドロキシル及び5’-ヒドロキシルに導入され、ついで、2’-ヒドロキシルから除去されることなく、5’-ヒドロキシル基から選択的に除去される。
或いは、式（II）の化合物は、ここに記載の工程ａ）～ｃ）の１又はそれ以上（又は全部）を介して調製される。
工程ｅ）
LGは、ハロゲン、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールオキシ、又は置換フェノキシから選ばれる。
LGは、ハロゲン、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールオキシ、又は置換フェノキシから選ばれる。
LGはハロゲン、例えば、塩素でもよい。この場合、式（III）の化合物は、
である。
LGは、置換フェノキシでもよい。この場合、式（III）の化合物は、式（VIII）
の化合物である。
Ｒ１は、ハロゲン（例えば、フッ素、臭素、塩素又はヨウ素から選ばれる）、トリフルオロメチル、シアノ、及びニトロからなる群から選ばれる。ａは１～５の整数である。Ｒ１は、各場面において、ハロゲン、例えば、フッ素である。ａは５であってもよい。
LGがフェノキシである場合、置換フェノキシ基の転置は、ホスフェート立体中心の反転によって選択的に行われる。
ProTideは、典型的には、ホスフェート中心における２つのジアステレオ異性形エピマーとして存在する。NUC-7738の２つのジアステレオ異性体は、（Sp）-NUC-7738
、
（Rp）-NUC-7738
である。
（Rp）-NUC-7738
フェノキシ前駆体の（Sp）-ジアステレオ異性体（すなわち、式（VIII）の化合物）は、ProTideの（Sp）-ジアステレオ異性体を提供し、前駆体の（Rp）-ジアステレオ異性体は、ProTideの（Rp）-ジアステレオ異性体を提供する。
このように、方法は、ジアステレオ異性的に濃縮された形でNUC-7738を製造する方法であり、及び式（VIII）の化合物は、ジアステレオ異性的に濃縮された形である。
方法は、ジアステレオ異性的に濃縮された形でNUC-7738の（Rp）-ジアステレオ異性体を製造する方法であり、及び式（VIII）の化合物は、ジアステレオ異性的に濃縮された形の（Rp）-ジアステレオ異性体である。
方法は、ジアステレオ異性的に濃縮された形でNUC-7738の（Sp）-ジアステレオ異性体を製造する方法であり、及び式（VIII）の化合物は、ジアステレオ異性的に濃縮された形の（Sp）-ジアステレオ異性体である。
或いは、方法は、NUC-7738をジアステレオ異性体の混合物として製造する方法であり、及び式（III）の化合物（例えば、式（VIII）の化合物）は、ジアステレオ異性体の混合物である。
塩基（B1）は窒素塩基である。窒素塩基としては、N-アルキルイミダゾール（例えば、N-メチルイミダゾール（NMI））、イミダゾール、任意に置換されたピリジン（例えば、コリジン、ピリジン、2,6-ルチジン）及びトリアルキルアミン（例えば、トリエチルアミン、及びジイソプロピルエチルアミン）が含まれる。或いは、塩基（B1）は、有機金属塩基又は金属水素化物塩基（例えば、NaH）である。このように、塩基は、グリニャール化合物（すなわち、ハロゲン化アルキルマグネシウム）である。例示すれば、グリニャール化合物としては、例えば、t-BuMgCl、t-BuMgBrのようなハロゲン化t-ブチルマグネシウムが含まれる。好ましくは、塩基はt-BuMgClである。
工程ｅ）は、溶媒S1中で行われる。
方法は、
ｇ）式（VIII）の化合物のRp-ジアステレオ異性体又は式（VIII）の化合物の（Rp）-及び（Sp）-ジアステレオ異性体の混合物を溶媒（S2）中に懸濁又は溶解させること、
ｈ）溶液又は懸濁液を、塩基（B2）にて処理して、式（VIII）の化合物の（Sp）-ジアステレオ異性体を、実質的にジアステレオ異性的に濃縮された形で得ること、及び
ｉ）式（VIII）の（Sp）-ジアステレオ異性体を単離すること
を含んでなる。
ｇ）式（VIII）の化合物のRp-ジアステレオ異性体又は式（VIII）の化合物の（Rp）-及び（Sp）-ジアステレオ異性体の混合物を溶媒（S2）中に懸濁又は溶解させること、
ｈ）溶液又は懸濁液を、塩基（B2）にて処理して、式（VIII）の化合物の（Sp）-ジアステレオ異性体を、実質的にジアステレオ異性的に濃縮された形で得ること、及び
ｉ）式（VIII）の（Sp）-ジアステレオ異性体を単離すること
を含んでなる。
塩基（B2）は、有機アミン塩基（例えば、１級、２級、３級アミン、環状アミン；例示すれば、有機アミン塩基としては、N-アルキルイミダゾール［例えば、N-メチルイミダゾール（NMI）、イミダゾール、任意に置換されたピリジン（例えば、コリジン、ピリジン、2,6-ルチジン）、及びトリアルキルアミン（例えば、トリエチルアミン、及びジイソプロピルエチルアミン）］；又は無機塩基（例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属アリールオキシド）からなる群から選ばれる。好ましくは、B2は３級アミンである。このように、B2はトリアルキルアミンでもよい。最も好ましくは、B2はトリエチルアミンである。
溶媒S2は、アミド、エーテル、エステル、ケトン、芳香族炭化水素、ハロゲン化溶媒、ニトリル、スルホキシド、スルホン及びその混合物からなる群から選ばれる（ただし、これらに限定されない）。S2は、有機溶媒でもよい。有機溶媒としては、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル）；ケトン（例えば、アセトン及びメチルイソブチルケトン）；ハロゲン化溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、及び1,2-ジクロロエタン）；炭化水素（例えば、シクロヘキサンペンタン、ヘキサン、ヘプタン）、芳香族溶媒（例えば、ベンゼン及びトルエン）、エステル（例えば、酢酸エチル）及びアミド（例えば、DMF、NMP）；又はその混合物が含まれる（ただし、これらに限定されない）。好ましくは、S2は、炭化水素であるか、又は炭化水素を含んでなる混合物である。S2が混合物である場合、炭化水素５０％以上（例えば、７０％以上）を含んでなる混合物である。炭化水素はヘキサンでもよい。炭化水素はヘプタンでもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンと、極性有機溶媒（例えば、エーテル、エステル、アルコール又はハロゲン化溶媒）との混合物でもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンと極性有機溶媒との混合物（ヘキサン又はヘプタン５０容量％以上（例えば、７０容量％以上）を含んでなる）でもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンと酢酸エチルとの混合物でもよい。S2は、ヘプタン及び酢酸エチルの混合物でもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンと酢酸エチルとの混合物（ヘキサン又はヘプタン５０容量％以上（例えば、７０容量％以上）を含んでなる）でもよい。S2は、ヘプタンと酢酸エチルとの混合物（ヘプタン５０容量％以上（例えば、７０容量％以上）を含んでなる）でもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンとメチル-t-ブチルエーテルとの混合物でもよい。S2は、ヘキサンとメチル-t-ブチルエーテルとの混合物でもよい。S2は、ヘキサン又はヘプタンとメチル-t-ブチルエーテルとの混合物（ヘキサン又はヘプタン５０容量％以上（例えば、７０容量％以上）を含んでなる）でもよい。S2は、ヘキサンとメチル-t-ブチルエーテルとの混合物（ヘキサン５０容量％以上（例えば、７０容量％以上）を含んでなる）でもよい。
工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、２時間以上、撹拌することを含む。工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、６時間以上、撹拌することを含む。工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、１０時間以上、撹拌することを含む。工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、１６時間以上、撹拌することを含む。工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、３６時間以下、撹拌することを含む。
