JP7200233B2 - コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体 - Google Patents

Description

本開示は、コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体に関する。

屋内又は屋外に設置されて長期間にわたって使用される装置、建材等は、様々な環境に曝されるため、徐々に埃、塵、砂利等が堆積したり、風雨時の雨水に濡れたりする等して、予定されている機能及び性能が損なわれることがある。

そこで、装置、建材等に、親水性膜を設ける手法が広く知られている。

親水性膜として、特許文献１には、シロキサンバインダーと、シリカ粒子と、を含有し、表面における表面積差ΔＳと表面粗さＲａとが予め定められた関係を満たす親水性膜が開示されている。

また、特許文献２には、塩基性触媒を用いて形成されたコロイダルシリカゾル（Ａ）と親水性ポリマー（Ｂ）とを含有する防曇塗料が開示されている。

特開２０１６－１６４２６５号公報 特開２００５－３１４４９５号公報

自動車に搭載されるランプ（例えば、ヘッドランプ、テールランプ、ドアミラーウインカーランプなど）においては、灯室内に高湿度の空気が入り込み、外気、降雨等によってレンズが冷やされ、レンズ内面に水分が結露することによって曇りが生じることがある。そこで、レンズ内面にシリカ粒子を含む親水性膜が設けられる。この親水性膜には、曇りの防止（即ち、防曇性能）の他に、レンズ面の美観の向上のためのヘイズの低減、及び防曇性能の維持のための耐汚染性が望まれてきている。

しかしながら、上記の特許文献１に開示された親水性膜及び上記の特許文献２に開示された防曇塗料から得られた防曇膜は、いずれも、防曇性を有するものの、ヘイズの低減及び耐汚染性に関しては改善の余地がある。特に、上記の特許文献２に開示された防曇塗料から得られた防曇膜は、親水性ポリマー（Ｂ）が水に溶出して生じる「水ダレ跡」が生じてしまうという課題もある。

上記に鑑み、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れた防曇膜を形成し得るコート剤を提供することである。

また、本発明の別の一実施形態が解決しようとする課題は、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れた防曇膜、防曇膜の製造方法、又は積層体を提供することである。

ここで、ヘイズとは、親水性膜に入射した光線が拡散する度合いを表し、全光線透過率における拡散透過率の割合を百分率で示したものである。

また、耐汚染性とは、親水性膜中に汚染物質が堆積されることを抑制し、防曇性能が維持されることを指す。

課題を解決するための具体的手段は、以下の態様を含む。

＜１＞ 一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、沸点が１２０℃以上の高沸点溶剤と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含むコート剤。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。

＜２＞ 更に、縮合触媒として金属キレート化合物を含む、＜１＞に記載のコート剤。

＜３＞ ピロリドン基を側鎖に有する樹脂がビニルピロリドンに由来する構成単位を含む樹脂である、＜１＞又は＜２＞に記載のコート剤。

＜４＞ ピロリドン基を側鎖に有する樹脂が、ビニルピロリドンに由来する構成単位と、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位と、を含む樹脂である、＜１＞～＜３＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜５＞ ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位が、酢酸ビニルに由来する構成単位である、＜４＞に記載のコート剤。

＜６＞ ピロリドン基を側鎖に有する樹脂の含有量が、シリカ粒子の質量に対して３０質量％～６０質量％である、＜１＞～＜５＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜７＞ シリカ粒子の平均一次粒子径が１０ｎｍ～２０ｎｍである、＜１＞～＜６＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜８＞ 全固形分に対するシリカ粒子の含有量が４５質量％以上である、＜１＞～＜７＞

のいずれか１に記載のコート剤。

＜９＞ 高沸点溶剤の沸点が１４０℃以上である、＜１＞～＜８＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜１０＞ 高沸点溶剤の沸点が１５０℃以上である、＜９＞に記載のコート剤。

＜１１＞ 高沸点溶剤がグリコールエーテル系溶剤である、＜１＞～＜１０＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜１２＞ 高沸点溶剤が分岐アルキル基を有する溶剤である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜１３＞ 更に、水を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜１４＞ 高沸点溶剤の含有量がコート剤に含まれる全溶剤の総質量に対して１０質量％～５０質量％である、＜１＞～＜１３＞のいずれか１に記載のコート剤。

＜１５＞ ＜１＞～＜１４＞のいずれか１に記載のコート剤により形成された防曇膜。

＜１６＞ 一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含み、ヘイズが２．０以下である防曇膜。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。

＜１７＞ 被塗布材に、＜１＞～＜１４＞のいずれか１に記載のコート剤を塗布する工程と、

塗布されたコート剤を乾燥する工程と、

を含む防曇膜の製造方法。

＜１８＞ 基材、及び、基材上に設けられた、＜１＞～＜１４＞のいずれか１に記載のコート剤により形成された防曇膜、を有する積層体。

＜１９＞ 基材、及び、基材上に設けられた、一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含み、ヘイズが２．０以下である防曇膜を有する積層体。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。

＜２０＞ 基材が、ポリカーボネート基材又はポリメチルメタクリレート基材である、＜１８＞又は＜１９＞に記載の積層体。

本発明の一実施形態によれば、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れた防曇膜を形成し得るコート剤が提供される。

本発明の別の一実施形態によれば、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れた防曇膜、防曇膜の製造方法、又は積層体が提供される。

以下、本開示に係るコート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体の一実施形態について詳細に説明する。

本開示において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。

本開示において、組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の成分の合計量を意味する。

本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

本開示における「固形分」の語は、溶剤を除く成分を意味し、溶剤以外の低分子量成分などの液状の成分も本開示における「固形分」に含まれる。

本開示において「溶剤」とは、水、有機溶剤、及び水と有機溶剤との混合溶剤を意味する。

本開示において、親水親油バランス（Hydrophile Lipophile Balance）値を、ＨＬＢ値と記載することがある。

＜コート剤＞

本開示に係るコート剤は、一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、沸点が１２０℃以上の高沸点溶剤と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含む。

なお、一般式（１）で表される化合物を、以下、特定シロキサン化合物ともいい、特定シロキサン化合物の加水分解物を、特定シロキサン加水分解物ともいう。

上記の各成分を含むコート剤は、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れた防曇膜を形成し得る。

かかる効果が奏される理由は以下のように推測される。但し、本開示に係るコート剤は、以下の理由によって限定されることはない。

シリカ粒子を含む親水性膜を得るためには、シリカ粒子を含むコート剤が用いられる。シリカ粒子を含むコート剤を被塗布材に対し塗布し、塗布されたコート剤を乾燥することで親水性膜が形成されるが、塗布工程から乾燥工程においてシリカ粒子の不均一凝集が発生し、形成された膜が白っぽくなり、ヘイズが上昇することがある。特に、シリカ粒子の不均一凝集に由来する凹凸が親水性膜の表面に形成されると、表面凹凸に起因してヘイズが上昇してしまう。

一方で、親水性膜における防曇性能の１つは、シリカ粒子間に形成される空隙により得られる。しかし、親水性膜中においてこの空隙サイズが不均一であると、入射した光が拡散してヘイズが上昇すること、及び、防曇性能自体が低下することがある。また、親水性膜中のシリカ粒子間に、局所的に大きなサイズの空隙が形成されてしまうと、その大きな空隙に水蒸気が吸収されて白濁し、これが要因でヘイズが上昇することもある。更に、親水性膜中のシリカ粒子間に、局所的に大きなサイズの空隙が形成されてしまうと、炭化水素ガス、シリコーンオイル等の汚染物質が徐々に取り込まれて、堆積してしまい、防曇性能が低下してしまうという問題がある。

本開示に係るコート剤は、一般式（１）で表される化合物の加水分解物及びシリカ粒子と共に高沸点溶剤及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂を含むことで、シリカ粒子を含むコート剤における塗布工程及び乾燥工程における造膜挙動が制御され、表面の平滑性が高く、空隙サイズが均一に近い膜（即ち、防曇膜）を形成し得る。そのため、形成された防曇膜は、ヘイズが低く、防曇性及び耐汚染性に優れる。

具体的にいえば、これは、高沸点溶剤が含まれることで、コート剤の塗布膜のレベリング性が向上し、形成された膜（即ち、防曇膜）の平滑性が高まること、また、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂が含まれることで、シリカ粒子の分散性が高まり、不均一凝集が抑えられること、及び、シリカ粒子がピロリドン基を側鎖に有する樹脂のピロリドン基に吸着して、固定化されてシリカ粒子間の空隙サイズが均一化すること、に起因すると考えられる。特に、高沸点溶剤を含むコート剤は乾燥がゆっくり進むため、コート剤の塗布膜中にて、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂のピロリドン基とシリカ粒子との吸着、及び、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂によるシリカ粒子の固定化が十分に行われ易くなり、シリカ粒子間の空隙サイズの均一化を高められるものと推測される。

