JP2013512853A - 太陽電池モジュール用のガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法とそれによって製造されたコーティング液組成物 - Google Patents

太陽電池モジュール用のガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法とそれによって製造されたコーティング液組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2013512853A
JP2013512853A JP2012543016A JP2012543016A JP2013512853A JP 2013512853 A JP2013512853 A JP 2013512853A JP 2012543016 A JP2012543016 A JP 2012543016A JP 2012543016 A JP2012543016 A JP 2012543016A JP 2013512853 A JP2013512853 A JP 2013512853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sol
coating liquid
solar cell
producing
cell module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012543016A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5686138B2 (ja
Inventor
キム,ユクージュン
ジャン,ジンーホ
Original Assignee
エイチワイティシー カンパニー,リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エイチワイティシー カンパニー,リミテッド filed Critical エイチワイティシー カンパニー,リミテッド
Publication of JP2013512853A publication Critical patent/JP2013512853A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5686138B2 publication Critical patent/JP5686138B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
    • C03C1/008Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route for the production of films or coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04Polysiloxanes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/20Wet processes, e.g. sol-gel process
    • C03C2203/26Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/20Wet processes, e.g. sol-gel process
    • C03C2203/30Additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00Production processes
    • C03C2203/20Wet processes, e.g. sol-gel process
    • C03C2203/30Additives
    • C03C2203/32Catalysts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/732Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Abstract

【課題】本発明は、太陽電池モジュールの製造に使われるガラスにコーティングをして透過率を増大させるコーティング液の製造方法と、上記方法によって製造されたコーティング液組成物に関する。
【解決手段】従来に、光の透過を増加させるために高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したり、反射防止用光触媒コーティングをしたり、またはアルコキシシランの多孔性構造を利用したりしたが、精密な積層が難しいか、コストが高い、またはコーティング液の保存安定性が制限されるなどの短所があって使用が難しかった。
本発明は、このような短所を克服するために導き出されたもので、 数十から数百ナノの無機粒子を充填形状に配列して多孔性構造と類似な配列を有するようにするが、多孔性の構造が持つ透過率の増大の特性を保ちながら、充填物の機械的な特性として硬度を向上させるようにする。
【選択図】図1