工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、温度０～５０℃において、撹拌することを含む。工程ｈ）は、式（VIII）の化合物及び塩基B2の混合物を、温度１０～３５℃で撹拌することを含む。
特定の具体例では、式（VIII）の化合物は、下記の中から選ばれる化合物である：
注：*は亜リン酸におけるキラル中心を示す。
注：*は亜リン酸におけるキラル中心を示す。
式（VIII）の化合物は、
である。
式（VIII）の化合物は、
である。
工程ｅ）は、有機溶媒（S1）中で行われる。有機溶媒としては、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル）；ケトン（例えば、アセトン、及びメチルイソブチルケトン）；ハロゲン化溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、及び1,2-ジクロロエタン）；及びアミド（例えば、DMF、NMP）；又はその混合物が含まれる（ただし、これらに限定されない）。工程ａ）が、グリニャール化合物の存在下で行われる場合、有機溶媒は、好ましくは、エーテルである。最も好ましくは、溶媒はテトラヒドロフランである。
第１の態様の工程ｅ）が窒素塩基の存在下で行われる場合、有機溶媒は、最も好ましくは、ハロゲン化溶媒又はアミドである。
反応は、通常、室温、例えば、約－５℃～約４０℃において行われる。好ましくは、反応温度は、約２５～約３０℃である。反応中、約１５分～約１６時間の期間、好ましくは、約３０～約６０分間、撹拌される。
工程ｆ）
Ｐ２、Ｐ３及びＰ４の２つ以上が保護基である場合、脱保護工程ｆ）は、２又は３の個々の脱保護反応を含んでなる。これは、２又は３の異なった保護基が使用され、これら２又は３の保護基が同じ条件下では除去されないケースである。
Ｐ２、Ｐ３及びＰ４の２つ以上が保護基である場合、脱保護工程ｆ）は、２又は３の個々の脱保護反応を含んでなる。これは、２又は３の異なった保護基が使用され、これら２又は３の保護基が同じ条件下では除去されないケースである。
しかし、脱保護工程が、全ての保護基が除去される単一の脱保護反応を含んでなることもできる（工程ｆ））。このように、Ｐ２、Ｐ３及びＰ４が、同一の条件下で除去される保護基であってもよい。Ｐ２、Ｐ３及びＰ４が同一の保護基であってもよい。
保護基が酸感受性である（例えば、トリチル、C(O)OtBu、MOM、MEM、2,4-ジメトキシベンジル、2,3-ジメトキシベンジル、-C(Me)2-）場合、脱保護工程は、好適な酸を使用して行われる。酸は、ブレンステッド酸（例えば、TFA、リン酸、HCl、又はギ酸）又はルイス酸（例えば、ZnBr2、CeCl3）である。ルイス酸（例えば、ZnBr2）は、あまり好ましくない。同様に、HClもあまり好ましくない。好ましくは、酸はTFAである。
保護基が塩基感受性である（例えば、アセチル、ベンゾイル）場合、脱保護工程は、好適な塩基、例えば、NH3水溶液、又はNaOH水溶液を使用して行われる。塩基感受性基は、あまり好ましくない。
保護基がシリル基（例えば、トリエチルシリル、又はt-ブチルジメチルシリル）である場合、脱保護工程は、好適な酸（例えば、TFA、PPTS、TsOH、酢酸、クエン酸）を使用して、又は好適なフッ素源（例えば、フッ化テトラブチルアンモニウム、フルオロケイ酸、HF）を使用して行われる。
保護基が、ベンジル基又はC(O)Oベンジル基である場合、脱保護工程は、H2及び好適な触媒（例えば、Pd/C）を使用して行われる。このような保護基は、あまり好ましくない。
保護基が、4-メトキシ-ベンジル、2,3-ジメトキシベンジル、2,4-ジメトキシベンジル、又はC(O)O-(4-メトキシベンジル)である場合、脱保護工程は、好適な酸化剤（例えば、メタ-クロロ過安息香酸）を使用して行われる。
保護基が-C(O)-O-アリルである場合、脱保護工程は、(PPh3)4Pdを使用して行われる。
保護基が-C(O)-O-CH2-フルオレニルである場合、脱保護工程は、ピペリジンを使用して行われる。
脱保護工程は、有機溶媒又はその混合物中で行われる。例示すれば、有機溶媒としては、ハロゲン化溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン）；アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール）；及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル）が含まれる（ただし、これらに限定されない）。
脱保護工程が酸（例えば、TFA）の存在下で行われる場合、有機溶媒は、好ましくは、ハロゲン化溶媒、例えば、ジクロロメタンである。
脱保護反応は、例えば、－１０～約３０℃の範囲の温度（例えば、～約１０℃）において行われる。反応を行う際の一般的な温度は、－５～５℃である。反応中、約１５分～約１６時間、好ましくは、約１～約４時間、さらに好ましくは、約２～約３時間の時間で撹拌されてもよい。
工程ａ）及びｃ）
保護基Ｐ１及びＰ２の導入は、一般に、例えば、「有機化学における保護基」，J W F McOmie編 (1973)；「有機合成における保護基」，２版， T W Greene (1991)；及び「保護基」，３増補版，P. J Koscienski (1995)に記載されているように、一般的な保護基方法論を使用して付加及び除去される。
保護基Ｐ１及びＰ２の導入は、一般に、例えば、「有機化学における保護基」，J W F McOmie編 (1973)；「有機合成における保護基」，２版， T W Greene (1991)；及び「保護基」，３増補版，P. J Koscienski (1995)に記載されているように、一般的な保護基方法論を使用して付加及び除去される。
特に、Ｐ１及び／又はＰ２がシリルである場合、これらは、塩基（例えば、アミン塩基）の存在下、所望のシリル基及び脱離基、例えば、ハロゲン化物又はスルホネートを含んでなるシリル化剤を使用して導入される。シリル化剤の脱離基は、ハロゲン化物、例えば、塩化物であってもよく、又はトリフレートであってもよい。シリル化剤はTBDMSClであってもよい。
塩基は、トリアルキルアミン（例えば、TEA、DIPEA）であってもよく、又は含窒素複素環化合物（例えば、イミダゾール又はピリジン）であってもよい。
溶媒は、DCM及びDMFから選ばれる。
工程ｂ）
水素化物源は、一般には、水素化物還元剤である。好ましくは、水素化物源は、LiEt3BHである。
水素化物源は、一般には、水素化物還元剤である。好ましくは、水素化物源は、LiEt3BHである。
エポキシドの開環工程の間に、5’-ヒドロキシが保護されないとすると、コルジセピンが形成される。コルジセピンは高度に水溶性であり、これは、反応混合物からの抽出が、有意な量の無機不純物を除去することなくしては、行われないことを意味している。無機不純物は、よく知られた技術を使用してコルジセピンから分離されるが、これはリソースインテンシブであり、収率のロスにつながる。この理由のため、エポキシドを開環する前に、5’-ヒドロキシ基を、最適に保護する。ついで、有機溶媒（EtOAc）を使用して、開環生成物（5’保護コルジセピン）を、反応混合物から単離できる。NUC-7738の従来技術による合成法に対する変更により、エポキシドの開環収率は、６５％から９０％に増大する。
本発明の第２の態様では、実質的にジアステレオ異性的に純粋な形の(Sp)-NUC-7738
が提供される。式（VIII）の化合物の(S)-ジアステレオ異性体を形成する優先的な異性化は、NUC-7738のSp異性体がRp異性体よりも容易に生成されることを意味する。
本発明の第３の態様では、実質的にジアステレオ異性的に純粋な形の(Rp)-NUC-7738
が提供される。
本発明は、本発明の第２及び第３の態様の化合物及び薬学上許容される賦形剤を含んでなる医薬組成物も提供する。