また、本開示に係るコート剤により防曇膜が形成される際、一般式（１）で表される化合物の加水分解物が持つヒドロキシ基の少なくとも一部が分子間で互いに結合し、特定シロキサン加水分解物が縮合する。つまり、本開示に係るコート剤により形成された防曇膜は、特定シロキサン加水分解物の縮合体を含む。この縮合体の存在により、防曇膜は、水に溶出し難くなり、「水ダレ跡」の発生も抑制し得るものと推測される。

以下、本開示に係るコート剤が含みうる各成分について説明する。

〔特定シロキサン加水分解物〕

本開示に係るコート剤は、特定シロキサン加水分解物（即ち、下記一般式（１）で表される特定シロキサン化合物の加水分解物）を含む。 特定シロキサン化合物は、水と共存することで、少なくとも一部が加水分解される構造を有している。具体的には、特定シロキサン化合物は水と反応することで、一般式（１）中のケイ素原子に結合したＯＲ^１、ＯＲ^２、ＯＲ^３、及びＯＲ^４の少なくとも一部がヒドロキシ基に置換される。そのため、特定シロキサン加水分解物とは、一般式（１）におけるＯＲ^１、ＯＲ^２、ＯＲ^３、及びＯＲ^４の少なくとも一部がヒドロキシ基に置換された化合物を指す。

コート剤が特定シロキサン加水分解物を含むことで、コート剤により形成される防曇膜は、後述するシリカ粒子の保持性が良好となり、耐傷性が高まり、特定シロキサン加水分解物の有するヒドロキシ基に起因して親水性が良好となる。防曇膜の親水性が高まると、防曇膜の表面で水滴を水膜に変えることができることから、防曇性が更に良化する。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４における炭素数１～６の１価の有機基は、直鎖状であってもよく、分岐を有していてもよく、環状であってもよい。１価の有機基としては、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、又はＲ^４がアルキル基を表す場合のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、tert―ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

特定シロキサン化合物においてＲ^１～Ｒ^４における１価の有機基、好ましくはアルキル基の炭素数を１～６とすることにより、特定シロキサン化合物は加水分解性が良好となる。なお、加水分解性がより良好であるという観点からは、Ｒ^１～Ｒ^４は、それぞれ独立に炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１又は２のアルキル基であることが更に好ましい。

一般式（１）におけるｎは、１～２０の整数を表す。ｎが１以上であると、特定シロキサン化合物の反応性を制御し易く、例えば、表面親水性に優れた膜を形成することができる。ｎが２０以下であると、コート剤の粘度が高くなりすぎず、ハンドリング性及び均一塗布性が良好となる。ｎは、加水分解反応を制御し易くする観点から、３～１２であることが好ましく、５～１０であることがより好ましい。

下記表１に、特定シロキサン化合物の例を、一般式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４、並びにｎにより記載する。但し、本開示における特定シロキサン化合物は、表１に記載の例示化合物に限定されるものではない。

特定シロキサン化合物としては、市販品を用いることができる。

特定シロキサン化合物の市販品の例としては、三菱ケミカル（株）のＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：５〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５６〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１１〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５７〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１３〕、ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５６Ｓ〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：１６〕、ＭＫＣ（登録商標）メチルシリケート５３Ａ〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：７〕、ＭＫＣ（登録商標）エチルシリケート４０〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：エチル基、ｎの平均：５〕、ＭＫＣ（登録商標）エチルシリケート４８〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：エチル基、ｎの平均：１０〕、ＭＫＣ（登録商標）ＥＭＳ４８５〔Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基及びエチル基が５０％ずつ、ｎの平均：１０〕、東京化成工業（株）のテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）等が挙げられる。

なお、特定シロキサン加水分解物は、必ずしも特定シロキサン化合物の末端基（即ち、－ＯＲ^１、－ＯＲ^２、－ＯＲ^３、又は－ＯＲ^４）が全て反応する必要はないが、例えば、コート剤により形成された防曇膜の親水性をより高めるという観点からは、より多くの末端基が加水分解されていることが好ましい。

特定シロキサン化合物の重量平均分子量は、３００～１５００の範囲が好ましく、５００～１２００の範囲がより好ましい。

なお、本開示において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定できる。具体的には、ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ、ＳＣ－８０２０（東ソー株式会社）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ、ＳｕｐｅｒＨＭ－Ｈ（東ソー株式会社、６．０ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を２本用い、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いて測定できる。また、条件としては、試料濃度を０．５質量％、流速を０．６ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ（マイクロリットル）、測定温度を４０℃とし、示差屈折計（ＲＩ）検出器を用いて行なうことができる。検量線は、東ソー社「ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ」：「Ａ－５００」、「Ｆ－１」、「Ｆ－１０」、「Ｆ－８０」、「Ｆ－３８０」、「Ａ－２５００」、「Ｆ－４」、「Ｆ－４０」、「Ｆ－１２８」、「Ｆ－７００」の１０サンプルから作製されたものを用いることができる。

本開示に係るコート剤は、特定シロキサン加水分解物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本開示に係るコート剤は、２種以上のシラン化合物を用いて得られた部分共加水分解を含むことができる。２種以上のシラン化合物としては、互いに構造の異なる特定シロキサン化合物であってもよく、特定シロキサン化合物と特定シロキサン化合物とは構造の異なる他のシロキサン化合物との組み合わせでもよい。２種以上のシロキサン化合物から得られる加水分解物を「（共）加水分解物」ともいい、これらが縮合して得られた化合物を「（共）加水分解物の縮合体」ともいう。

なお、本開示におけるシラン化合物とは、加水分解性シリル基及びシラノール基から選ばれる少なくとも１種を有する化合物を指し、シリル基は加水分解してシラノール基となり、シラノール基は脱水縮合してシロキサン結合が生成する。

特定シロキサン加水分解物のコート剤における含有量は、コート剤の全固形分に対して、１質量％～５０質量％が好ましく、１０質量％～４０質量％がより好ましく、１５質量％～３５質量％が更に好ましい。

特定シロキサン加水分解物の含有量が上記範囲であると、コート剤を用いて形成される防曇膜の表面の純水接触角が低く抑えられ、水系の汚れに対する防汚性及び汚れた場合の汚れ落ちが容易になる。

〔シリカ粒子〕

本開示に係るコート剤は、シリカ粒子を含む。

シリカ粒子は、コート剤により形成される親水性膜の耐傷性を高め、更に、親水性を発揮させる機能を有する。即ち、シリカ粒子は硬いフィラーとしての役割を担い、かつ、粒子表面のヒドロキシ基が作用して親水性膜の親水性向上に寄与する。

シリカ粒子としては、例えば、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。

ヒュームドシリカは、ケイ素原子を含む化合物を気相中で酸素及び水素と反応させることによって得ることができる。原料となるケイ素化合物としては、例えば、ハロゲン化ケイ素（例えば、塩化ケイ素）等が挙げられる。

コロイダルシリカは、原料化合物を加水分解及び縮合するゾルゲル法により合成することができる。コロイダルシリカの原料化合物としては、例えば、アルコキシケイ素（例えば、テトラエトキシシラン）、ハロゲン化シラン化合物（例えば、ジフェニルジクロロシラン）等が挙げられる。

シリカ粒子の形状は、特に限定はなく、球状、板状、針状、数珠状、又はこれらの２種類以上が合体した形状が挙げられる。なお、ここでいう球状とは、真球状の他、回転楕円体、卵形等の形状である場合も含む。

シリカ粒子は市販品としても入手可能である。

シリカ粒子の市販品としては、エボニック社のＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）シリーズ、日産化学工業（株）のスノーテックス（登録商標）シリーズ（例えばスノーテックスＯなど）、ナルコケミカル社のナルコ（Ｎａｌｃｏ）（登録商標）シリーズ（例えばＮａｌｃｏ８６９９など）、扶桑化学者社のクォートロンＰＬシリーズ（例えばＰＬ－１）などが挙げられる。

シリカ粒子の平均一次粒子径は、形成される親水性膜の膜性が良好であり、ヘイズを低める点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることが更に好ましく、２０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、シリカ粒子の平均一次粒子径の下限は、特に限定されないが、取り扱い性の点から、２ｎｍ以上が好ましく、防曇性能を発現するための空隙の形成し易さの点から、１０ｎｍ以上がより好ましい。

特に、シリカ粒子の平均一次粒子径は、防曇性及び耐汚染性の向上の点からは、１０ｎｍ～２０ｎｍが好ましい。

シリカ粒子の平均一次粒子径は、シリカ粒子の形状が球状又は断面楕円状の略球状である場合、分散したシリカ粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から３００個以上の粒子について粒子の投影面積を測定し、投影面積から円相当径を求め、得られた円相当径をシリカ粒子の平均一次粒子径とする。シリカ粒子の形状が、球状又は略球状ではない場合には、その他の方法、例えば、動的光散乱法を用いて、シリカ粒子の平均一次粒子径を求める。