Description

本発明は、太陽電池モジュールの製造に使われる、ガラスにコーティングして透過率を増大させるコーティング液の製造に関する。
光が垂直に入射する場合、約4%の反射損失率が空気/ガラスの界面で生じるが、太陽光システム、例えば、光電池または太陽光収集機を覆うために使われるガラスの場合、このような損失は、システムの効率を低減させるため、光の透過を増加する目的で、ガラスの表面にコーティング層を設ける様々な方法がある。
この際、高屈折率の物質及び低屈折率の物質の2つ以上の層を交互に互いの上に適用すると、反射派は特定の波長範囲で消滅する。この例としては、ショットグラスヴェルケ(Schott Glaswerke)社による建築ガラス上の反射防止層であって、これはゾル−ゲル方法によって製造され、浸漬コーティングによって適用される。しかし、これらの反射防止コーティング物の周波数バンド幅は、物理的に一つのオクターブ(octave)に制限され、可視領域での反射防止コーティング物にのみ適合するだけで、広いバンドの太陽光スペクトルでの反射防止コーティング物には適合していない。
特許文献1の‘反射防止機能性コーティングガラス’は、2つ以上の屈折率が異なる物質からなるコーティング層などが可視光線領域の光を吸収または光学的に干渉して反射される光の量を減らして低反射効果を奏するようにしたもので、具体的には、蒸着を利用して複数の層を設けるようにした多層コーティング方式で試みられたが、蒸着の可能なガラスのサイズが制限され、高い精密度で各層の膜厚を制御するには、大量生産が難しく、経済性に劣るという問題により、製品に適用されるには制限があった。
これを解決すべく、ウェットコーティング方式が提案されたが、特許文献2の‘反射防止膜、反射防止膜の製造方法及び反射防止ガラス’は、フルオロ原子を含有する反射防止膜を製造するようにするにおいて、フルオロアルキルシランを使用するポリシロキサン溶液を製造し、通常のコーティング法によってコーティングするようにした。しかし、フルオロアルキルシランは、アルコキシシランに比べて高価の原料であり、現在の市場で適用される太陽電池モジュールの価格からは適用し難いという短所がある。
特許文献3の‘反射防止光触媒組成物及びこれを適用したガラス基材’は、反射防止用光触媒及びこれを利用した反射防止コーティング膜の製造を提案したが、光触媒の原料となるチタニウム(Ti)の固有の屈折率により反射防止性能が太陽電池の効率を向上させるには無理がある。
特許文献4の‘耐摩耗性SIO2反射防止層を製造するための新規ハイブリッドゾル’は、アルコキシシランの構造を多孔性構造に製造して反射防止膜を具現したが、塩基性下でアルコキシシランは、コーティング液の保存安全性が制限されて反射防止塗膜の安定した生産が難しいという点がある。
大韓民国公開特許第10−2008−0023888号 大韓民国登録特許第10−0653585号 大韓民国登録特許第10−0870213号 大韓民国公開特許第10−2004−0035832号
本発明は、上記のような短所を克服するために導き出されたもので、本発明は、ナノ無機物の粒子の充填配列を利用して、透過率の増大、光学薄膜の厚さでも、硬度の保持、単層ウェットコーティング方法による製造コストの最小化ができる光学コーティング組成物を提供することを目的とする。
上記のような目的を達成すべく、太陽電池モジュールに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法を提供するが、反応性が急激なアルミニウムアルコキシド(Aluminum Alkoxide)とゾル−ゲル反応を起こすようにする凝集誘導剤を投入して、ゾル−ゲル反応による凝集を誘導して数十から数百ナノサイズの粒子を生成する第1段階を含むことができる。
上記凝集誘導剤は、シリカゾルとアルミナゾルのうち選択されたいずれか一つ以上の物質であることができる。
第1段階の後に、上記1段階を通じて製造されたゾルに、分散安定剤を投入して粒子を安定化する第2段階をさらに含むことができる。
上記第2段階を通じて製造されたゾルを利用して、再び金属アルコキシドゾル−ゲル反応化する第3段階をさらに含むことができる。
凝集誘導剤としてシリカゾルとアルミナゾルを両方とも使用する場合、上記シリカゾル100重量部対比アルミナゾル10乃至40重量部を混合する段階をさらに含むことができる。
上記凝集誘導剤は、酸性のゾル(sol)形状であるようにするが、凝集誘導剤が塩基性の場合、酸性触媒を利用してpHを酸性に変える段階をさらに含むようにし、上記ゾル−ゲル反応は、摂氏50乃至80度で反応が起きるようにすることができる。
上記シリカゾルの粒子は、10nm乃至200nmのサイズのものを使用して反応させることができる。
アルミナゾルの粒子は、100乃至200nmのサイズのものを使用することができる。
上記凝集された粒子は、100nm乃至500nmのサイズを有することができる。
また、上記で形成されたゾルと金属アルコキシドのシラン化合物(Si(OR)4)、水、有機溶媒、触媒を含んで構成される反射防止コーティング組成物であることができる。
太陽電池モジュールの最外角のガラスに反射防止コーティングを適用したとき、効率は増大するものの、既存の多層薄膜設計による製造コスト及び信頼性の問題によって適用することが難しかったが、以上から分かるように、本発明は、ナノ無機物の粒子の充填配列を利用して、透過率の増大、光学薄膜の厚さでも、硬度の保持、単層ウェットコーティング方法による製造コストの最小化ができる光学コーティング組成物を提供するという効果を有する。