本発明は、癌（例えば、固形腫瘍又は白血病）を治療する方法も提供し、癌方法は、必要とする対象に、治療上有効な量の本発明の第２及び第３の態様の化合物を投与することを含んでなる。
本発明の第２及び第３の態様の化合物は、医学的利用のものである。本発明の第２及び第３の態様の化合物は、癌（例えば、固形腫瘍又は白血病）に治療における使用のためのものである。
本発明の第２及び第３の態様の生成物は、本発明の第１の態様によって得られる（又は得られた）ものである。
基「任意に置換された-Si(C1-C6-アルキル)3」は、-Si(C1-C4-アルキル)3基でもよい。基（すなわち、アルキル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、トリエチルシリル、及びt-ブチル-ジメチルシリルが含まれる。
基「任意に置換された-C(O)-C1-C6-アルキル」は、-C(O)-C1-C4-アルキル基でもよい。基（すなわち、アルキル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、アセチル、及びプロピオニルが含まれる。
基「任意に置換された-C(O)-アリール」は、-C(O)-フェニル基でもよい。基（すなわち、フェニル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、ベンゾイルが含まれる。
基「任意に置換された-C(O)-OC1-C6-アルキル」は、-C(O)-OC1-C4-アルキル基でもよい。基（すなわち、アルキル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、-C(O)-O-メチル、及び-C(O)-O-エチルが含まれる。特に好ましい例はC(O)OtBuである。
基「任意に置換された-(C1-C3-アルキレン)-アリール」は、好ましくは、任意に置換されたベンジル基である。実例としては、ベンジル、フェネチル、4-メトキシベンジル、4-ニトロベンジル、4-ブロモベンジル、2,3-ジメトキシベンジル、及び2,4-ジエトキシベンジルが含まれる。
基「任意に置換された- C(O)OCH2-アリール」は、好ましくは、任意に置換された-C(O)Oベンジル基である。実例としては、-C(O)ベンジル、及び-C(O)O-(4-メトキシベンジル)が含まれる。
基「任意に置換された-C1-C4-アルキル-O-C1-C4-アルキル」は、-C1-C2-アルキル-O-C1-C2-アルキル基でもよい。基（すなわち、アルキル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、メトキシ-メチル(MOM)、及び2-メトキシ-エトキシ-メチル(MEM)が含まれる。
基「任意に置換された-S(O)2-C1-C6-アルキル」は、-S(O)2-C1-C4-アルキル基でもよい。基（すなわち、アルキル基）は、好ましくは、未置換である。実例としては、メタンスルホネートが含まれる。
基「任意に置換された-S(O)2-アリール」は、-S(O)2-フェニル基でもよい。実例としては、フェニルスルホネート、4-メチルフェニルスルホネート、及び4-ニトロフェニルスルホネートが含まれる。
基「任意に置換された-C(アリール)3」は、-C(フェニル)3基でもよい。実例としては、トリチルが含まれる。
本明細書を通して、「ジアステレオ異性的に濃縮された形」及び「実質的にジアステレオ異性的に純粋な形」とは、ジアステレオ異性純度が９５％より大であることを意味する。「ジアステレオ異性的に濃縮された形」及び「実質的にジアステレオ異性的に純粋な形」とは、ジアステレオ異性純度が９８％より大、９９％より大、又は99.5％より大であることを意味してもよい。
上述のアルキル及びアリール基（例えば、フェニル（ベンジル基におけるフェニル基を含む））のいずれかは、任意に、化学的に可能であれば１～３個の置換基によって置換されており、各置換基は、各場面において、独立して、オキソ、=NRa、=NORa、ハロ、ニトロ、シアノ、NRaRa、NRaS(O)2Ra、NRaCONRaRa、NRaCO2Ra、ORa；SRa、SORa、SO3Ra、SO2Ra、SO2NRaRa、CO2RaC(O)Ra、CONRaRa、C1-C4-アルキル、C2-C4-アルケニル、C2-C4-アルケニル、及びC1-C4ハロアルキル（ここで、Raは、各場面において、独立して、H、C1-C4アルキル及びC1-C4ハロアルキルから選ばれる）からなる群から選ばれる。
上述のアルキル基のいずれかは未置換であってもよい。
上述のアリール基（例えば、フェニル（ベンジル基におけるフェニル基を含む））のいずれかは、任意に、化学的に可能であれば１～３個の置換基によって置換されていてもよく、各置換基は、各場面において、独立して、ハロ、ニトロ、シアノ、NRaRa、NRaS(O)2Ra、NRaCONRaRa、NRaCO2Ra、ORa；SRa、SORa、SO3Ra、SO2Ra、SO2NRaRa、CO2RaC(O)Ra、CONRaRa、C1-C4-アルキル、C2-C4-アルケニル、C2-C4-アルケニル、及びC1-C4ハロアルキル（ここで、Raは、各場面において、独立して、H、C1-C4アルキル及びC1-C4ハロアルキルから選ばれる）からなる群から選ばれる。
上述のアリール基（例えば、フェニル（ベンジル基におけるフェニル基を含む））のいずれかは、任意に、１～３個の置換基によって置換されていてもよく、各置換基は、各場面において、独立して、ハロ、ニトロ、ORa、C1-C4-アルキル、C1-C4ハロアルキル（ここで、Raは、各場面において、独立して、H、C1-C4アルキル及びC1-C4ハロアルキルから選ばれる）からなる群から選ばれる。
アリール基は、必要に応じて、結合価要件を満足するように炭素原子６～２０個を有する。アリール基は、ヒュッケル則を満足する炭素環基である（すなわち、π電子2(2n+1)個を含有する炭素環系を含有する）。アリール基は、任意に置換されたフェニル基、任意に置換されたビフェニル基、任意に置換されたナフタレニル基、又は任意に置換されたアントラセニル基でもよい。同様に、アリール基は、非芳香族炭素環部分を含んでいてもよい。好ましくは、アリール基は、任意に置換されたフェニル基である。
アルキル基は直鎖状又は分枝状である。このように、例えば、C4アルキル基は、n-ブチル、i-ブチル、又はt-ブチルである。
脱保護が、酸（例えば、TFA）の存在下で行われる場合、脱保護の後に得られた生成物の単離は、一般に、脱保護工程において使用した過剰の酸をクエンチし、水と混和しない有機溶媒にて生成物を抽出し、有機溶媒の蒸発により生成物を回収することによって行われる。
抽出において使用可能な有機溶媒の例としては、エステル、例えば、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸イソプロピル等；塩素化溶媒、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム等；芳香族炭化水素溶媒、例えば、トルエン、キシレン等が含まれ、好ましくは、酢酸エチルである。
特定の具体例では、本発明の第１の態様の方法から得られたProTideを精製することが望ましい。精製方法は、当業者にはよく知られており、クロマトグラフィー（例えば、カラムクロマトグラフィー）、再結晶、及び蒸留が含まれる。他の具体例では、精製は不要である。
ここに開示する具体例について、各種の変更が可能であることが理解されるであろう。それ故、上記記載は、限定を意図するものではなく、単なる好適な具体例の例示を目的とするものである。例えば、本発明の実施についての最良の形態として記載し、例示する機能は、単に説明を目的とするものである。本発明の精神の範囲を逸脱することなく、当業者により、他の配置及び方法も実施可能である。さらに、当業者であれば、本明細書の範囲及び精神内において、他の変更を想像できるであろう。
本明細書を通して、次の略称を使用している：