本開示に係るコート剤は、シリカ粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

シリカ粒子を２種以上含む場合は、サイズ又は形状の少なくともいずれかが互いに異なる粒子を含んでいてもよい。

コート剤におけるシリカ粒子の含有量としては、コート剤により形成される防曇膜の親水性が良好となり、防曇膜の硬度、耐傷性等に優れることから、コート剤の全固形分に対して、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、４５質量％以上が更に好ましい。

また、シリカ粒子の含有量の上限は、防曇性能の維持、及び、コート剤の経時安定性確保の点から、コート層の全固形分に対して、８５質量％が好ましい。

〔沸点１２０℃以上の高沸点溶剤〕

本開示に係るコート剤は、沸点１２０℃以上の高沸点溶剤（以下、単に高沸点溶剤ともいう）を含む。

本開示に係るコート剤が沸点１２０℃以上の高沸点溶剤を含むことで、コート剤を塗布した際の塗布膜のレベリング性が向上し、ヘイズが低く、表面の平滑性が高い防曇膜が得られる。その結果、得られた防曇膜は、耐汚染性にも優れる。

高沸点溶剤の沸点は、塗布膜のレベリング性をより高め、ヘイズのより低い防曇膜が得られる点から、１４０℃以上が好ましく、１５０℃以上がより好ましい。

なお、コート剤による塗布膜の乾燥不良を抑制する点からは、高沸点溶剤の沸点の上限は、２３０℃が好ましい。

高沸点溶剤としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。以下に示す高沸点溶剤の後ろの括弧内の数値は沸点を示す。

１，３－ブタンジオール（２０７℃）、１，４－ブタンジオール（２２８℃）、ベンジルアルコール（２０５℃）、テルピオネール（２１７℃）等のアルコール系溶剤；

エチレングリコール（１９７℃）、ジエチレングリコール（２４４℃）、トリエチレングリコール（２８７℃）、プロピレングリコール（１８７℃）、ジプロピレングリコール（２３０℃）等のグリコール系溶剤；

ジエチレングリコールモノメチルエーテル（１９４℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（２０２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（２３１℃）、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（２４９℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（１２１℃）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（１７０℃）、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（１５０℃）、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール（１７４℃）、ジエチレングリコールモノへキシルエーテル（２６１℃以上）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（１６０℃）、メチルセロソルブ（エチレングリコールモノメチルエーテル、１２５℃）、エチルセロソルブ（エチレングリコールモノエチルエーテル、１３５℃）、ブチルセロソルブ（エチレングリコールモノブチルエーテル、１７１℃）、エチレングリコール－モノ－tert－ブチルエーテル（１５３℃）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（２４３℃）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（１８８℃）等のグリコールエーテル系溶剤；

ジエチレングリコールジメチルエーテル（１６２℃）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（１７６℃）、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（１７９℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（２１６℃）等のエーテル系溶剤；

エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（１４５℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（２１７℃）、酢酸エチル（１５４℃）、乳酸エチル（１５４℃）、酢酸３－メトキシブチル（１７２℃）等のエステル系溶剤；

ジアセトンアルコール（１６９℃）、シクロヘキサノン（１５６℃）、シクロペンタノン（１３１℃）等のケトン系溶剤；等が挙げられる。

ここで、本開示におけるアルコール系溶剤とは、炭化水素の一つの炭素原子に一つヒドロキシ基が置換した構造の溶剤を指す。

本開示におけるグリコール系溶剤とは、炭化水素の２つ以上の炭素原子にそれぞれ１つずつヒドロキシ基が置換した構造の溶剤をいう。

本開示におけるグリコールエーテル系溶剤とは、一分子内に一つのヒドロキシ基と少なくとも一つのエーテル基を有する構造の溶剤を指す。

本開示におけるエーテル系溶剤とは、一分子内にヒドロキシ基又はエステル基を有さず、少なくとも一つエーテル基を有する構造の溶剤を指す。

本開示におけるエステル系溶剤とは、一分子内に少なくとも一つエステル基を有する構造の溶剤を指す。

本開示におけるケトン系溶剤とは、一分子内に少なくとも一つケトン基を有する構造の溶剤を指す。

コート剤に含まれる高沸点溶剤としては、表面エネルギーが低く、コート剤による塗布膜のレベリング性が高められる点から、グリコールエーテル系溶剤を用いることが好ましい。

また、同様の理由から、コート剤に含まれる高沸点溶剤としては、分岐アルキル基を有する溶剤を用いることが好ましい。

本開示に係るコート剤は、高沸点溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

高沸点溶剤を２種以上含む場合は、そのうちの１種としてグリコールエーテル系溶剤を含むことが好ましい。グリコールエーテル系溶剤を含むことで、コート剤による塗布膜の平坦性が向上する。

グリコールエーテル系溶剤としては、全高沸点溶剤中、１０質量％～４０質量％の範囲で用いられることが好ましく、１５質量％～３０質量％の範囲で用いられることがより好ましい。

高沸点溶剤を２種以上含む場合は、そのうちの１種としてケトン系溶剤を含むことが好ましい。ケトン系溶剤を含むことで、コート剤により形成される防曇膜と基材との密着性が向上する。

ケトン系溶剤としては、全高沸点溶剤中、５質量％～４０質量％の範囲で用いられることが好ましく、５質量％～１５質量％の範囲で用いられることがより好ましい。

本開示に係るコート剤は、高沸点溶剤を２種以上含む場合、グリコールエーテル系溶剤と、ケトン系溶剤と、の両方を含むことが特に好ましい。

高沸点溶剤としてのケトン系溶剤は、より透明性に優れる防曇膜を形成することができるという観点から、ＳＰ値（溶解度パラメーター）が１０．０ＭＰａ^１／２以上のケトン系溶剤であることが好ましい。なお、ケトン系溶剤のＳＰ値の上限は、特に限定されず、例えば、基材への塗布性、例えば、ハジキ等の面状故障が生じ難いという観点から、１３．０ＭＰａ^１／２以下であることが好ましい。

高沸点溶剤であって且つＳＰ値が１０．０ＭＰａ^１／２以上のケトン系溶剤の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。下記の具体例の後ろのカッコ内の数値は、ＳＰ値（単位：ＭＰａ^１／２）を示す。

ジアセトンアルコール（１０．２）、シクロペンタノン（１０．４）。

上記のＳＰ値は、分子凝集エネルギーの平方根で表される値で、Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ，１４，ｐ１４７～ｐ１５４（１９７４）に記載の方法で計算される値である。

本開示に係るコート剤中の高沸点溶剤の含有量は、コート剤の全質量に対して、１５質量％～６０質量％が好ましく、２０質量％～５０質量％がより好ましく、２０質量％～４０量％が更に好ましい。

本開示に係るコート剤中の高沸点溶剤は、後述する高沸点溶剤以外の溶剤と併用することが好ましい。

高沸点溶剤と高沸点溶剤以外の溶剤とを含む場合、高沸点溶剤の含有量は、コート剤に含まれる全溶剤の総質量に対して、１０質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３５量％が更に好ましい。

〔ピロリドン基を側鎖に有する樹脂〕

本開示に係るコート剤は、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂を含む。

ピロリドン基を側鎖に有する樹脂におけるピロリドン基は、以下の構造を指す。

上記の構造中、「＊」は、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂におけるピロリドン基と他の構造との連結部位を表す。

ピロリドン基を側鎖に有する樹脂としては、ピロリドン基を有するモノマーのホモポリマー又はコポリマーであってもよいし、予め合成した樹脂の側鎖に高分子反応にてピロリドン基を導入して得られた樹脂であってもよい。

ピロリドン基の導入量の調整が容易な点、及び入手容易性から、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂としては、ピロリドン基を有するモノマーのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。つまり、本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂は、Ｎ－ビニル－２－ピロリドンに由来する構成単位を含む樹脂であることが好ましい。

本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂が、ビニルピロリドン（即ち、Ｎ－ビニル－２－ピロリドンに由来する構成単位を含む樹脂である場合、ビニルピロリドンに由来する構成単位の割合は、全構成単位に対して３０質量％以上が好ましく、上限としては１００質量％であってもよい。

より好ましくは、高沸点溶剤又は高沸点溶剤以外の溶剤への溶解性、及び、シリカ粒子への吸着性の点から、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂におけるビニルピロリドンに由来する構成単位の割合は、全構成単位に対して４０質量％～９０質量％が好ましく、５０質量％～８０質量％がより好ましい。

本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂は、高沸点溶剤又は高沸点溶剤以外の溶剤への溶解性、及び、シリカ粒子への吸着性の点から、ビニルピロリドンに由来する構成単位と、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位と、を含む樹脂であることが好ましい。