本発明によるコーティング液を塗布した後の光透過率を示したグラフである。 本発明によるコーティング液を塗布した後の光透過率を示したグラフである。 本発明によるコーティング液を塗布した平面の拡大写真である。 本発明によるコーティング液を塗布した塗布層の側面写真である。
以下、添付の図面を参照して本発明を詳しく説明する。
本発明は、ウェットコーティング方式として単一層を利用した反射防止膜を製造において、太陽電池用として使用するに好適な硬度及び信頼性を有する反射防止膜を提供することにある。
上記において、金属アルコキシシランを塩基下でゾル−ゲル反応した後に、多孔性構造を具現した反射防止機能を提案したが、多孔性構造の限界である塗膜硬度で問題点が指摘されており、塗膜の硬度の向上のためにゾル−ゲル反応を酸性下で進行する場合、塗膜の密度の増加による透過率の増大効果が相殺するという問題点がある。
本発明では、数十から数百ナノの無機粒子を充填形状に配列して多孔性構造と類似な配列を有するようにするが、多孔性構造が持つ透過率の増大の特性を保ちながら、充填物の機械的な特性で硬度を向上させるようにすることに目的がある。
通常、光は、多孔性構造から生じるマイクロサイズの気孔を通過すると、乱反射を起こして反射防止性は向上するものの、光の透過率は急激に低下して太陽電池には不適であるという短所がある。しかし、無機粒子のサイズをマイクロサイズからナノ単位まで縮小すると、光の透過率は増大し、無機物粒子による働きによって硬度の増大をもたらすこととなる。
このため、反応性が急激なアルミニウムアルコキシド(Aluminum Alkoxide)とpHが酸性の凝集誘導剤の反応で凝集を誘導して、数十から数百ナノサイズの粒子を生成するが、上記凝集誘導剤とアルコキシドのゾル−ゲル反応によるとき、凝集誘導剤はpHが酸性のゾル(sol)形状であるようにし、凝集誘導剤のpHが塩基の場合、酸性触媒を利用してpHを酸性に変えるようにし、摂氏50乃至80度で反応が起きるようにする第1段階を含むが、上記凝集誘導剤は、水性シリカゾル(silica−sol)を使用することができ、シリカゾルの場合、粒子は10〜200nm程度のサイズのものを使用することができる。
また、凝集誘導剤として、水性アルミナゾル(Alumina−sol)が使用でき、アルミナゾルの粒子は、10乃至500nm程度のサイズになるようにすることができ、好ましくは、10乃至200nm程度のサイズになることが好ましい。また、凝集誘導剤として水性シリカゾルと共に水性アルミナゾルも一緒に使用することができる。
また、上記1段階を通じて製造されたゾルに分散安定剤を投入して粒子を安定化する第2段階と、上記第2段階を通じて製造されたゾルを利用して、再び金属アルコキシドゾル−ゲル反応化する第3段階と、を含むために使われる金属アルコキシドは、次のような化学式のようなものを使用することができる。但し、RはC10以下のアルキル基である。
さらに詳しい内容は、次の実施例にて説明する。
ジャケット付き反応器の温度を25℃に保ち、メタノール12.8g、メチルセロソルブ7.9g、酢酸0.015gを混合した後、10分間攪拌して混合物を製造する。これに、brij−56(Poly(oxyethylene) nonionic surfactant)0.05g、Polyvinylpyrrolidone(MW:40,000)0.03molを追加してsurfactantが含有された混合物を製造する。混合物に、Aluminum tri−sec−butoxideを2.8g投入した後、高速で混合した後、イソプロピルアルコール36gを混合してアルミニウムアルコキシド混合物を製造する。
Grace社のLudoxコロイダルシリカであるHS−40は、陽イオン交換樹脂を通過させてpH2〜3程度の酸性シリカゾルに変化させた後、先に製造されたアルミニウムアルコキシド混合物に、混合物の全体重量対比重量比3〜10%の比率でdroppingにて徐々に滴下した後、ゾル−ゲル反応を利用して1〜10時間重合させる。
反応終了後、分散安定剤のDBTDL(Di butyl tin Laurate)0.1〜0.5mol、レべリング添加剤のBYK300を添加してコーティング組成物を製造する。
実施例1において、Aluminum tri−sec−butoxideをA[Al(OC3H7)3]に替えて実施例1と同様に進行する。
実施例1において、酸性コロイダルシリカを投入いた後、昇温してジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してゾル−ゲル反応を1〜3時間進行する。
実施例1において、酸性シリカゾル製造の際に、Grace社のLudoxコロイダルシリカのHS−40、AS、TMとs−chemtech社のシリカゾルSS−SOL100をそれぞれ10、20、20、50%の百分率で混合した後、陽イオン交換樹脂を通過させてpH2〜3程度の酸性コロイダルシリカを製造する。
製造された酸性コロイダルシリカを利用して実施例1と同様に製造する。
実施例4において、酸性コロイダルシリカを投入した後、昇温してジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してゾル−ゲル反応を1〜3時間進行する。
実施例1において、酸性コロイダルシリカの代わりにアルミナゾルのNANOBYK−3600(BYK)を使用してコーティング組成物を製造する。
実施例6において、アルミナゾルを投入した後、昇温してジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してゾル−ゲル反応を1〜3時間進行する。