ACN：アセトニトリル、AIBBr：臭化アセトキシイソブチリル、BOC：t-ブチルカーボネート、CAN：硝酸セリウムアンモニウム、DCM：ジクロロメタン、DIPEA：ジイソプロピルエチルアミン、DMAP：N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、DMF：N,N-ジメチルホルムアミド、eq.：モル当量、FUDR：5-フルオロ-2’-デオキシウリジン、IPA：イソプロピルアルコール、MEM：2-メトキシエトキシメチル、MOM：メトキシメチル、MTBE：メチル-t-ブチルエーテル、NMP：N-メチル-2-ピロリドン、Np：1-ナフチル、PPTS：p-トルエンスルホン酸ピリジニウム、PTSA：p-トルエンスルホン（トシル）酸、RT：室温、TBAF：フッ化テトラブチルアンモニウム、TBDMS ：t-ブチルジメチルシリル、TEA：トリエチルアミン、Tf：トリフルオロメチルスルホネート（トリフレート）、TFA：トリフルオロ酢酸、THF：テトラヒドロフラン、TsOH：p-トルエンスルホン（トシル）酸。
原料の質量（g）当たりの容積（ml）を表示するためにVを使用している。従って、原料が１gである場合、１０Vは、示された液体１０mlを意味する。
ACN：アセトニトリル、AIBBr：臭化アセトキシイソブチリル、BOC：t-ブチルカーボネート、CAN：硝酸セリウムアンモニウム、DCM：ジクロロメタン、DIPEA：ジイソプロピルエチルアミン、DMAP：N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、DMF：N,N-ジメチルホルムアミド、eq.：モル当量、FUDR：5-フルオロ-2’-デオキシウリジン、IPA：イソプロピルアルコール、MEM：2-メトキシエトキシメチル、MOM：メトキシメチル、MTBE：メチル-t-ブチルエーテル、NMP：N-メチル-2-ピロリドン、Np：1-ナフチル、PPTS：p-トルエンスルホン酸ピリジニウム、PTSA：p-トルエンスルホン（トシル）酸、RT：室温、TBAF：フッ化テトラブチルアンモニウム、TBDMS ：t-ブチルジメチルシリル、TEA：トリエチルアミン、Tf：トリフルオロメチルスルホネート（トリフレート）、TFA：トリフルオロ酢酸、THF：テトラヒドロフラン、TsOH：p-トルエンスルホン（トシル）酸。
原料の質量（g）当たりの容積（ml）を表示するためにVを使用している。従って、原料が１gである場合、１０Vは、示された液体１０mlを意味する。
［実施例］
下記の実施例によって、本発明を更に説明するが、これら実施例は、単に説明のためのものであって、本発明の範囲を限定すること意図するものではない。
下記の実施例によって、本発明を更に説明するが、これら実施例は、単に説明のためのものであって、本発明の範囲を限定すること意図するものではない。
2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5のジアステレオ異性体混合物の調製（式(VIII)の化合物の実例）
塩化メチレン（１L）にL-アラニンベンジルエステル塩酸塩1（100g）を含む混合物に、撹拌下、２５～３５℃において、フェニルジクロロホスフェート2（７７mL）を添加し、得られた混合物を－７０～－７８℃に冷却し、トリエチルアミン（130.5mL）を添加し、混合物を、同じ温度において、１時間、撹拌した。反応系の温度を２５～３５℃に上げ、２時間、撹拌した。反応完了後、反応系を、３５℃以下において、減圧下で濃縮して、残渣を得た。得られた残渣に、２５～３５℃において、ジイソプロピルエーテル（２L）を添加し、同じ温度において、３０分間、撹拌した。反応系を濾過し、ジイソプロピルエーテル（500mL）にて洗浄し、続いて、濾液を、３５℃以下において、真空下で濃縮して、フェニル-(ベンゾキシ-L-アラニニル)-ホスホロクロリデート3を得た。得られた化合物を、２５～３５℃において、塩化メチレン（１L）に溶解し、－５℃～－１０℃に冷却した。反応系に、同じ温度において、ペンタフルオロフェノール4（85.5g）、トリエチルアミン（65.2mL）を添加し、２時間、撹拌した。反応完了後、反応系を、３５℃以下において、真空下で濃縮し、２５～３５℃において、酢酸エチル（１L）を添加し、同じ温度において、３０分間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチル（１L）で洗浄した。濾液を、水（１L）、１０％炭酸ナトリウム（２×１L）、塩水（１L）での洗浄に供し、無水硫酸ナトリウムにて有機層を乾燥し、３５～４５℃において、真空下で濃縮して、題記化合物5のジアステレオ異性体混合物を、白色の半固体として得た。
収量：210g
HPLCによるキラル純度(%面積)：33.74：66.26%（Rp：Sp）
収量：210g
HPLCによるキラル純度(%面積)：33.74：66.26%（Rp：Sp）
2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5のS p -ジアステレオ異性体の分離（式(VIII)の化合物の実例）
化合物5のジアステレオ異性体混合物（210g；Rp：Sp＝3.74：66.26%）を、２５～３５℃において、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（１.２L）に充填し、１時間撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（300ml）で洗浄して、化合物5のジアステレオ異性体混合物を得た。
収量：112g
HPLCによるキラル純度(%面積)：22.13：77.87%（Rp：Sp）
濾液を真空下で濃縮して、化合物5のジアステレオ異性体混合物（75g；Rp：Sp＝65.43：34.57%）を得た。
式（IIb）の化合物のジアステレオ異性体混合物（112g； Rp：Sp＝22.13：77.87%）に、２５～３５℃において、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（1.2L）を充填し、１時間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（300ml）にて洗浄して、化合物5の実質的に純粋なSp-ジアステレオ異性体を得た。
収量：８０g
HPLCによるキラル純度（％面積）：0.20：99.80％
1H NMR (300 MHz, DMSO-d6)：7.18-7.41(m, 10H), 6.91-6.99(d, 1H), 5.10(s, 2H), 4.01-4.11(m, 1H), 1.30-1.32(d, 3H)
ESI-MS (m/z)：524 (M+1)
濾液を真空下で濃縮して、化合物5のジアステレオ異性体混合物を得た（２８g；Rp：Sp＝80.77：19.23%）。
収量：112g
HPLCによるキラル純度(%面積)：22.13：77.87%（Rp：Sp）
濾液を真空下で濃縮して、化合物5のジアステレオ異性体混合物（75g；Rp：Sp＝65.43：34.57%）を得た。
式（IIb）の化合物のジアステレオ異性体混合物（112g； Rp：Sp＝22.13：77.87%）に、２５～３５℃において、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（1.2L）を充填し、１時間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（300ml）にて洗浄して、化合物5の実質的に純粋なSp-ジアステレオ異性体を得た。
収量：８０g
HPLCによるキラル純度（％面積）：0.20：99.80％
1H NMR (300 MHz, DMSO-d6)：7.18-7.41(m, 10H), 6.91-6.99(d, 1H), 5.10(s, 2H), 4.01-4.11(m, 1H), 1.30-1.32(d, 3H)
ESI-MS (m/z)：524 (M+1)
濾液を真空下で濃縮して、化合物5のジアステレオ異性体混合物を得た（２８g；Rp：Sp＝80.77：19.23%）。
2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5のS-異性体の濃縮（式(VIII)の化合物の実例）
酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（１.１L）中ににおける2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5（７５g；Rp：Sp＝65.43％：34.57％）の溶液に、撹拌しながら、２５～３５℃において、トリエチルアミン（７.５ml）を添加し、同じ温度において、６時間、撹拌した。反応完了後、反応系を、水（750 ml）に入れてクエンチし、酢酸エチル（750 ml）にて抽出した。有機相を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、真空下で濃縮して、題記化合物を固体として得た。
収量：４５g
HPLCによるキラル純度（%面積）：91.29：8.71%（Sp：Rp）
得られた2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5のRp及びSp-ジアステレオ異性体混合物（４５ｇ；Rp：Sp＝8.71：91.29%）を、２５～３０℃において、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（１.１L）中でスラリー化し、同じ温度において、１時間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（225ml）にて洗浄して、題記化合物のSp-ジアステレオ異性体を固体として得た。
収量：１９g
HPLCによるキラル純度（％面積）：99.2：0.08％（Sp：Rp）
収量：４５g
HPLCによるキラル純度（%面積）：91.29：8.71%（Sp：Rp）
得られた2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5のRp及びSp-ジアステレオ異性体混合物（４５ｇ；Rp：Sp＝8.71：91.29%）を、２５～３０℃において、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（１.１L）中でスラリー化し、同じ温度において、１時間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチルの２０％ヘキサン溶液（225ml）にて洗浄して、題記化合物のSp-ジアステレオ異性体を固体として得た。
収量：１９g
HPLCによるキラル純度（％面積）：99.2：0.08％（Sp：Rp）
2-[(4-ニトロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル7のジアステレオ異性体混合物の調製（式（VIII）の化合物の実例）
塩化メチレン（500ml）におけるL-アラニンベンジルエステル塩酸塩1（５０g）の混合物に、２５～３５℃において、撹拌しながら、フェニルジクロロホスフェート2（５４g）を添加し、得られた混合物を－７０～－７８℃に冷却し、トリエチルアミン（65.2ml）を添加し、同じ温度において、１時間、撹拌した。反応系の温度を２５～３５℃に上昇させ、２時間、撹拌した。反応完了後、反応系を、３５℃以下において、減圧下で濃縮して、残渣を得た。得られた残渣に、２５～３５℃において、ジイソプロピルエーテル（１L）を添加し、同じ温度において、３０分間、撹拌した。反応系を濾過し、ジイソプロピルエーテル（250ml）にて洗浄し、続いて、濾液を、３５℃以下において、真空下で濃縮して、フェニル-(ベンゾキシ-L-アラニニル)-クロロリン酸3を得た。得られた化合物を、２５～３５℃において、塩化メチレン（500ml）に溶解し、－５～－１０℃に冷却した。反応系に、同じ温度において、4-ニトロフェノール6（27.5g）、トリエチルアミン（65.2ml）を添加し、２時間、撹拌した。反応完了後、反応系を、３５℃以下において、真空下で濃縮して、２５～３５℃において、酢酸エチル（500ml）を充填し、同じ温度において、３０分間、撹拌した。固体を濾過し、酢酸エチル（500ml）にて洗浄した。濾液を、水（500ml）、１０%炭酸ナトリウム（２×500ml）、塩水（500ml）での洗浄に供し、有機相を、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、３５～４０℃において、真空下で濃縮して、題記化合物7のジアステレオ異性体混合物を、粘稠な油状液体として得た。
収量：９０g
HPLCによるキラル（％面積）：45.6：54.94%（Rp：Sp）
上記のように得られた2-[(4-ニトロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル7のジアステレオ異性体混合物（４０g；Rp：Sp＝45.6：54.94%）を、分取HPLCによって、純粋なSp及びRp-ジアステレオ異性体に分離し、純粋なフラクションを、真空下で濃縮して、別々に、Sp及びRp-ジアステレオ異性体を得た。
収量；Sp-ジアステレオ異性体：８g
1H NMR (300 MHz, CDCl3)：8.15-8.19 (d, 2H), 7.15-7.37 (m, 12H), 5.12 (s, 2H), 4.02-4.24 (m, 2H), 1.39-1.42 (d, 3H)
ESI-MS (m/z)：479 (M+Na)
Rp-ジアステレオ異性体：６g
1H NMR (300 MHz, CDCl3)：8.08-8.13 (d, 2H), 7.15-7.34 (m, 12H), 5.10 (s, 2H), 4.48-4.56 (m, 1H), 4.11-4.20 (m, 1H), 1.39-1.41 (d, 3H)
ESI-MS (m/z): 457 (M+1) +
Sp及びRp-ジアステレオ異性体混合物：２０g
収量：９０g
HPLCによるキラル（％面積）：45.6：54.94%（Rp：Sp）
上記のように得られた2-[(4-ニトロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル7のジアステレオ異性体混合物（４０g；Rp：Sp＝45.6：54.94%）を、分取HPLCによって、純粋なSp及びRp-ジアステレオ異性体に分離し、純粋なフラクションを、真空下で濃縮して、別々に、Sp及びRp-ジアステレオ異性体を得た。
収量；Sp-ジアステレオ異性体：８g
1H NMR (300 MHz, CDCl3)：8.15-8.19 (d, 2H), 7.15-7.37 (m, 12H), 5.12 (s, 2H), 4.02-4.24 (m, 2H), 1.39-1.42 (d, 3H)
ESI-MS (m/z)：479 (M+Na)
Rp-ジアステレオ異性体：６g
1H NMR (300 MHz, CDCl3)：8.08-8.13 (d, 2H), 7.15-7.34 (m, 12H), 5.10 (s, 2H), 4.48-4.56 (m, 1H), 4.11-4.20 (m, 1H), 1.39-1.41 (d, 3H)
ESI-MS (m/z): 457 (M+1) +
Sp及びRp-ジアステレオ異性体混合物：２０g
(S p )-2-[(2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェノキシ)-フェノキシ-ホスホリルアミノ]プロピオン酸ベンジルエステル5の調製（式(VIII)の化合物の実例）
二塩化メチレン1000mlにL-アラニンベンジルエステル・HCl（100g）を含む混合物に、３０℃において、撹拌しながら、フェニルジクロロホスフェート2（97.8g）を添加した。混合物を－２０℃に冷却し、温度を－２０℃に維持しながら、トリエチルアミン（93.8g）を、ゆっくりと添加した。反応混合物を、－２０℃において、１時間、撹拌し、ついで、１０℃（１０±５℃）に加温し、さらに１.５時間、撹拌した。
ペンタフルオロフェノール4（85.3g）の二塩化メチレン（1000ml）溶液を、ゆっくりと添加し、続いて、温度を１０℃に維持しながら、トリメチルアミン（46.8g）をゆっくりと添加した。窒素雰囲気下、１０℃（１０±５℃）において、トリエチルアミン46.9gを、反応系に添加した。温度を１０℃に維持しながら、０.５N HCl溶液を、ゆっくりと添加することによってクエンチする前に、混合物を、１０℃において、２時間、撹拌した。室温に加温した後、混合物を分離し、真空濃縮する前に、有機相を、飽和炭酸水素塩溶液、蒸留水、及び塩水にて洗浄した。