ＣｌｏｇＰ値とは、１－オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算に用いる方法及びソフトウェアについては公知のものを用いることができるが、特に断らない限り、本開示では、Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ ｓｏｆｔ社のＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ １２．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることとする。

ＣｌｏｇＰ値は、その値が大きいほど疎水性大きいことを示す。

ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位としては、酢酸ビニル（ＣｌｏｇＰ値：０．８）、スチレン（ＣｌｏｇＰ値：２．９）、ブチルメタクリレート（ＣｌｏｇＰ値：２．７）、メチルメタクリレート（ＣｌｏｇＰ値：１．１）等のモノマーに由来する構成単位が挙げられる。

中でも、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位としては、入手容易性の点から、酢酸ビニルが好ましい。

つまり、本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂は、ビニルピロリドンに由来する構成単位と、酢酸ビニルに由来する構成単位と、を含む樹脂であることが好ましい。

ここで、ビニルピロリドンに由来する構成単位と、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位と、を含む樹脂における、ビニルピロリドンに由来する構成単位の割合は、上述した範囲と同様であり、好ましい範囲も同様である。

なお、本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂は、シリカ粒子に対する吸着性を妨げない範囲において、ビニルピロリドンに由来する構成単位、及び、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位以外の構成単位（以下、その他の構成単位ともいう）を含んでいてもよい。

その他の構成単位としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、ＥＯ変性アクリレート、ＰＯ変性アクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のモノマーに由来する構成単位が挙げられる。

本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂が、ビニルピロリドンに由来する構成単位以外の構成単位（ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位を含む）を含む場合、その構成単位の割合は、全構成単位に対して７０質量％以下が好ましく、１０質量％～６０質量％の範囲がより好ましく、２０質量％～５０質量％が更に好ましい。

また、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、シリカ粒子に対する吸着性能の発現、シリカ粒子の分散性向上、シリカ粒子間の空隙サイズの均一化等の観点から、１００００～１０００００であり、より好ましくは２００００～８００００であり、更に好ましくは３００００～６００００である。

ピロリドン基を側鎖に有する樹脂は市販品としても入手可能である。

本開示におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂の市販品としては、例えば、アシュランド・ジャパン社の、ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ－６３０（ビニルピロリドンに由来する構成単位６０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位４０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：５１０００、固形分１００質量％）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ－７３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位７０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位３０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：５６７００、エタノール５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ－６３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位６０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位４０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：３８２００、エタノール５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ－５３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位５０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位５０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：３６７００、エタノール５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ－３３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位３０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位７０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：２８８００、エタノール５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｉ－７３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位７０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位３０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：２２３００、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｉ－５３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位５０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位５０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：１９５００、ＩＰＡ５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｉ－３３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位３５質量％と酢酸ビニル由来する構成単位６５質量％とのコポリマー、重量平均分子量：１２７００、ＩＰＡ５０質量％溶液）、ＰＶＰ／ＶＡ Ｗ－７３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位７０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位３０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：２７３００、５０質量％水溶液）、ＢＡＳＦのルビスコールシリーズ（ＶＡ３７Ｅ、ＶＡ３７Ｉ、ＶＡ５５Ｉ、ＶＡ６４Ｐ、ＶＡ７３Ｅ、ＶＡ７３Ｗ）、第一工業製薬社のピッツコール（登録商標）Ｋ－３０（ビニルピロリドンのホモポリマー、重量平均分子量：４５０００、第一工業製薬社）等が挙げられる。

本開示に係るコート剤は、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂を１種のみ含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。

コート剤におけるピロリドン基を側鎖に有する樹脂の含有量は、シリカ粒子に対して、２０質量％～７０質量％の範囲であることが好ましく、２５質量％～６５質量％の範囲が好ましく、３０質量％～６０質量％の範囲が更に好ましい。

〔他の成分〕

本開示に係るコート剤は、特定シロキサン加水分解物、シリカ粒子、高沸点溶剤、及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂以外にも、本開示に係る効果を損なわない範囲において、公知の他の成分を含んでもよい。

他の成分としては、特定シロキサン加水分解物の縮合反応を促進する縮合触媒、高沸点溶剤以外の溶剤、ノニオン界面活性剤、ピロリドン基を有さない樹脂、添加剤等が挙げられるが、既述の成分に限定されない。

（特定シロキサン加水分解物の縮合反応を促進する縮合触媒）

本開示に係るコート剤は、特定シロキサン加水分解物の縮合反応を促進する縮合触媒（以降、単に「縮合触媒」ともいう）を含むことが好ましい。

縮合触媒を含むことで、特定シロキサン加水分解物の縮合反応が促進され、コート剤による防曇膜の造膜性が高まる。

縮合触媒としては、特定シロキサン加水分解物の縮合反応を促進するものであれば特に制限はなく、例えば、酸触媒、アルカリ触媒、有機金属触媒などが挙げられる。

酸触媒の例としては、硝酸、塩酸、硫酸、酢酸、リン酸、クロロ酢酸、蟻酸、シュウ酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、ジノニルナフタレンモノスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ポリリン酸塩、メタリン酸塩などが挙げられる。

アルカリ触媒の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、炭酸水素ナトリウム、尿素などが挙げられる。

有機金属触媒の例としては、金属キレート化合物（アルミニウムビス（エチルアセトアセテート）モノ（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレートなどのアルミニウムキレート化合物、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）などのジルコニウムキレート化合物、チタニウムテトラキス（アセチルアセトネート）、チタニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトネート）などのチタニウムキレート化合物など）；及びジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジオクチエートなどの有機スズ化合物、アルミニウムエチレート、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムｓｅｃ－ブチレートなどのアルミニウムアルコキシド、チタン（IV）エトキシド、チタンイソプロポキシド、チタン（IV）ｎ－ブトキシドなどのチタンアルコキシド、ジルコニウム（IV）エトキシド、ジルコニウム（IV）ｎ－プロポキシド、ジルコニウム（IV）ｎ－ブトキシドなどのジルコニウムアルコキシド；等が挙げられる。

これらの触媒の中でも、酸触媒としては、リン酸、トルエンスルホン酸、ポリリン酸塩、又はメタリン酸塩が好ましく、アルカリ触媒としては、重曹、又は尿素が好ましく、有機金属触媒としては、アルミニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、又はジルコニウムキレート化合物等の金属キレート化合物が好ましい。これらの触媒の中でも、更に好ましくは、有機金属触媒である金属キレート化合物、特に好ましくはアルミニウムキレート化合物である。

本開示に係るコート剤が縮合触媒を含む場合、縮合触媒の含有量は、全固形分に対して、０．１質量％～４０質量％が好ましく、１質量％～３０質量％がより好ましく、５質量％～２０質量％が更に好ましい。

縮合触媒の含有量が上記範囲内であると、耐傷性を有する防曇膜を形成し易い。また、防曇膜の形成性にも優れる。

（高沸点溶剤以外の溶剤）

本開示に係るコート剤は、高沸点溶剤以外の溶剤を含んでいることが好ましい。

高沸点溶剤以外の溶剤としては、水及び沸点が１２０℃未満の有機溶剤が挙げられる。

－水－

本開示に係るコート剤は、水を含むことが好ましい。

水は、既述の如く、特定シロキサン化合物の加水分解反応に寄与する。

水としては、不純物がより少ないという観点から、イオン交換水、純水、蒸留水等が好ましい。

コート剤中の水の含有量は、コート剤の全質量に対して、５質量％～６０質量％の範囲が好ましく、１０質量％～５５質量％の範囲がより好ましく、１０質量％～３５質量％の範囲が更に好ましい。

－沸点が１２０℃未満の有機溶剤－

本開示に係るコート剤には、沸点が１２０℃未満の有機溶剤を含んでいることが好ましい。

沸点が１２０℃未満の有機溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、２－メチル－２－ブタノール、ｎ－プロパノール、２－プロパノール、tert－ブタノール、２－ブタノール等のアルコール系溶剤；

ジプロピレングリコールメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤；

イソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、tert－ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶剤；

アセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶剤；等が挙げられる。

沸点が１２０℃未満の有機溶剤としては、表面エネルギーが低く、コート剤の塗れ広がり性を高められる観点から、アルコール系溶剤が好ましい。

本開示に係るコート剤に対し、沸点が１２０℃未満の有機溶剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。

沸点が１２０℃未満の有機溶剤を２種以上含む場合は、そのうちの１種としてケトン系溶剤を用いることで、コート剤により形成される防曇膜と基材との密着性を向上させてもよい。ここで用いるケトン系溶剤としては、ＳＰ値が１０．０ＭＰａ^１／２以上である、アセトン（１０．０）、及びアセチルアセトン（１０．３）が好ましい。なお、括弧内の数値がＳＰ値である。