Grace社のLudoxコロイダルシリカのHS−40、ASとs−chemtech社のシリカゾルSS−SOL100をそれぞれ30、20、50%の百分率で混合した後、陽イオン交換樹脂を通過させてpH2〜3程度の酸性コロイダルシリカを製造する。
これに、アルミニウムゾルのNANOBYK−3600を酸性コロイダルシリカゾル100重量部対比重量比10〜40%の比率で酸性シリカに滴下して酸性Hybridナノゾルを製造する。
製造された酸性Hybridナノゾルを利用して実施例6と同様に製造する。
実施例8において、Hybridナノゾルを投入した後、昇温してジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してゾル−ゲル反応を1〜3時間進行する。
実施例1において、酸性シリカゾルを投入して30分後、Aldrich社のテトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、蒸留水、Itaconic acid(Aldrich)をそれぞれ1.3g、0.8g、1.5g、0.03gを投入した後、1〜5時間ゾル−ゲル反応を進行する。
実施例3において、ジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してAldrich社のテトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、蒸留水、Itaconic acid(Aldrich)をそれぞれ1.3g、0.8g、1.5g、0.03gを投入した後、1〜5時間ゾル−ゲル反応を進行する。
実施例5において、ジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してAldrich社のテトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、蒸留水、Itaconic acid(Aldrich)をそれぞれ1.3g、0.8g、1.5g、0.03gを投入した後、1〜5時間ゾル−ゲル反応を進行する。
実施例7において、ジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してAldrich社のテトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、蒸留水、Itaconic acid(Aldrich)をそれぞれ1.3g、0.8g、1.5g、0.03gを投入した後、1〜5時間ゾル−ゲル反応を進行する。
実施例9において、ジャケット付き反応器の温度を50〜70℃に保ち、1〜10時間反応を進行した後、30℃に冷却してAldrich社のテトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキシシラン(TEOS)、蒸留水、Itaconic acid(Aldrich)をそれぞれ1.3g、0.8g、1.5g、0.03g投入した後、1〜5時間ゾル−ゲル反応を進行する。
比較例1
実施例11において、テトラエトキシシラン(TEOS)をGPTMS[(3−glycidoxypropyl)trimethoxysilane]に替えてゾル−ゲル反応を進行する。GPTMSは、塗膜の硬度及び付着性能には優れているものの、アルコキシシランにおいてOR基のうち1つはRのみある構造を有し、Rはfunctional基がエポキシ構造を有することで、多孔性構造を形成するのに妨げとなり、透過率の上昇には効果が無い。表をみると、比較例1の透過率が良くないことが確認できる。即ち、本願発明と比較したとき、多孔性構造を作る工程でどのような種類のシランを使用するかによって異なる結果が出るということが示される。
上記実施例1〜14までコーティング組成物は、Silide Glass(1T)に塗膜厚さ500nm以下を形成して光学薄膜層を形成した。
可視光線の透過率は、JASCO Model V−570を利用して380〜800nmの領域で測定し、硬度は、KS M ISO 15184:2002によって測定した。
Silide Glassの透過率は90.2%であり、実施例によって製造されたコーティング組成物を光学薄膜の厚さにコーティングし、硬化は200℃で進行し、下記表のような結果が得られた。
実施例1〜14まで光学薄膜の厚さに塗膜を形成するとき、ナノ粒子の充填配列効果により、光透過率が増大し、単面コーティングの際に1.0〜2.5%、両面コーティングのとき2〜5%まで光透過率が増加した。
また、無機微粒子の充填効果及び無機シラン塗膜によって、塗膜の強度は、H以上と測定され、多孔性構造による硬度の低下を解決することができた。
図1に実施例14の反射防止コーティングガラスの透過率と一般ガラスの透過率を比較したグラフを図示する。単面に反射防止コーティングしたもので、約2%内外の透過率の差をみせることが分かる。
図2には、実施例14の反射防止コーティングを両面にしたガラスの透過率と一般ガラスの透過率を比較した。波長によっておよそ3%乃至5%の透過率の差があることが分かる。
図3は、実施例14のFE−SEMで反射防止コーティングの表面を測定した写真で、図4は、FE−SEMで側面の表面を測定した写真である。図3、図4からわかるように、多層ではない一つの層によって形成されたものであることがわかる。図3は、FE−SEMで表面を測定したもので、表面が多孔性構造であることを示したもので、図4は、表面の横(side)部分を測定したもので、多孔性構造による表面の凸凹を示したものである。