粗製の混合物を、２５℃において、酢酸エチルの２０％n-ヘプタン溶液1500mlに懸濁させた。トリエチルアミン（12.2g）を添加し、混合物を、２５℃において、撹拌した。混合物を濾過し、固体を酢酸エチルの2500mlに溶解し、水及び塩水にて洗浄し、真空濃縮した。固体を、酢酸エチルの２０％n-ヘプタン溶液1200mlに懸濁させ、４５～６０分間、撹拌し、濾過した。物質を、真空下で乾燥して、所望の生成物5-(Sp)を得た。収率は４０～８０％の範囲であり、ジアステレオ異性純度は９９％以上であった。
ペンタフルオロフェノール4（85.3g）の二塩化メチレン（1000ml）溶液を、ゆっくりと添加し、続いて、温度を１０℃に維持しながら、トリメチルアミン（46.8g）をゆっくりと添加した。窒素雰囲気下、１０℃（１０±５℃）において、トリエチルアミン46.9gを、反応系に添加した。温度を１０℃に維持しながら、０.５N HCl溶液を、ゆっくりと添加することによってクエンチする前に、混合物を、１０℃において、２時間、撹拌した。室温に加温した後、混合物を分離し、真空濃縮する前に、有機相を、飽和炭酸水素塩溶液、蒸留水、及び塩水にて洗浄した。
粗製の混合物を、２５℃において、酢酸エチルの２０％n-ヘプタン溶液1500mlに懸濁させた。トリエチルアミン（12.2g）を添加し、混合物を、２５℃において、撹拌した。混合物を濾過し、固体を酢酸エチルの2500mlに溶解し、水及び塩水にて洗浄し、真空濃縮した。固体を、酢酸エチルの２０％n-ヘプタン溶液1200mlに懸濁させ、４５～６０分間、撹拌し、濾過した。物質を、真空下で乾燥して、所望の生成物5-(Sp)を得た。収率は４０～８０％の範囲であり、ジアステレオ異性純度は９９％以上であった。
2’-保護デオキシアデノシンの形成
2’-TBDMS保護3’-デオキシアデノシン11は、下記のスキームに従って生成される。
アデノシン（8）からエポキシド9へ
アデノシン（8）１当量を、アセトニトリル１０Vに溶解し、混合物を１５℃に冷却した。１５℃において、臭化アセトキシイソブチリル３.０モル当量をゆっくりと添加した。混合物を室温に加温し、８時間、撹拌した。炭酸水素ナトリウム溶液にて反応をクエンチし、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、有機相を真空濃縮した。
生成物をメタノール１５Vに溶解し、２時間、撹拌する前に、炭酸カリウム１質量当量を添加した。混合物を真空濃縮し、生成物を水で洗浄し、ついで、真空下、６０℃で乾燥して、2’,3’-アンヒドロアデノシンを、収率７０～８５％で得た。
2’,3’-アンヒドロアデノシン１当量及びイミダゾール１.６当量を、DMF５Vに溶解した。混合物を１５℃に冷却し、TBDMSCl０.８当量を添加した。混合物を、３０℃において、１～２時間、撹拌し、ついで、さらに、イミダゾール０.４当量及びTBDMSCl０.４当量を添加した。混合物を、３０℃において、さらに１～２時間、撹拌し、ついで、水５Vを添加した。混合物を、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、順次、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水、及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、その後、真空濃縮した。生成物をヘプタンにて洗浄し、ついで、真空下、５０℃において、乾燥して、エポキシド9を、収率７５～９０％で得た。
エポキシド9から5’-シリルコルジセピン11へ
エポキシド9 １当量を、DMSO（５V）及びTHF（５V）の混合物に溶解した。混合物を０℃に冷却し、混合物を、窒素ガスにて脱気した。１MリチウムトリエチルボロヒドリッドTHF溶液（１eq）を、０（±５）℃において、１～２時間の期間で添加した。混合物を、０℃において、３０分間、撹拌し、３０℃に加温し、２時間、撹拌し、ついで、５℃において、メタノール（１０V）をゆっくりと添加した。１０％過酸化水素溶液１０Vを、５℃において、滴加した。混合物を酢酸エチルにて抽出し、合わせた有機相を、順次、１０％メタ亜硫酸ナトリウム溶液、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。生成物をヘプタンで洗浄し、ついで、真空下、５０℃において乾燥して、2’-シリルコルジセピンを、収率７０～100％で得た。
2’-シリルコルジセピン、イミダゾール２.５当量、及びDMAP 0.15当量を、DMF５Vに溶解した。混合物を１５℃に冷却し、TBDMSCl２.５当量を、少量ずつ添加した。反応混合物を、３０℃において、４時間、撹拌し、ついで、１５℃に冷却した。水１０Vを添加し、混合物を酸酸エチルにて抽出した。有機相を、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水、及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
混合物を、アセトニトリル８V及び水２Vに溶解し、ついで、混合物を０℃に冷却した。０℃において、３０～６０分の期間で、反応混合物に、トリフルオロ酢酸２.５当量を添加した。混合物を１０℃に加温し、１０℃において、４～６時間、撹拌した。水を添加し、混合物を、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水（２回）及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。生成物をヘプタンにて洗浄し、真空下で乾燥して、5’-シリルコルジセピン11を、収率４０～７０％で得た。
2’-TBDMS保護3’-デオキシアデノシン11は、下記のスキームに従って生成される。
アデノシン（8）１当量を、アセトニトリル１０Vに溶解し、混合物を１５℃に冷却した。１５℃において、臭化アセトキシイソブチリル３.０モル当量をゆっくりと添加した。混合物を室温に加温し、８時間、撹拌した。炭酸水素ナトリウム溶液にて反応をクエンチし、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、有機相を真空濃縮した。
生成物をメタノール１５Vに溶解し、２時間、撹拌する前に、炭酸カリウム１質量当量を添加した。混合物を真空濃縮し、生成物を水で洗浄し、ついで、真空下、６０℃で乾燥して、2’,3’-アンヒドロアデノシンを、収率７０～８５％で得た。
2’,3’-アンヒドロアデノシン１当量及びイミダゾール１.６当量を、DMF５Vに溶解した。混合物を１５℃に冷却し、TBDMSCl０.８当量を添加した。混合物を、３０℃において、１～２時間、撹拌し、ついで、さらに、イミダゾール０.４当量及びTBDMSCl０.４当量を添加した。混合物を、３０℃において、さらに１～２時間、撹拌し、ついで、水５Vを添加した。混合物を、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、順次、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水、及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、その後、真空濃縮した。生成物をヘプタンにて洗浄し、ついで、真空下、５０℃において、乾燥して、エポキシド9を、収率７５～９０％で得た。
エポキシド9から5’-シリルコルジセピン11へ
エポキシド9 １当量を、DMSO（５V）及びTHF（５V）の混合物に溶解した。混合物を０℃に冷却し、混合物を、窒素ガスにて脱気した。１MリチウムトリエチルボロヒドリッドTHF溶液（１eq）を、０（±５）℃において、１～２時間の期間で添加した。混合物を、０℃において、３０分間、撹拌し、３０℃に加温し、２時間、撹拌し、ついで、５℃において、メタノール（１０V）をゆっくりと添加した。１０％過酸化水素溶液１０Vを、５℃において、滴加した。混合物を酢酸エチルにて抽出し、合わせた有機相を、順次、１０％メタ亜硫酸ナトリウム溶液、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。生成物をヘプタンで洗浄し、ついで、真空下、５０℃において乾燥して、2’-シリルコルジセピンを、収率７０～100％で得た。