沸点に関わらずケトン系溶剤としては、全溶剤中、１質量％～１５質量％の範囲で用いられることが好ましく、３質量％～１０質量％の範囲で用いられることがより好ましい。

本開示に係るコート剤中に沸点が１２０℃未満の有機溶剤が含まれる場合、沸点が１２０℃未満の有機溶剤の含有量は、コート剤の全質量に対して、２０質量％～７５質量％の範囲が好ましく、２５質量％～６５質量％の範囲がより好ましい。

（ノニオン界面活性剤）

本開示に係るコート剤は、ノニオン界面活性剤を含むことが好ましい。

本開示に係るコート剤は、ノニオン界面活性剤を含むことで、コート剤の表面張力が低下するため、コート剤の塗布性を高めることができ、更に、コート剤から形成される防曇膜の表面平滑性をより高めることができる。また、防曇膜中にノニオン界面活性剤を含むと、汚染物質の付着防止性をも高められる。

更に、ノニオン界面活性剤は、非イオン性であるため、系内の電解質量が増えず、シリカ粒子の凝集を抑えることもでき、防曇性の良化も図れる。

ノニオン界面活性剤としては、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル、ポリアルキレングリコールモノアルキルエステル・モノアルキルエーテル等が挙げられる。

ノニオン界面活性剤の具体的な例としては、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリルエステル、ポリエチレングリコールモノステアリルエステル等が挙げられる。

本開示に係るコート剤がノニオン界面活性剤を含む場合、親水性及び汚染物質の付着防止性により優れる防曇膜を形成するという観点から、ＨＬＢ値（即ち、親水親油バランス値）が１５より大きいノニオン界面活性剤（以下、「特定ノニオン界面活性剤」ともいう）を用いることが好ましい。

本開示に係るコート剤が特定ノニオン界面活性剤を含むと、形成される防曇膜の親水性がより向上し、疎水性成分である汚染物質（例えば、炭化水素ガス、シリコーンオイル等）の付着防止性が良好となる。

特定ノニオン界面活性剤のＨＬＢ値は、１５．５以上であることが好ましく、１６以上であることがより好ましく、１７以上であることが更に好ましく、１８以上であることが特に好ましい。

特定ノニオン界面活性剤のＨＬＢ値の上限は、特に限定されず、例えば、２０以下が好ましい。

本開示における界面活性剤のＨＬＢ値は、グリフィン法（全訂版 新・界面活性剤入門、ｐ１２８）により以下の式（Ｉ）で定義され、算術により求められる値である。

界面活性剤のＨＬＢ値＝（親水基部分の分子量／界面活性剤の分子量）×２０ （Ｉ）

特定ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル、ソルビタン誘導体、ポリオキシアルキレンアリールエーテルのホルマリン縮合物、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルのホルマリン縮合物、ポリエチレングリコール等が挙げられる。

これらの中でも、特定ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルが特に好ましい。

特定ノニオン界面活性剤におけるポリオキシアルキレンアルキルエーテルのアルキル基としては、例えば、炭素数が１～３６の直鎖型アルキル基又は炭素数が３～３６の分岐型のアルキル基が挙げられる。

また、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルのオキシアルキレン部は、親水性に特に優れる防曇膜を形成することができるという観点から、ポリオキシエチレンであることが好ましい。また、特定ノニオン界面活性剤が有するポリオキシエチレン構造単位数は、６以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、１５以上であることが更に好ましく、２０以上であることが特に好ましい。また、ポリオキシエチレン構造単位数は、例えば、溶解性の観点から、１００以下とすることができる。

特定ノニオン界面活性剤がポリオキシアルキレンアルキルエーテルである場合、下記の式（II）で表される界面活性剤が好ましい。

ＲＯ－（Ｃ_２Ｈ_４０）_ｍ－Ｈ （II）

式（II）中、ｍは、６～１００の整数を表す。Ｒは、炭素数１～３６の直鎖型アルキル基又は炭素数３～３６の分岐型アルキル基を表す。

特定ノニオン界面活性剤としては、市販品を用いることができる。

特定ノニオン界面活性剤の市販品の例としては、日本エマルジョン（株）のＥＭＡＬＥＸ（登録商標） ７１５（ＨＬＢ値：１５．６）、ＥＭＡＬＥＸ（登録商標） ７２０（ＨＬＢ値：１６．５）、ＥＭＡＬＥＸ（登録商標） ７３０（ＨＬＢ値：１７．５）、ＥＭＡＬＥＸ（登録商標） ７５０（ＨＬＢ値：１８．４）（いずれも商品名、ポリオキシエチレンラウリルエーテル）、花王（株）のレオドールＴＷ－Ｐ１２０（商品名、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ＨＬＢ値：１５．６）、三洋化成工業（株）のＰＥＧ２０００（商品名、ＨＬＢ値：１９．９）等が挙げられる。

本開示に係るコート剤がノニオン界面活性剤を含む場合、ノニオン界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

本開示に係るコート剤がノニオン界面活性剤（好ましくは、特定ノニオン界面活性剤）を含む場合、コート剤中の非イオン性界面活性剤の含有量は、全固形分に対して、０．０１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましい。

上記範囲であると、形成される防曇膜の親水性が良好となり、疎水性成分である汚染物質の付着防止性が良好となる。

（ピロリドン基を有さない樹脂）

本開示に係るコート剤は、既述の各成分に加えて、必要に応じて、ピロリドン基を有さない樹脂を含有してもよい。

ここで、ピロリドン基を有さない樹脂としては、既述のピロリドン基を側鎖に有する樹脂が有するピロリドン基をその分子内に有しない樹脂を指す。

ピロリドン基を有さない樹脂としては、具体的には、アクリル樹脂、セルロース樹脂、ビニルアルコール樹脂、ウレタン樹脂、ビニルアセタール樹脂等が挙げられる。

本開示に係るコート剤中にピロリドン基を有さない樹脂が含まれる場合、ピロリドン基を有さない樹脂の含有量は、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂及びピロリドン基を有さない樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％の範囲が好ましく、５質量％～２０質量％の範囲がより好ましい。

（その他の添加剤）

本開示に係るコート剤は、既述の各成分に加えて、必要に応じて、更にその他の添加剤を含有してもよい。

その他の添加剤としては、例えば、コート剤により形成される防曇膜の膜性向上、基材との密着性向上等を目的として用いられる密着助剤、汚染物質の付着防止効果を向上させるための帯電防止剤、光による劣化を防止する紫外線吸収剤、熱による劣化を防止する酸化防止剤等が挙げられる。

〔コート剤の調製方法〕

本開示に係るコート剤は、特定シロキサン加水分解物、シリカ粒子、高沸点溶剤、及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、必要に応じて、既述の任意成分と、を混合することにより調製される。

コート剤の調製に用いる特定シロキサン加水分解物は、特定シロキサン化合物を水で加水分解させることで得られる。

コート剤の調製方法として、具体的には、まず、特定シロキサン化合物を水と混合し、特定シロキサン化合物の加水分解物を生成させ、特定シロキサン加水分解物を含む加水分解液を調製する。次いで、得られた加水分解液に、シリカ粒子、高沸点溶剤、及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂を添加する。

なお、加水分解液を調製する際には、特定シロキサン化合物及び水の他、既述の任意成分である、縮合触媒、及び沸点１２０℃未満の有機溶剤を用いてもよい。

本開示に係るコート剤の保管容器としては、特に限定されず、金属製の容器であってもよいし、ポリエチレン、ポリプロピレン等の樹脂製の容器であってもよいし、ガラス製の容器であってもよい。

本開示に係るコート剤の保管温度は、０℃以上５０℃以下であることが好ましい。

＜防曇膜＞

本開示に係る防曇膜は、例えば、既述の本開示に係るコート剤により形成される。

コート剤により防曇膜が形成される際、特定シロキサン加水分解物が持つヒドロキシ基の少なくとも一部が分子間で互いに結合し、特定シロキサン加水分解物が縮合する。従って、コート剤により形成された防曇膜は、特定シロキサン加水分解物の縮合体を含む。

また、既述の通り、本開示に係るコート剤によればヘイズが低い防曇膜を形成し得る。

つまり、本開示に係る防曇膜は、特定シロキサン加水分解物の縮合体、シリカ粒子、及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂を含み、そしてヘイズが２．０％以下となり得る。

本開示に係る防曇膜に含まれる特定シロキサン加水分解物の縮合体は、コート剤の項に記載した「特定シロキサン加水分解物」の縮合体である。

また、本開示に係る防曇膜に含まれるシリカ粒子及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂は、コート剤の項に記載した「シリカ粒子」及び「ピロリドン基を側鎖に有する樹脂」と同じであり、好ましい態様も同様である。

〔空隙〕

また、本開示に係る防曇膜は、空隙率が５％以上であることが好ましい。具体的には、防曇膜は防曇膜内のシリカ粒子間に空隙を有しており、この防曇膜の内部の空隙の存在により防曇性能が発現すると考えられる。