Claims (9)

  1. 太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法であって、
    brij−56(Poly(oxyethylene) nonionic surfactant)0.05g、Polyvinylpyrrolidoneを添加して製造された反応性が急激なアルミニウムアルコキシド(Aluminum Alkoxide)に、ゾル−ゲル反応を起こす凝集誘導剤を投入し、ゾル−ゲル反応による凝集を誘導して100nm乃至500nmのサイズの粒子を生成する第1段階を含む、太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  2. 前記凝集誘導剤は、シリカゾルとアルミナゾルのうち選択されたいずれか一つ以上の物質であることを特徴とする、請求項1に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  3. 第1段階の後に、前記1段階を通じて製造されたゾルに分散安定剤を投入して粒子を安定化する第2段階をさらに含む、請求項2に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  4. 前記第2段階を通じて製造されたゾルを利用して再び金属アルコキシドゾル−ゲル反応化する第3段階をさらに含む、請求項3に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  5. 凝集誘導剤としてシリカゾルとアルミナゾルを両方とも使用する場合、前記シリカゾル100重量部対比アルミナゾル10乃至40重量部を混合する段階をさらに含む、請求項4に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  6. 前記凝集誘導剤は、酸性のゾル(sol)形状であるようにするが、凝集誘導剤が塩基性の場合、酸性触媒を利用してpHを酸性に変える段階をさらに含むようにし、前記ゾル−ゲル反応は、摂氏50乃至80度で反応が起きるようにする、請求項5に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  7. 前記シリカゾルの粒子は、10nm乃至200nmのサイズのものを使用して反応させるようにする、請求項6に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  8. アルミナゾルの粒子は、10乃至200nmのサイズのものを使用する、請求項6に記載の太陽電池モジュールガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法。
  9. 請求項1乃至8のいずれか1項によって形成されたゾルと金属アルコキシドのシラン化合物(Si(OR)4)、水、有機溶媒、触媒を含んで構成される反射防止コーティング組成物。
JP2012543016A 2009-12-07 2010-12-01 太陽電池モジュール用のガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法とそれによって製造されたコーティング液組成物 Expired - Fee Related JP5686138B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2009-0120735 2009-12-07
KR1020090120735A KR101021659B1 (ko) 2009-12-07 2009-12-07 태양전지 모듈용 글래스에 사용하기 위하여 광투과율을 증대시켜 주는 코팅액을 제조하는 방법과 이에 의하여 제조된 코팅액 조성물
PCT/KR2010/008557 WO2011071269A2 (ko) 2009-12-07 2010-12-01 태양전지 모듈용 글래스에 사용하기 위하여 광투과율을 증대시켜 주는 코팅액을 제조하는 방법과 이에 의하여 제조된 코팅액 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013512853A true JP2013512853A (ja) 2013-04-18
JP5686138B2 JP5686138B2 (ja) 2015-03-18