2’-シリルコルジセピン、イミダゾール２.５当量、及びDMAP 0.15当量を、DMF５Vに溶解した。混合物を１５℃に冷却し、TBDMSCl２.５当量を、少量ずつ添加した。反応混合物を、３０℃において、４時間、撹拌し、ついで、１５℃に冷却した。水１０Vを添加し、混合物を酸酸エチルにて抽出した。有機相を、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水、及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
混合物を、アセトニトリル８V及び水２Vに溶解し、ついで、混合物を０℃に冷却した。０℃において、３０～６０分の期間で、反応混合物に、トリフルオロ酢酸２.５当量を添加した。混合物を１０℃に加温し、１０℃において、４～６時間、撹拌した。水を添加し、混合物を、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、７％炭酸水素ナトリウム溶液、水（２回）及び５％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。生成物をヘプタンにて洗浄し、真空下で乾燥して、5’-シリルコルジセピン11を、収率４０～７０％で得た。
NUC-7738のS p 及びR p 異性体の形成
ついで、化合物11を、式（VIII）の化合物と結合させる。
NUC-7738を形成するため、THF中、TFAを使用して、基TBDMSを除去できる。
5’-シリルコルジセピンからS p -NUC-7738へ
5’-シリルコルジセピン11を、THF１０Vに溶解し、０℃に冷却した。２.０M t-BuMgCl（２.５当量）を添加し、混合物を、１５分間、撹拌した。化合物5のSp異性体（２.５当量）を、THF５Vに溶解し、０℃において、反応に添加した。混合物を、０℃において、１５分間、撹拌し、ついで、２５℃に加温し、さらに２時間、撹拌した。反応混合物を、１０％塩化アンモニウム溶液（１０容）に注加してクエンチし、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、水及び１０％塩水にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
生成物を、THF（１０V）に溶解し、ついで、０℃に冷却した。THF及び水の混合物（１：１）１０Vを、３０分の期間で反応に添加し、ついで、混合物を、４５分間、撹拌し、３０℃に加温し、さらに１６時間、撹拌した。反応混合物を、０℃において、７％NaHCO3溶液（９０V）に注加してクエンチし、ついで、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩水にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
シリカゲル（100～200メッシュ）を使用するカラムクロマトグラフィーによって、生成物を精製し、カラムを、MeOHの２～１０％DCM溶液によって溶離して、Sp-NUC-7738を、収率４０％で得た。生成物のHPLC純度は99.50%であり、キラルHPLCは、Sp-異性体が99.90%で存在し、Rp-異性体が0.10%で存在することを示した。
Rp-NUC-7738を生成するために、同様の方法を実施できる。
R p -NUC-7738：
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δH 8.26 (s, 1H, H8), 8.22 (s, 1H, H2), 7.37-7.25 (m, 7H, Ar), 7.22-7.12 (m, 3H, Ar), 6.01 (d, J = 1.5 Hz, 1H, H1’), 5.12 (AB q, JAB = 12.0 Hz, AB = 0.04, 2H, CH2Ph), 4.74-4.70 (m, 1H, H2’), 4.69-4.62 (m, 1H, H4’), 4.44-4.38 (m, 1H, H5’), 4.28-4.21 (m, 1H, H5’), 3.99-3.90 (m, 1H, CHCH3 L-Ala), 2.35-2.27 (m, 1H, H3’), 2.09-2.02 (m, 1H, H3’), 1.29 (d, J = 7.0 Hz, 3H, CHCH3 L-Ala)
31P NMR (202 MHz, CD3OD) δP 3.91
MS (ES+) m/z 実測値569.2 [M+H+], 591.2 [M+Na+], 1159.4 [2M+Na+] C26H29N6O7P 理論値m/z 568.2 [M]
逆相HPLC（Varian Pursuit XRs 5 C18, 150x4.6mm；H2O/CH3CN（３０分で９０／１０から０／100）にて溶離；F:１mL/分, λ=200nm）：tR14.02分を有する１つのピークを示した。
S p -NUC-7738：
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δH 8.24 (s, 1H, H8), 8.22 (s, 1H, H2), 7.36-7.26 (m, 7H, Ar), 7.22-7.13 (m, 3H, Ar), 6.01 (d, J = 1.5 Hz, 1H, H1’), 5.08 (AB q, JAB = 12.0 Hz, AB = 0.01, 2H, CH2Ph), 4.70-4.67 (m, 1H, H2’), 4.66-4.60 (m, 1H, H4’), 4.41-4.35 (m, 1H, H5’), 4.26-4.19 (m, 1H, H5’), 4.02-3.94 (m, 1H, CHCH3 L-Ala), 2.36-2.27 (m, 1H, H3’), 2.08-2.01 (m, 1H, H3’), 1.34-1.30 (m, 3H, CHCH3 L-Ala)
31P NMR (202 MHz, CD3OD) δP 3.73. MS (ES+) m/z 実測値569.2 [M+H+], 591.2 [M+Na+], 1159.4 [2M+Na+] C26H29N6O7P 理論値m/z 568.2 [M]
逆相HPLC（Varian Pursuit XRs 5 C18, 150ｘ4.6mm；H2O/CH3CN（３０分で９０／１０から０／１００）にて溶離；F：１mL/分, λ=200 nm）：tR14.26分を有する１つのピークを示した。
上記の２つのNUC-7738異性体の立体化学（Rp対Sp）は、一般的なＸ線結晶解析によって確認された。
ついで、化合物11を、式（VIII）の化合物と結合させる。
5’-シリルコルジセピンからS p -NUC-7738へ
5’-シリルコルジセピン11を、THF１０Vに溶解し、０℃に冷却した。２.０M t-BuMgCl（２.５当量）を添加し、混合物を、１５分間、撹拌した。化合物5のSp異性体（２.５当量）を、THF５Vに溶解し、０℃において、反応に添加した。混合物を、０℃において、１５分間、撹拌し、ついで、２５℃に加温し、さらに２時間、撹拌した。反応混合物を、１０％塩化アンモニウム溶液（１０容）に注加してクエンチし、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、水及び１０％塩水にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
生成物を、THF（１０V）に溶解し、ついで、０℃に冷却した。THF及び水の混合物（１：１）１０Vを、３０分の期間で反応に添加し、ついで、混合物を、４５分間、撹拌し、３０℃に加温し、さらに１６時間、撹拌した。反応混合物を、０℃において、７％NaHCO3溶液（９０V）に注加してクエンチし、ついで、酢酸エチルにて抽出した。合わせた有機相を、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩水にて洗浄し、ついで、真空濃縮した。
シリカゲル（100～200メッシュ）を使用するカラムクロマトグラフィーによって、生成物を精製し、カラムを、MeOHの２～１０％DCM溶液によって溶離して、Sp-NUC-7738を、収率４０％で得た。生成物のHPLC純度は99.50%であり、キラルHPLCは、Sp-異性体が99.90%で存在し、Rp-異性体が0.10%で存在することを示した。
Rp-NUC-7738を生成するために、同様の方法を実施できる。
R p -NUC-7738：
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δH 8.26 (s, 1H, H8), 8.22 (s, 1H, H2), 7.37-7.25 (m, 7H, Ar), 7.22-7.12 (m, 3H, Ar), 6.01 (d, J = 1.5 Hz, 1H, H1’), 5.12 (AB q, JAB = 12.0 Hz, AB = 0.04, 2H, CH2Ph), 4.74-4.70 (m, 1H, H2’), 4.69-4.62 (m, 1H, H4’), 4.44-4.38 (m, 1H, H5’), 4.28-4.21 (m, 1H, H5’), 3.99-3.90 (m, 1H, CHCH3 L-Ala), 2.35-2.27 (m, 1H, H3’), 2.09-2.02 (m, 1H, H3’), 1.29 (d, J = 7.0 Hz, 3H, CHCH3 L-Ala)
31P NMR (202 MHz, CD3OD) δP 3.91
MS (ES+) m/z 実測値569.2 [M+H+], 591.2 [M+Na+], 1159.4 [2M+Na+] C26H29N6O7P 理論値m/z 568.2 [M]
逆相HPLC（Varian Pursuit XRs 5 C18, 150x4.6mm；H2O/CH3CN（３０分で９０／１０から０／100）にて溶離；F:１mL/分, λ=200nm）：tR14.02分を有する１つのピークを示した。
S p -NUC-7738：
1H NMR (500 MHz, CDCl3) δH 8.24 (s, 1H, H8), 8.22 (s, 1H, H2), 7.36-7.26 (m, 7H, Ar), 7.22-7.13 (m, 3H, Ar), 6.01 (d, J = 1.5 Hz, 1H, H1’), 5.08 (AB q, JAB = 12.0 Hz, AB = 0.01, 2H, CH2Ph), 4.70-4.67 (m, 1H, H2’), 4.66-4.60 (m, 1H, H4’), 4.41-4.35 (m, 1H, H5’), 4.26-4.19 (m, 1H, H5’), 4.02-3.94 (m, 1H, CHCH3 L-Ala), 2.36-2.27 (m, 1H, H3’), 2.08-2.01 (m, 1H, H3’), 1.34-1.30 (m, 3H, CHCH3 L-Ala)
31P NMR (202 MHz, CD3OD) δP 3.73. MS (ES+) m/z 実測値569.2 [M+H+], 591.2 [M+Na+], 1159.4 [2M+Na+] C26H29N6O7P 理論値m/z 568.2 [M]
逆相HPLC（Varian Pursuit XRs 5 C18, 150ｘ4.6mm；H2O/CH3CN（３０分で９０／１０から０／１００）にて溶離；F：１mL/分, λ=200 nm）：tR14.26分を有する１つのピークを示した。
上記の２つのNUC-7738異性体の立体化学（Rp対Sp）は、一般的なＸ線結晶解析によって確認された。
L-アラニンベンジルエステルHCL塩４当量を、DCM（３０V）に溶解し、ジクロリドXX 4.40当量を添加した。反応混合物を‐２０℃に冷却し、TEA８.０eqを、６０～120分の期間で添加し、ついで、－２０（±５）℃において、１時間、撹拌した。反応混合物を、３０℃に加温し、さらに１～２時間、撹拌し、ついで、真空濃縮した。生成物をMTBEに溶解し、濾過し、真空濃縮し、ついで、０℃に冷却し、THF（５V）に溶解した。
第２の容器において、化合物11（１当量）をTHFに溶解し、溶液を０℃に冷却し、ついで、塩化３級ブチルマグネシウム（２M THF溶液）４.０当量を、０℃において、６０～120分間で添加した。先に得られた溶液を、０℃において、３０～６０分間で添加、溶解し、混合物を、５℃において、２時間、撹拌した。
１０％塩化アンモニウム溶液を、５℃において、６０～120分の期間で添加し、ついで、混合物を加温し、酢酸エチルにて抽出した。有機相を、水、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、真空濃縮し、THF（１０V）及び水（５V）に溶解した。混合物を０℃に冷却し、トリフルオロ酢酸（５V）を、３０～６０分の期間で、ゆっくりと添加した。反応混合物を３０℃に加温し、１４～１８時間、撹拌した。他の容器において、炭酸水素ナトリウム６.３当量を、水９０Vに溶解し、１０℃に冷却した。反応系を、冷却した炭酸水素ナトリウム溶液に注加して、１０℃において、６０～120分の期間で、ゆっくりとクエンチした。反応混合物を酢酸エチルにて抽出し、合わせた有機相を、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄した。精製後、反応により、NUC-7738がジアステレオ異性体の混合物として得られた。
第２の容器において、化合物11（１当量）をTHFに溶解し、溶液を０℃に冷却し、ついで、塩化３級ブチルマグネシウム（２M THF溶液）４.０当量を、０℃において、６０～120分間で添加した。先に得られた溶液を、０℃において、３０～６０分間で添加、溶解し、混合物を、５℃において、２時間、撹拌した。
１０％塩化アンモニウム溶液を、５℃において、６０～120分の期間で添加し、ついで、混合物を加温し、酢酸エチルにて抽出した。有機相を、水、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄し、真空濃縮し、THF（１０V）及び水（５V）に溶解した。混合物を０℃に冷却し、トリフルオロ酢酸（５V）を、３０～６０分の期間で、ゆっくりと添加した。反応混合物を３０℃に加温し、１４～１８時間、撹拌した。他の容器において、炭酸水素ナトリウム６.３当量を、水９０Vに溶解し、１０℃に冷却した。反応系を、冷却した炭酸水素ナトリウム溶液に注加して、１０℃において、６０～120分の期間で、ゆっくりとクエンチした。反応混合物を酢酸エチルにて抽出し、合わせた有機相を、水、７％炭酸水素ナトリウム溶液、及び１０％塩化ナトリウム溶液にて洗浄した。精製後、反応により、NUC-7738がジアステレオ異性体の混合物として得られた。
Claims (18)
- ＮＵＣ-７７３８
ｄ）式（II）
ｅ）式（Ｉ）の化合物を、塩基（Ｂ１）の存在下、式（III）
ｆ）Ｐ ２を除去し、及びＰ３及びＰ４が保護基である場合、Ｐ３及びＰ４を除去して、ＮＵＣ-７７３８を提供する
ことを含んでなる方法。 - さらに、工程ｃ）：
ｃ）式（Ｖ）
- さらに、工程ｂ）：
ｂ）式（VI）
- さらに、工程ａ）：
ａ）式（VII）
- Ｐ３及びＰ４が、それぞれ、Ｈである請求項１～４のいずれかに記載の方法。
- Ｐ１ がシリル保護基である請求項１～５のいずれかに記載の方法。
- Ｐ １ がTBDMSである請求項６に記載の方法。
- Ｐ ２ がシリル保護基である請求項１～７のいずれかに記載の方法。
- Ｐ ２ がTBDMSである請求項８に記載の方法。
- Ｐ １ 及びＰ ２ が、それぞれ、シリル保護基である請求項１～５のいずれかに記載の方法。
- Ｐ １ 及びＰ ２ が、それぞれ、TBDMSである請求項１０に記載の方法。
- 工程ｄ）を、TFAを使用して行う請求項１０又は１１に記載の方法。
- 工程ｄ）を、アセトニトリル及び水の混合物中で行い、任意に、工程ｄ）を、０～２０℃の温度で行う請求項１２に記載の方法。
- ＮＵＣ-７７３８が、ジアステレオマーの混合物として形成される請求項１～１３のいずれかに記載の方法。
- 式（III）の化合物が、
- 式（III）の化合物が、式（VIII）
- 方法が、ジアステレオマー的に濃縮された形のＮＵＣ-７７３８の（Ｒ ｐ ）-ジアステレオマーの製法であり、式（VIII）の化合物が、ジアステレオマー的に濃縮された形の（Ｒ ｐ ）-ジアステレオマーである請求項１６に記載の方法。
- 方法が、ジアステレオマー的に濃縮された形のＮＵＣ-７７３８の（Ｓ ｐ ）-ジアステレオマーの製法であり、式（VIII）の化合物が、ジアステレオマー的に濃縮された形の（Ｓ ｐ ）-ジアステレオマーである請求項１６に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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