耐汚染性及び水ダレ跡の抑制性の観点から、空隙率は１０％以上５０％以下であることが好ましい。

空隙率は、自動ポロシメータ（（株）島津製作所、オートポアＩＶ ９５２０）を用いて測定される値である。

〔厚さ〕

防曇膜の厚さは、用途等に応じて決定さればよいが、０．１μｍ以上３０μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以上２０μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以上１０μｍ以下が更に好ましい。

防曇膜の厚さが上記範囲であることにより、透明性を確保しつつ、耐クラック性に優れる。

防曇膜の厚さは、光干渉型膜厚計にて測定でき、例えば、浜松ホトニクス社Ｏｐｔｉｃａｌ ＧａｕｇｅシリーズＣ１３０２７等が用いられる。

〔ヘイズ〕

本開示に係る防曇膜は、ヘイズが２．０％以下であることが好ましい。

具体的には、防曇膜のヘイズは、透明性の点から小さいほど好ましいが、防曇膜の厚さが０．０５μｍ以上１０μｍ以下の範囲である場合、ヘイズが２．０％以下であることが好ましく、１．７％以下であることが好ましく、１．２％以下であることが好ましく、０．５以下であることが更に好ましい。

ヘイズは、ヘイズメーター（型番：ＮＤＨ ５０００、日本電色工業（株））を用いて得られる測定値である。

＜防曇膜の製造方法＞

本開示に係る防曇膜の製造方法は、本開示に係る防曇膜を製造できればよく、特に限定されるものではない。

本開示に係る防曇膜の製造方法は、例えば、被塗布材に、既述の本開示に係るコート剤を塗布する工程（以下、塗布工程という）と、塗布されたコート剤を乾燥する工程（以下、乾燥工程という）と、を有する。

以下、塗布工程及び乾燥工程について説明する。

〔塗布工程〕

塗布工程では、被塗布材に対し、本開示に係るコート剤を塗布する。

ここで、被塗布材は、後述する積層体における基材であってもよいし、防曇膜の製造後に防曇膜から剥離される仮支持体であってもよい。

塗布方法としては、被塗布材の形状、大きさ、塗布膜の厚み等に応じて決定されればよく、例えば、スプレー塗布、刷毛塗布、ローラー塗布、バー塗布、ディップ塗布（所謂、浸漬塗布）等の公知の塗布法を適用することができる。

これらの中でも、塗布法としては、曲面、凹凸等の様々な表面形状を有する立体構造体へ塗布する場合には、スプレー塗布が好ましい。

コート剤をスプレー塗布により被塗布材に塗布する場合、被塗布材のセット方法は、特に限定されない。

被塗布材の形状に応じて、被塗布材の向きを、塗布方向に対して、水平方向、垂直方向等、適宜変更しながら塗布することができる。塗布層厚をより均一にするためには、スプレーノズルと被塗布材との距離が等間隔となる位置にスプレーノズルを配置して被塗布材に塗布することが好ましく、また、スプレーノズルと被塗布材との距離を１０ｍｍ以上１，０００ｍｍ以下とすることが好ましい。

コート剤の塗布装置への供給方式は、圧送型、吸上型、及び重力型のいずれの方式を用いることもできる。

スプレーノズルのノズル口径は、０．１ｍｍφ以上１．８ｍｍφ以下であることが好ましく、エア圧は、０．０２ＭＰａ以上０．６０ＭＰａ以下であることが好ましい。このような条件で塗布することで、塗布層厚をより均一にすることができる。なお、スプレー塗布によって、更に好適な塗布層を形成するためには、エア量、コート剤の噴出量、パターン開き等の調整が必要である。

コート剤をスプレー塗布により被塗布材に塗布する場合、エア量は５Ｌ（リットル）／分以上６００Ｌ／分以下であることが好ましく、コート剤噴出量は５Ｌ／分以上６００Ｌ／分以下であることが好ましく、パターン開きは４０ｍｍ以上４５０ｍｍ以下であることが好ましい。

スプレー塗布においては、塗布時の環境も塗布膜の形成に影響する。

温度条件としては１５℃以上３５℃以下であることが好ましく、湿度条件としては８０％ＲＨ以下であることが好ましい。

清浄度は、特に限定されないが、例えば、塗布環境中の微粒子（即ち、パーティクル）による面状故障を抑制する観点から、クラス１０，０００以上の清浄度が好ましく、クラス１，０００以上の清浄度であることがより好ましい。

コート剤の塗布量は、特に限定されず、コート剤中の固形分の濃度、所望の防曇膜の層厚等に応じて、操作性等を考慮し、適宜設定することができる。

例えば、コート剤の塗布量は、１ｍＬ／ｍ^２以上４００ｍＬ／ｍ^２以下であることが好ましく、２ｍＬ／ｍ^２以上１００ｍＬ／ｍ^２以下であることがより好ましく、４ｍＬ／ｍ^２以上４０ｍＬ／ｍ^２以下であることが更に好ましく、６ｍＬ／ｍ^２以上２０ｍＬ／ｍ^２以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、塗布精度が良好となる。

〔乾燥工程〕

乾燥工程では、被塗布材上に塗布されたコート剤を乾燥する。

コート剤の乾燥は、加熱装置を用いて行なってもよい。

加熱装置としては、目的の温度に加熱することができれば、特に限定されることなく、公知の加熱装置をいずれも用いることができる。加熱装置としては、オーブン、電気炉等の他、製造ラインに合わせて独自に作製した加熱装置を用いることができる。

コート剤の乾燥条件は、特に限定されず、塗布層の硬化性も考慮し、適宜設定することができる。

コート剤の乾燥は、予め定められた設定温度を一定に保った恒温条件にて行ってもよいし、段階的に温度条件を変えて行ってもよい。

前者の場合におけるコート剤の乾燥条件としては、コート剤を、表面温度を２０℃以上１５０℃以下にして１分間～６０分間加熱する乾燥条件が好ましく、表面温度を４０℃以上１５０℃以下にして１分間～６０分間加熱する乾燥条件がより好ましく、表面温度を６０℃以上１５０℃以下にして１分間～６０分間加熱する乾燥条件が更に好ましい。

後者の場合におけるコート剤の乾燥は、予備乾燥と本乾燥とに分けて行うことが好ましい。予備乾燥の条件としては、表面温度を２０℃以上６０℃以下にして５秒間～１０分間加熱する条件が好ましい。

なお、表面温度は、赤外線温度計等により測定することができる。

コート剤の乾燥を、乾燥風を吹き付けることにより行う場合、乾燥風の風量は、被塗布材に到達した場合の最適温度を考慮して、適宜設定することができる。しかし、乾燥ムラを考慮すると、可能な限り風量を抑えることが好ましく、無風、即ち、被塗布材に直接乾燥風が当たらない条件で乾燥を行うことがより好ましい。

なお、コート剤を塗布した被塗布材は、被塗布材の形状に応じて、台座の上に直置き（即ち、平置き）して乾燥してもよいし、立てかけて乾燥してもよいし、吊るして乾燥してもよい。

以上のようにして、被塗布材上に防曇膜が形成される。

＜積層体及び積層体の製造方法＞

本開示に係る積層体は、基材と、基材上に設けられた、既述の本開示に係るコート剤により形成された防曇膜と、を有する。

本開示に係るコート剤により形成された防曇膜は、既述のように、特定シロキサン加水分解物の縮合体を含み、ヘイズが低い。

そのため、本開示に係る積層体の好ましい態様は、基材と、基材上に設けられた、特定シロキサン加水分解物の縮合体、シリカ粒子、及びピロリドン基を側鎖に有する樹脂を含み、ヘイズが２．０％以下の防曇膜と、を有する。

〔基材〕

本開示に係る積層体は、基材を有する。

基材の材料としては、特に限定されず、ガラス、樹脂（プラスチックを含む）、金属、セラミックス等の各種材料から適宜選択して用いることができ、好ましくは樹脂である。

積層体を、例えば、自動車のライトの保護材、及び監視カメラの保護材に適用する場合には、樹脂基材を用いることが好ましい。

基材の材料が樹脂である場合、基材としては、光及び熱に対する耐久性に優れ、かつ、防曇膜との間で、基材の透明性を維持しつつ、密着性に優れた積層体を形成できるという観点から、アクリル樹脂基材、ポリカーボネート基材、又はポリエチレンテレフタレート基材であることが好ましく、密着性により優れた積層体を形成できるという観点から、アクリル樹脂基材、又はポリカーボネート基材であることがより好ましく、ポリカーボネート基材又はポリメチルメタクリレート基材が特に好ましい。

また、基材の材料としては、複数の材料から形成される複合材料を用いることもできる。例えば、基材の材料は、ガラス及び樹脂材料を含み、ガラスと樹脂材料とが混在して複合化した複合材、複数種の樹脂材料が混練又は貼合された樹脂複合材等であってもよい。