Family

ID=43938816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012543016A Expired - Fee Related JP5686138B2 (ja) 2009-12-07 2010-12-01 太陽電池モジュール用のガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法とそれによって製造されたコーティング液組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9284214B2 (ja)
EP (1) EP2511349A4 (ja)
JP (1) JP5686138B2 (ja)
KR (1) KR101021659B1 (ja)
CN (1) CN102086093B (ja)
WO (1) WO2011071269A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015135919A (ja) * 2014-01-17 2015-07-27 日立化成株式会社 パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層形成用塗布型材料及び太陽電池素子
WO2019216061A1 (ja) * 2018-05-11 2019-11-14 富士フイルム株式会社 コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体
JP2020170171A (ja) * 2014-09-30 2020-10-15 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付ガラス基板、低反射コーティング付ガラス基板を製造する方法、及び光電変換装置

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103140937A (zh) * 2010-10-06 2013-06-05 3M创新有限公司 用于太阳能系统的光学元件的涂料
CN103154152B (zh) 2010-10-06 2018-04-13 3M创新有限公司 涂料组合物及其制备和使用方法
KR101121207B1 (ko) * 2011-05-03 2012-03-22 윤택진 내식성이 우수한 저굴절 특성의 반사 방지 코팅 조성물, 및 이의 제조방법
CN104169745B (zh) * 2012-11-08 2018-08-17 Ppg工业俄亥俄公司 具有耐磨性的玻璃状涂层的涂覆的制品
CN103265884A (zh) * 2013-06-06 2013-08-28 苏州禾川化工新材料科技有限公司 一种镜片加硬增透液
JP6837159B2 (ja) * 2017-04-04 2021-03-03 エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. 反射防止コーティング
CN111362589B (zh) * 2020-04-29 2022-07-01 东莞南玻太阳能玻璃有限公司 一种耐候双层高增透镀膜玻璃及其制备方法
EP3978453B1 (en) * 2020-09-30 2023-08-16 Saint-Gobain Glass France Solar control glazing for automobile and its manufacture

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0532413A (ja) * 1991-07-31 1993-02-09 Asahi Glass Co Ltd アルミナゾルおよびその製造方法
JPH09202649A (ja) * 1996-01-24 1997-08-05 Central Glass Co Ltd 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法
JPH11322325A (ja) * 1998-05-21 1999-11-24 Oji Paper Co Ltd シリカ複合粒子及びその製造方法並びにインクジェット記録シート
JP2001278637A (ja) * 1999-12-13 2001-10-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低反射ガラス物品
JP2002182006A (ja) * 2000-12-19 2002-06-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止膜、それを備えた基材および光電変換装置
JP2002365403A (ja) * 2001-06-11 2002-12-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低反射膜およびこれを用いた透明積層体
JP2003026422A (ja) * 2001-07-11 2003-01-29 Fm Giken Kk 金属酸化物及び/又は金属過酸化物の微粒子分散ゾルとその製造方法並びに微粒子粉体
JP2005352121A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Asahi Kasei Corp 反射防止膜
JP2007063477A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Asahi Glass Co Ltd 無機塗料組成物、親水性塗膜及び農業用フィルム
JP2007213780A (ja) * 2006-01-11 2007-08-23 Pentax Corp 反射防止膜を有する光学素子