基材の厚さ及び形状は、特に限定されず、適用対象に応じて、適宜設定される。

また、基材の表面には、必要に応じ、表面処理が施されていてもよい。表面処理方法としては、特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。

〔防曇膜〕

本開示に係る積層体は、防曇膜を有する。

防曇膜は、基材の一部に設けられていてもよいし、全面に設けられていてもよい。また、防曇膜は、基材に直接接していてもよいし、基材に直接接していなくともよい。

本開示に係る積層体における防曇膜は、本開示に係る防曇膜と同じであり、好ましい態様も同様である。

〔積層体の用途〕

本開示に係る積層体は、種々の用途に用いることができる。

具体的には、例えば、監視カメラ、照明、センサー灯具等を保護するための保護材（いわゆる、保護カバー）；自動車、二輪車等の車両の車庫の屋根材；道路標識等の標識；高速道路路肩設置用、鉄道用等の防音壁；自動車、二輪車等の車両のボディー；自動車の窓ガラス、ミラー、ライト等の保護材（例えば、レンズ）；ゴーグル、保護メガネ等の目を保護するための道具；ヘルメットのシールド材；ヘッドマウントディスプレイの内部レンズ；などに対して、防曇性等の機能を付与するために、好適に用いることができる。

これらの中でも、本開示に係る積層体は、自動車のライト（ヘッドライト、テールランプ、ドアミラーウィンカーライト等）の保護材及び監視カメラの保護材に対して、より好適に用いることができる。

一般に、自動車は、ライトとライトを保護するためのレンズとを含んで構成されるライトユニットを備えている。このライトユニットにおいて使用される、ガラス、プラスチック等の透明基材は、基材を挟んで内面と外面の温湿度の差により、一方の表面が露点以下になった場合、又は、基材に対して急激な温湿度変化が起こった場合（沸騰水蒸気が基材に接触した場合、低温部から高温多湿の環境に移った場合等）に雰囲気中の水分が水滴として付着し、基材表面は結露する。その結果、結露した水滴により光の散乱が起こる、いわゆる「曇り」が発生することがある。このような「曇り」がヘッドライト、リアライト等で生じた場合、外観が著しく損なわれる。このような曇りは、保護カバーを有する監視カメラ（すなわち、ハウジング一体型監視カメラ）の保護カバーでも生じ、この場合は視認性及び安全性が著しく損なわれる。本開示に係る積層体は、ヘイズが低く透明性に優れることから、自動車のライト及び監視カメラの外観、機能及び性能を損なわず、かつ、防曇性及び耐汚染性に優れることから、長期間にわたって防曇性を維持することができる。

〔積層体の製造方法〕

本開示に係る積層体の製造方法は、本開示の積層体を製造できればよく、特に限定されるものではない。

本開示に係る積層体の製造方法は、例えば、基材に、既述の本開示に係るコート剤を塗布する工程（以下、塗布工程という）と、塗布されたコート剤を乾燥する工程（以下、乾燥工程という）と、を有する。

なお、積層体の製造方法における塗布工程及び乾燥工程は、本開示に係る防曇膜の製造方法における塗布工程及び乾燥工程と同じであり、好ましい態様も同様である。

以下、本発明の実施形態を、実施例により具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されない。なお、本実施例において、「％」とは、特に断りのない限り、「質量％」を意味する。

〔実施例１〕

＜加水分解液の調製＞

下記各成分を混合し、混合物を得た。

・エタノール（高沸点溶剤以外の溶剤、ＥｔＯＨと略記）：５２質量部

・ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１（特定シロキサン化合物、ＭＳ５１と略記）：４８質量部

上記混合物に、更に、イオン交換水（高沸点溶剤以外の溶剤）：１００質量部を徐々に加え、最後に、酢酸（１００％）を６質量部添加し、室温（２５℃、以下同様）で２４時間以上撹拌した。

得られた混合物にて特定シロキサン化合物は加水分解されており、特定シロキサン加水分解物を含む加水分解液が得られた。

＜コート剤の調製＞

以下の成分を混合することで、コート剤を調製した。得られたコート剤を実施例１のコート剤１とした。

・上記加水分解液（特定シロキサン加水分解物の固形分２４％）：１００質量部

・スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ（シリカ粒子、ＳＴ－ＯＸＳと略記）：４４０質量部

・ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ－６３０（ビニルピロリドンと酢酸ビニルとのコポリマー、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂、Ｓ－６３０と略記）：２６質量部

・アルミキレートＤ（アルミニウムキレート化合物、ＡＬ－Ｄと略記）：６質量部

・イオン交換水（高沸点溶剤以外の溶剤）：３７０質量部

・エタノール（高沸点溶剤以外の溶剤、ＥｔＯＨと略記）：８１４質量部

・プロピレングリコールモノメチルエーテル（高沸点溶剤、ＭＦＧと略記）：７４４質量部

－防曇膜の形成及び積層体の製造－

得られたコート剤１を、基材であるポリカーボネート基材（旭硝子（株）、カーボグラスＣ－１１０、厚さ：０．５ｍｍ）の片方の面上に、スプレーガン（アネスト岩田（株）、Ｗ－１０１－１０１Ｇ）により塗装し、３０℃で１分間静置した後、１２０℃で２０分間乾燥し、基材上に乾燥後の膜厚が３００ｎｍの防曇膜を形成した。

これにより、基材上に防曇膜が形成された積層体を得た。

〔実施例２～２５及び比較例１～４〕

下記表２～４に記載の、固形分の構成、溶剤の組成、及び固形分濃度になるように、使用する成分、成分の種類、及び使用量、を適宜変更して、加水分解液の調製及びコート剤の調製を行った以外は、実施例１と同様にして、実施例２～２５及び比較例１～４のコート剤２～２５及びＣ１～Ｃ４を得た。

下記表２～４において、固形分の構成及び溶剤の組成は、それぞれ、総計で１００質量％となっている。固形分濃度は、コート剤における固形分の総量の割合を百分率で示したものである。

なお、下記表２～４に記載の、縮合触媒は、コート剤の調製時に用いた。また、高沸点溶剤を複数種用いる場合、高沸点溶剤は全て、コート剤の調製時に用いた。

また、比較例１では、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂の代わりに、ポリビニルアルコールを用いてコート剤の調製を行った。表４中は、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂の欄に「（ＰＶＡ※）」と記載した。

更に、比較例４では、高沸点溶剤の代わりに、ｎ－ブチルアルコールを用いてコート剤の調製を行った。表４中は、高沸点溶剤の欄に「（ｎＢＡ※）」と記載した。

続いて、コート剤１をコート剤２～２５及びＣ１～Ｃ４にそれぞれ代えた以外は実施例１と同様にして、ポリカーボネート基材上に防曇膜を形成し、実施例２～２５及び比較例１～４の積層体を得た。

各実施例及び比較例で使用した、上記表２～４に記載の各成分について、その詳細を以下に示す。

－特定シロキサン化合物－

・ＭＳ５１：ＭＫＣ（登録商標）シリケートＭＳ５１（一般式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４：メチル基、ｎの平均：５、三菱ケミカル（株））

・ＴＥＯＳ：テトラエトキシシラン（東京化成工業（株））

－シリカ粒子－

・ＳＴ－ＯＸＳ：スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ（シリカ粒子の水分散液、固形分１０％、平均一次粒子径４ｎｍ～６ｎｍ、日産化学工業（株））

・ＳＴ－Ｏ３３：スノーテックス（登録商標）Ｏ３３（シリカ粒子の水分散液、固形分１５％、平均一次粒子径１０ｎｍ～１５ｎｍ、日産化学工業（株））

・ＳＴ－ＯＵＰ：スノーテックス（登録商標）ＯＵＰ（シリカ粒子の水分散液、固形分１５％、平均一次粒子径４０ｎｍ～１００ｎｍ、日産化学工業（株））

－ピロリドン基を側鎖に有する樹脂－

・Ｓ６３０：ＰＶＰ／ＶＡ Ｓ－６３０（ビニルピロリドンに由来する構成単位６０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位４０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：５１０００、固形分１００質量％）

・Ｅ－７３５：ＰＶＰ／ＶＡ Ｅ－７３５（ビニルピロリドンに由来する構成単位７０質量％と酢酸ビニル由来する構成単位３０質量％とのコポリマー、重量平均分子量：５６７００、エタノール５０質量％溶液）