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100265777B1 (ko) 1993-08-05 2000-09-15 김순택 화상표시장치의 반사방지막 제조방법, 및 이를 채용한 화상표시장치
JP2000275819A (ja) * 1999-03-24 2000-10-06 Dainippon Ink & Chem Inc 平版印刷版原版およびそれを用いた印刷刷版作製方法
EP1167313B1 (en) * 1999-12-13 2015-09-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Low-reflection glass article
TW468053B (en) 1999-12-14 2001-12-11 Nissan Chemical Ind Ltd Antireflection film, process for forming the antireflection film, and antireflection glass
KR100405302B1 (ko) * 2000-07-27 2003-11-12 주식회사 엘지화학 부착성, 광택성, 저장 및 작업 안정성을 향상시킨실록산계 고굴절 및 초고굴절 피복 조성물
KR20030023833A (ko) * 2001-09-14 2003-03-20 전증남 차체 앞선,후선을 시각하는 잠망경형 빽밀러
TW593188B (en) 2001-09-21 2004-06-21 Merck Patent Gmbh Hybrid sol for the production of abrasion-resistant SiO2 antireflection layers
KR100533073B1 (ko) * 2003-04-15 2005-12-01 (주) 유니플라텍 고온용 및 일반용 카본 잉크, 카본지 제조용 연속형 딥코팅 장치, 및 고온용 및 일반용 면상 발열체와 그 제조방법
JP2004352524A (ja) 2003-05-27 2004-12-16 Central Glass Co Ltd 低反射物品及びその製法
KR20080023888A (ko) 2006-09-12 2008-03-17 코리아 오토글라스 주식회사 반사방지 기능성 코팅유리
US7767253B2 (en) * 2007-03-09 2010-08-03 Guardian Industries Corp. Method of making a photovoltaic device with antireflective coating
WO2009038250A1 (en) 2007-09-21 2009-03-26 Chemwelltech Co., Ltd. Photocatalytic composition for anti-reflection and the glass substrate coated with the composition
JP5096933B2 (ja) 2008-01-07 2012-12-12 ペンタックスリコーイメージング株式会社 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0532413A (ja) * 1991-07-31 1993-02-09 Asahi Glass Co Ltd アルミナゾルおよびその製造方法
JPH09202649A (ja) * 1996-01-24 1997-08-05 Central Glass Co Ltd 花弁状透明アルミナ膜及びその形成法
JPH11322325A (ja) * 1998-05-21 1999-11-24 Oji Paper Co Ltd シリカ複合粒子及びその製造方法並びにインクジェット記録シート
JP2001278637A (ja) * 1999-12-13 2001-10-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低反射ガラス物品
JP2002182006A (ja) * 2000-12-19 2002-06-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止膜、それを備えた基材および光電変換装置
JP2002365403A (ja) * 2001-06-11 2002-12-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低反射膜およびこれを用いた透明積層体
JP2003026422A (ja) * 2001-07-11 2003-01-29 Fm Giken Kk 金属酸化物及び/又は金属過酸化物の微粒子分散ゾルとその製造方法並びに微粒子粉体
JP2005352121A (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Asahi Kasei Corp 反射防止膜
JP2007063477A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Asahi Glass Co Ltd 無機塗料組成物、親水性塗膜及び農業用フィルム
JP2007213780A (ja) * 2006-01-11 2007-08-23 Pentax Corp 反射防止膜を有する光学素子