・Ｋ３０：ピッツコール（登録商標）Ｋ－３０（ビニルピロリドンのホモポリマー、固形分１００％、重量平均分子量：４５０００、第一工業製薬社）

－比較例１で用いた樹脂－

・ＰＶＡ：ポリビニルアルコール（重量平均分子量：２００００、東京化成工業（株））

－縮合触媒－

・ＡＬ－Ｄ：アルミキレートＤ（アルミニウムキレート化合物、７６％水溶液、川研ファインケミカル（株））

－高沸点溶剤－

・ＭＦＧ：プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２１℃、東京化成工業（株））

・ＭＭＧＡＣ：エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４５℃、東京化成工業（株））

・ＥＴＢ：エチレングリコール－モノ－tert－ブチルエーテル（沸点１５３℃、東京化成工業（株））

・ＥＬ：酢酸エチル（沸点１５４℃、東京化成工業（株））

・ＰＮＰ：プロピレングリコールモノプロピルエーテル（沸点１５０℃、東京化成工業（株））

・ＤＡＡ：ジアセトンアルコール（沸点１６９℃、東京化成工業（株））

・ＤＭ：ジエチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１９４℃、東京化成工業（株）

）

・ＤＰＭ：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１８８℃、東京化成工業（株））

－高沸点溶剤以外の溶剤－

・ＥｔＯＨ：エタノール（沸点７８℃、東京化成工業（株））

・ｎＢＡ：ｎ－ブチルアルコール（沸点１１８℃、東京化成工業（株））

・水：イオン交換水（沸点１００℃）

－評価－

作製した積層体を用い、下記の測定又は評価を行った。

評価結果を表２～４に示す。

（１）ヘイズの測定

作製した積層体について、ヘイズメーターＮＤＨ ５０００（日本電色工業（株））を用い、ヘイズを測定した。

なお、ヘイズの測定は、防曇膜側に光源に向けて、測定を行った。ヘイズの値が小さいほど、積層体は透明性が良好であると評価する。ヘイズが２．０％以下であることが好ましい。

なお、積層体のヘイズが２．０％以下である場合、防曇膜自体のヘイズも２．０％以下であるといえる。

（２）初期防曇性の評価

作製した積層体における防曇膜に対し、６０℃に加熱した水から発生する蒸気を、水面から２０ｍｍの距離で２０秒間あて、その後の防曇膜の曇り具合を目視にて評価した。

評価基準は以下の通りである。３～５が許容の範囲である。

－評価指標－

５：全く曇りがなく、きれいな水膜が形成される

４：曇りがなく、水膜が形成されるが、形成された水膜が僅かに揺らいでいる

３：曇りがなく、水膜が形成されるが、形成された水膜が揺らいでいる

２：水膜が不均一に形成される

１：水膜が形成されず曇る

（３）耐汚染性の評価

作製した積層体における防曇膜に対し、シリコーンオイル（ＴＳＦ４５８－１００、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社）をホットプレートで８０℃に加熱して発生する蒸気を２４時間あてた。その後、防曇膜に、６０℃に加熱した水から発生する蒸気を、水面から２０ｍｍの距離で１分間あて、その後の防曇膜の曇り具合を目視にて評価した。

評価基準は以下の通りである。３～５が許容の範囲である。

－評価指標－

５：全く曇りがなく、きれいな水膜が形成される

４：曇りがなく、水膜が形成されるが、形成された水膜が僅かに揺らいでいる

３：曇りがなく、水膜が形成されるが、形成された水膜が揺らいでいる

２：水膜が不均一に形成される

１：水膜が形成されず曇る

（４）水ダレ跡の評価

作製した積層体を１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、評価試料を得た。

評価試料の防曇膜に、霧吹きで１０ｍｌの水をかけて防曇膜の表面に水膜を形成した後、評価試料を垂直に立て掛けた状態で静置し、水膜を乾燥させた。

防曇膜の表面の水が全て乾燥した後、防曇膜の表面を目視で観察し、水の垂れた跡の有無を観察し、評価した。

評価基準は以下の通りである。３が許容の範囲である。

－評価指標－

３：水の垂れた跡が見られない

２：水の垂れた跡が僅かに見える

１：水の垂れた跡がはっきりと見える

表２～４に示されるように、実施例で得たコート剤は、比較例で得たコート剤に比べ、ヘイズが小さく、初期防曇性に優れ、また、耐汚染性（即ち、汚染物質に晒された後の防曇性）にも優れる防曇膜が得られることが分かる。また、実施例で得たコート剤によれば、水の垂れた跡が見られない防曇膜が形成され、水ダレ跡の評価も良好であることが分かる。

実施例１～実施例３の比較から、シリカ粒子の平均一次粒子径が１０ｎｍ～２０ｎｍの範囲であることで、初期防曇性及び耐汚染性が高まることが分かる。これは、シリカ粒子の粒子径が上記範囲であることで、防曇膜中にてシリカ粒子間に形成される空隙のサイズが最適化されることに起因するものと考えられる。

実施例２と実施例４との比較から、コート剤中のシリカ粒子の含有量を４５質量％以上とすることで、初期防曇性及び耐汚染性が高まることが分かる。これは、シリカ粒子の含有量が上記範囲であることで、防曇膜中にてシリカ粒子間に形成される空隙の量が最適化されることに起因するものと考えられる。

実施例４、実施例７、及び実施例８の比較から、沸点が高い高沸点溶剤を用いることで、造膜性が高まり、その結果、ヘイズが低く、初期防曇性に優れる防曇膜が得られることが分かる。

実施例４、実施例９、及び実施例１０の比較から、高沸点溶剤としては、グリコールエーテル系溶剤が好ましく、また、分岐アルキル基を有する溶剤が好ましいことも分かる。

実施例８と実施例１１との比較から、水を含むことで、ヘイズ及び耐汚染性に優れることが分かる。これは、コート剤が水を含むことでシリカ粒子の分散性が向上するためと推測される。

Claims (19)

1. 一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、沸点が１２０℃以上の高沸点溶剤と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含み、
   前記シリカ粒子の含有量が、全固形分に対して３０質量％～５０質量％であり、
   ピロリドン基を側鎖に有する前記樹脂の含有量が、前記シリカ粒子の質量に対して３０質量％～６０質量％である、コート剤。
   

   

   
   一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。
2. 更に、縮合触媒として金属キレート化合物を含む、請求項１に記載のコート剤。
3. ピロリドン基を側鎖に有する前記樹脂がビニルピロリドンに由来する構成単位を含む樹脂である、請求項１又は請求項２に記載のコート剤。
4. ピロリドン基を側鎖に有する前記樹脂が、ビニルピロリドンに由来する構成単位と、ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する構成単位と、を含む樹脂である、請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のコート剤。
5. ＣｌｏｇＰ値が０．７～３．０のモノマーに由来する前記構成単位が、酢酸ビニルに由来する構成単位である、請求項４に記載のコート剤。
6. 前記シリカ粒子の平均一次粒子径が１０ｎｍ～２０ｎｍである、請求項１～請求項５のいずれか１項に記載のコート剤。
7. 前記シリカ粒子の含有量が、全固形分に対して４５質量％以上である、請求項１～請求項６のいずれか１項に記載のコート剤。
8. 前記高沸点溶剤の沸点が１４０℃以上である、請求項１～請求項７のいずれか１項に記載のコート剤。
9. 前記高沸点溶剤の沸点が１５０℃以上である、請求項８に記載のコート剤。
10. 前記高沸点溶剤がグリコールエーテル系溶剤である、請求項１～請求項９のいずれか１項に記載のコート剤。
11. 前記高沸点溶剤が分岐アルキル基を有する溶剤である、請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載のコート剤。
12. 更に、水を含む、請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載のコート剤。
13. 前記高沸点溶剤の含有量が前記コート剤に含まれる全溶剤の総質量に対して１０質量％～５０質量％である、請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載のコート剤。
14. 請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載のコート剤により形成された防曇膜。
15. 一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含み、
    前記シリカ粒子の含有量が、全固形分に対して３０質量％～５０質量％であり、
    ピロリドン基を側鎖に有する前記樹脂の含有量が、前記シリカ粒子の質量に対して３０質量％～６０質量％であり、
    ヘイズが２．０以下である防曇膜。
    

    

    
    一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。
16. 被塗布材に、請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載のコート剤を塗布する工程と、
    塗布された前記コート剤を乾燥する工程と、
    を含む防曇膜の製造方法。
17. 基材、及び、前記基材上に設けられた、請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載のコート剤により形成された防曇膜、を有する積層体。
18. 基材、及び、
    前記基材上に設けられ、ヘイズが２．０以下である防曇膜、
    を有し、
    前記防曇膜は、一般式（１）で表される化合物の加水分解物と、シリカ粒子と、ピロリドン基を側鎖に有する樹脂と、を含み、
    前記シリカ粒子の含有量が、全固形分に対して４０質量％～５０質量％であり、
    ピロリドン基を側鎖に有する前記樹脂の含有量が、前記シリカ粒子の質量に対して３０質量％～６０質量％である、積層体。
    

    

    
    一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１～６の１価の有機基を表す。ｎは、１～２０の整数を表す。
19. 前記基材が、ポリカーボネート基材又はポリメチルメタクリレート基材である、請求項１７又は請求項１８に記載の積層体。