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015135919A (ja) * 2014-01-17 2015-07-27 日立化成株式会社 パッシベーション層付半導体基板、パッシベーション層形成用塗布型材料及び太陽電池素子
JP2020170171A (ja) * 2014-09-30 2020-10-15 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付ガラス基板、低反射コーティング付ガラス基板を製造する方法、及び光電変換装置
WO2019216061A1 (ja) * 2018-05-11 2019-11-14 富士フイルム株式会社 コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体
CN111989375A (zh) * 2018-05-11 2020-11-24 富士胶片株式会社 涂层剂、防雾膜、防雾膜的制造方法及层叠体
JPWO2019216061A1 (ja) * 2018-05-11 2021-05-27 富士フイルム株式会社 コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体
CN111989375B (zh) * 2018-05-11 2022-03-01 富士胶片株式会社 涂层剂、防雾膜、防雾膜的制造方法及层叠体
JP7200233B2 (ja) 2018-05-11 2023-01-06 富士フイルム株式会社 コート剤、防曇膜、防曇膜の製造方法、及び積層体

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011071269A3 (ko) 2011-11-17
JP5686138B2 (ja) 2015-03-18
CN102086093B (zh) 2014-05-14
CN102086093A (zh) 2011-06-08
KR101021659B1 (ko) 2011-03-17
US20110133138A1 (en) 2011-06-09
EP2511349A4 (en) 2016-05-11
WO2011071269A2 (ko) 2011-06-16
EP2511349A2 (en) 2012-10-17
US9284214B2 (en) 2016-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5686138B2 (ja) 太陽電池モジュール用のガラスに使用するための光透過率を増大させるコーティング液を製造する方法とそれによって製造されたコーティング液組成物
JP6603916B2 (ja) 無機酸化物被膜
US8586144B2 (en) Method for forming anti-reflection coating and optical element
KR101864458B1 (ko) 저굴절률막 형성용 조성물 및 이것을 사용한 저굴절률막의 형성 방법
JP6360836B2 (ja) シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、それを用いて表面エネルギーが調節された反射防止フィルム
JP6430940B2 (ja) シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、これを用いた反射防止フィルム
WO2000037359A1 (fr) Particules fines, sol de particules fines dispersees, procede de preparation dudit sol et substrat revetu
Zhang et al. Insight into the organic–inorganic hybrid and microstructure tailor mechanism of sol–gel ORMOSIL antireflective coatings
JP6329959B2 (ja) シロキサン化合物を含む超親水性反射防止コーティング組成物、それを用いた超親水性反射防止フィルムおよびその製造方法
CN1247522A (zh) 制备一种多层的、并经紫外线照射交联化/致密的光学材料的方法以及由该方法制备的光学材料
TW201420692A (zh) 塗料及其製備方法及塗料所形成之薄膜
US20150315392A1 (en) Coating liquid for forming alkali barrier layer, and article
Chantarachindawong et al. Hard coatings for CR-39 based on Al 2 O 3–ZrO 2 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS) and tetraethoxysilane (TEOS) nanocomposites
JP5626788B2 (ja) 封止材用塗料およびその用途
JP6123432B2 (ja) 低屈折率膜形成用組成物の製造方法及び低屈折率膜の形成方法
JP6451424B2 (ja) 高耐久性低屈折率膜
KR102188211B1 (ko) 저굴절률막 형성용 조성물 및 그 제조 방법 그리고 저굴절률막의 형성 방법
JP2013121893A (ja) 低反射膜付きガラスの製造方法
WO2024001464A1 (zh) 中空二氧化硅溶胶、其制备方法、涂料组合物及制品
EP2937319B1 (en) Method of manufacturing a composition for forming a thin layer with low refractive index, and method of manufacturing a thin layer with low refractive index
JP2012246201A (ja) 反射防止膜形成用組成物、反射防止膜、及び該反射防止膜を備える積層体
JP2016145280A (ja) ポリシロキサンフィルム及びその製造方法
JPH08304604A (ja) 積層体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131126

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140226

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140325

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140410

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140319

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150106

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5686138

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees